JP3506578B2 - 基板処理装置および気中濃度管理システム - Google Patents
基板処理装置および気中濃度管理システムInfo
- Publication number
- JP3506578B2 JP3506578B2 JP00941197A JP941197A JP3506578B2 JP 3506578 B2 JP3506578 B2 JP 3506578B2 JP 00941197 A JP00941197 A JP 00941197A JP 941197 A JP941197 A JP 941197A JP 3506578 B2 JP3506578 B2 JP 3506578B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- concentration
- substrate processing
- gas
- atmospheric gas
- indicator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理装置の雰
囲気ガス中の所定の物質の濃度を管理する気中濃度管理
システムおよびそれを備えた基板処理装置に関する。
囲気ガス中の所定の物質の濃度を管理する気中濃度管理
システムおよびそれを備えた基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が
用いられている。このような基板処理装置では、その雰
囲気中におけるアルカリ成分、酸性分等の種々の化学物
質の濃度（気中濃度）をできるだけ低く保つ必要があ
る。
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が
用いられている。このような基板処理装置では、その雰
囲気中におけるアルカリ成分、酸性分等の種々の化学物
質の濃度（気中濃度）をできるだけ低く保つ必要があ
る。
【０００３】特に、基板上に形成される素子の集積度を
上げるために化学増幅型レジストを用いる場合がある。
ここで、化学増幅型レジストとは、露光されると特定の
酸が発生し、この酸が触媒となり、露光部分の反応（分
解または重合）を増幅させ、効率よくパターン形成が可
能なレジストをいう。
上げるために化学増幅型レジストを用いる場合がある。
ここで、化学増幅型レジストとは、露光されると特定の
酸が発生し、この酸が触媒となり、露光部分の反応（分
解または重合）を増幅させ、効率よくパターン形成が可
能なレジストをいう。
【０００４】このような化学増幅型レジストを用いる場
合には、雰囲気ガス中にアルカリ成分（特にアンモニ
ア）が含まれていると酸が中和されてしまうので、レジ
ストの品質が低下するという問題がある。したがって、
雰囲気ガス中のアンモニアの濃度を一定の基準値以下に
抑制する必要がある。このため、基板処理装置には雰囲
気ガス中のアンモニアを除去するためにフィルタ等から
なるアンモニア除去ユニットが用いられる。
合には、雰囲気ガス中にアルカリ成分（特にアンモニ
ア）が含まれていると酸が中和されてしまうので、レジ
ストの品質が低下するという問題がある。したがって、
雰囲気ガス中のアンモニアの濃度を一定の基準値以下に
抑制する必要がある。このため、基板処理装置には雰囲
気ガス中のアンモニアを除去するためにフィルタ等から
なるアンモニア除去ユニットが用いられる。
【０００５】図４はアンモニア除去ユニットを備えた従
来の基板処理装置の概略図である。基板処理装置１００
ａは、基板にレジスト等の塗布処理、現像処理、加熱処
理、冷却処理等の所定の処理を行う基板処理部６０を備
える。基板処理部６０上には、フィルタおよび送風機か
らなるアンモニア除去ユニット７０が設けられている。
来の基板処理装置の概略図である。基板処理装置１００
ａは、基板にレジスト等の塗布処理、現像処理、加熱処
理、冷却処理等の所定の処理を行う基板処理部６０を備
える。基板処理部６０上には、フィルタおよび送風機か
らなるアンモニア除去ユニット７０が設けられている。
【０００６】通常は、雰囲気ガスとして空気が基板処理
装置１００ａの上方から供給される。その空気はアンモ
ニア除去ユニット７０のフィルタを通過して基板処理部
６０内に供給される。それにより、基板処理部６０内は
アンモニアが除去された清浄な空気の雰囲気に保たれ
る。
装置１００ａの上方から供給される。その空気はアンモ
ニア除去ユニット７０のフィルタを通過して基板処理部
６０内に供給される。それにより、基板処理部６０内は
アンモニアが除去された清浄な空気の雰囲気に保たれ
る。
【０００７】アンモニア除去ユニット７０のフィルタの
能力が時間の経過とともに低下すると、基板処理部６０
内のアンモニアの濃度が上昇する。基板処理部６０内の
アンモニアの濃度が一定の基準値以上になると、化学増
幅型レジストの品質が低下するので、フィルタを交換す
ることが必要となる。フィルタの交換時期を把握するた
めには、基板処理部６０内のアンモニア濃度を管理する
必要がある。
能力が時間の経過とともに低下すると、基板処理部６０
内のアンモニアの濃度が上昇する。基板処理部６０内の
アンモニアの濃度が一定の基準値以上になると、化学増
幅型レジストの品質が低下するので、フィルタを交換す
ることが必要となる。フィルタの交換時期を把握するた
めには、基板処理部６０内のアンモニア濃度を管理する
必要がある。
【０００８】従来は、基板処理部６０内のアンモニア濃
度を管理するためにアンモニア濃度測定器８０を用いて
いる。このアンモニア濃度測定器８０は、基板処理部６
０内の雰囲気ガスを導く配管６１および通信線６２によ
り基板処理装置１００に接続されている。アンモニア濃
度測定器８０としては、一般にイオンクロマトグラフ分
析システムが用いられている。
度を管理するためにアンモニア濃度測定器８０を用いて
いる。このアンモニア濃度測定器８０は、基板処理部６
０内の雰囲気ガスを導く配管６１および通信線６２によ
り基板処理装置１００に接続されている。アンモニア濃
度測定器８０としては、一般にイオンクロマトグラフ分
析システムが用いられている。
【０００９】図５はイオンクロマトグラフ分析システム
の一例を示すブロック図である。図５のイオンクロマト
グラフ分析システムは、濃度分析部８１、記憶部８２、
演算処理部８３、入力部８４および出力部８５を備え
る。
の一例を示すブロック図である。図５のイオンクロマト
グラフ分析システムは、濃度分析部８１、記憶部８２、
演算処理部８３、入力部８４および出力部８５を備え
る。
【００１０】濃度分析部８１は、基板処理部６０から配
管６１を通して導かれた雰囲気ガス中のアンモニア濃度
を測定する機能を有する。入力部８４は例えばキーボー
ドからなり、出力部８５はＣＲＴ等のモニタやプリンタ
等の出力機器からなる。記憶部８２には、演算処理部８
３のための制御プログラムおよび各種データが格納され
る。
管６１を通して導かれた雰囲気ガス中のアンモニア濃度
