JP3497904B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP3497904B2
JP3497904B2 JP01668695A JP1668695A JP3497904B2 JP 3497904 B2 JP3497904 B2 JP 3497904B2 JP 01668695 A JP01668695 A JP 01668695A JP 1668695 A JP1668695 A JP 1668695A JP 3497904 B2 JP3497904 B2 JP 3497904B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体多ポートメモリに
関するもので、特に高集積性、高速性、低電力性および
低雑音性に優れた半導体多ポートメモリに関する。
【0002】
【従来の技術】マイクロプロセッサの高性能化は、クロ
ック周波数の増大とスーパスカラなどの並列処理によっ
て達成されてきている。また同時に、プロセッサチップ
上に大容量のレジスタやキャッシュメモリを搭載するこ
とにより、性能向上を図っている。現在のマイクロプロ
セッサにおいては、レジスタに関しては多ポートRAM
(RAM=Random Access Memory)を用いて、複数のレジスタ
間演算を並列処理することが一般的である。
【0003】多ポートRAMを実現するための一つの方
法はメモリセルに工夫を加えることである。レジスタへ
の適用例が、ダイジェスト・オブ・テクニカル・ペーパ
ーズ、1992 アイ・イー・イー・イー・インターナ
ショナル・ソリッドステート・サーキッツ・コンファレ
ンス、第46〜第47頁 ( Digest of Technical Paper
s, 1992 IEEE International Solid-State Circuits Co
nference, pp.46-47,February 1992 ) において論じら
れている。この例では6−read,4−writeの
レジスタファイルの例が示されている。複数のread
用および複数のwrite用の各ポート毎にワード線と
ビット線、さらには選択用のMOSFETとを設けて複
数のポートから独立してread/writeできるよ
うにしている。図10に、この技術による2ポートRA
Mのメモリセルを示す。通常の単一ポートRAMのメモ
リセルに対して、ワード線WLとビット線BLの本数が
2倍になる。また、メモリセルの蓄積ノードとビット線
を接続するためのMOSFETの数も2倍となるため、
メモリセルの面積は単一ポートのメモリセルの面積に比
べて、約2倍程度に大きくなってしまう。
【0004】しかし一方、キャッシュメモリについては
通常の単一ポートRAMを用いるのが一般的であった。
これは、多ポートRAMのメモリセルは通常の単一ポー
トRAMのメモリセルの面積よりも大きくなってしま
い、キャッシュメモリのような比較的大容量のメモリは
大きな面積を占有してしまうためである。しかし、今後
さらにプロセッサの性能向上を図っていくためには、キ
ャッシュメモリも多ポート化し、ロード、ストア命令が
並列処理できるようにすることが重要になってくる。
【0005】このため、物理的には単一ポートRAMの
メモリセルを用いながら、多ポートRAMとして動作さ
せるキャッシュメモリが、ダイジェスト・オブ・テクニ
カル・ペーパーズ、1994 アイ・イー・イー・イー
・インターナショナル・ソリッドステート・サーキッツ
・コンファレンス、第262〜第263頁 ( Digestof
Technical Papers, 1992 IEEE International Solid-St
ate Circuits Conference, pp.262-263, February 1994
) において論じられている。このRAMでは、プロセ
ッサの1サイクルの間に3サイクルのメモリ動作を行わ
せることにより、実質的に3ポートのRAMとして働く
ようにしている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来技術
のうち、メモリセルとして、レジスタに用いられている
ような物理的な多ポートのメモリセルを用いると、キャ
