JP3474199B2 - カラー陰極線管の製造方法と製造装置 - Google Patents
カラー陰極線管の製造方法と製造装置Info
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/22—Processes involving a combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
-
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- H01J9/2276—Development of latent electrostatic images
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明は荷電された蛍光体粒子の堆積を利用するカラ
ー陰極線管の製造方法と製造装置に関し、さらに特に陰
極線管の観察フェースプレートの内側表面に設けられた
光吸収性マトリックスの穴内に蛍光体粒子を堆積させ、
その結果生じた蛍光面要素の幅を監視する方法と装置に
関する。
ー陰極線管の製造方法と製造装置に関し、さらに特に陰
極線管の観察フェースプレートの内側表面に設けられた
光吸収性マトリックスの穴内に蛍光体粒子を堆積させ、
その結果生じた蛍光面要素の幅を監視する方法と装置に
関する。
発明の背景
摩擦電気的に荷電された粒子を用いた陰極線管（CR
T）のような、ディスプレイデバイスの観察フェースプ
レートの内側表面に配置される光受容体上の電荷潜像を
現像する装置は、G.H.N.Riddleらへ1995年12月19日に発
行された米国特許第5,477,285号に開示されている。３
つの異なる色発光性蛍光体のそれぞれの堆積は、光受容
体上に形成された電荷潜像上に堆積された摩擦電気的に
荷電された蛍光体粒子の電荷に比例した電圧量を検知す
ること、及び指定された蛍光体膜厚に相当する所定の値
に電圧が達するときに、蛍光体粒子の堆積を止めるよう
に電圧を監視することにより制御される。乾燥粉末材料
を利用する静電蛍光体スクリーニングプロセスは、堆積
つまり現像の工程の間、中心から外側に向かって蛍光体
堆積が形成されるという点で独特である。よって、その
結果生じる蛍光体ラインの膜厚は均一ではなく、ライン
の中心から端に向かって減少する。
T）のような、ディスプレイデバイスの観察フェースプ
レートの内側表面に配置される光受容体上の電荷潜像を
現像する装置は、G.H.N.Riddleらへ1995年12月19日に発
行された米国特許第5,477,285号に開示されている。３
つの異なる色発光性蛍光体のそれぞれの堆積は、光受容
体上に形成された電荷潜像上に堆積された摩擦電気的に
荷電された蛍光体粒子の電荷に比例した電圧量を検知す
ること、及び指定された蛍光体膜厚に相当する所定の値
に電圧が達するときに、蛍光体粒子の堆積を止めるよう
に電圧を監視することにより制御される。乾燥粉末材料
を利用する静電蛍光体スクリーニングプロセスは、堆積
つまり現像の工程の間、中心から外側に向かって蛍光体
堆積が形成されるという点で独特である。よって、その
結果生じる蛍光体ラインの膜厚は均一ではなく、ライン
の中心から端に向かって減少する。
膜厚のばらつきに加えて、電圧を測定する手法の欠点
は、蛍光体ラインがCRTフェースパネルの内側に設けら
れたマトリックスの穴を完全に充填するのに十分な幅を
も有していなければならないことである。摩擦電気的に
堆積された蛍光体粒子により発生した電圧を検知するこ
とは、蛍光体ライン幅の目安を与えない。もし蛍光体ラ
インの両側と光吸収性マトリックスとの間にギャップが
生じたら、画面品質は満足のいくものではないと判断さ
れ、その結果生じる輝度は最適化されない。従って、荷
電された蛍光体粒子の堆積により発生する電圧を監視す
るだけでなく、蛍光体現像が進行するときの蛍光体ライ
ンの幅をも決定することが望まれる。
は、蛍光体ラインがCRTフェースパネルの内側に設けら
れたマトリックスの穴を完全に充填するのに十分な幅を
も有していなければならないことである。摩擦電気的に
堆積された蛍光体粒子により発生した電圧を検知するこ
とは、蛍光体ライン幅の目安を与えない。もし蛍光体ラ
インの両側と光吸収性マトリックスとの間にギャップが
生じたら、画面品質は満足のいくものではないと判断さ
れ、その結果生じる輝度は最適化されない。従って、荷
電された蛍光体粒子の堆積により発生する電圧を監視す
るだけでなく、蛍光体現像が進行するときの蛍光体ライ
ンの幅をも決定することが望まれる。
本発明の要約
本発明に従い、フェースプレートパネルを有するカラ
ーCRTの製造方法を開示する。その方法は、フェースプ
レートパネルの観察領域の内側表面に光受容体を形成
し、光受容体上に実質的に均一な静電荷を有させ、光受
容体の選択された領域に可視光を露光し電荷潜像を形成
する工程を含む。その工程には光受容体上の電荷潜像
を、その上に荷電された蛍光体粒子を堆積することによ
