JP3503918B2 - 熱処理炉のガス排出方法およびガス排出装置 - Google Patents
熱処理炉のガス排出方法およびガス排出装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハ等の
熱処理を行う熱処理炉において、雰囲気ガスやＣＶＤ用
ガス等を安全に排出するための方法と装置に関する。
熱処理を行う熱処理炉において、雰囲気ガスやＣＶＤ用
ガス等を安全に排出するための方法と装置に関する。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】例えば半
導体ウェハに不純物の拡散を行う拡散炉等の熱処理炉に
おいて、アニーリングに際して雰囲気ガスやＣＶＤ用ガ
スとして使用される水素ガス等は、爆発性を有する可燃
ガスであることから、使用後にそのまま炉外に排出する
ことはできない。
導体ウェハに不純物の拡散を行う拡散炉等の熱処理炉に
おいて、アニーリングに際して雰囲気ガスやＣＶＤ用ガ
スとして使用される水素ガス等は、爆発性を有する可燃
ガスであることから、使用後にそのまま炉外に排出する
ことはできない。
【０００３】そこで、そのような爆発性を有する可燃ガ
スを、排気中の濃度が一定値以下になるように窒素ガス
等の不活性ガスにより希釈した後に炉外に排出すること
が行われている。しかし、この方法では熱処理中は常に
可燃ガスを希釈する必要があるため、大量の不活性ガス
が消費されることになり、無視できないランニングコス
トが付加される。
スを、排気中の濃度が一定値以下になるように窒素ガス
等の不活性ガスにより希釈した後に炉外に排出すること
が行われている。しかし、この方法では熱処理中は常に
可燃ガスを希釈する必要があるため、大量の不活性ガス
が消費されることになり、無視できないランニングコス
トが付加される。
【０００４】また、その可燃ガスに火種により着火して
燃焼させた後に炉外に排出することも行われている。こ
の方法によれば、希釈ガスを必要としないのでコスト的
には有利である。しかし、この方法では、燃焼系統に異
常が発生して可燃ガスを燃焼させることができなくなっ
た場合、被処理品の保護と安全の確保を図るために熱処
理を中断せざるを得ない事態になることがある。そのよ
うな事態になるとスループットへの悪影響を無視するこ
とができない。
燃焼させた後に炉外に排出することも行われている。こ
の方法によれば、希釈ガスを必要としないのでコスト的
には有利である。しかし、この方法では、燃焼系統に異
常が発生して可燃ガスを燃焼させることができなくなっ
た場合、被処理品の保護と安全の確保を図るために熱処
理を中断せざるを得ない事態になることがある。そのよ
うな事態になるとスループットへの悪影響を無視するこ
とができない。
【０００５】本発明は、上記問題を解決することのでき
る熱処理炉のガス排出方法およびガス排出装置を提供す
ることを目的とする。
る熱処理炉のガス排出方法およびガス排出装置を提供す
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のガス排出方法
は、熱処理空間から排出される可燃ガスを燃焼させた後
に炉外に排出する熱処理炉において、その可燃ガスの燃
焼によって発生する炎の有無を検知し、その可燃ガスの
排出時に前記炎が検知されない場合に、その可燃ガスを
希釈ガスにより希釈した後に炉外に排出することを特徴
とする。
は、熱処理空間から排出される可燃ガスを燃焼させた後
に炉外に排出する熱処理炉において、その可燃ガスの燃
焼によって発生する炎の有無を検知し、その可燃ガスの
排出時に前記炎が検知されない場合に、その可燃ガスを
希釈ガスにより希釈した後に炉外に排出することを特徴
とする。
【０００７】本発明の熱処理炉のガス排出装置は、熱処
理空間から排出される可燃ガスを炉外に排出するための
排出路と、その排出路を流動する可燃ガスの燃焼装置
と、その燃焼装置による可燃ガスの燃焼によって発生す
る炎の有無を検知する手段と、その可燃ガスの排出時に
前記炎が検知されない場合に、前記排出路に可燃ガスの