ッシュメモリの集積度が著しく低下してしまい、キャッ
シュ容量の低下によってプロセッサの性能低下を招くた
め、本来の目的から逸脱してしまうという問題があっ
た。また、readの高速化のためにビット線を低振幅
で動作させると、readをしている隣のビット線にフ
ル振幅でwriteした場合、隣接ビット線間の結合容
量によって、readの速度が遅くなったり、read
が誤動作を起こしたりするという問題もあった。
【0007】また、RAMをマイクロプロセッサの整数
倍の周期で動作させる従来技術においては、プロセッサ
の周波数に比例してRAMの速度を向上させることが実
質困難になってくる。上記従来技術では、プロセッサの
動作周波数は66MHz、RAMは200MHzで動作
するが、最近のプロセッサの動作周波数は300MHz
を超えるものも出てきており、RAMをその2倍、3倍
の周波数で動作させることは実質的に困難である。
【0008】本発明の目的は、高集積性を維持したま
ま、実質的に複数のポートから同時並列にRead/W
riteすることを可能にする多ポートRAMを提供す
ることにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明による多ポートRAMにおいては、ビット線
を多分割するようにメモリセルアレーを複数のサブアレ
ー(バンク)に分割し、各サブアレー内のビット線とは
別の配線層によって形成したグローバルビット線を並行
に配置した。また、グローバルビット線は多ポート構成
とし、各サブアレー毎に特定のビット線を多ポートのう
ちの1つのポートに対応するグローバルビット線に選択
的に接続する手段を設けた。
【0010】
【作用】上記の構成によれば、異なるサブアレーに対し
て、多ポート構成のグローバルビット線を介して独立に
read/writeを行うことができるようになる。
この構成では同一のサブアレーに対しては同時にアクセ
スすることはできない。しかし、サブアレーの数がある
程度以上大きければ、同一のサブアレーにアクセスする
確率は減り、多ポートにしたことによる性能向上が支配
的になる。また、メモリセルは通常の単一ポートのメモ
リセルを用いているため、通常の単一ポートRAMに対
する面積増加は極めて小さくすることができる。
【0011】さらには、ビット線が多分割されるため、
グローバルビット線の寄生容量が減少し、高速性や低消
費電力性の面でも優れる。
【0012】また、グローバルビット線の配線ピッチを
ビット線の配線ピッチよりも緩くすることが可能になる
ため、ビット線間の容量結合雑音を低減できる。さらに
は異なるポートに対応するグローバルビット線間にグロ
ーバルビット線と同じ配線層でシールド線を配すること
ができるため、ビット線間の容量結合雑音はほとんど無
視できる程度まで小さくすることができる。
【0013】
【実施例】図1は本発明による多ポートRAMの構成の
一実施例である。同図において、MB(i,j)はメモ
リ・ブロック、MA(i,j)はメモリ・アレー、PC
(i,j)はプリチャージ回路、SW(i,j)はビッ
ト線選択回路、MCはメモリセル、BL,BLBはビッ
ト線、EQはイコライズ信号線、LCは負荷制御線、P
A,PBはポート制御線、GBLa,GBLaBはAポ
ート用グローバル・ビット線、GBLb,GBLbBは
Bポート用グローバル・ビット線、RC(i)はロウ制
御回路、PCC(i)はプリチャージ制御回路、MX
(i)はアドレス・マルチプレクサ、XD(i)はXア
ドレス・デコーダ、PS(i)はポート選択回路、IO
C(j)は入出力制御回路、IOa(j)はAポート入
出力回路、IOb(j)はBポート入出力回路、Aaは
Aポート用アドレス・バス、AbはBポート用アドレス
・バス、DaはAポート用データ・バス、DbはBポー
ト用データ・バス、CXはロウ系制御信号、CYはカラ
ム系制御信号である。
【0014】メモリセル・アレーMA(i,j)はアド
レスa5−a0またはb5−b0のいずれか6ビットで
デコードされる64本のワード線と、a6またはb6で
デコードされる2つのデータ線対、およびそれらの交点
に配された複数のメモリセルMCとから構成される。こ
の例では、メモリセルとして、図2に示されるように、