り現像し、荷電された蛍光体粒子の堆積幅を監視し、所
定の処理パラメーターが満足させるときに電荷を有する
蛍光体粒子の堆積を終了することをも含む。
ーCRTの製造方法を開示する。その方法は、フェースプ
レートパネルの観察領域の内側表面に光受容体を形成
し、光受容体上に実質的に均一な静電荷を有させ、光受
容体の選択された領域に可視光を露光し電荷潜像を形成
する工程を含む。その工程には光受容体上の電荷潜像
を、その上に荷電された蛍光体粒子を堆積することによ
り現像し、荷電された蛍光体粒子の堆積幅を監視し、所
定の処理パラメーターが満足させるときに電荷を有する
蛍光体粒子の堆積を終了することをも含む。
光受容体上の形成された電荷潜像上の荷電された蛍光
体粒子の堆積を監視する蛍光体堆積監視（PDM）装置に
ついても開示する。PDM装置は荷電された蛍光体粒子堆
積幅の測定用の観察フェースプレートへ外部から監視す
る手段を含む。監視手段に反応する制御手段は、所定の
処理パラメーターが満足されるときに荷電された蛍光体
粒子の堆積を終了するように利用する。
体粒子の堆積を監視する蛍光体堆積監視（PDM）装置に
ついても開示する。PDM装置は荷電された蛍光体粒子堆
積幅の測定用の観察フェースプレートへ外部から監視す
る手段を含む。監視手段に反応する制御手段は、所定の
処理パラメーターが満足されるときに荷電された蛍光体
粒子の堆積を終了するように利用する。
図面の簡単な説明
添付図において、
図１は本発明により製造されたカラーCRTの軸断面の
１部分の平面図である。
１部分の平面図である。
図２はフェースプレートの内側表面上にマトリックス
を有するフェースプレートパネルの断面図である。
を有するフェースプレートパネルの断面図である。
図３は図１に示したCRTのスクリーン部品の断面図で
ある。
ある。
図４と５は、それぞれ蛍光体堆積の幅を測定する新規
な蛍光体堆積監視（PDM）装置の正面図と平面図を示
す。
な蛍光体堆積監視（PDM）装置の正面図と平面図を示
す。
図６と７は、それぞれ図４と５のPDM装置に利用され
たイメージング装置の平面図と側面図を示す。
たイメージング装置の平面図と側面図を示す。
図８、９と10は蛍光体現像の３段階での蛍光体ライン
プロファイルを示す。
プロファイルを示す。
図11は本発明における工程段階を示すフローチャート
である。
である。
好ましい実施例の詳細な説明
図１は方形フェースプレート12と方形ファンネル15に
より接続された管状ネック14から成るガラス外殻11を有
するカラーCRT10を示す。ファンネル15はアノードボタ
ン16と接続しネック14まで伸びている内部導電性被膜
（図示せず）を有している。パネル12は観察フェースプ
レート17と周辺のフランジつまり側壁18から成り、ガラ
スフリット19によりファンネル15へ密閉される。図２に
示されているように、複数の穴21を有する比較的薄い光
吸収性マトリックス20が、観察フェースプレート17の内
側表面に設けられる。発光性の３色蛍光面22はフェース
プレート17の内側表面に運ばれマトリックス20の上にあ
る。図３に示すスクリーン22は、好ましくは赤、青、及
び緑を発光する蛍光体ストライプ、Ｒ、Ｂ、及びＧがマ
トリックス穴21の別々の１つを中心にし、周期的順序で
３つのストライプ又はトライアドの色群又は画像要素に
配列されることから成る複数のスクリーン要素を含むラ
インスクリーンである。ストライプは電子ビームが発生
する面に対して通常垂直である方向に伸びる。実施例の
通常な観測位置において、蛍光体ストライプは垂直な方
向に伸びている。蛍光体ストライプの構成部分は、穴21
周辺の光吸収性マトリックス20の部分と少なくとも重な
っていることが好ましい。ドットスクリーンも新規な工
程により形成される。導電性薄膜層24は、好ましくはア
ルミニウムであるが、スクリーン22の上にあり、フェー
スプレート17を通して蛍光体要素から発光された光を反
射するだけでなく、スクリーンへの均一な電圧供給の手
段を提供する。スクリーン22とその上にあるアルミニウ
ム層24は、スクリーン部品から成る。再び図１を参照す
ると、シャドーマスクまたはフォーカスマスクのような
複数の開口部を有する色選択電極25はスクリーン組立て
部品の所定の配置に関して、従来手段により取外し可能
に取付けられる。色選択電極25はパネル12の側壁18に嵌
め込まれた複数のスタッド26へ分離可能に付けられる。
より接続された管状ネック14から成るガラス外殻11を有
するカラーCRT10を示す。ファンネル15はアノードボタ
ン16と接続しネック14まで伸びている内部導電性被膜
（図示せず）を有している。パネル12は観察フェースプ
レート17と周辺のフランジつまり側壁18から成り、ガラ
スフリット19によりファンネル15へ密閉される。図２に
示されているように、複数の穴21を有する比較的薄い光
吸収性マトリックス20が、観察フェースプレート17の内
側表面に設けられる。発光性の３色蛍光面22はフェース