を測定する機能を有する。入力部８４は例えばキーボー
ドからなり、出力部８５はＣＲＴ等のモニタやプリンタ
等の出力機器からなる。記憶部８２には、演算処理部８
３のための制御プログラムおよび各種データが格納され
る。
【００１１】図５のイオンクロマトグラフ分析システム
においては、基板処理部６０から配管６１を通して導か
れた雰囲気ガス中のアンモニア濃度が濃度分析部８１に
より測定され、測定結果が出力部８５のモニタに表示さ
れ、または出力機器に出力される。
においては、基板処理部６０から配管６１を通して導か
れた雰囲気ガス中のアンモニア濃度が濃度分析部８１に
より測定され、測定結果が出力部８５のモニタに表示さ
れ、または出力機器に出力される。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】上記のアンモニア濃度
測定器８０を用いれば、基板処理部６０内のアンモニア
濃度を正確に測定することができる。しかしながら、こ
のアンモニア濃度測定器８０は比較的大型であるため、
アンモニア濃度測定器８０の分だけ基板処理装置１００
ａのフットプリント（設置面積）が増加するという問題
がある。また、アンモニア濃度測定器８０は高価である
ため、基板処理のためのコストが高くなる。
測定器８０を用いれば、基板処理部６０内のアンモニア
濃度を正確に測定することができる。しかしながら、こ
のアンモニア濃度測定器８０は比較的大型であるため、
アンモニア濃度測定器８０の分だけ基板処理装置１００
ａのフットプリント（設置面積）が増加するという問題
がある。また、アンモニア濃度測定器８０は高価である
ため、基板処理のためのコストが高くなる。
【００１３】本発明の目的は、設置面積を増加させるこ
となく雰囲気ガス中の所定の物質の濃度を安価に管理す
ることが可能な基板処理装置および気中濃度管理システ
ムを提供することである。
となく雰囲気ガス中の所定の物質の濃度を安価に管理す
ることが可能な基板処理装置および気中濃度管理システ
ムを提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を行う基
板処理部と、基板処理部に清浄な雰囲気ガスを供給する
雰囲気ガス供給手段と、雰囲気ガス供給手段内を通過す
る雰囲気ガス中または基板処理部内の雰囲気ガス中の所
定の物質の濃度が所定の基準値以上であるか否かを判定
する判定手段とを備え、判定手段は、雰囲気ガス供給手
段内を通過する雰囲気ガスまたは基板処理部内の雰囲気
ガスをｐＨ指示薬に導く雰囲気ガス導入手段と、ｐＨ指
示薬の色の変化を検出する検出手段と、検出手段により
検出された色の変化に基づいて所定の物質の濃度が基準
値以上であるか否かを判定する濃度判定手段とを含むも
のである。
発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を行う基
板処理部と、基板処理部に清浄な雰囲気ガスを供給する
雰囲気ガス供給手段と、雰囲気ガス供給手段内を通過す
る雰囲気ガス中または基板処理部内の雰囲気ガス中の所
定の物質の濃度が所定の基準値以上であるか否かを判定
する判定手段とを備え、判定手段は、雰囲気ガス供給手
段内を通過する雰囲気ガスまたは基板処理部内の雰囲気
ガスをｐＨ指示薬に導く雰囲気ガス導入手段と、ｐＨ指
示薬の色の変化を検出する検出手段と、検出手段により
検出された色の変化に基づいて所定の物質の濃度が基準
値以上であるか否かを判定する濃度判定手段とを含むも
のである。
【００１５】本発明に係る基板処理装置においては、判
定手段により雰囲気ガス供給手段内を通過する雰囲気ガ
ス中または基板処理部内の雰囲気ガス中の所定の物質の
濃度が所定の基準値以上であるか否かが判定される。そ
れにより、雰囲気ガス供給手段の保守または交換時期を
把握することができる。
定手段により雰囲気ガス供給手段内を通過する雰囲気ガ
ス中または基板処理部内の雰囲気ガス中の所定の物質の
濃度が所定の基準値以上であるか否かが判定される。そ
れにより、雰囲気ガス供給手段の保守または交換時期を
把握することができる。
【００１６】雰囲気ガス供給手段内を通過する雰囲気ガ
スまたは基板処理部内の雰囲気ガスがｐＨ指示薬に導か
れ、ｐＨ指示薬の色の変化が検出される。ｐＨ指示薬の
色は雰囲気ガス中の物質の濃度に応じて変化するので、
ｐＨ指示薬の色の変化に基づいて雰囲気ガス中の所定の
物質の濃度を判定することができる。
スまたは基板処理部内の雰囲気ガスがｐＨ指示薬に導か
れ、ｐＨ指示薬の色の変化が検出される。ｐＨ指示薬の
色は雰囲気ガス中の物質の濃度に応じて変化するので、
ｐＨ指示薬の色の変化に基づいて雰囲気ガス中の所定の
物質の濃度を判定することができる。
【００１７】この場合、判定手段は、雰囲気ガス中の所
定の物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定し
ており、また、ｐＨ指示薬の色の変化に基づいて所定の
物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定してい
るので、構成が単純となり、かつ安価に製造可能であ
り、小型化が可能である。したがって、基板処理装置の
設置面積が増加しない。
定の物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定し
ており、また、ｐＨ指示薬の色の変化に基づいて所定の
物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定してい
るので、構成が単純となり、かつ安価に製造可能であ
り、小型化が可能である。したがって、基板処理装置の
設置面積が増加しない。
【００１８】第２の発明に係る基板処理装置は、基板に
所定の処理を行う基板処理部と、基板処理部に清浄な雰
囲気ガスを供給する雰囲気ガス供給手段と、雰囲気ガス
供給手段内を通過する雰囲気ガス中または基板処理部内
の雰囲気ガス中の所定の物質の濃度が所定の基準値以上
であるか否かを判定する判定手段とを備え、雰囲気ガス
供給手段が、雰囲気ガス中の所定の物質を除去する除去
手段と、除去手段を通過した雰囲気ガスを基板処理部に
送る送気手段とを含み、判定手段が、除去手段の下流側
の雰囲気ガスを採取する第１の測定ポートと、基板処理
部内の雰囲気ガスを採取する第２の測定ポートと、第１
または第２の測定ポー トにより採取された雰囲気ガス中
の所定の物質の濃度が基準値以上であるか否かを判定す
る濃度判定手段と、第１および第２の測定ポートのいず
れかを選択的に濃度判定手段に導通させる切替手段とを
含むものである。
所定の処理を行う基板処理部と、基板処理部に清浄な雰
囲気ガスを供給する雰囲気ガス供給手段と、雰囲気ガス
供給手段内を通過する雰囲気ガス中または基板処理部内
の雰囲気ガス中の所定の物質の濃度が所定の基準値以上
であるか否かを判定する判定手段とを備え、雰囲気ガス