2つのインバータと2つの選択用のMOSFETとから
なる一般的なSRAMのメモリセルを用いているが、こ
れに限らず同等の情報記憶機能を有する単一ポートのメ
モリセルを用いても構わない。ビット線BL0,BL0
B,BL1,BL1Bとグローバル・ビット線GBLa
0,GBLa0B,GBLb0,GBLb0Bとは平行
に配されるが、それぞれ異なる配線層で形成されてお
り、実際にはグローバル・ビット線はメモリセルの上部
に形成される。
【0015】ビット線選択回路SW(i,j)は各メモ
リ・ブロックのビット線をAポート、Bポートいずれか
のグローバル・ビット線に接続するように、MOSFE
TQ1ーQ8によるスイッチで構成されている。これら
のスイッチはポート制御線PA0,PB0,PA1,P
B1で制御される。例えば、PA0がLowで他の信号
がHighの場合にはQ1とQ3がオンし、BL0がG
BLa0に、BL0BがGBLa0Bに、それぞれ接続
される。また、PB0がLowの場合、BL0がGBL
b0に、BL0BがGBLb0Bに、それぞれ接続され
る。このように、PA0、PB0いずれの信号をLow
にするかで、ビット線対BL0、BL0BをAポートか
Bポートのいずれかのグローバルビット線に接続するか
を選択することが出来る。同様に、PA1、PB1いず
れの信号をLowにするかで、ビット線対BL1、BL
1BをAポートかBポートのいずれかのグローバル・ビ
ット線に接続するかを選択することが出来る。この実施
例では、スイッチとしてPチャネルのMOSFETを用
いたが、例えばNチャネルとPチャネルのMOSFET
を並列に接続してスイッチを構成すれば、しきい値電圧
分の電圧降下がなくなるので、書き込みの速度やマージ
ンを改善することができる。また、この例のようにMO
SFETを用いなくとも、実質的にスイッチの動作をす
る素子を用いても良いことは自明である。
【0016】ポート選択回路PS(i)の構成例を図3
に示す。2つの3入力NANDゲートと4つの2入力N
ORゲートから構成される。この例では、ブロック選択
をa9−a7あるいはb9−b7の3ビットで行なって
いる。Aポート、Bポートのいずれかのアドレスの組合
せによって、そのブロックが選択されると、NANDゲ
ートの出力のいずれかがLowになり、デコーダ・エネ
ーブル信号DEaあるいはDEbが出力される。例え
ば、a7B,a8B,a9Bが全てHighの場合に
は、ブロックRC(0)のポート選択回路PS(0)の
デコーダ・エネーブル信号DEaがLowになる。ま
た、b7B,b8B,b9Bが全てHighの場合に
は、ポート選択回路PS(0)のデコーダ・エネーブル
信号DEbがLowになる。さらに、これらの信号DE
a,DEbとa6,a6B,b6,b6BとのNORを
とることにより、ポート制御線PA0,PB0,PA
1,PB1を発生することができる。
【0017】このようにして出力されるデコーダ・エネ
ーブル信号DEaあるいはDEbはアドレス・マルチプ
レクサMX(i)に入力される。DEaがLowの時に
は、アドレスa5−a0が選択され、Xアドレス・デコ
ーダXD(i)に入力される。また、DEbがLowの
時には、アドレスb5−b0が選択され、Xアドレス・
デコーダXD(i)に入力される。どちらもLowにな
らない時には、ブロックが非選択状態であるため、アド
レス信号はデコーダに伝達しない。このように、分割さ
れたブロックが、Aポート、Bポートのいずれかのポー
トからのアクセスであるかを事前に判定する手段を設け
ることにより、Aポート、Bポート各々に対して2組の
デコーダを設けなくとも、多ポートのメモリとして動作
させることができる。
【0018】また、PCC(i)はビット線のイコライ
ズや負荷となるMOSFETの制御を行うための信号を
発生するための回路である。ここで、PCC(i)に入
力される制御信号CXは、各ポートに対するRead/
Writeの種別、イコライズするタイミング信号とを
少なくとも含んでいる。例えば、ビット線BL0とBL
0Bに書き込みを行う場合には、負荷制御信号LC0を
LowからHighにしてQ11とQ12をオフ状態に
する。これにより、グローバル・ビット線からビット線
をフル振幅で駆動した場合でも、負荷を通して不要なD