プレート17の内側表面に運ばれマトリックス20の上にあ
る。図３に示すスクリーン22は、好ましくは赤、青、及
び緑を発光する蛍光体ストライプ、Ｒ、Ｂ、及びＧがマ
トリックス穴21の別々の１つを中心にし、周期的順序で
３つのストライプ又はトライアドの色群又は画像要素に
配列されることから成る複数のスクリーン要素を含むラ
インスクリーンである。ストライプは電子ビームが発生
する面に対して通常垂直である方向に伸びる。実施例の
通常な観測位置において、蛍光体ストライプは垂直な方
向に伸びている。蛍光体ストライプの構成部分は、穴21
周辺の光吸収性マトリックス20の部分と少なくとも重な
っていることが好ましい。ドットスクリーンも新規な工
程により形成される。導電性薄膜層24は、好ましくはア
ルミニウムであるが、スクリーン22の上にあり、フェー
スプレート17を通して蛍光体要素から発光された光を反
射するだけでなく、スクリーンへの均一な電圧供給の手
段を提供する。スクリーン22とその上にあるアルミニウ
ム層24は、スクリーン部品から成る。再び図１を参照す
ると、シャドーマスクまたはフォーカスマスクのような
複数の開口部を有する色選択電極25はスクリーン組立て
部品の所定の配置に関して、従来手段により取外し可能
に取付けられる。色選択電極25はパネル12の側壁18に嵌
め込まれた複数のスタッド26へ分離可能に付けられる。
点線で概略的に示された電子銃27はネック14内の中心
に取付けられ、色選択電極25の開口を通って、集束経路
に沿って３つの電子ビーム28が発生し、スクリーン22へ
向けられる。電子銃は従来のものであり、関連技術にお
いて公知な銃が適当である。
に取付けられ、色選択電極25の開口を通って、集束経路
に沿って３つの電子ビーム28が発生し、スクリーン22へ
向けられる。電子銃は従来のものであり、関連技術にお
いて公知な銃が適当である。
CRT10はファンネル−ネック接合の領域に位置してい
る、ヨーク30のような外部磁界偏向ヨークが利用できる
ように設計される。活性化されたとき、ヨーク30は３つ
のビーム28に磁場をかけ、スクリーン22上で方形ラスタ
ー中においてビームを水平及び垂直に走査させる。偏向
の初期面（ゼロ偏向で）は図１においてヨーク30のほぼ
中央にある、Ｐ−Ｐ線で示される。簡潔にするため、偏
向ゾーンにおける偏向ビーム経路の実際の歪みは示して
いない。
る、ヨーク30のような外部磁界偏向ヨークが利用できる
ように設計される。活性化されたとき、ヨーク30は３つ
のビーム28に磁場をかけ、スクリーン22上で方形ラスタ
ー中においてビームを水平及び垂直に走査させる。偏向
の初期面（ゼロ偏向で）は図１においてヨーク30のほぼ
中央にある、Ｐ−Ｐ線で示される。簡潔にするため、偏
向ゾーンにおける偏向ビーム経路の実際の歪みは示して
いない。
スクリーン22は、Dattaらへ1990年３月１日に発行さ
れた米国特許第4,921,767号に開示された電子写真スク
リーニング（EPS）法により製造される。まず、パネル1
2は先行技術で公知なように、カセイ溶液で洗浄し、水
ですすぎ、緩衝化されたフッ化水素酸でエッチングし、
再び水ですすぎ、汚れを落とす。それから観察フェース
プレート17の内側表面に、好ましくはMayaudへ1971年１
月26日に発行された米国特許第3,558,310号に開示され
た従来の湿式マトリックス工程を利用して、光吸収性マ
トリックス20を設ける。湿式マトリックス工程におい
て、適当なフォトレジスト溶液が例えばスピン塗布によ
り、内側表面へ塗布され、溶液は乾燥されてフォトレジ
スト層を形成する。それから色選択電極25がパネル12へ
挿入され、パネルはスリーイン−ワンライトハウス（th
ree−in−one lighthouse）（図示せず）に置かれ、色
選択電極の開口部を通過する光を発射する光源からの化
学放射線がフォトレジスト層に露光される。露光は、３
つの電子銃からの電子ビームの経路をシミュレートする
位置にある光源でもう２回繰り返される。光はフォトレ
ジスト層の露光領域の溶解性を選択的に変化させる。３
回目の露光後、パネルはライトハウスから取り出され、
パネルから色選択電極は片付けられた。フォトレジスト
層は水を用いて現像され、フォトレジスト層のより溶解
性のある領域は取り除かれ、それによって隠された観察
フェースプレートの内側表面が露出され、フォトレジス
ト層の溶解しづらい露光領域はそのままとなる。それか
ら光吸収性材料の適当な溶液がフェースプレートパネル
の内側表面に均一に供給され、観測フェースプレートの
露出部分とフォトレジスト層が保持され溶解しづらい領
域を覆う。光吸収性材料層は乾燥され、フォトレジスト
層の保持された領域とその上にある光吸収性材料を溶解
し除去する適当な溶液で現像され、観察フェースプレー
トの内側表面に固着したマトリックス20層における穴21
を形成する。対角線の寸法が51cm（20インチ）を有する
パネル12では、マトリックス20に形成された穴21は約0.