供給手段が、雰囲気ガス中の所定の物質を除去する除去
手段と、除去手段を通過した雰囲気ガスを基板処理部に
送る送気手段とを含み、判定手段が、除去手段の下流側
の雰囲気ガスを採取する第１の測定ポートと、基板処理
部内の雰囲気ガスを採取する第２の測定ポートと、第１
または第２の測定ポー トにより採取された雰囲気ガス中
の所定の物質の濃度が基準値以上であるか否かを判定す
る濃度判定手段と、第１および第２の測定ポートのいず
れかを選択的に濃度判定手段に導通させる切替手段とを
含むものである。
【００１９】本発明に係る基板処理装置においては、判
定手段により雰囲気ガス供給手段内を通過する雰囲気ガ
ス中または基板処理部内の雰囲気ガス中の所定の物質の
濃度が所定の基準値以上であるか否かが判定される。そ
れにより、雰囲気ガス供給手段の保守または交換時期を
把握することができる。
定手段により雰囲気ガス供給手段内を通過する雰囲気ガ
ス中または基板処理部内の雰囲気ガス中の所定の物質の
濃度が所定の基準値以上であるか否かが判定される。そ
れにより、雰囲気ガス供給手段の保守または交換時期を
把握することができる。
【００２０】この場合、判定手段は、雰囲気ガス中の所
定の物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定し
ているので、構成が単純となり、かつ安価に製造可能で
あり、小型化が可能である。したがって、基板処理装置
の設置面積が増加しない。
定の物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定し
ているので、構成が単純となり、かつ安価に製造可能で
あり、小型化が可能である。したがって、基板処理装置
の設置面積が増加しない。
【００２１】第１の測定ポートが濃度判定手段に導通す
るように切替手段を設定した場合には、雰囲気ガス供給
手段の除去手段の下流側の雰囲気ガスが採取され、その
雰囲気ガス中の濃度が基準値以上であるか否かが判定さ
れる。除去手段の下流側の雰囲気ガス中の濃度が基準値
よりも低いときには、基板処理部内の雰囲気ガス中の濃
度も基準値よりも低くなっている。
るように切替手段を設定した場合には、雰囲気ガス供給
手段の除去手段の下流側の雰囲気ガスが採取され、その
雰囲気ガス中の濃度が基準値以上であるか否かが判定さ
れる。除去手段の下流側の雰囲気ガス中の濃度が基準値
よりも低いときには、基板処理部内の雰囲気ガス中の濃
度も基準値よりも低くなっている。
【００２２】除去手段の下流側の雰囲気ガス中の濃度が
基準値以上になると、やがては基板処理部内の雰囲気ガ
ス中の濃度も基準値以上となるので、第２の測定ポート
が濃度判定手段に導通するように切替手段を設定する。
それにより、基板処理部内の雰囲気ガスが採取され、そ
の雰囲気ガス中の濃度が基準値以上であるか否かが判定
される。したがって、基板処理部内の雰囲気ガス中の濃
度が基準値以上になる前に雰囲気ガス供給手段の除去手
段を交換することができる。
基準値以上になると、やがては基板処理部内の雰囲気ガ
ス中の濃度も基準値以上となるので、第２の測定ポート
が濃度判定手段に導通するように切替手段を設定する。
それにより、基板処理部内の雰囲気ガスが採取され、そ
の雰囲気ガス中の濃度が基準値以上であるか否かが判定
される。したがって、基板処理部内の雰囲気ガス中の濃
度が基準値以上になる前に雰囲気ガス供給手段の除去手
段を交換することができる。
【００２３】第３の発明に係る基板処理装置は、第１お
よび第２の発明に係る基板処理装置の構成において、判
定手段により所定の物質の濃度が基準値以上であると判
定された場合に警報を発生する警報発生手段をさらに備
えたものである。これにより、作業者が雰囲気ガス供給
手段の保守または交換時期を容易に把握することができ
る。
よび第２の発明に係る基板処理装置の構成において、判
定手段により所定の物質の濃度が基準値以上であると判
定された場合に警報を発生する警報発生手段をさらに備
えたものである。これにより、作業者が雰囲気ガス供給
手段の保守または交換時期を容易に把握することができ
る。
【００２４】第４の発明に係る基板処理装置は、第１〜
第３のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、判定手段により所定の物質の濃度が基準値以上であ
ると判定された場合に基板処理部による処理を停止させ
る制御手段をさらに備えたものである。これにより、雰
囲気ガス中の所定の物質の濃度の上昇による基板処理の
質の低下を防止することができる。
第３のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、判定手段により所定の物質の濃度が基準値以上であ
ると判定された場合に基板処理部による処理を停止させ
る制御手段をさらに備えたものである。これにより、雰
囲気ガス中の所定の物質の濃度の上昇による基板処理の
質の低下を防止することができる。
【００２５】第５の発明に係る気中濃度管理システム
は、基板処理装置内の雰囲気ガス中の所定の物質の濃度
を管理する気中濃度管理システムであって、基板処理装
置内の雰囲気ガスを採取する採取手段と、採取手段によ
り採取された雰囲気ガスをｐＨ指示薬に導く雰囲気ガス
導入手段と、ｐＨ指示薬の色の変化を検出する検出手段
と、検出手段により検出された色の変化に基づいて所定
の物質の濃度が基準値以上であるか否かを判定する濃度
判定手段とを含むものである。
は、基板処理装置内の雰囲気ガス中の所定の物質の濃度
を管理する気中濃度管理システムであって、基板処理装
置内の雰囲気ガスを採取する採取手段と、採取手段によ
り採取された雰囲気ガスをｐＨ指示薬に導く雰囲気ガス
導入手段と、ｐＨ指示薬の色の変化を検出する検出手段
と、検出手段により検出された色の変化に基づいて所定
の物質の濃度が基準値以上であるか否かを判定する濃度
判定手段とを含むものである。
【００２６】本発明に係る気中濃度管理システムにおい
ては、基板処理装置内の雰囲気ガスが採取されてｐＨ指
示薬に導かれる。ｐＨ指示薬の色は雰囲気ガス中の所定
の物質の濃度に応じて変化するので、ｐＨ指示薬の色の
変化に基づいて所定の物質の濃度を判定することができ
る。
ては、基板処理装置内の雰囲気ガスが採取されてｐＨ指
示薬に導かれる。ｐＨ指示薬の色は雰囲気ガス中の所定
の物質の濃度に応じて変化するので、ｐＨ指示薬の色の
変化に基づいて所定の物質の濃度を判定することができ
る。
【００２７】この気中濃度管理システムでは、ｐＨ指示
薬の色の変化に基づいて所定の物質の濃度が基準値以上
であるか否かのみを判定しているので、構成が単純であ
り、かつ安価に製造可能であり、小型化が可能である。
したがって、基板処理装置にこの気中濃度管理システム
を設けても、基板処理装置の設置面積が増加しない。
薬の色の変化に基づいて所定の物質の濃度が基準値以上
であるか否かのみを判定しているので、構成が単純であ