C電流が流れることを防止できる。書き込みから読みだ
し動作に移行するときには、LC0をLowにしてQ1
1とQ12を導通させるとともに、イコライズ信号EQ
0を一定期間LowにしてQ15を導通させ、BL0と
BL0Bの電位を一致させた後、ワード線WL(i)を
Highにすることにより、ビット線への信号の出現を
高速に行うようにしている。以上はBL0,BL0Bに
ついての動作であるが、BL1,BL1Bについても同
様に行うことができる。これら、2つのうちどのビット
線を制御するかはアドレスa6あるいはb6のLow/
High、およびRead/Writeの組合せによっ
て決定する。
【0019】図4には、AポートのアドレスAa、Bポ
ートのアドレスAb、によって物理的に選択されるメモ
リの箇所を示している。この例では、上位3ビットがバ
ンク(メモリ・ブロック)を、次の1ビットが列選択、
下位6ビットが行(ワード線)の選択を行なうようにし
ている。各アドレスに対して、128ビットの入出力を
行なうようにしているので、1024WL×128Bi
t×2ポートのメモリとして動作する。バンク数、ワー
ド線数、列数や入出力ビット数等はここに示した値に限
らず、自由に選択して任意のメモリ容量やワード/ビッ
ト構成をとることができることは自明である。
【0020】この構成の2ポートメモリではAポートの
アドレスとBポートのアドレスの各上位3ビットが一致
しない限り、言い替えると同じバンクに2つのポートか
ら同時にアクセスがない限り、2つのポートは独立した
メモリとしてアクセスすることができる。図5には2つ
のバンク0と1に対して異なるポートからアクセスした
場合の様子を示す。ポートAについては、バンク0(a
9=a8=a7=0)の列アドレスa6=0に対してR
ead動作、ポートBについては、バンク1(b9=b
8=0、b7=1)の列アドレスb6=1に対してWr
ite動作、を行なっている。各ブロック毎に下位6ビ
ットに対応したワード線が選択され、各メモリセルはビ
ット線、さらにはAポートとBポートのグローバル・ビ
ット線を介して各ポートの入出力回路に接続される。一
方、上位3ビットが一致した場合の制御としては以下の
2つが考えられる。その1つは、キャッシュメモリへの
アクセスを行なうプロセッサ自身が、事前に検知可能で
あることを利用して、2つのポートのうちの1つのポー
トについては、アドレスを発行しないような制御をする
ことである。その2つめは、メモリのアドレス・デコー
ダに上位3ビットが一致したことを検出する機能を付加
し、その情報に応じて、メモリに対しては2つのポート
のうちの1つのポートのみにアクセスするとともに、上
位3ビットが一致した(バンクが競合した)ことをプロ
セッサ側に知らせる信号を設け、プロセッサ側が、それ
に旨応じた次の処理に移れるように制御することであ
る。バンクが競合する頻度はバンク数に依存する。一般
的には、8バンク以上あれば、ほとんど競合を生じず、
実質的に2ポートのメモリと同等の性能が期待できる。
【0021】次に、図6の動作タイミング図を用いて、
さらに詳細な動作について説明する、この例では2サイ
クル分を示しており、各サイクルで次のように動作をす
る場合について例示している。
【0022】 第1サイクル Aポート:ブロック=0、ワード線=0、Read動作 Bポート:ブロック=1、ワード線=62、Write
動作 第2サイクル Aポート:ブロック=1、ワード線=1、Read動作 Bポート:ブロック=0、ワード線=63、Write
動作 時刻t0においてアドレスAaとAb、および各ポート
に対するRead/Writeの制御をはじめとする制
御情報をメモリに入力される。この例ではAポートに対
してはRead動作、Bポートに対してはWrite動
作であるので、Bポートに対してはWriteするデー
タがBポートのデータ・バスDbよりメモリに取り込ま
れる。
【0023】メモリ・ブロックMB(0,0)に対して
は、第1サイクルはAポートへのRead動作であるの
で、PA0をLowにしてビット線対BL0,BL0B
をグローバル・ビット線対GBLa0,GBLa0Bに
接続するとともに、LC0をLowにして、ビット線対
BL0,BL0Bの負荷MOSFETを導通させるとと