13から0.18mmの幅であり、不透明なマトリックスライン
は約0.1から0.15mmの幅を有している。それからマトリ
ックス20を上に有する観察フェースプレート17の内側表
面には、揮発可能な有機導電性（OC）材料、図示せず、
の適当な層が塗布される。このOC層はその上に揮発可能
な有機光導電性（OPC）層、これも図示せず、の電極を
提供する。組合せてOC層とOPC層は図４に示す光受容体3
6を構成する。
れた米国特許第4,921,767号に開示された電子写真スク
リーニング（EPS）法により製造される。まず、パネル1
2は先行技術で公知なように、カセイ溶液で洗浄し、水
ですすぎ、緩衝化されたフッ化水素酸でエッチングし、
再び水ですすぎ、汚れを落とす。それから観察フェース
プレート17の内側表面に、好ましくはMayaudへ1971年１
月26日に発行された米国特許第3,558,310号に開示され
た従来の湿式マトリックス工程を利用して、光吸収性マ
トリックス20を設ける。湿式マトリックス工程におい
て、適当なフォトレジスト溶液が例えばスピン塗布によ
り、内側表面へ塗布され、溶液は乾燥されてフォトレジ
スト層を形成する。それから色選択電極25がパネル12へ
挿入され、パネルはスリーイン−ワンライトハウス（th
ree−in−one lighthouse）（図示せず）に置かれ、色
選択電極の開口部を通過する光を発射する光源からの化
学放射線がフォトレジスト層に露光される。露光は、３
つの電子銃からの電子ビームの経路をシミュレートする
位置にある光源でもう２回繰り返される。光はフォトレ
ジスト層の露光領域の溶解性を選択的に変化させる。３
回目の露光後、パネルはライトハウスから取り出され、
パネルから色選択電極は片付けられた。フォトレジスト
層は水を用いて現像され、フォトレジスト層のより溶解
性のある領域は取り除かれ、それによって隠された観察
フェースプレートの内側表面が露出され、フォトレジス
ト層の溶解しづらい露光領域はそのままとなる。それか
ら光吸収性材料の適当な溶液がフェースプレートパネル
の内側表面に均一に供給され、観測フェースプレートの
露出部分とフォトレジスト層が保持され溶解しづらい領
域を覆う。光吸収性材料層は乾燥され、フォトレジスト
層の保持された領域とその上にある光吸収性材料を溶解
し除去する適当な溶液で現像され、観察フェースプレー
トの内側表面に固着したマトリックス20層における穴21
を形成する。対角線の寸法が51cm（20インチ）を有する
パネル12では、マトリックス20に形成された穴21は約0.
13から0.18mmの幅であり、不透明なマトリックスライン
は約0.1から0.15mmの幅を有している。それからマトリ
ックス20を上に有する観察フェースプレート17の内側表
面には、揮発可能な有機導電性（OC）材料、図示せず、
の適当な層が塗布される。このOC層はその上に揮発可能
な有機光導電性（OPC）層、これも図示せず、の電極を
提供する。組合せてOC層とOPC層は図４に示す光受容体3
6を構成する。
OC層の適当な材料には、P.Dattaらへ1994年12月６日
に発行された米国特許第5,370,952号に開示された、あ
る４級アンモニウム高分子電解質を含む。OPC層は好ま
しくは、ポリスチレン、1,4−ジ（2,4−メチルフェニ
ル）−1,4−ジフェニルブタトリエン（2,4−DMPBT）の
ような電子供与体材料、2,4,7−トリニトロ−９−フル
オレン（TNF）及び２−エチルアントラキノン（２−EA
Q）のような電子受容体材料、及びトルエン、キシレン
またはトルエンとキシレンの混合物のような適当な溶媒
を含む溶液を有するOC層を塗布することにより形成され
る。シリコーンＵ−7602のような界面活性剤及びジオク
チルフタレート（DOP）のような可塑剤も溶液に添加で
きる。界面活性剤Ｕ−7602はユニオンカーバイド、ダン
ベリー、コネチカットから入手可能である。光受容体36
は、Dattaらへ1992年１月28日に発行された米国特許第
5,083,959号に開示されたコロナ帯電装置（図示せず）
を用いて、均一に静電帯電され、約＋200から＋700ボル
トの範囲内の電圧で光受容体36に印加される。それから
色選択電極25はパネル12へ挿入され、ライトハウスに置
かれ（図示せず）、光受容体36の正電荷帯電されたOPC
層は、色選択電極25を通してライトハウス内に配置され
たキセノンフラッシュランプ、又は水銀灯のような十分
な強度のある他の光源からの光に露光される。CRTの電
子銃からの電子ビームの１つと同じ角度で、色選択電極
25内の開口部を通過した光は、光受容体36上の照射され
た領域を放電させ、電荷潜像を形成する。色選択電極25
はパネル12から取り除かれ、パネルは図４に示すように
第１蛍光体デベロッパー40に置かれる。デベロッパー40