り、かつ安価に製造可能であり、小型化が可能である。
したがって、基板処理装置にこの気中濃度管理システム
を設けても、基板処理装置の設置面積が増加しない。
【００２８】第６の発明に係る気中濃度管理システム
は、第５の発明に係る気中濃度管理システムの構成にお
いて、検出手段が、ｐＨ指示薬に光を照射する光照射手
段と、ｐＨ指示薬に照射された光の反射光を受光する受
光手段とを含み、濃度判定手段が、受光手段の受光量に
基づいて所定の物質の濃度が基準値以上であるか否かを
判定するものである。
は、第５の発明に係る気中濃度管理システムの構成にお
いて、検出手段が、ｐＨ指示薬に光を照射する光照射手
段と、ｐＨ指示薬に照射された光の反射光を受光する受
光手段とを含み、濃度判定手段が、受光手段の受光量に
基づいて所定の物質の濃度が基準値以上であるか否かを
判定するものである。
【００２９】ｐＨ指示薬の色の濃度は雰囲気ガス中の所
定の物質の濃度に応じて変化するので、ｐＨ指示薬から
の反射光の光量に基づいて雰囲気ガス中の物質の濃度を
判定することができる。本発明に係る気中濃度管理シス
テムでは、受光手段の受光量に基づいて雰囲気ガス中の
物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定してい
るので、構成が単純であり、かつ安価に製造可能であ
り、小型化が可能である。
定の物質の濃度に応じて変化するので、ｐＨ指示薬から
の反射光の光量に基づいて雰囲気ガス中の物質の濃度を
判定することができる。本発明に係る気中濃度管理シス
テムでは、受光手段の受光量に基づいて雰囲気ガス中の
物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定してい
るので、構成が単純であり、かつ安価に製造可能であ
り、小型化が可能である。
【００３０】第７の発明に係る気中濃度管理システム
は、第５の発明に係る気中濃度管理システムの構成にお
いて、ｐＨ指示薬が透明パイプ内に充填され、雰囲気ガ
ス導入手段が、採取手段により採取された雰囲気ガスを
透明パイプ内のｐＨ指示薬の一端部に導き、検出手段
が、透明パイプに沿って配列されかつ透明パイプ内のｐ
Ｈ指示薬に光を照射してその反射光に基づいて色の変化
を検知する複数の検知手段を含み、濃度判定手段が、複
数の検知手段の検知タイミングの時間差に基づいて所定
の物質の濃度が基準値以上であるか否かを判定するもの
である。
は、第５の発明に係る気中濃度管理システムの構成にお
いて、ｐＨ指示薬が透明パイプ内に充填され、雰囲気ガ
ス導入手段が、採取手段により採取された雰囲気ガスを
透明パイプ内のｐＨ指示薬の一端部に導き、検出手段
が、透明パイプに沿って配列されかつ透明パイプ内のｐ
Ｈ指示薬に光を照射してその反射光に基づいて色の変化
を検知する複数の検知手段を含み、濃度判定手段が、複
数の検知手段の検知タイミングの時間差に基づいて所定
の物質の濃度が基準値以上であるか否かを判定するもの
である。
【００３１】透明パイプに充填されたｐＨ指示薬の一端
部に所定の物質を含む雰囲気ガスを供給すると、ｐＨ指
示薬の色が一端部から他端部に向かって順に変化する。
この場合、ｐＨ指示薬の色の変化の速度は雰囲気ガス中
の濃度に対応する。したがって、透明パイプに沿って配
列された複数の検知手段の検知タイミングの時間差に基
づいて雰囲気ガス中の物質の濃度を判定することができ
る。本発明に係る気中濃度管理システムでは、複数の検
知手段の検知タイミングの時間差に基づいて雰囲気ガス
中の物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定し
ているので、構成が単純であり、かつ安価に製造可能で
あり、小型化が可能である。
部に所定の物質を含む雰囲気ガスを供給すると、ｐＨ指
示薬の色が一端部から他端部に向かって順に変化する。
この場合、ｐＨ指示薬の色の変化の速度は雰囲気ガス中
の濃度に対応する。したがって、透明パイプに沿って配
列された複数の検知手段の検知タイミングの時間差に基
づいて雰囲気ガス中の物質の濃度を判定することができ
る。本発明に係る気中濃度管理システムでは、複数の検
知手段の検知タイミングの時間差に基づいて雰囲気ガス
中の物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定し
ているので、構成が単純であり、かつ安価に製造可能で
あり、小型化が可能である。
【００３２】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
基板処理装置の構成を示す概略図である。
基板処理装置の構成を示す概略図である。
【００３３】図１の基板処理装置１００は、基板処理部
１、雰囲気調整部２および気中濃度管理システム３を含
む。基板処理部１は、基板にレジスト等を塗布する回転
式塗布ユニット（スピンコータ）、基板に現像処理を行
う回転式現像ユニット（スピンデベロッパ）、基板に洗
浄処理を行う回転式洗浄ユニット（スピンスクラバ）、
基板に加熱処理を行う加熱ユニット（ホットプレー
ト）、基板に冷却処理を行う冷却ユニット（クーリング
プレート）等の１または複数の基板処理ユニットからな
る。
１、雰囲気調整部２および気中濃度管理システム３を含
む。基板処理部１は、基板にレジスト等を塗布する回転
式塗布ユニット（スピンコータ）、基板に現像処理を行
う回転式現像ユニット（スピンデベロッパ）、基板に洗
浄処理を行う回転式洗浄ユニット（スピンスクラバ）、
基板に加熱処理を行う加熱ユニット（ホットプレー
ト）、基板に冷却処理を行う冷却ユニット（クーリング
プレート）等の１または複数の基板処理ユニットからな
る。
【００３４】雰囲気調整部２は、化学吸着フィルタから
なる１次フィルタ２１、送風機２２、化学吸着フィルタ
からなる２次フィルタ２３、およびＵＬＰＡ（Ultra Lo
w Penetration Air）フィルタ２４を含み、基板処理部
１上に装着される。
なる１次フィルタ２１、送風機２２、化学吸着フィルタ
からなる２次フィルタ２３、およびＵＬＰＡ（Ultra Lo
w Penetration Air）フィルタ２４を含み、基板処理部
１上に装着される。
【００３５】送風機２２は、上方から供給される雰囲気
ガスを１次フィルタ２１、２次フィルタ２３およびＵＬ
ＰＡフィルタ２４を通過させて基板処理部１内に導く。
１次フィルタ２１および２次フィルタ２３は所定の物質
を中和する粒子を含み、上方から供給された雰囲気ガス
中の上記所定の物質を除去する。ＵＬＰＡフィルタ２４
は、雰囲気ガス中のパーティクル（粉塵）を除去する。
これにより、基板処理部１内には、所定の物質およびパ
ーティクルが除去された清浄な雰囲気ガスが供給され
る。
ガスを１次フィルタ２１、２次フィルタ２３およびＵＬ
ＰＡフィルタ２４を通過させて基板処理部１内に導く。
１次フィルタ２１および２次フィルタ２３は所定の物質
を中和する粒子を含み、上方から供給された雰囲気ガス