もに、イコライズ信号EQ0を一定期間(t1か〜t
3)Lowにしてビット線対をショートする。その後、
アドレスAaによって指定されたワード線W0(0)を
Highにして、メモリセルの情報をビット線対に読み
だす。この例では、メモリセルにHighの情報が蓄積
されており、BL0がBL0Bに対して相対的にHig
hとなるような信号が読みだされている。また、この例
では、ブロック内の他方のビット線対BL1,BL1B
については、LC1をLowにすることにより、Hig
h側にプルアップしている。これは、負荷MOSFET
を導通させて、BL1,BL1Bのいずれかがメモリセ
ルによって放電されないようにすることにより、ビット
線間の容量結合雑音の影響を最小限にすることを目的と
している。しかし、結合容量の影響が小さい場合には、
このようにしなくとも基本的な動作に大きな影響はな
い。第2サイクルはBポートへのWrite動作である
ので、PB0をLowにしてビット線対BL0,BL0
Bをグローバル・ビット線対GBLb0,GBLb0B
に接続するとともに、LC0をHighにして、ビット
線対BL0,BL0Bの負荷MOSFETを非導通にす
る。その後、アドレスAbによって指定されたワード線
W0(63)をHighにして、ビット線の情報をメモ
リセルに書き込む。
【0024】メモリ・ブロックMB(1,0)に対する
動作も、基本的に上記動作と同様であるので省略する。
【0025】以上の実施例から明らかなように、本発明
によれば単一ポートのメモリセルを用いながら、実質的
に2ポートのメモリ動作を実現することが可能となる。
同種の分割されたメモリを多数個配置しても同様の機能
を得ることができるが、メモリの構成上、本発明では以
下により面積を最小化できるという効果がある。本発明
では、グローバル・ビット線をビット線とは別の配線層
で形成することにより、各ビット線個々に対して入出力
回路を設ける必要がなくなるため、同種のメモリを多数
個配置する場合に比べて、入出力回路の個数を最小にし
てメモリを構成することができる。また、同種のメモリ
を多数個配置する場合には、各メモリへのアドレスバス
やデータバスの配線の引き回しに要する面積が大きくな
る。
【0026】本発明のメモリ構成では同一のサブアレー
に対しては同時にアクセスすることはできない。しか
し、サブアレーの数がある程度以上大きければ、同一の
サブアレーにアクセスする確率は減り、多ポートにした
ことによる性能向上が支配的になる。
【0027】さらに本発明によれば、ビット線が多分割
されるため、グローバルビット線の寄生容量が減少し、
高速化や低消費電力化が図れる。
【0028】図7にはこれまで述べてきた2ポートRA
Mの模式図を示している。この例では、2ビット線対に
対して、それとは異なる配線層で2対のグローバル・ビ
ット線対を配置し、その各々を2ポートに対応させてい
るが、図8のように、4ビット線対に対して2対のグロ
ーバル・ビット線対を配置し、その各々を2ポートに対
応させても良い。こうすることにより、グローバル・ビ
ット線対の配線ピッチをビット線対の配線ピッチの1/
2にすることができる。したがって、グローバル・ビッ
ト線間の容量結合雑音を軽減することができる。また、
図8に示すように、グローバル・ビット線間にグローバ
ル・ビット線と同じ配線層でシールド線を挿入し、さら
に容量結合雑音を減らすこともできる。この例に限ら
ず、スイッチ部と制御法の工夫によってグローバル・ビ
ット線対のピッチはビット線対のピッチの任意の整数倍
に設定することが可能であり、グローバル・ビット線を
ピッチの緩い上層配線で形成することが可能である。
【0029】以上、本発明を2ポートのメモリに適用し
た例を示してきたが、グローバル・ビット線とスイッチ
の構成を工夫すれば、3ポート以上のメモリも同様に構
成できる。
【0030】図9は本発明による多ポートRAMの構成
の他の一実施例である。この例では、メモリセルを、1
つのMOSFETと1つの容量とからなるダイナミック
メモリで構成した。同図において、MCはメモリセル、
PC0、PC1はプリチャージ回路、SA0,SA1は
センスアンプである。このように、ダイナミックメモリ
を用いた場合でも、メモリセルの微小信号をビット線に