希釈ガスを導入する手段とを備えることを特徴とする。
理空間から排出される可燃ガスを炉外に排出するための
排出路と、その排出路を流動する可燃ガスの燃焼装置
と、その燃焼装置による可燃ガスの燃焼によって発生す
る炎の有無を検知する手段と、その可燃ガスの排出時に
前記炎が検知されない場合に、前記排出路に可燃ガスの
希釈ガスを導入する手段とを備えることを特徴とする。
【０００８】本発明方法によれば、通常は熱処理空間か
ら排出される可燃ガスを燃焼させた後に炉外に排出する
ので、可燃ガスを希釈する必要はない。また、その可燃
ガスの排出時に、可燃ガスの燃焼によって発生する炎が
検知されない場合は、その可燃ガスを希釈ガスにより希
釈した後に炉外に排出するので、処理を中断することな
く被処理品の保護と安全の確保を図ることができる。こ
れにより、可燃ガスを燃焼させることができない場合で
も熱処理を中断する必要はなく、しかも、大量の希釈ガ
スを消費することなく、可燃ガスを炉外に安全に排出す
ることができる。
ら排出される可燃ガスを燃焼させた後に炉外に排出する
ので、可燃ガスを希釈する必要はない。また、その可燃
ガスの排出時に、可燃ガスの燃焼によって発生する炎が
検知されない場合は、その可燃ガスを希釈ガスにより希
釈した後に炉外に排出するので、処理を中断することな
く被処理品の保護と安全の確保を図ることができる。こ
れにより、可燃ガスを燃焼させることができない場合で
も熱処理を中断する必要はなく、しかも、大量の希釈ガ
スを消費することなく、可燃ガスを炉外に安全に排出す
ることができる。
【０００９】本発明装置によれば本発明方法を実施する
ことができる。
ことができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態を説明する。図１に示す熱処理炉１は、炉体２
と、この炉体２の上部２ａに内蔵される下端開口の石英
ガラス製プロセス管３と、このプロセス管３を囲むよう
に炉体上部２ａに設けられるヒータ４とを備える。その
プロセス管３の内部が熱処理空間３ａとされ、この熱処
理空間３ａに、半導体ウェハ等の熱処理対象物５を搭載
する縦型ボート６が収容される。そのボート６は、炉体
２の下部２ｂからプロセス管３に対する挿入と取り出し
とが可能とされる。また、そのプロセス管３の下端は炉
体２の下部２ｂに設けられた公知の閉鎖機構（図示省
略）により気密状に閉鎖可能とされている。
施形態を説明する。図１に示す熱処理炉１は、炉体２
と、この炉体２の上部２ａに内蔵される下端開口の石英
ガラス製プロセス管３と、このプロセス管３を囲むよう
に炉体上部２ａに設けられるヒータ４とを備える。その
プロセス管３の内部が熱処理空間３ａとされ、この熱処
理空間３ａに、半導体ウェハ等の熱処理対象物５を搭載
する縦型ボート６が収容される。そのボート６は、炉体
２の下部２ｂからプロセス管３に対する挿入と取り出し
とが可能とされる。また、そのプロセス管３の下端は炉
体２の下部２ｂに設けられた公知の閉鎖機構（図示省
略）により気密状に閉鎖可能とされている。
【００１１】そのプロセス管３に、高圧ガス供給源（図
示省略）から石英ガラス製の配管１１を介して複数種類
の熱処理用のガスが供給可能とされている。その配管１
１は、各種類のガスを個別に供給できるように分岐さ
れ、各分岐部分が開閉弁１２と流量制御弁１３とを介し
て相異なる高圧ガス供給源に接続される。その熱処理用
のガスとして、例えば水素等の爆発性を有する可燃ガス
が含まれる。
示省略）から石英ガラス製の配管１１を介して複数種類
の熱処理用のガスが供給可能とされている。その配管１
１は、各種類のガスを個別に供給できるように分岐さ
れ、各分岐部分が開閉弁１２と流量制御弁１３とを介し
て相異なる高圧ガス供給源に接続される。その熱処理用
のガスとして、例えば水素等の爆発性を有する可燃ガス
が含まれる。
【００１２】そのプロセス管３の上部から下方に向かう
石英ガラス製の第１排気管７ａが設けられている。その
第１排気管７ａは、炉体２の上部２ａ内において、その
熱処理空間３ａから排出される可燃ガスを燃焼するため