中の上記所定の物質を除去する。ＵＬＰＡフィルタ２４
は、雰囲気ガス中のパーティクル（粉塵）を除去する。
これにより、基板処理部１内には、所定の物質およびパ
ーティクルが除去された清浄な雰囲気ガスが供給され
る。
【００３６】雰囲気ガスは例えば空気である。また、雰
囲気ガス中の所定の物質は、所定のアルカリ成分または
所定の酸成分であり、本実施例ではアンモニアである。
囲気ガス中の所定の物質は、所定のアルカリ成分または
所定の酸成分であり、本実施例ではアンモニアである。
【００３７】気中濃度管理システム３は、基板処理部１
上に設けられ、第１の測定ポート３１、第２の測定ポー
ト３２、三方弁３３および濃度判定器３４を含む。第１
の測定ポート３１は１次フィルタ２１と２次フィルタ２
３との間、すなわち、１次フィルタ２１の下流側に配置
されている。第２の測定ポート３２は基板処理部１内に
配置されている。第１の測定ポート３１および第２の測
定ポート３２は雰囲気ガスを吸引するためのノズルから
なり、それぞれ配管３５，３６により三方弁３３に接続
されている。
上に設けられ、第１の測定ポート３１、第２の測定ポー
ト３２、三方弁３３および濃度判定器３４を含む。第１
の測定ポート３１は１次フィルタ２１と２次フィルタ２
３との間、すなわち、１次フィルタ２１の下流側に配置
されている。第２の測定ポート３２は基板処理部１内に
配置されている。第１の測定ポート３１および第２の測
定ポート３２は雰囲気ガスを吸引するためのノズルから
なり、それぞれ配管３５，３６により三方弁３３に接続
されている。
【００３８】三方弁３３は、第１の測定ポート３１から
供給される雰囲気ガスおよび第２の測定ポート３２から
供給される雰囲気ガスの一方を選択的に濃度判定器３４
に導くように手動または自動により切替可能になってい
る。
供給される雰囲気ガスおよび第２の測定ポート３２から
供給される雰囲気ガスの一方を選択的に濃度判定器３４
に導くように手動または自動により切替可能になってい
る。
【００３９】濃度判定器３４は、基板処理部１上に取り
外し可能に設けられている。この濃度判定３４は、第１
の測定ポート３１または第２の測定ポート３２から供給
される雰囲気ガス中のアンモニア濃度が所定の基準値以
上であるか否かを判定し、アンモニア濃度が基準値以上
になったときに警報を発生する機能を有する。
外し可能に設けられている。この濃度判定３４は、第１
の測定ポート３１または第２の測定ポート３２から供給
される雰囲気ガス中のアンモニア濃度が所定の基準値以
上であるか否かを判定し、アンモニア濃度が基準値以上
になったときに警報を発生する機能を有する。
【００４０】気中濃度管理システム３は基板処理装置１
００から取り外した状態でも単独で機能することができ
る。
００から取り外した状態でも単独で機能することができ
る。
【００４１】通常は、第１の測定ポート３１と濃度判定
器３４との間を導通させるように三方弁３３を設定す
る。この場合、１次フィルタ２１の下流側の雰囲気ガス
中のアンモニア濃度が基準値以上であるか否かが判定さ
れ、雰囲気ガス中のアンモニア濃度が基準値以上になる
と警報が発せられる。これにより、作業者は１次フィル
タ２１が寿命に達したと判断することができる。
器３４との間を導通させるように三方弁３３を設定す
る。この場合、１次フィルタ２１の下流側の雰囲気ガス
中のアンモニア濃度が基準値以上であるか否かが判定さ
れ、雰囲気ガス中のアンモニア濃度が基準値以上になる
と警報が発せられる。これにより、作業者は１次フィル
タ２１が寿命に達したと判断することができる。
【００４２】この場合には、第２の測定ポート３１と濃
度判定器３４との間を導通させるように三方弁３３を切
り替える。それにより、基板処理部１内の雰囲気ガス中
のアンモニア濃度が基準値以上であるか否かを監視する
ことができる。このとき、基板処理部１に供給される雰
囲気ガス中のアンモニアは、２次フィルタ２３のみによ
り除去される。その間に１次フィルタ２１の交換を行
い、第１の測定ポート３１と濃度判定器３４との間を導
通させるように三方弁３３を切り替える。なお、基板処
理部１は連続運転しているため、２次フィルタ２４は定
期的に交換する。
度判定器３４との間を導通させるように三方弁３３を切
り替える。それにより、基板処理部１内の雰囲気ガス中
のアンモニア濃度が基準値以上であるか否かを監視する
ことができる。このとき、基板処理部１に供給される雰
囲気ガス中のアンモニアは、２次フィルタ２３のみによ
り除去される。その間に１次フィルタ２１の交換を行
い、第１の測定ポート３１と濃度判定器３４との間を導
通させるように三方弁３３を切り替える。なお、基板処
理部１は連続運転しているため、２次フィルタ２４は定
期的に交換する。
【００４３】本実施例では、雰囲気調整部２が雰囲気ガ
ス供給手段に相当し、気中濃度管理システム３が判定手
段に相当する。また、１次フィルタ２１が除去手段に相
当し、送風機２２が送気手段に相当する。さらに、第１
の測定ポート３１および第２の測定ポート３２が採取手
段に相当し、三方弁３３が切替手段に相当し、濃度判定
器３４が濃度判定手段に相当し、配管３５，３６が雰囲
気ガス導入手段に相当する。
ス供給手段に相当し、気中濃度管理システム３が判定手
段に相当する。また、１次フィルタ２１が除去手段に相
当し、送風機２２が送気手段に相当する。さらに、第１
の測定ポート３１および第２の測定ポート３２が採取手
段に相当し、三方弁３３が切替手段に相当し、濃度判定
器３４が濃度判定手段に相当し、配管３５，３６が雰囲
気ガス導入手段に相当する。
【００４４】本実施例の基板処理装置１００における気
中濃度管理システム３によれば、基板処理装置１００内
の雰囲気ガス中のアンモニア濃度が所定の基準以上であ
るか否かを容易に判定することができる。それにより、
作業者は、雰囲気調整部２の１次フィルタ２１の交換時
期を容易に把握することができる。この場合、基板処理
装置１００内のアンモニア濃度のリアルタイムなモニタ
は不必要である。
中濃度管理システム３によれば、基板処理装置１００内
の雰囲気ガス中のアンモニア濃度が所定の基準以上であ
るか否かを容易に判定することができる。それにより、
作業者は、雰囲気調整部２の１次フィルタ２１の交換時
期を容易に把握することができる。この場合、基板処理
装置１００内のアンモニア濃度のリアルタイムなモニタ
は不必要である。
【００４５】この気中濃度管理システム３は、モニタ等
の過剰な付加設備を有さないので、構成が単純であり、
コンパクトである。したがって、気中濃度管理システム
３を基板処理装置１００に内蔵させることができ、基板
処理装置１００のフットプリントが増加しない。また、
気中濃度管理システム３の構成が単純であるため、初期
コストおよび運転コストが低減される。
の過剰な付加設備を有さないので、構成が単純であり、
コンパクトである。したがって、気中濃度管理システム