読みだし、センスアンプで増幅した後にビット線とグロ
ーバル・ビット線を接続するような手順を踏まえれば、
先の実施例同様、本発明を適用することができる。
【0031】以上述べてきたように、異なるサブアレー
に対して、多ポート構成のグローバルビット線を介して
独立にread/writeを行うような構成をとるこ
とにより、単一ポートのメモリセルを用いながら、実質
的に多ポートメモリに相当する機能を、単一ポートRA
Mに対して最小の面積増加で実現することができる。さ
らには、ビット線が多分割構成になるため、グローバル
ビット線の寄生容量が減少し、高速化や低消費電力化を
図ることができる。また、グローバルビット線の配線ピ
ッチをビット線の配線ピッチよりも緩くすることが可能
になるため、ビット線間の容量結合雑音を低減できる。
さらには異なるポートに対応するグローバルビット線間
にグローバルビット線と同じ配線層でシールド線を配す
ることができるため、ビット線間の容量結合雑音はほと
んど無視できる程度まで小さくすることができる。
【0032】
【発明の効果】本発明による多ポートRAMは、単一ポ
ートのメモリセルによる複数のメモリブロックを多ポー
ト構成のグローバルビット線によって接続し、メモリブ
ロック内のビット線を上記グローバルビット線に選択的
に接続することにより、高集積性を保ったまま、実質的
に複数のポートから同時並列にRead/Writeす
ることを可能にする多ポートRAMを提供することにあ
る。
【0033】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による多ポートRAMの構成図。
【図2】図1のメモリセルの構成例を示す回路図。
【図3】図1のポート選択回路PS(i)の構成例を示
す回路図。
【図4】図1の実施例のアドレスとメモリの選択箇所の
対応図。
【図5】図1において2ポートからのアクセス箇所を示
す図。
【図6】図1の実施例の動作タイミング図。
【図7】図1の2ポートRAMの模式図。
【図8】他の2ポートRAMの実施例の模式図。
【図9】ダイナミックメモリに本発明を適用した例を示
す図。
【図10】従来の2ポートRAMのメモリセルの構成例
を示す回路図。
【符号の説明】
MB(i,j)…メモリ・ブロック、MA(i,j)…
メモリ・アレー PC(i,j)…プリチャージ回路、SW(i,j)…
ビット線選択回路 MC…メモリセル、BL,BLB…ビット線、EQ…イ
コライズ信号線 LC…負荷制御線、PA,PB…ポート制御線 GBLa,GBLaB…Aポート用グローバル・ビット
線 GBLb,GBLbB…Bポート用グローバル・ビット
線 RC(i)…ロウ制御回路、PCC(i)…プリチャー
ジ制御回路 MX(i)…アドレス・マルチプレクサ、XD(i)…
Xアドレス・デコーダ PS(i)…ポート選択回路、IOC(j)…入出力制
御回路 IOa(j)…Aポート入出力回路、IOb(j)…B
ポート入出力回路 Aa…Aポート用アドレス・バス、Ab…Bポート用ア
ドレス・バス Da…Aポート用データ・バス、Db…Bポート用デー
タ・バス CX…ロウ系制御信号、CY…カラム系制御信号。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−300492(JP,A) 特開 平7−29376(JP,A) 特開 平10−106269(JP,A) 特開2002−109884(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 11/401 G11C 11/41

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1方向に延在する複数の第1ビット線
    、前記第1方向と交差する第2方向に延在する複数の
    第1ワード線と、前記複数の第1ビット線と前記複数の
    第1ワード線との交点に配置された複数の第1メモリセ
    とを含む第1メモリセルブロックと、前記第1方向に延在し、前記複数の第1ビット線とは異
    なる配線層に形成された第1グローバルビット線と、 前記第1方向に延在し、前記複数の第1ビット線とは異
    なる配線層に形成された第2グローバルビット線と、 前記複数の第1ビット線それぞれと前記第1グローバ