の燃焼装置８に接続される。その燃焼装置８の上部から
炉体外に延びる石英ガラス製の第２排気管７ｂが設けら
れている。その第１排気管７ａ、燃焼装置８、および第
２排気管７ｂの内部が、上記熱処理空間３ａから排出さ
れるガスを炉外に排出するための排出路を構成する。そ
の第２排気管７ｂは、排気ボックス１８を介して第１排
気ダクト１９に接続される。
石英ガラス製の第１排気管７ａが設けられている。その
第１排気管７ａは、炉体２の上部２ａ内において、その
熱処理空間３ａから排出される可燃ガスを燃焼するため
の燃焼装置８に接続される。その燃焼装置８の上部から
炉体外に延びる石英ガラス製の第２排気管７ｂが設けら
れている。その第１排気管７ａ、燃焼装置８、および第
２排気管７ｂの内部が、上記熱処理空間３ａから排出さ
れるガスを炉外に排出するための排出路を構成する。そ
の第２排気管７ｂは、排気ボックス１８を介して第１排
気ダクト１９に接続される。
【００１３】また、プロセス管３から漏れたガスを炉外
に排気するため、炉体２の内部に通じる第３排気管７ｃ
が排気ボックス１８を介して第２排気ダクト２６に接続
されている。その炉体２、第３排気管７ｃ、および第２
排気ダクト２６にガス検知器２０が設けられ、プロセス
管３のガス漏れが発生した場合、その検知器２０から警
報装置（図示省略）に信号が送られることで警報が発せ
られる。
に排気するため、炉体２の内部に通じる第３排気管７ｃ
が排気ボックス１８を介して第２排気ダクト２６に接続
されている。その炉体２、第３排気管７ｃ、および第２
排気ダクト２６にガス検知器２０が設けられ、プロセス
管３のガス漏れが発生した場合、その検知器２０から警
報装置（図示省略）に信号が送られることで警報が発せ
られる。
【００１４】その排出路に可燃ガスの希釈ガスを導入で
きるように、その燃焼装置８に石英ガラス製の希釈ガス
供給用配管１５の一端が接続され、その配管１５の他端
は開閉弁１６と流量制御弁１７とを介して高圧ガス供給
源（図示省略）に接続される。その希釈ガスとして、例
えば窒素等の不活性ガスが用いられる。
きるように、その燃焼装置８に石英ガラス製の希釈ガス
供給用配管１５の一端が接続され、その配管１５の他端
は開閉弁１６と流量制御弁１７とを介して高圧ガス供給
源（図示省略）に接続される。その希釈ガスとして、例
えば窒素等の不活性ガスが用いられる。
【００１５】図２に示すように、その燃焼装置８は、石
英ガラス製のハウジング２１と点火機構２２を有する。
このハウジング２１の底壁を、上記第１排気管７ａと希
釈ガス供給用配管１５とが貫通する。そのハウジング２
１内において、その第１排気管７ａの一端部は上向きに
開口し、可燃ガスと希釈ガスとが混合し易いように、そ
の第１排気管７ａの開口近傍において希釈ガス供給用配
管１５の一端部は横向きに開口する。なお、その希釈ガ
ス供給用配管１５に代えて、その第１排気管７ａの外径
よりも大きな内径を有する配管により第１排気管７ａを
覆って２重管構造とし、その配管と第１排気管７ａとの
間を通してハウジング２１内に希釈ガスを導入するよう
にしてもよい。
英ガラス製のハウジング２１と点火機構２２を有する。
このハウジング２１の底壁を、上記第１排気管７ａと希
釈ガス供給用配管１５とが貫通する。そのハウジング２
１内において、その第１排気管７ａの一端部は上向きに
開口し、可燃ガスと希釈ガスとが混合し易いように、そ
の第１排気管７ａの開口近傍において希釈ガス供給用配
管１５の一端部は横向きに開口する。なお、その希釈ガ
ス供給用配管１５に代えて、その第１排気管７ａの外径
よりも大きな内径を有する配管により第１排気管７ａを
覆って２重管構造とし、その配管と第１排気管７ａとの
間を通してハウジング２１内に希釈ガスを導入するよう
にしてもよい。
【００１６】そのハウジング２１の底壁に、複数の空気
導入口２１ａが形成される。そのハウジング２１の内圧
が第１排気管７ａから導入される可燃ガスの流動により
低下することで、その空気導入口２１ａからハウジング
２１内に空気が導入される。なお、そのハウジング２１