は下部末端44と上部末端46、又はパネル支持体46を有す
る現像チャンバー42から成る。パネル支持体46は、好ま
しくは絶縁材料から製造され、CRTフェースプレートパ
ネル12よりも寸法でわずかに小さい開口部48を含む。パ
ネル12はパネル支持体46に支えられる。現像チャンバー
42は下部末端44とパネル支持体46の間まで伸びた外側壁
50をさらに含む。導電性内側壁52は外側壁50から離れて
おり、導電性内側下部末端54からパネル支持体46に隣接
するＡ−Ａ平面まで伸びている。導電性内側壁52と下部
末端54は荷電された蛍光体の集まりからの過剰の蛍光体
を集め、チャンバー42内の空間電荷の蓄積、又はチャン
バー側壁上の高い静電圧を防止する。外と内側壁50と52
の間のチャンバー42の上部周辺に位置するギャップ56は
光受容体36上に形成された電荷潜像に堆積されなかった
過剰の蛍光体粒子を取り除く通路を与える。排気口58は
デベロッパー40からの過剰の蛍光体粒子を取り除くため
のポンプ（図示せず）に接続される。
に発行された米国特許第5,370,952号に開示された、あ
る４級アンモニウム高分子電解質を含む。OPC層は好ま
しくは、ポリスチレン、1,4−ジ（2,4−メチルフェニ
ル）−1,4−ジフェニルブタトリエン（2,4−DMPBT）の
ような電子供与体材料、2,4,7−トリニトロ−９−フル
オレン（TNF）及び２−エチルアントラキノン（２−EA
Q）のような電子受容体材料、及びトルエン、キシレン
またはトルエンとキシレンの混合物のような適当な溶媒
を含む溶液を有するOC層を塗布することにより形成され
る。シリコーンＵ−7602のような界面活性剤及びジオク
チルフタレート（DOP）のような可塑剤も溶液に添加で
きる。界面活性剤Ｕ−7602はユニオンカーバイド、ダン
ベリー、コネチカットから入手可能である。光受容体36
は、Dattaらへ1992年１月28日に発行された米国特許第
5,083,959号に開示されたコロナ帯電装置（図示せず）
を用いて、均一に静電帯電され、約＋200から＋700ボル
トの範囲内の電圧で光受容体36に印加される。それから
色選択電極25はパネル12へ挿入され、ライトハウスに置
かれ（図示せず）、光受容体36の正電荷帯電されたOPC
層は、色選択電極25を通してライトハウス内に配置され
たキセノンフラッシュランプ、又は水銀灯のような十分
な強度のある他の光源からの光に露光される。CRTの電
子銃からの電子ビームの１つと同じ角度で、色選択電極
25内の開口部を通過した光は、光受容体36上の照射され
た領域を放電させ、電荷潜像を形成する。色選択電極25
はパネル12から取り除かれ、パネルは図４に示すように
第１蛍光体デベロッパー40に置かれる。デベロッパー40
は下部末端44と上部末端46、又はパネル支持体46を有す
る現像チャンバー42から成る。パネル支持体46は、好ま
しくは絶縁材料から製造され、CRTフェースプレートパ
ネル12よりも寸法でわずかに小さい開口部48を含む。パ
ネル12はパネル支持体46に支えられる。現像チャンバー
42は下部末端44とパネル支持体46の間まで伸びた外側壁
50をさらに含む。導電性内側壁52は外側壁50から離れて
おり、導電性内側下部末端54からパネル支持体46に隣接
するＡ−Ａ平面まで伸びている。導電性内側壁52と下部
末端54は荷電された蛍光体の集まりからの過剰の蛍光体
を集め、チャンバー42内の空間電荷の蓄積、又はチャン
バー側壁上の高い静電圧を防止する。外と内側壁50と52
の間のチャンバー42の上部周辺に位置するギャップ56は
光受容体36上に形成された電荷潜像に堆積されなかった
過剰の蛍光体粒子を取り除く通路を与える。排気口58は
デベロッパー40からの過剰の蛍光体粒子を取り除くため
のポンプ（図示せず）に接続される。
スタッドコンタクトスプリングのような電気的接点60
は、フェースプレートパネル12の側壁18に嵌め込まれた
スタッド26の１つと接触させる。光受容体36の導電性被
膜はコンタクトパッチ（図示せず）によりスタッド26へ
電気的に接続される。コンタクトパッチはWetzelらへ19
92年10月20日に発行された米国特許第5,156,770号に開
示されている。電気的接点60は、光受容体36上の電荷潜
像上に堆積した摩擦電気的に荷電された蛍光体粒子の電
荷に比例した電圧を発生するコンデンサー64へ接続され
る、及びコンデンサー64を通して接地される。コンデン
サー64で発生した電圧は電位計66により監視され、必要
な蛍光体膜厚に相当する所定の値に電圧が達したら、蛍
光体堆積を終了するようにプログラム化された調整器68
へ接続される。各現像サイクルの前に、コンデンサー64
の電圧は調製器68の作用によりコンタクト70を通してア