３を基板処理装置１００に内蔵させることができ、基板
処理装置１００のフットプリントが増加しない。また、
気中濃度管理システム３の構成が単純であるため、初期
コストおよび運転コストが低減される。
【００４６】図２は濃度判定器３４の構成の一例を示す
ブロック図である。図２の濃度判定器３４は、透明パイ
プ４１，４２、ｐＨ試験紙（ｐＨ指示薬）４３、光源４
４、受光素子４５、比較部４６および警報発生部４７を
含む。制御部１１は、図１の基板処理部１における基板
の処理を制御する。
ブロック図である。図２の濃度判定器３４は、透明パイ
プ４１，４２、ｐＨ試験紙（ｐＨ指示薬）４３、光源４
４、受光素子４５、比較部４６および警報発生部４７を
含む。制御部１１は、図１の基板処理部１における基板
の処理を制御する。
【００４７】ｐＨ試験紙４３は、透明パイプ４１の一端
部と透明パイプ４２の一端部との間に挟み込まれてい
る。図１の第１の測定ポート３１または第２の測定ポー
ト３２により採取された定量の雰囲気ガスは三方弁３３
を介して透明パイプ４１，４２間のｐＨ試験紙４３に導
かれる。
部と透明パイプ４２の一端部との間に挟み込まれてい
る。図１の第１の測定ポート３１または第２の測定ポー
ト３２により採取された定量の雰囲気ガスは三方弁３３
を介して透明パイプ４１，４２間のｐＨ試験紙４３に導
かれる。
【００４８】光源４４から透明パイプ４１，４２間のｐ
Ｈ試験紙４３に光が照射され、その反射光が受光素子４
５により受光される。受光素子４５は受光量に対応した
出力信号を比較器４６に与える。アンモニアを含む雰囲
気ガスが透明パイプ４１，４２間のｐＨ試験紙４３に供
給されると、ｐＨ試験紙４３の色が変化する。ｐＨ試験
紙４３の色の濃度は雰囲気ガス中のアンモニアの濃度に
応じて変化するので、ｐＨ試験紙４３からの反射光の光
量に基づいて雰囲気ガス中のアンモニア濃度を判定する
ことができる。
Ｈ試験紙４３に光が照射され、その反射光が受光素子４
５により受光される。受光素子４５は受光量に対応した
出力信号を比較器４６に与える。アンモニアを含む雰囲
気ガスが透明パイプ４１，４２間のｐＨ試験紙４３に供
給されると、ｐＨ試験紙４３の色が変化する。ｐＨ試験
紙４３の色の濃度は雰囲気ガス中のアンモニアの濃度に
応じて変化するので、ｐＨ試験紙４３からの反射光の光
量に基づいて雰囲気ガス中のアンモニア濃度を判定する
ことができる。
【００４９】比較部４６は、受光素子４５から与えられ
る出力信号のレベルを所定の値と比較し、受光素子４５
の出力信号のレベルが所定の値以上になったときに警報
発生部４７および制御部１１に警報信号を与える。警報
発生部４７は、比較部４６から与えられる警報信号に応
答して警報音を発生する。制御部１１は、第２の測定ポ
ート３２と濃度判定器３４とが導通状態に設定されてい
るときに、比較部４６から与えられる警報信号に応答し
て基板処理部１における基板の処理を停止させる。図２
の濃度判定器３４は、構成が単純であり、安価かつ小型
に製造可能となる。
る出力信号のレベルを所定の値と比較し、受光素子４５
の出力信号のレベルが所定の値以上になったときに警報
発生部４７および制御部１１に警報信号を与える。警報
発生部４７は、比較部４６から与えられる警報信号に応
答して警報音を発生する。制御部１１は、第２の測定ポ
ート３２と濃度判定器３４とが導通状態に設定されてい
るときに、比較部４６から与えられる警報信号に応答し
て基板処理部１における基板の処理を停止させる。図２
の濃度判定器３４は、構成が単純であり、安価かつ小型
に製造可能となる。
【００５０】図３は濃度判定器３４の構成の他の例を示
すブロック図である。図３の濃度判定器３４は、透明パ
イプ５１、綿状のｐＨ試験紙（ｐＨ指示薬）５２、複数
の反射型センサ５３〜５７、データ処理部５８および警
報発生部５９を含む。
すブロック図である。図３の濃度判定器３４は、透明パ
イプ５１、綿状のｐＨ試験紙（ｐＨ指示薬）５２、複数
の反射型センサ５３〜５７、データ処理部５８および警
報発生部５９を含む。
【００５１】綿状のｐＨ試験紙５２は透明パイプ５２内
に充填されている。図１の第１の測定ポート３１または
第２の測定ポート３２により採取された定量の雰囲気ガ
スは三方弁３３を介して透明パイプ５１の一方の端部に
導かれる。
に充填されている。図１の第１の測定ポート３１または
第２の測定ポート３２により採取された定量の雰囲気ガ
スは三方弁３３を介して透明パイプ５１の一方の端部に
導かれる。
【００５２】複数の反射型センサ５３〜５７は、透明パ
イプ５１の外部にｐＨ試験紙５２の一端部から他端部に
わたって配列されている。これらの反射型センサ５３〜
５７の各々は、透明パイプ５１内のｐＨ試験紙５２に光
を照射し、その反射光を受光し、その反射光の受光量が
所定の値を越えるとオンする。反射型センサ５３〜５７
の出力はデータ処理部５８に与えられる。
イプ５１の外部にｐＨ試験紙５２の一端部から他端部に
わたって配列されている。これらの反射型センサ５３〜
５７の各々は、透明パイプ５１内のｐＨ試験紙５２に光
を照射し、その反射光を受光し、その反射光の受光量が
所定の値を越えるとオンする。反射型センサ５３〜５７
の出力はデータ処理部５８に与えられる。
【００５３】アンモニアを含む雰囲気ガスが透明パイプ
５１に供給されると、ｐＨ試験紙５２の色が一端部から
他端部に向かって順に変化する。雰囲気ガス中のアンモ
ニア濃度が低い場合には、ｐＨ試験紙５２の色の変化速
度が遅く、雰囲気ガス中のアンモニア濃度が高い場合に
は、ｐＨ試験紙５２の色の変化速度が速い。
５１に供給されると、ｐＨ試験紙５２の色が一端部から
他端部に向かって順に変化する。雰囲気ガス中のアンモ
ニア濃度が低い場合には、ｐＨ試験紙５２の色の変化速
度が遅く、雰囲気ガス中のアンモニア濃度が高い場合に
は、ｐＨ試験紙５２の色の変化速度が速い。
【００５４】データ処理部５８は、複数の反射型センサ
５３〜５７がオンするタイミングの時間差を測定し、測
定した時間差に基づいて雰囲気ガス中のアンモニア濃度
が所定の基準値以上であるか否かを判定する。このデー
タ処理部５８は、雰囲気ガス中のアンモニア濃度が所定
の基準値以上となったときに、警報発生部５９および制
御部１１に警報信号を与える。警報発生部５９は、デー
タ処理部５８から与えられる警報信号に応答して警報音
を発生する。制御部１１は、第２の測定ポート３２と濃
度判定器３４とが導通状態に設定されているときに、デ
ータ処理部５８から与えられる警報信号に応答して基板
処理部１における基板の処理を停止させる。図３の濃度
判定器３４は、構成が単純であり、安価かつ小型に製造
可能である。
５３〜５７がオンするタイミングの時間差を測定し、測
定した時間差に基づいて雰囲気ガス中のアンモニア濃度
が所定の基準値以上であるか否かを判定する。このデー
タ処理部５８は、雰囲気ガス中のアンモニア濃度が所定
の基準値以上となったときに、警報発生部５９および制