の内圧は、希釈ガス供給用配管１５から希釈ガスが導入
されて流動することで、可燃ガスのみが流動する場合よ
りも低下する。よって、その空気導入口２１ａを常に開
いた状態にしておくことで導入空気量を増加させ、その
導入空気を希釈ガスとして利用し、高価な不活性ガスの
使用量を減少させることができる。あるいは、その希釈
ガス供給用配管１５から希釈ガスをハウジング２１に導
入する時に、その空気導入口２１ａを閉鎖する機構を設
け、熱処理炉１の周囲環境に乱れが生じるおそれを回避
するようにしてもよい。
導入口２１ａが形成される。そのハウジング２１の内圧
が第１排気管７ａから導入される可燃ガスの流動により
低下することで、その空気導入口２１ａからハウジング
２１内に空気が導入される。なお、そのハウジング２１
の内圧は、希釈ガス供給用配管１５から希釈ガスが導入
されて流動することで、可燃ガスのみが流動する場合よ
りも低下する。よって、その空気導入口２１ａを常に開
いた状態にしておくことで導入空気量を増加させ、その
導入空気を希釈ガスとして利用し、高価な不活性ガスの
使用量を減少させることができる。あるいは、その希釈
ガス供給用配管１５から希釈ガスをハウジング２１に導
入する時に、その空気導入口２１ａを閉鎖する機構を設
け、熱処理炉１の周囲環境に乱れが生じるおそれを回避
するようにしてもよい。
【００１７】その点火機構２２は、そのハウジング２１
の内部において第１排気管７ａの開口の上方に配置され
る抵抗線２２ａと、この抵抗線２２ａへの電力供給装置
２２ｂとを有する。その抵抗線２２ａの発熱により、そ
のハウジング２１内で空気と混合されて排出路を流動す
る可燃ガスに点火することができる。その点火により、
ハウジング２１内において図中２点鎖線で示すように炎
Ｆが発生する。
の内部において第１排気管７ａの開口の上方に配置され
る抵抗線２２ａと、この抵抗線２２ａへの電力供給装置
２２ｂとを有する。その抵抗線２２ａの発熱により、そ
のハウジング２１内で空気と混合されて排出路を流動す
る可燃ガスに点火することができる。その点火により、
ハウジング２１内において図中２点鎖線で示すように炎
Ｆが発生する。
【００１８】その燃焼装置８による可燃ガスの燃焼によ
って発生する炎Ｆの有無を検知するセンサ３１が設けら
れている。すなわち、そのハウジング２１の上部に透明
部材により覆われる覗き窓３２が設けられ、その窓３２
を介してハウジング２１の外部に至る炎Ｆの発する赤外
線等が、そのセンサ３１により検知される。
って発生する炎Ｆの有無を検知するセンサ３１が設けら
れている。すなわち、そのハウジング２１の上部に透明
部材により覆われる覗き窓３２が設けられ、その窓３２
を介してハウジング２１の外部に至る炎Ｆの発する赤外
線等が、そのセンサ３１により検知される。
【００１９】また、図１に示すように、上記第２排気管
７ｂの内部に可燃ガスの検知器２５が設けられ、可燃ガ
スが燃焼されることなく第２排気管７ｂに至った場合、
その検知器２５から警報装置（図示省略）に可燃ガスの
検知信号が送られることで警報が発せられる。
７ｂの内部に可燃ガスの検知器２５が設けられ、可燃ガ
スが燃焼されることなく第２排気管７ｂに至った場合、
その検知器２５から警報装置（図示省略）に可燃ガスの
検知信号が送られることで警報が発せられる。
【００２０】図２に示すように、その炎Ｆの有無を検知
するセンサ３１は制御機構４１に接続される。その制御
機構４１は、上記プロセス管３に可燃ガスを供給する配
管１１途中に設けられた開閉弁１２と流量制御弁１３、
希釈ガス供給用配管１５の途中に設けられた開閉弁１６
と流量制御弁１７、および電力供給装置２２ｂを、記憶
したプログラムに従い制御する。そのため、各弁１２、
１３、１６、１７は電磁弁により構成される。
するセンサ３１は制御機構４１に接続される。その制御
機構４１は、上記プロセス管３に可燃ガスを供給する配
管１１途中に設けられた開閉弁１２と流量制御弁１３、
希釈ガス供給用配管１５の途中に設けられた開閉弁１６
と流量制御弁１７、および電力供給装置２２ｂを、記憶
したプログラムに従い制御する。そのため、各弁１２、