ースへ放電される。高い電圧源72は光受容体36上に形成
された電荷潜像に近接する電場を制御するためにデベロ
ップメントグリッド74へ接続される。デベロップメント
グリッド74の構造と機能は、Dattaらへ1992年３月３日
に発行された米国特許第5,093,217号に開示されてい
る。グリッド74は約3kVの正電荷にバイアスがかけら
れ、電荷潜像上に堆積された摩擦電気的に荷電された蛍
光体粒子のそれと同じ極性を有する。
は、フェースプレートパネル12の側壁18に嵌め込まれた
スタッド26の１つと接触させる。光受容体36の導電性被
膜はコンタクトパッチ（図示せず）によりスタッド26へ
電気的に接続される。コンタクトパッチはWetzelらへ19
92年10月20日に発行された米国特許第5,156,770号に開
示されている。電気的接点60は、光受容体36上の電荷潜
像上に堆積した摩擦電気的に荷電された蛍光体粒子の電
荷に比例した電圧を発生するコンデンサー64へ接続され
る、及びコンデンサー64を通して接地される。コンデン
サー64で発生した電圧は電位計66により監視され、必要
な蛍光体膜厚に相当する所定の値に電圧が達したら、蛍
光体堆積を終了するようにプログラム化された調整器68
へ接続される。各現像サイクルの前に、コンデンサー64
の電圧は調製器68の作用によりコンタクト70を通してア
ースへ放電される。高い電圧源72は光受容体36上に形成
された電荷潜像に近接する電場を制御するためにデベロ
ップメントグリッド74へ接続される。デベロップメント
グリッド74の構造と機能は、Dattaらへ1992年３月３日
に発行された米国特許第5,093,217号に開示されてい
る。グリッド74は約3kVの正電荷にバイアスがかけら
れ、電荷潜像上に堆積された摩擦電気的に荷電された蛍
光体粒子のそれと同じ極性を有する。
もし単一のデベロッパーを利用し、異なった色を発光
する蛍光体材料を共通のチャンバーに仕込めば、さもな
いと起こるであろう相互の汚染を防止するために、別々
のデベロッパー40が３色発光性蛍光体のそれぞれに対し
て必要である。外部から現像チャンバー42への補給は、
乾燥粉末蛍光体粒子を含む蛍光体貯蔵器76から行われ
る。
する蛍光体材料を共通のチャンバーに仕込めば、さもな
いと起こるであろう相互の汚染を防止するために、別々
のデベロッパー40が３色発光性蛍光体のそれぞれに対し
て必要である。外部から現像チャンバー42への補給は、
乾燥粉末蛍光体粒子を含む蛍光体貯蔵器76から行われ
る。
現像操作の間、蛍光体粒子は貯蔵器76から蛍光体粒子
が適当な空気量と混合されるベンチュリ管室78へ運ばれ
る。空気補給の作動は調整器68により制御されるバルブ
80を開けることにより行われる。空気圧は圧調整器82に
より設定される。蛍光体粒子はチャンバー42へ運ばれ、
蛍光体粒子が摩擦電気的な正電荷に帯電される摩擦電気
銃84を通して、光受容体36上の電荷潜像へ向けられる。
正電荷に帯電された第１色発光性蛍光体粒子は光受容体
36上の正電荷を有する領域により反発され、“反転”現
像として従来技術において公知な工程により、光受容体
36の放電された領域に堆積する。反転現像において、ス
クリーン構造材料の摩擦電気的に荷電された粒子は光受
容体36の同様な電荷を有する領域により反発され、光受
容体36の放電された領域に堆積する。第１の色発光性蛍
光体の蛍光体ラインはマトリックス20の穴21の選択され
た領域内に堆積し、穴21の中心からマトリックス周辺の
端へある幅と高さに堆積される。堆積が終了したとき、
図３に示したように蛍光体ラインは光吸収性マトリック
ス20の穴21のサイズよりわずかに大きく、各穴に完全に
充填されており、穴の周辺の光吸収性マトリックスとわ
ずかに重なることが必要である。
が適当な空気量と混合されるベンチュリ管室78へ運ばれ
る。空気補給の作動は調整器68により制御されるバルブ
80を開けることにより行われる。空気圧は圧調整器82に
より設定される。蛍光体粒子はチャンバー42へ運ばれ、
蛍光体粒子が摩擦電気的な正電荷に帯電される摩擦電気
銃84を通して、光受容体36上の電荷潜像へ向けられる。
正電荷に帯電された第１色発光性蛍光体粒子は光受容体
36上の正電荷を有する領域により反発され、“反転”現
像として従来技術において公知な工程により、光受容体
36の放電された領域に堆積する。反転現像において、ス
クリーン構造材料の摩擦電気的に荷電された粒子は光受
容体36の同様な電荷を有する領域により反発され、光受
容体36の放電された領域に堆積する。第１の色発光性蛍
光体の蛍光体ラインはマトリックス20の穴21の選択され
た領域内に堆積し、穴21の中心からマトリックス周辺の
端へある幅と高さに堆積される。堆積が終了したとき、