御部１１に警報信号を与える。警報発生部５９は、デー
タ処理部５８から与えられる警報信号に応答して警報音
を発生する。制御部１１は、第２の測定ポート３２と濃
度判定器３４とが導通状態に設定されているときに、デ
ータ処理部５８から与えられる警報信号に応答して基板
処理部１における基板の処理を停止させる。図３の濃度
判定器３４は、構成が単純であり、安価かつ小型に製造
可能である。
【００５５】なお、図２および図３の警報発生部４７，
５９は警報として警報音を発生するが、警報発生部４
７，５９が警報としてランプ等の表示器を点灯または点
滅させてもよい。
５９は警報として警報音を発生するが、警報発生部４
７，５９が警報としてランプ等の表示器を点灯または点
滅させてもよい。
【図１】本発明の一実施例における基板処理装置の構成
を示す概略図である。
を示す概略図である。
【図２】濃度判定器の構成の一例を示すブロック図であ
る。
る。
【図３】濃度判定器の構成の他の例を示すブロック図で
ある。
ある。
【図４】従来の基板処理装置の概略図である。
【図５】イオンクロマトグラフ分析システムの一例を示
すブロック図である。
すブロック図である。
１ 基板処理部
２ 雰囲気調整部
３ 気中濃度管理システム
１１ 制御部
２１ １次フィルタ
２２ 送風機
２３ ２次フィルタ
３１ 第１の測定ポート
３２ 第２の測定ポート
３３ 三方弁
３４ 濃度判定器
３５，３６ 配管
４１，４２，５１ 透明パイプ
４３，５２ ｐＨ試験紙
４４ 光源
４５ 受光素子
４６ 比較部
４７，５９ 警報発生部
５３〜５７ 反射型センサ
５８ データ処理部
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平７−236814（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/02
H01L 21/68
B01D 53/34
G01N 31/22
H01L 21/027
H01L 21/66
Claims (7)
- 【請求項１】 基板に所定の処理を行う基板処理部と、 前記基板処理部に清浄な雰囲気ガスを供給する雰囲気ガ
ス供給手段と、 前記雰囲気ガス供給手段内を通過する雰囲気ガス中また
は前記基板処理部内の雰囲気ガス中の所定の物質の濃度
が所定の基準値以上であるか否かを判定する判定手段と
を備え、 前記判定手段は、 前記雰囲気ガス供給手段内を通過する雰囲気ガスまたは
前記基板処理部内の雰囲気ガスをｐＨ指示薬に導く雰囲
気ガス導入手段と、 前記ｐＨ指示薬の色の変化を検出する検出手段と、 前記検出手段により検出された色の変化に基づいて前記
所定の物質の濃度が前記基準値以上であるか否かを判定
する濃度判定手段とを含む ことを特徴とする基板処理装
置。 - 【請求項２】 基板に所定の処理を行う基板処理部と、 前記基板処理部に清浄な雰囲気ガスを供給する雰囲気ガ
ス供給手段と、 前記雰囲気ガス供給手段内を通過する雰囲気ガス中また
は前記基板処理部内の雰囲気ガス中の所定の物質の濃度
が所定の基準値以上であるか否かを判定する判定手段と
を備え、 前記雰囲気ガス供給手段は、 雰囲気ガス中の所定の物質を除去する除去手段と、 前記除去手段を通過した雰囲気ガスを前記基板処理部に
送る送気手段とを含み、 前記判定手段は、 前記除去手段の下流側の雰囲気ガスを採取する第１の測
定ポートと、 前記基板処理部内の雰囲気ガスを採取する第２の測定ポ
ートと、 前記第１または第２の測定ポートにより採取された雰囲
気ガス中の前記所定の物質の濃度が前記基準値以上であ
るか否かを判定する濃度判定手段と、 前記第１および第２の測定ポートのいずれかを選択的に
前記濃度判定手段に導通させる切替手段とを含むことを
特徴とする基板処理装置。 - 【請求項３】 前記判定手段により前記所定の物質の濃
度が前記基準値以上であると判定された場合に警報を発
生する警報発生手段をさらに備えたことを特徴とする請
求項１または２記載の基板処理装置。 - 【請求項４】 前記判定手段により前記所定の物質の濃
度が前記基準値以上であると判定された場合に前記基板
処理部による処理を停止させる制御手段をさらに備えた
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基板
処理装置。 - 【請求項５】 基板処理装置内の雰囲気ガス中の所定の
物質の濃度を管理する気中濃度管理システムであって、 前記基板処理装置内の雰囲気ガスを採取する採取手段
と、 前記採取手段により採取された雰囲気ガスをｐＨ指示薬
に導く雰囲気ガス導入手段と、前記ｐＨ指示薬の色の変
化を検出する検出手段と、 前記検出手段により検出された変化に基づいて前記所定
の物質の濃度が所定の基準値以上であるか否かを判定す
る濃度判定手段とを含むことを特徴とする気中濃度管理
システム。 - 【請求項６】 前記検出手段は、前記ｐＨ指示薬に光を
照射する光照射手段と、前記ｐＨ指示薬に照射された光
の反射光を受光する受光手段とを含み、 前記濃度判定手段は、前記受光手段の受光量に基づいて
前記所定の物質の濃度が前記基準値以上であるか否かを
判定することを特徴とする請求項５記載の気中濃度管理
システム。 - 【請求項７】 前記ｐＨ指示薬は透明パイプ内に充填さ
れ、 前記雰囲気ガス導入手段は、前記採取手段により採取さ
れた雰囲気ガスを前記透明パイプ内のｐＨ指示薬の一端
部に導き、 前記検出手段は、前記透明パイプに沿って配列されかつ
前記透明パイプ内のｐＨ指示薬に光を照射してその反射
光に基づいて色の変化を検知する複数の検知手段を含
み、 前記濃度判定手段は、前記複数の検知手段の検知タイミ
ングの時間差に基づいて前記所定の物質の濃度が前記基
準値以上であるか否かを判定することを特徴とする請求
項５記載の気中濃度管理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00941197A JP3506578B2 (ja) | 1997-01-22 | 1997-01-22 | 基板処理装置および気中濃度管理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00941197A JP3506578B2 (ja) | 1997-01-22 | 1997-01-22 | 基板処理装置および気中濃度管理システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10208989A JPH10208989A (ja) | 1998-08-07 |
| JP3506578B2 true JP3506578B2 (ja) | 2004-03-15 |
Family