１３、１６、１７は電磁弁により構成される。
【００２１】図３は、上記構成において可燃ガスを用い
た熱処理を行う場合の制御機構４１による制御手順を示
す。まず、電力供給装置２２ｂから電力を供給して抵抗
線２２ａを発熱させる（ステップ１）。次に、配管１１
における可燃ガスに対応する開閉弁１２を開き、流量制
御弁１３の開度を予め設定された値とする（ステップ
２）。これにより、設定流量の可燃ガスが熱処理空間３
ａに送られ、その可燃ガスを用いて所定のアニーリング
が行われる。その可燃ガスは、熱処理空間３ａから第１
排気管７ａを介して燃焼装置８のハウジング２１に導入
され、空気導入口２１ａからハウジング２１に導入され
る空気と混合され、排出路を流動して抵抗線２２ａと接
触する。その抵抗線２２ａとの接触により可燃ガスは燃
焼され、炎Ｆが発生する。その燃焼された可燃ガスは第
２排気管７ｂ、排気ボックス１８、第１排気ダクト１９
を介して炉外に排出される。
た熱処理を行う場合の制御機構４１による制御手順を示
す。まず、電力供給装置２２ｂから電力を供給して抵抗
線２２ａを発熱させる（ステップ１）。次に、配管１１
における可燃ガスに対応する開閉弁１２を開き、流量制
御弁１３の開度を予め設定された値とする（ステップ
２）。これにより、設定流量の可燃ガスが熱処理空間３
ａに送られ、その可燃ガスを用いて所定のアニーリング
が行われる。その可燃ガスは、熱処理空間３ａから第１
排気管７ａを介して燃焼装置８のハウジング２１に導入
され、空気導入口２１ａからハウジング２１に導入され
る空気と混合され、排出路を流動して抵抗線２２ａと接
触する。その抵抗線２２ａとの接触により可燃ガスは燃
焼され、炎Ｆが発生する。その燃焼された可燃ガスは第
２排気管７ｂ、排気ボックス１８、第１排気ダクト１９
を介して炉外に排出される。
【００２２】次に、その炎Ｆの有無をセンサ３１からの
信号に基づいて判断する（ステップ３）。その炎Ｆがセ
ンサ３１により検知されている間は、上記手順を繰り返
す。これにより、可燃ガスは燃焼され続け、希釈ガスが
排出路に導入されることはない。
信号に基づいて判断する（ステップ３）。その炎Ｆがセ
ンサ３１により検知されている間は、上記手順を繰り返
す。これにより、可燃ガスは燃焼され続け、希釈ガスが
排出路に導入されることはない。
【００２３】その炎Ｆがセンサ３１により検知されない
場合、可燃ガスがプロセス管３から排出されているか否
かを判断する（ステップ４）。この判断は、例えば、制
御機構４１から開閉弁１２の開き指示信号が出力されて
いるか否かにより行うことができる。また、上記第２排
気管７ｂに設けた検知器２５により可燃ガスが検知され
ているか否かにより判断してもよい。また、その開閉弁
１２の開閉検知用のセンサを設け、そのセンサからの信
号に基づき判断するようにしてもよい。
場合、可燃ガスがプロセス管３から排出されているか否
かを判断する（ステップ４）。この判断は、例えば、制
御機構４１から開閉弁１２の開き指示信号が出力されて
いるか否かにより行うことができる。また、上記第２排
気管７ｂに設けた検知器２５により可燃ガスが検知され
ているか否かにより判断してもよい。また、その開閉弁
１２の開閉検知用のセンサを設け、そのセンサからの信
号に基づき判断するようにしてもよい。
【００２４】可燃ガスが排出されていない時は、別のガ
スを用いる熱処理が実行されたり、熱処理が完遂された
場合であるので、可燃ガスを用いる熱処理の制御を終了
する。
スを用いる熱処理が実行されたり、熱処理が完遂された
場合であるので、可燃ガスを用いる熱処理の制御を終了
する。
【００２５】可燃ガスが排出されている時に炎Ｆがセン
サ３１により検知されない場合は、希釈ガス供給用配管
１５の開閉弁１６を開き、流量制御弁１７の開度を予め
設定された値として排出路に希釈ガスを導入する（ステ
ップ５）。これにより、その可燃ガスは希釈ガスにより
爆発限界濃度等に対応する所定の安全値まで希釈され、
しかる後に炉外に排出される。例えば、その可燃ガスと
して爆発限界濃度が４％である水素ガスが流量Ｑで排出
され、希釈後の水素ガス濃度を安全余裕を見て１％とす
る場合は、窒素ガス等の希釈ガスの流量が１００Ｑとな
るように流量制御弁１７の開度を予め設定する。これに
より、上記手順を繰り返すことで、プロセス管３に供給
する可燃ガスの流量を含むプロセス条件を何等変更する
ことなく、且つ、排気ガスに含まれる爆発性ガス等の可
燃ガスの組成を極力少なくして安全性を確保した状態
で、目的の熱処理を完遂することができる。なお、可燃
ガスの燃焼異常の正常復帰は、原因究明およびその対策
を待って、熱処理中にまたは熱処理後に行うことができ
る。
サ３１により検知されない場合は、希釈ガス供給用配管
１５の開閉弁１６を開き、流量制御弁１７の開度を予め
設定された値として排出路に希釈ガスを導入する（ステ
ップ５）。これにより、その可燃ガスは希釈ガスにより
爆発限界濃度等に対応する所定の安全値まで希釈され、
しかる後に炉外に排出される。例えば、その可燃ガスと
して爆発限界濃度が４％である水素ガスが流量Ｑで排出
され、希釈後の水素ガス濃度を安全余裕を見て１％とす
る場合は、窒素ガス等の希釈ガスの流量が１００Ｑとな
るように流量制御弁１７の開度を予め設定する。これに
より、上記手順を繰り返すことで、プロセス管３に供給
する可燃ガスの流量を含むプロセス条件を何等変更する
ことなく、且つ、排気ガスに含まれる爆発性ガス等の可
燃ガスの組成を極力少なくして安全性を確保した状態
で、目的の熱処理を完遂することができる。なお、可燃
ガスの燃焼異常の正常復帰は、原因究明およびその対策
を待って、熱処理中にまたは熱処理後に行うことができ
る。
【００２６】なお、本発明は上記実施形態に限定されな
い。例えば、可燃ガスは水素ガスに限定されず、希釈す
ることが有効な可燃ガスであれば本発明を適用できる。
また、希釈ガスも窒素ガスに限定されず、可燃ガスの危
険性を希釈により低減できるものであればよい。また、
熱処理炉は単に一定の雰囲気中での加熱を目的とした炉
に限定されず、例えば、半導体材料に対して熱化学反応
や化学気相堆積を行うために、炉内に可燃ガスが供給さ
れ、あるいは可燃ガスの発生源を包含する炉を含み、ま
た、縦型の炉に限定されるものでもない。
い。例えば、可燃ガスは水素ガスに限定されず、希釈す
ることが有効な可燃ガスであれば本発明を適用できる。
また、希釈ガスも窒素ガスに限定されず、可燃ガスの危
険性を希釈により低減できるものであればよい。また、
熱処理炉は単に一定の雰囲気中での加熱を目的とした炉
に限定されず、例えば、半導体材料に対して熱化学反応
や化学気相堆積を行うために、炉内に可燃ガスが供給さ
れ、あるいは可燃ガスの発生源を包含する炉を含み、ま
た、縦型の炉に限定されるものでもない。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、スループットを低下さ
せることなく、且つ、ランニングコストを増加させるこ
となく、可燃ガスを安全に排出できる熱処理炉のガス排
出方法およびガス排出装置を提供できる。
せることなく、且つ、ランニングコストを増加させるこ
となく、可燃ガスを安全に排出できる熱処理炉のガス排
出方法およびガス排出装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態の熱処理炉の構成説明図
【図２】本発明の実施形態の熱処理炉の燃焼装置の構成
説明図
説明図
【図３】本発明の実施形態の熱処理炉によるガス排出手
順を示すフローチャート
順を示すフローチャート
１ 熱処理炉
３ａ 熱処理空間
７ａ 第１排気管
７ｂ 第２排気管
８ 燃焼装置
１５ 希釈ガス供給用配管
３１ センサ
４１ 制御機構
Ｆ 炎
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｈ０１Ｌ 21/324 Ｒ
Ｈ０１Ｌ 21/324 Ｆ２３Ｊ 15/00 Ｚ
(72)発明者 西村 泰治
奈良県天理市嘉幡町229番地光洋リンド
バーグ株式会社内
(72)発明者 岡部 修一
滋賀県野洲郡野洲町大字市三宅800番地
日本アイ・ビー・エム株式会社 野洲
事業所内
(56)参考文献 特開 平５−291268（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−78404（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−70954（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
F23G 5/50
F23G 7/06
F23J 15/00
H01L 21/22
H01L 21/324
Claims (2)
- 【請求項１】 熱処理空間から排出される可燃ガスを燃
焼させた後に炉外に排出する熱処理炉において、 その可燃ガスの燃焼によって発生する炎の有無を検知
し、 その可燃ガスの排出時に前記炎が検知されない場合に、
その可燃ガスを希釈ガスにより希釈した後に炉外に排出
することを特徴とする熱処理炉のガス排出方法。 - 【請求項２】 熱処理空間から排出される可燃ガスを炉
外に排出するための排出路と、 その排出路を流動する可燃ガスの燃焼装置と、 その燃焼装置による可燃ガスの燃焼によって発生する炎
の有無を検知する手段と、 その可燃ガスの排出時に前記炎が検知されない場合に、
前記排出路に可燃ガスの希釈ガスを導入する手段とを備
える熱処理炉のガス排出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25246596A JP3503918B2 (ja) | 1996-09-02 | 1996-09-02 | 熱処理炉のガス排出方法およびガス排出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25246596A JP3503918B2 (ja) | 1996-09-02 | 1996-09-02 | 熱処理炉のガス排出方法およびガス排出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1079354A JPH1079354A (ja) | 1998-03-24 |
| JP3503918B2 true JP3503918B2 (ja) | 2004-03-08 |
Family
ID=17237769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25246596A Expired - Lifetime JP3503918B2 (ja) | 1996-09-02 | 1996-09-02 | 熱処理炉のガス排出方法およびガス排出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3503918B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20070187386A1 (en) * | 2006-02-10 | 2007-08-16 | Poongsan Microtec Corporation | Methods and apparatuses for high pressure gas annealing |
| JP2006344984A (ja) * | 2006-07-06 | 2006-12-21 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 水素アニール処理方法及びその装置 |
| JP5700646B2 (ja) * | 2011-01-08 | 2015-04-15 | 株式会社日立国際電気 | 水素アニール処理方法及び水素アニール処理装置 |
-
1996
- 1996-09-02 JP JP25246596A patent/JP3503918B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1079354A (ja) | 1998-03-24 |
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