JP3520916B2 - ウェーハ研磨装置 - Google Patents

ウェーハ研磨装置

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JP3520916B2 JP2000392637A JP2000392637A JP3520916B2 JP 3520916 B2 JP3520916 B2 JP 3520916B2 JP 2000392637 A JP2000392637 A JP 2000392637A JP 2000392637 A JP2000392637 A JP 2000392637A JP 3520916 B2 JP3520916 B2 JP 3520916B2
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    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
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    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
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    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
    • H01L21/3205—Deposition of non-insulating-, e.g. conductive- or resistive-, layers on insulating layers; After-treatment of these layers
    • H01L21/321—After treatment
    • H01L21/32115—Planarisation
    • H01L21/3212—Planarisation by chemical mechanical polishing [CMP]

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は化学的機械研磨法
（ＣＭＰ：Chemical Mechanical Polishing ）によって
ウェーハを研磨するウェーハ研磨装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＣＭＰで研磨するＣｕ膜等は、現状の膜
付技術が悪いため、図８に示すように、ウェーハＷの外
周部や中央部に多く付く傾向がある。このように膜厚が
部分的に異なるウェーハを平坦化する方法として、キャ
リアの押圧力に分布を持たせる方法がある。すなわち、
キャリアの押圧力に分布を持たせることにより、部分的
に加工量に差を付け、最終的に全ての膜厚を均一にする
とともに、不要部分の膜を取り除くものである。
【０００３】特開平９−２２５８２１号公報に開示され
た方法は、キャリアの下面（ウェーハの保持面）に圧縮
空気を噴出する複数の開口を設け、その複数の開口を複
数の領域に分割し、領域ごとに圧縮空気を供給可能にす
ることにより、 押圧力に分布を持たせるようにしたもの
である。
【０００４】また、別の方法として、キャリアの下部に
複数の領域に分割したエアバッグを設置し、各領域ごと
にウェーハを押圧するエアバッグに押圧力分布を持たせ
るようにしたものがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の方法では、一度圧力分布を設定してしまうと、その
設定を変更するためには、キャリアごと交換しなければ
ならないという欠点がある。また、全面を均一に押圧す
る時に各エア圧力のバランス取りが必要になるという欠
点がある。
【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、ウェーハの押圧領域を容易に変更することが
できるウェーハ研磨装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するために、キャリアの下部に設けられた吹出口からエ
アを噴出してエア層を形成し、該エア層でウェーハを研
磨パッドに押し付けて研磨するウェーハ研磨装置におい
て、前記キャリアの下部に設けられ、前記ウェーハの上
面を部分的に押圧するエアバッグと、前記キャリアの下
部に着脱自在に取り付けられ、前記エアバッグが前記ウ
ェーハの上面を押圧する領域を規制する押圧領域規制部
材と、を備え、規制する領域が異なる前記押圧領域規制
部材を複数揃え、該押圧領域規制部材を交換することに
より、前記エアバッグが前記ウェーハを押圧する領域を
変更することを特徴とするウェーハ研磨装置を提供す
る。
【０００８】本発明によれば、押圧領域規制部材を交換
するという簡単な操作でウェーハの押圧領域を簡単に変
更することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に従って本発明に
係るウェーハ研磨装置の好ましい実施の形態について詳
説する。
【００１０】図１は、ウェーハ研磨装置１０の全体構成
を示す斜視図である。同図に示すようにウェーハ研磨装
置１０は、主として研磨定盤１２とウェーハ保持ヘッド
１４とで構成される。
【００１１】研磨定盤１２は円盤状に形成され、その下
面中央には回転軸１６が連結される。研磨定盤１２は、
この回転軸１６に連結されたモータ１８を駆動すること
により回転する。また、この研磨定盤１２の上面には、
研磨パッド２０が貼付され、この研磨パッド２０上に図
示しないノズルからスラリが供給される。
【００１２】ウェーハ保持ヘッド１４は、 図２に示すよ
うに、主としてヘッド本体２２、キャリア２４、キャリ
ア駆動機構２６、キャリア押圧機構２８、リテーナーリ
ング３０、 リテーナーリング押圧機構３２、 エアバッグ
３４及び押圧領域規制部材３６で構成される。
【００１３】ヘッド本体２２は円盤状に形成され、その
上面中央に回転軸２２Ａが連結される。ヘッド本体２２
は、この回転軸２２Ａに連結された図示しないモータに
駆動されて回転する。
【００１４】キャリア２４は円盤状に形成され、ヘッド
本体２２の下部中央に配置される。このキャリア２４の
下面には、図３及び図４に示すように、外周部分に一定
の間隔をもって第３吹出口３８Ｃが複数形成される。ま
た、このキャリア２４の下面中央部分には円形状の凹部
２５が形成される。この凹部２５内には第１吹出口３８
Ａと第２吹出口３８Ｂとが形成される。第１吹出口３８
Ａは、凹部２５の中央部分に形成され、第２吹出口３８
Ｂは、凹部２５の外周部分に一定の間隔をもって複数形
成される。また、キャリア２４の内部には、各吹出口３
８Ａ、３８Ｂ、３８Ｃに連通するエア流路４０Ａ、４０
Ｂ、４０Ｃが形成される。各エア流路４０Ａ、４０Ｂ、
４０Ｃは互いに独立して形成され、図示しないエア供給
装置から個別に圧縮エアが供給される。
【００１５】キャリア駆動機構２６は、図２に示すよう
に、ドライブシャフト４４、ドライブプレート４６、ド
ライブピン４８で構成される。ドライブシャフト４４は
円柱状に形成され、その上端部がヘッド本体２２の下面
中央に連結される。ドライブプレート４６は、このドラ
イブシャフト４４の下端部に連結される。ドライブプレ
ート４６は円盤状に形成され、キャリア２４の上面中央
部に形成された円形状の凹部５０に嵌合される。この凹
部５０内にはドライブピン４８が配設され、該ドライブ
ピン４８はドライブプレート４６に形成された図示しな
いピン孔に嵌合される。
【００１６】以上のように構成されたキャリア駆動機構
２６は、ヘッド本体２２を回転させると、その回転がド
ライブシャフト４４を介してドライブプレート４６へと
伝達され、そのドライブプレート４６の回転がドライブ
ピン４８を介してキャリア２４に伝達される。
【００１７】キャリア押圧機構２８は、 図２に示すよう
に、キャリア用エアバッグ５２とキャリア用押圧部材５
４とで構成される。キャリア用エアバッグ５２はドーナ
ツ状に形成され、ヘッド本体２２の下面外周部に配置さ
れる。このキャリア用エアバッグ５２はゴムシートで形
成され、図示しないエア供給手段から供給されるエアの
吸排気で膨張、収縮する。キャリア用押圧部材５４は、
ほぼ円筒状に形成され、その下端部がキャリア２４の上
面外周部に固定される。
【００１８】以上のように構成されたキャリア押圧機構
２８は、キャリア用エアバッグ５２を膨張させると、キ
ャリア用押圧部材５４がキャリア用エアバッグ５２によ
って下方に押圧される。これにより、キャリア２４が下
方に押圧される。
【００１９】リテーナーリング３０は、図３に示すよう
に、キャリア２４の外周に配置される。このリテーナー
リング３０は、リテーナーリング本体３０Ａとリテーナ
ーリングホルダ３０Ｂとで構成される。リテーナーリン
グホルダ３０Ｂは、円筒状に形成され、その下部にリテ
ーナーリング本体３０Ａが取り付けられる。このリテー
ナーリングホルダ３０Ｂの下面部には凹部３０ｂが形成
され、この凹部３０ｂにリテーナーリング本体３０Ａを
嵌合させることで、リテーナーリング本体３０Ａがリテ
ーナーリングホルダ３０Ｂに取り付けられる。リテーナ
ーリングホルダ３０Ｂに取り付けられたリテーナーリン
グ本体３０Ａは、接着により又はボルトで複数箇所をね
じ止めされることにより、リテーナーリングホルダ３０
Ｂに固定される。
【００２０】また、リテーナーリング３０は、キャリア
２４の外周に配置された取付リング６０にスナップリン
グ６２を介して着脱自在に取り付けられる。スナップリ
ング６２の内周部には溝６２Ａが形成され、この溝６２
Ａに取付リング６０の下端部外周に形成されたフランジ
部６０Ａと、リテーナーリングホルダ３０Ｂの上端部外
周に形成されたフランジ部３０Ｃとを嵌合させることに
より、リテーナーリング３０が取付リング６０に一体化
される。
【００２１】リテーナーリング押圧機構３２は、図２に
示すように、リテーナーリング用エアバッグ６４とリテ
ーナーリング用押圧部材６６とで構成される。リテーナ
ーリング用エアバッグ６４は、ほぼドーナツ状に形成さ
れ、ヘッド本体２２の下面中央部に配置される。このリ
テーナーリング用エアバッグ６４はゴムシートで形成さ
れ、図示しないエア供給手段から供給されるエアの吸排
気で膨張、収縮する。リテーナーリング用押圧部材６６
は筒状に形成され、その下端部が取付リング６０の上面
に固定される。
【００２２】以上のように構成されたリテーナーリング
押圧機構３２は、リテーナーリング用エアバック６４を
膨張させると、リテーナーリング用押圧部材６６がリテ
ーナーリング用エアバッグ６４によって下方に押圧され
る。これにより、リテーナーリング３０が下方に押圧さ
れて、研磨パッド２０に押し付けられる。
【００２３】エアバッグ３４は、キャリア２４の下部に
設けられ、ウェーハＷの上面を押圧してウェーハＷの下
面を研磨パッド２０に押し付ける。このエアバッグ３４
は、中央エアバッグ３４Ａと外周エアバッグ３４Ｂとで
構成される。
【００２４】中央エアバッグ３４Ａは、キャリア２４の
下面中央に設けられた中央ゴムシート７０Ａで構成され
る。中央ゴムシート７０Ａは円盤状に形成され、その外
周部がキャリア２４の下面に形成された取付溝７２の内
壁面に固定される。この中央エアバッグ３４Ａは、キャ
リア２４の下面に形成された第１吹出口３８Ａから圧縮
エアを吹き出すことで膨張し、ウェーハＷの上面中央部
分を押圧する。
【００２５】外周エアバッグ３４Ｂは、キャリア２４の
下面外周部分に設けられた外周ゴムシート７０Ｂで構成
される。外周ゴムシート７０Ｂはドーナツ状に形成さ
れ、その内周部がキャリア２４の下面に形成された取付
溝７２の内壁面に固定されるとともに、外周部が凹部２
５の内壁面に固定される。この外周エアバッグ３４Ｂ
は、キャリア２４の下面に形成された第２吹出口３８Ｂ
から圧縮エアを吹き出すことで膨張し、ウェーハＷの上
面外周部分を押圧する。
【００２６】押圧領域規制部材３６は、図３及び図４に
示すように、キャリア２４の下面に取り付けられてエア
バッグ３４の押圧領域を規制する。この押圧領域規制部
材３６は、中央エアバッグ３４Ａの押圧領域を規制する
中央押圧領域規制部材３６Ａと、外周エアバッグ３４Ｂ
の押圧領域を規制する外周押圧領域規制部材３６Ｂとで
構成される。
【００２７】中央押圧領域規制部材３６Ａは、図４に示
すように、ドーナツ状のプレートで形成される。この中
央押圧領域規制部材３６Ａの上面外周部には、図３に示
すように凸部３６ａが形成され、この凸部３６ａをキャ
リア２４に形成されたリング状の取付溝７２に嵌合させ
ることで、キャリア２４の下面に取り付けられる。取り
付けられた中央押圧領域規制部材３６Ａは、複数箇所を
ボルト（図示せず）でねじ止めされてキャリア２４に固
定される。この中央押圧領域規制部材３６Ａは、中央エ
アバッグ３４Ａの外周部分を所定の領域にわたって覆う
ことにより、その膨張領域を規制する。
【００２８】外周押圧領域規制部材３６Ｂは、図４に示
すように、ドーナツ状のプレートで形成される。この外
周押圧領域規制部材３６Ｂの上面内周部には、図３に示
すように凸部３６ｂが形成され、この凸部３６ｂをキャ
リア２４に形成された取付溝７２に嵌合させることで、
キャリア２４の下面に取り付けられる。取り付けられた
外周押圧領域規制部材３６Ｂは、複数箇所をボルト（図
示せず）でねじ止めされてキャリア２４に固定される。
この外周押圧領域規制部材３６Ｂは、外周エアバッグ３
４Ｂの内周部分を所定の領域にわたって覆うことによ
り、その膨張領域を規制する。
【００２９】なお、中央押圧領域規制部材３６Ａと外周
押圧領域規制部材３６Ｂは、それぞれ径が異なるものが
複数個用意され、これらを適宜交換することにより、そ
の規制領域を変更する。
【００３０】前記のごとく構成された本実施の形態のウ
ェーハ研磨装置１０の作用は次のとおりである。
【００３１】まず、ウェーハＷを研磨パッド２０上に載
置する。次に、リテーナーリング用エアバッグ６４を膨
張させることによりリテーナーリング３０を研磨パッド
２０に押し付け、ウェーハＷの周囲をリテーナーリング
３０で包囲する。
【００３２】次に、キャリア２４でウェーハＷの上面を
所定の圧力で押圧する。この場合、まず、第３吹出口３
８Ｃから圧縮エアを噴射し、キャリア２４とウェーハＷ
との間にエア層を形成する。次にキャリア用エアバッグ
５２に圧縮エアを供給し、キャリア２４を所定の押圧力
で押圧する。これにより、ウェーハＷの全面がキャリア
２４によって均一に押圧される。
【００３３】ここで、研磨対象のウェーハＷに膜厚差が
生じている場合は、その膜厚差に合わせて、中央エアバ
ッグ３４Ａと外周エアバッグ３４Ｂに圧縮エアを供給す
る。すなわち、たとえば、図８に示すように、中央と
外周部に多く膜が付いている場合は、中央エアバッグ３
４Ａと外周エアバッグ３４Ｂに圧縮エアを供給し、その
中央エアバッグ３４Ａが設置された第１エリアＳ1 と、
外周エアバッグ３４Ｂが設置された第２エリアＳ2 の押
圧力Ｐ1 、Ｐ2 を高める。また、同図に示すように、
中央に多く膜が付いている場合は、中央エアバッグ３４
Ａに圧縮エアを供給し、その中央エアバッグ３４Ａが設
置された第１エリアＳ1 の押圧力Ｐ1 を高め、同図に
示すように、外周に多く膜が付いている場合は、外周エ
アバッグ３４Ｂに圧縮エアを供給することにより、その
外周エアバッグ３４Ｂが設置された第２エリアＳ2 の押
圧力Ｐ2 を高める。
【００３４】このように、ウェーハＷに膜厚差がある場
合は、その膜厚差に合わせて中央エアバッグ３４Ａと外
周エアバッグ３４Ｂに圧縮エアを供給し、押圧力に分布
を持たせてウェーハＷを押圧する。そして、この状態で
研磨定盤１２を図１の矢印Ａ方向に回転させるととも
に、ウェーハ保持ヘッド１４を図１の矢印Ｂ方向に回転
させ、その回転する研磨パッド２０上に図示しないノズ
ルからスラリを供給する。これにより、ウェーハＷが研
磨パッド２０に研磨される。
【００３５】このように、本実施の形態のウェーハ研磨
装置１０では押圧力に分布を持たせることができるの
で、部分的に加工量に差を設けることができ、膜厚差の
あるウェーハＷを研磨する場合であっても最終的に膜厚
が均一になるように研磨することができる。
【００３６】なお、中央エアバッグ３４Ａと外周エアバ
ッグ３４Ｂは、研磨するウェーハＷの膜厚差に応じて押
圧力と押圧時間とを制御する。この際、押圧力と押圧時
間は、最終的に全ての膜厚が均一になり、かつ、不要部
分の膜も取り除くことができるように制御する。
【００３７】ところで、本実施の形態のウェーハ研磨装
置では、ウェーハＷを押圧する中央エアバッグ３４Ａと
外周エアバッグ３４Ｂの押圧範囲を各々個別に変更する
ことができる。これは押圧領域規制部材３６を交換する
ことにより行われる。たとえば、外周エアバッグ３４Ｂ
で押圧する第２エリアＳ2 の範囲を拡大する場合は、図
５に示すように、外径の小さい外周押圧領域規制部材３
６Ｂに交換する。また、たとえば、中央エアバッグ３４
Ａで押圧する第１エリアＳ1 の範囲を拡大する場合に
は、図６に示すように、内径の小さい中央押圧領域規制
部材３６Ａに交換する。この交換はボルト（不図示）の
取り付け、取り外しだけで簡単に行うことができるの
で、きわめて簡単かつ短時間に行うことができる。
【００３８】以上説明したように、本実施の形態のウェ
ーハ研磨装置１０によれば、ウェーハＷの押圧領域を簡
単に変更でき、また、各領域ごとに個別に押圧力を制御
することができる。これにより、ウェーハＷを高精度に
平坦化することができる。
【００３９】なお、本実施の形態では、ウェーハＷを押
圧するエアバッグ３４を中央エアバッグ３４Ａと外周エ
アバッグ３４Ｂの２つのエアバッグで構成しているが、
これに限定されるものではなく、更に複数個のエアバッ
グで構成してもよい。これにより、より細かく押圧力の
分布を制御できる。
【００４０】また、押圧領域規制部材の形状も本実施の
形態のようにドーナツ状の形状のものに限らず適宜変更
して使用することが好ましい。
【００４１】図７は、本発明に係るウェーハ研磨装置の
第２の実施の形態の要部の構成を示す縦断面図である。
なお、上述した第１の実施の形態のウェーハ研磨装置１
０と同じ部材には同一符号を付してある。
【００４２】同図に示すように、本実施の形態のウェー
ハ研磨装置ではリテーナーリング３０の内周部に保護シ
ート８０が張設され、この保護シート８０を介してウェ
ーハＷがエアバッグ３４に押圧される。
【００４３】保護シート８０は円盤状に形成され、その
外周部がリテーナーリング本体３０Ａとリテーナーリン
グホルダ３０Ｂとの間に挟まれることでリテーナーリン
グ３０の内周部に張設される。第３吹出口３８Ｃから供
給された圧縮エアは、この保護シート８０とキャリア２
４との間にエア層を形成し、このエア層を介してウェー
ハＷが研磨パッド２０に押し付けられる。すなわち、保
護シート８０とキャリア２４との間に形成されたエア層
が保護シート８０を押圧し、この保護シート８０に押圧
されてウェーハＷが研磨パッド２０に押し付けられる。
【００４４】なお、リテーナーリングホルダ３０Ｂの周
面には、一定の間隔をもって通気孔８４、８４、…が形
成され、この通気孔８４を介して第３吹出口３８Ｃから
供給された圧縮エアが排気される。
【００４５】前記のごとく構成された本実施の形態のウ
ェーハ研磨装置の作用は次のとおりである。
【００４６】まず、ウェーハＷを研磨パッド２０上に載
置する。次に、リテーナーリング用エアバッグ６４を膨
張させることによりリテーナーリング３０を研磨パッド
２０に押し付け、ウェーハＷの周囲をリテーナーリング
３０で包囲する。次に、キャリア２４でウェーハＷの上
面を所定の圧力で押圧する。この場合、まず、第３吹出
口３８Ｃから圧縮エアを噴射し、キャリア２４と保護シ
ート８０との間にエア層（エア層のエア圧は２９．４ｋ
Ｐａ〜６８．６ｋＰａ（０．３ｋｇｆ／ｃｍ2〜０．７
ｋｇｆ／ｃｍ2 ））を形成する。次にキャリア用エアバ
ッグ５２に圧縮エアを供給し、キャリア２４を所定の押
圧力で押圧する。これにより、ウェーハＷの全面が均一
に押圧される。
【００４７】ここで、研磨対象のウェーハＷに膜厚差が
生じている場合は、前記第１の実施の形態のウェーハ研
磨装置１０と同様に、その膜厚差に合わせて、中央エア
バッグ３４Ａと外周エアバッグ３４Ｂに圧縮エアを供給
する。そして、この状態で研磨定盤１２を図１の矢印Ａ
方向に回転させるとともに、ウェーハ保持ヘッド１４を
図１の矢印Ｂ方向に回転させ、その回転する研磨パッド
２０上に図示しないノズルからスラリを供給する。これ
により、ウェーハＷが研磨パッド２０に研磨される。
【００４８】このように、本実施の形態のウェーハ研磨
装置においても、押圧力に分布を持たせることができ
る。したがって、膜厚に差のあるウェーハＷを研磨する
場合であっても最終的に膜厚が均一になるように研磨す
ることができる。
【００４９】また、本実施の形態のウェーハ研磨装置で
は、保護シート８０を介してウェーハＷが押圧されるた
め、ウェーハＷの上面が直接キャリア２４に接触するこ
とによる、傷付きを有効に防止できる。
【００５０】また、本実施の形態のウェーハ研磨装置に
おいても、押圧領域規制部材３６を交換することによ
り、押圧力分布を容易に変更することができる。この
際、押圧領域規制部材３６を交換するためには、保護シ
ート８０を取り外さなければならないが、保護シート８
０はリテーナーリング３０に取り付けられているため、
スナップリング６２を取り外すだけでリテーナーリング
ごと簡単に取り外すことができる。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
押圧領域規制部材を交換するという簡単な操作でウェー
ハの押圧領域を簡単に変更することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ウェーハ研磨装置の全体構造を示す斜視図
【図２】ウェーハ保持ヘッドの構成を示す縦断面図
【図３】ウェーハ研磨装置の要部の構成を示す縦断面図
【図４】キャリアの下面図
【図５】キャリアの他の実施の形態の下面図
【図６】キャリアの他の実施の形態の下面図
【図７】ウェーハ研磨装置の第２の実施の形態の要部の
構成を示す縦断面図
【図８】ウェーハに付いたＣｕ膜の状態を示す模式図
【符号の説明】
１０…ウェーハ研磨装置、１２…研磨定盤、１４…ウェ
ーハ保持ヘッド、１６…回転軸、１８…モータ、２０…
研磨パッド、２２…ヘッド本体、２２Ａ…回転軸、２４
…キャリア、２６…キャリア駆動機構、２８…キャリア
押圧機構、３０…リテーナーリング、３０Ａ…リテーナ
ーリング本体、３０Ｂ…リテーナーリングホルダ、３０
ｂ…凹部、３２…リテーナーリング押圧機構、３４…エ
アバッグ、３４Ａ…中央エアバッグ、３４Ｂ…外周エア
バッグ、３６…押圧領域規制部材、３６Ａ…中央押圧領
域規制部材、３６Ｂ…外周押圧領域規制部材、３８Ａ…
第１吹出口、３８Ｂ…第２吹出口、３８Ｃ…第３吹出
口、４０Ａ〜４０Ｃ…エア流路、４４…ドライブシャフ
ト、４６…ドライブプレート、４８…ドライブピン、５
０…凹部、５２…キャリア用エアバッグ、５４…キャリ
ア用押圧部材、６０…取付リング、６２…スナップリン
グ、６４…リテーナーリング用エアバッグ、６６…リテ
ーナーリング用押圧部材、７０Ａ…中央ゴムシート、７
０Ｂ…外周ゴムシート、８０…保護シート、８４…通気
孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 B24B 37/00 B24B 37/04

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 キャリアの下部に設けられた吹出口から
    エアを噴出してエア層を形成し、該エア層でウェーハを
    研磨パッドに押し付けて研磨するウェーハ研磨装置にお
    いて、 前記キャリアの下部に設けられ、前記ウェーハの上面を
    部分的に押圧するエアバッグと、 前記キャリアの下部に着脱自在に取り付けられ、前記エ
    アバッグが前記ウェーハの上面を押圧する領域を規制す
    る押圧領域規制部材と、を備え、規制する領域が異なる
    前記押圧領域規制部材を複数揃え、該押圧領域規制部材
    を交換することにより、前記エアバッグが前記ウェーハ
    を押圧する領域を変更することを特徴とするウェーハ研
    磨装置。
  2. 【請求項２】 前記キャリアの外周部に配設されたリテ
    ーナーリングの内側にシート材を張設し、前記キャリア
    の下面に形成された吹出口からエアを吹き出すことによ
    り、前記キャリアと前記シート材との間にエア層を形成
    して、該エア層で前記シート材を介して前記ウェーハを
    押圧するとともに、前記エアバッグで前記シート材を介
    して前記ウェーハを部分的に押圧することを特徴とする
    請求項１に記載のウェーハ研磨装置。
  3. 【請求項３】 前記リテーナーリングは、前記キャリア
    の外周に配設された取付部材に着脱自在に取り付けられ
    ることを特徴とする請求項２に記載のウェーハ研磨装
    置。
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