ID=11719663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00941197A Expired - Fee Related JP3506578B2 (ja) | 1997-01-22 | 1997-01-22 | 基板処理装置および気中濃度管理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3506578B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002075844A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-15 | Tokyo Electron Ltd | フィルタの寿命検出装置及びフィルタの寿命検出方法及び半導体製造装置 |
| JP6024595B2 (ja) * | 2013-05-24 | 2016-11-16 | 信越半導体株式会社 | ガスフィルターのライフ管理方法 |
-
1997
- 1997-01-22 JP JP00941197A patent/JP3506578B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10208989A (ja) | 1998-08-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5832411A (en) | Automated network of sensor units for real-time monitoring of compounds in a fluid over a distributed area | |
| EP1144995B1 (en) | Detection of base contaminants in gas samples | |
| US20060108221A1 (en) | Method and apparatus for improving measuring accuracy in gas monitoring systems | |
| US6096267A (en) | System for detecting base contaminants in air | |
| TWI296141B (en) | Infrared thermopile detector system for semiconductor process monitoring and control | |
| US20050106737A1 (en) | Protection of semiconductor fabrication and similar sensitive processes | |
| KR101723883B1 (ko) | 일체형 산화반응조를 구비한 총유기탄소 측정장치 및 측정방법 | |
| JP3265830B2 (ja) | 全有機体炭素計 | |
| JP3809734B2 (ja) | ガス測定装置 | |
| US4983526A (en) | Method of measuring and controlling ozone concentration | |
| JP3506578B2 (ja) | 基板処理装置および気中濃度管理システム | |
| JPH085542A (ja) | 半導体装置の製造方法および装置 | |
| JP2002079203A (ja) | 紫外線照射装置と紫外線照射装置の制御方法 | |
| JPH11226341A (ja) | 気体の浄化方法及び装置 | |
| JPH05215696A (ja) | 欠陥検査方法および装置 | |
| JP4165341B2 (ja) | 赤外線ガス分析装置 | |
| JP4566032B2 (ja) | 測定装置 | |
| JP2005010007A (ja) | 赤外線ガス分析装置 | |
| US11867679B2 (en) | Integration and active flow control for environmental sensors | |
| JP2000155107A (ja) | ガス測定装置 | |
| JPH06273403A (ja) | 液体クロマトグラフィ自動測定装置 | |
| JP3660923B2 (ja) | 異物モニタリング方法およびそのシステム | |
| JP3941679B2 (ja) | 赤外線ガス分析計 | |
| JP3995615B2 (ja) | 分光式濃度測定装置及びその光源安定判別方法 | |
| JPH08320293A (ja) | 異物検査方法および装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20031216 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20031216 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071226 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081226 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081226 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091226 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091226 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091226 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101226 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101226 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111226 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111226 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111226 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121226 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121226 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121226 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131226 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |