JP3509899B2 - ノンサポート型手袋及びその製造方法 - Google Patents
ノンサポート型手袋及びその製造方法Info
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Description
し、さらに詳細には、家庭用もしくは作業用手袋として
の使用の際に表面が滑りにくいノンサポート型手袋に関
する。
る家庭用あるいは作業用手袋には、サポート型のもの
と、ノンサポート型のものがある。このうち、サポート
型の手袋は、メリヤス等で編成した手袋の表面をゴムや
高分子物質で処理したものである。
袋を構成する高分子ゾルに浸漬し、付着した高分子ゾル
を加熱してゲル化、製膜後、反転させて製品とするもの
である。
り止め効果を与えるためには、最終仕上げ段階で滑り止
め層を基体上に設ければよく、容易に行えることである
が、ノンサポート型手袋では最後に反転が必要であると
いう製法上の制約のためこの方法を適用することはでき
なかった。
め効果を与えるためには、手型の表面に凸凹の模様をつ
け、これを手袋表面に転写することで満足していた。
ポート型手袋の表面に転写された凸凹は、肉眼的にはと
もかく、微視的に見ればやはりなめらかな手袋基体高分
子の表面に他ならず、より優れた滑り止め付与方法を開
発する余地があった。
者らはノンサポート型手袋においてもサポート型手袋と
同様な滑り止め効果を得べく鋭意検討した結果、製造方
法を工夫することにより、ノンサポート手袋であっても
その基体に滑り止め層を形成しうることを見出だし、本
発明を完成した。
たは全部に滑り止め層を設けたことを特徴とするノンサ
ポート型手袋およびその製造方法を提供するものであ
る。
「手袋」と略称する)の滑り止め層は、その製造法から
見て最初の段階で形成させる必要がある。
滑り止め層を形成することのできる高分子ゾル(以下、
「滑り止め形成ゾル」という)に浸漬し、滑り止め層を
形成させた後、以下通常の方法によりその上に手袋基体
層を成膜、乾燥させ、これを手型から反転離型させれば
良い。
た高分子層により形成される場合と、微粉体を含有する
高分子層により形成される場合があり、それぞれの場合
において用いる滑り止め形成ゾルが相違する。
下、「破泡層」ということがある)により形成される場
合の滑り止め形成ゾルは、塩化ビニルペースト樹脂、可
塑剤、安定剤、ゲル化剤等よりなるの高分子ペースト中
に有機発泡剤、無機発泡剤等の発泡剤を添加することに
より調製される。
は、高分子ペーストに対し一般には、0.5〜5重量%
程度で良く、この配合量が多過ぎると発泡により形成さ
れる空孔が連続してしまい、十分な滑り止め効果を示さ
ない場合がある。 また、配合量が少ない場合は表面に
現われる空孔が少なくなり十分な滑り止め効果が得られ
ない。
止め形成ゾルに数秒間浸漬し、次いで100〜250℃
程度、好ましくは200℃程度の温度で1〜5分程度、
好ましくは2分間程度ゲル化、発泡させれば良い。
子層(以下、「フィラー層」ということがある)により
形成される場合の滑り止め形成ゾルは、前記と同様の高
分子ペースト中に炭酸カルシウム、シリカ等の微粒子を
添加すれば良い。
は、前記高分子ペーストに対し一般には、30〜150
重量%程度で良く、この配合量が多過ぎると滑り止め層
のフィルム強度が大幅に低下する場合があり、また、配
合量が少な過ぎる場合は滑り止め効果が不十分な場合が
ある。
滑り止め形成ゾルに数秒程度浸漬し、次いで100〜2
50℃程度、好ましくは200℃程度の温度で1〜5分
程度、好ましくは2分間程度加熱し、半ゲル化(セミキ
ュアー)させれば良い。
め層を設ける以外は、ノンサポート型手袋の製造におい
て通常行われている条件および方法に従い実施すること
がでる。
の上に常法にしたがって基体層を形成し、必要に応じて
起毛層を設けることによりノンサポート型手袋を調製す
ることができる。
ビニル、ニトリルゴム(NBR)、天然ゴム等を利用す
ることができるが、滑り止め層との相溶性等を考慮して
選択することが好ましい。また、起毛層を設ける場合
は、起毛を基体に接着させるための接着剤中に抗菌剤や
抗かび剤を加えても良い。
手袋は、最終的にゾルを乾燥させた後、これを手型から
反転離型させることにより、製品として得ることができ
る。
体が有する摩擦力により滑り止め効果を与えるものであ
り、手型に付された凹凸の摩擦力で滑り止め効果を与え
る従来のノンサポート型手袋とはその作用が大きく異な
るものである。
滑り止め層を有するので、物品が掴み易く、取り落とし
などの少ないものである。特に、湿潤状態でのノンサポ
ート型手袋の使用、例えば、台所等での水仕事において
も水に濡れたコップ、皿等を滑り落とすことが少なく、
使用感の良いものである。
明するが、本発明はこれら実施例になんら制約されるも
のでない。
型の掌部を数秒間浸漬し、引き上げた。 次にこの手型
を加熱窯(200℃)中で2分間加熱処理し、手型表面
のゾルをゲル化、破泡させて破泡層を形成した
成の塩化ビニルゾル中に 秒間浸漬し、ゾルが滴下
しない程度の速さで引き上げ、手型表面に塩化ビニルゾ
ルを付着させた。 次にこの手型を加熱窯(200℃)
中で6分間加熱処理し、全体を完全にゲル化した後、手
型より反転離型して手袋を得た(本発明品1)。
型の掌部を数秒間浸漬し、引き上げた。 次にこの手型
を加熱窯(200℃)中で2分間加熱処理し、手型表面
のゾルをゲル化させてフィラー層を形成した
例1の表2の組成の塩化ビニルゾル中に10秒間浸漬
し、ゾルが滴下しない程度の速さで引き上げ、手型表面
に塩化ビニルゾルを付着させた。 次にこの手型を加熱
窯(200℃)中で6分間加熱処理し、全体を完全にゲ
ル化した後、手型より反転離型して手袋を得た(本発明
品2)。
表4の塩化ビニルゾルを用い、実施例1と同様にしてノ
ンサポート型手袋を得た(本発明品3)。
て、30名のパネルにより、湿潤状態およびドライ状態
(非湿潤状態)における滑りやすさを調べた。なお、対
照としては、破泡層やフィラー層を設けていない塩化ビ
ニル製手袋を用いた。この結果を表5に示す。
く、作業性も高いものであることが明らかになった。
に示す図面。
式的に示す図面。
Claims (3)
- 【請求項1】 手型を手袋を構成する高分子ゾルに浸漬
し、付着した高分子ゾルを加熱してゲル化、製膜後、手
型から反転離型させて製造されるノンサポート型手袋に
おいて、手袋基体表面の一部または全部に微粉体を含有
しかつ破泡した高分子層により形成された滑り止め層を
設けたことを特徴とするノンサポート型手袋。 - 【請求項2】 手型を、発泡剤を含有する高分子ゾルに
浸漬した後、これを焼成して破泡させ、次いで、基体を
構成する高分子ゾルに浸漬し、ゲル化、成膜した後、手
型から反転離型することを特徴とするノンサポート型手
袋の製造方法。 - 【請求項3】 手型を、発泡剤及び微粉体を含有する高
分子ゾルに浸漬した後、これを焼成して破泡させ、次い
で、基体を構成する高分子ゾルに浸漬し、ゲル化、成膜
した後、手形から反転離型することを特徴とするノンサ
ポート型手袋の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18864693A JP3509899B2 (ja) | 1993-07-02 | 1993-07-02 | ノンサポート型手袋及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18864693A JP3509899B2 (ja) | 1993-07-02 | 1993-07-02 | ノンサポート型手袋及びその製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0726404A JPH0726404A (ja) | 1995-01-27 |
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Family
ID=16227366
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP18864693A Expired - Fee Related JP3509899B2 (ja) | 1993-07-02 | 1993-07-02 | ノンサポート型手袋及びその製造方法 |
Country Status (1)
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-
1993
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