    ルビット線とを接続する複数の第1スイッチと、 前記複数の第1ビット線それぞれと前記第2グローバ
    ルビット線とを接続する複数の第2スイッチと、前記複数の第1スイッチと前記複数の第2スイッチとを
    制御し、前記第1メモリセルへのアクセスを行うグロー
    バルビット線として前記第1グローバルビット線及び前
    記第2グローバルビット線のいずれか一方を選択する第
    1選択回路とを有する 半導体装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 前記第1選択回路は第1のアクセスによる第1アドレス
    及び第2のアクセスによる第2アドレスとが入力され、
    前記第1アドレスまたは前記第2アドレスが前記第1メ
    モリセルブロックに含まれる第1メモリセルを指定する
    場合に、前記第1メモリセルへのアクセスを行うグロー
    バルビット線を選択するために、前記複数の第1スイッ
    チと前記複数の第2スイッチとを制御する半導体装置。
  3. 【請求項3】 請求項2において、 前記第1メモリセルブロックに含まれる前記複数の第1
    ワード線のいずれか一本を選択する第1アドレスデコー
    ダを有し、 前記第1アドレスデコーダは前記第1メモリセルブロッ
    クに含まれる第1メモリセルを指定する前記第1アドレ
    スまたは前記第2アドレスの一方をデコードする半導体
    装置。
  4. 【請求項4】 請求項3において、 前記第1アドレスデコーダと前記第1選択回路とにアド
    レスを入力する第1アドレスバスと第2アドレスバスと
    を有する半導体装置。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至4のいずれかにおいて、 前記第1方向に延在する複数の第2ビット線と、前記第
    2方向に延在する複数の第2ワード線と、前記複数の第
    2ビット線と前記複数の第2ワード線との交点に配置さ
    れた複数の第2メモリセルとを含む第2メモリセルブロ
    ックと、 前記複数の第2ビット線のそれぞれと前記第1グローバ
    ルビット線とを接続する複数の第3スイッチと、 前記複数の第2ビット線のそれぞれと前記第2グローバ
    ルビット線とを接続する複数の第4スイッチと、 前記複数の第3スイッチと前記複数の第4スイッチとを
    制御し、前記第2メモリセルへのアクセスを行うグロー
    バルビット線として前記第1グローバルビット線及び前
    記第2グローバルビット線のいずれか一方を選択する第
    2選択回路とを有する半導体装置。
  6. 【請求項6】 請求項5において、 前記第2選択回路は前記第1アドレス及び前記第2アド
    レスとが入力され、前記第1アドレスまたは前記第2ア
    ドレスが前記第2メモリセルブロックに含まれる第2メ
    モリセルを指定する場合に、前記第2メモリセルへのア
    クセスを行うグローバルビット線を選択するために、前
    記複数の第3スイッチと前記複数の第4スイッチとを制
    御する半導体装置。
  7. 【請求項7】 請求項6において、 前記第2メモリセルブロックに含まれる前記複数の第2
    ワード線のいずれか一本を選択する第2アドレスデコー
    ダを有し、 前記第2アドレスデコーダは前記第2メモリセルブロッ
    クに含まれる第2メモリセルを指定する前記第1アドレ
    スまたは前記第2アドレスの一方をデコードする半導体
    装置。
  8. 【請求項8】 請求項1乃至7において、 前記第1メモリセルは単一ポートのメモリセルである半
    導体装置。
  9. 【請求項9】 請求項1乃至8において、 前記第1ビット線は対となる相補第1ビット線と、 前記第1グローバルビット線は対となる相補第1グロー
    バルビット線と、 前記第2グローバルビット線は対となる相補第2グロー
    バルビット線とを有し、 前記第1メモリセルはSRAMメモリセルである半導体
    装置。
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