図３に示したように蛍光体ラインは光吸収性マトリック
ス20の穴21のサイズよりわずかに大きく、各穴に完全に
充填されており、穴の周辺の光吸収性マトリックスとわ
ずかに重なることが必要である。
図４と５を参照して、新規な蛍光体堆積監視（PDM）
装置90は、開口部48に隣接するデベロッパー40の支持体
表面46に取付けた１組のサイドレール92と93を有する支
持体部品を含む。サイドレール92と93は十分に離れた間
隔で配置されており、フェースプレートパネル12がサイ
ドレールからの妨害なしに支持体表面46上に設置され
る。クロスレール94と95の第１組はサイドレール92と93
に移動できるように取付けられ、クロスレール94と95に
移動可能に取付けられた第１のイメージング装置96を支
える。クロスレール97と98の第２組もサイドレール92と
93に移動できるように取付けられ、クロスレール97と98
の第２組に移動可能に取付けられた第２のイメージング
装置99を支える。イメージング装置96と99は観察フェー
スプレート上に約15cm（６インチ）離して設置される。
各イメージング装置96と99はｘ−ｙ平面内で移動可能で
あり、観察フェースプレート17の歪みに対して実質的に
平行になるように傾けることができる。さらに、イメー
ジング装置96と99は観察フェースプレート17上のどこに
でも配置できる。図５に示すように、イメージング装置
の１つ、例えばデバイス99は通常パネル12の中心の近く
に配置され、一方もう１つのイメージング装置96はパネ
ルの周辺に隣接する。サイドレール92と93は十分に長
く、イメージング装置96と99は開口部48以上に移動させ
ることができ、デベロッパー40からフェースプレートパ
ネル12の配置と取りだしを容易にする。図６と７に示し
たイメージング装置96は、主要部102と主要部102に取付
けられた２つの反対に配置された末端部104と106から成
る支持体骨組100を含む。取付けブラケット107は、適当
なクロスレール94、95と97、98にあるイメージング装置
96と99の取付けを容易にするため各末端部104と106に取
付けられる。支持ブラケット108とモーター110は、お互
いの間隔に関して主要部102に固定される。モーターシ
ャフト112はモーター110から伸びてカメラ114へ取付け
られ、支持ブラケット108内で、主要部102に平行な面内
でカメラを移動可能にする。対物レンズ116はカメラ114
に取付けられる。イメージング装置96の高さを最小限に
おさせ、図示してないパネル移動装置の妨げにならない
ようにするために、図７に示す45度の角度のミラー118
が光学経路を折り返すために利用される。もしイメージ
ング装置96と99の高さが重要でないのなら、そのときは
ミラー118は必要でなく、イメージング装置は垂直に設
置される。モーター110はただの対物レンズ116に代わっ
て、全体のカメラ／レンズ組立て品を、スクリーン要素
を構成する蛍光体ライン上へカメラ14の焦点が合うよう
に動かす。この焦点の合っている配列は焦点位置での一
定の倍率を与え、それによってライン幅測定を正確なも
のにする。同軸の光ファイバー光リング120はミラー118
の下に配置され、観察されるべき物体のまぶしさのない
均一な照射を行う。モーター110、カメラ114と光リング
120への電気的接続は従来通りであり、よって図示しな
い。
装置90は、開口部48に隣接するデベロッパー40の支持体
表面46に取付けた１組のサイドレール92と93を有する支
持体部品を含む。サイドレール92と93は十分に離れた間
隔で配置されており、フェースプレートパネル12がサイ
ドレールからの妨害なしに支持体表面46上に設置され
る。クロスレール94と95の第１組はサイドレール92と93
に移動できるように取付けられ、クロスレール94と95に
移動可能に取付けられた第１のイメージング装置96を支
える。クロスレール97と98の第２組もサイドレール92と
93に移動できるように取付けられ、クロスレール97と98
の第２組に移動可能に取付けられた第２のイメージング
装置99を支える。イメージング装置96と99は観察フェー
スプレート上に約15cm（６インチ）離して設置される。
各イメージング装置96と99はｘ−ｙ平面内で移動可能で
あり、観察フェースプレート17の歪みに対して実質的に
平行になるように傾けることができる。さらに、イメー
ジング装置96と99は観察フェースプレート17上のどこに
でも配置できる。図５に示すように、イメージング装置
の１つ、例えばデバイス99は通常パネル12の中心の近く
に配置され、一方もう１つのイメージング装置96はパネ
ルの周辺に隣接する。サイドレール92と93は十分に長
く、イメージング装置96と99は開口部48以上に移動させ
ることができ、デベロッパー40からフェースプレートパ
ネル12の配置と取りだしを容易にする。図６と７に示し
たイメージング装置96は、主要部102と主要部102に取付
けられた２つの反対に配置された末端部104と106から成
る支持体骨組100を含む。取付けブラケット107は、適当
なクロスレール94、95と97、98にあるイメージング装置
96と99の取付けを容易にするため各末端部104と106に取
付けられる。支持ブラケット108とモーター110は、お互
いの間隔に関して主要部102に固定される。モーターシ
ャフト112はモーター110から伸びてカメラ114へ取付け
られ、支持ブラケット108内で、主要部102に平行な面内
でカメラを移動可能にする。対物レンズ116はカメラ114
に取付けられる。イメージング装置96の高さを最小限に
おさせ、図示してないパネル移動装置の妨げにならない
ようにするために、図７に示す45度の角度のミラー118
が光学経路を折り返すために利用される。もしイメージ
ング装置96と99の高さが重要でないのなら、そのときは
ミラー118は必要でなく、イメージング装置は垂直に設
置される。モーター110はただの対物レンズ116に代わっ
て、全体のカメラ／レンズ組立て品を、スクリーン要素
を構成する蛍光体ライン上へカメラ14の焦点が合うよう
に動かす。この焦点の合っている配列は焦点位置での一
定の倍率を与え、それによってライン幅測定を正確なも
のにする。同軸の光ファイバー光リング120はミラー118
の下に配置され、観察されるべき物体のまぶしさのない
均一な照射を行う。モーター110、カメラ114と光リング
120への電気的接続は従来通りであり、よって図示しな
い。
再び図４と５を参照すれば、ビデオモニター123を有
するパーソナルコンピュータのようなイメージプロセッ
サー122は、第１と第２のイメージ装置96と99のカメラ
に接続されており、線幅データを保存し、表示し、図５
に示した観察フェースプレート17の窓124のような任意
に限定された測定窓からなるトライアドを映す。イメー
ジプロセッサー122のビデオモニター123は堆積過程中で
の蛍光体ライン幅を示す。マトリックス20の穴21が蛍光
体により完全に充填され、蛍光体が穴21を囲むマトリッ
クス20の光吸収性材料に少なくとも部分的に重なるとき
に、堆積は終了する。
するパーソナルコンピュータのようなイメージプロセッ
サー122は、第１と第２のイメージ装置96と99のカメラ
に接続されており、線幅データを保存し、表示し、図５
に示した観察フェースプレート17の窓124のような任意
に限定された測定窓からなるトライアドを映す。イメー
ジプロセッサー122のビデオモニター123は堆積過程中で
の蛍光体ライン幅を示す。マトリックス20の穴21が蛍光
体により完全に充填され、蛍光体が穴21を囲むマトリッ
クス20の光吸収性材料に少なくとも部分的に重なるとき
に、堆積は終了する。
第１の色発光性蛍光体の堆積の間、図８の単調な増加
と減少をする蛍光体プロファイルエッジに示されるよう
に、穴21の中心からマトリックス20の端に向かって蛍光
体の堆積が行われる。図８において、マトリックスライ
ン20は“M"と呼ばれ、第１の色発光性蛍光体はP1と、マ
トリックスの穴は21と呼ばれる。マトリックスと蛍光体
の下には、光受容体36とフェースプレートパネル12の内
側表面がある。モニター123上で観察されたとき、マト
リックスラインは黒色に観測され、蛍光体が堆積される
べき隣接したマトリックスライン間の穴は、マトリック
スラインよりは顕著ではないが黒っぽく観測される。本
蛍光体堆積の結果から、青発光性蛍光体である光受容体
36上に堆積された第１の色発光性蛍光体P1が得られる。
図８において、EPS工程による堆積の中の蛍光体を示す
ために、蛍光体P1は穴21に完全には充填されていない。
しかしながら、穴21が第１の蛍光体により堆積され、充
填され、好ましくは図３に示すようにマトリックス20に
重なり合うまで堆積は継続される。ライン幅データが毎
秒約２回更新されるように、イメージング装置96と99の
出力はイメージプロセッサー122へ送られる。ライン幅
のスムースな成長関数が蓄積されたデータとマッチする
ように、サンプルパネルで測定されたものを補正値とし
て確立するために利用されるので、ライン幅データは経
過時間または静電荷とそれに比例した電圧のいずれかで
利用されることができる。穴21が充填された後、ライン
幅成長を視覚的に測定することはできないので、サンプ
ルパネルにおいて得られた経過時間及び／又は静電荷の
補正値は、パネル製造における蛍光体堆積の遮断時間を
決めるのに利用される。
と減少をする蛍光体プロファイルエッジに示されるよう
に、穴21の中心からマトリックス20の端に向かって蛍光
体の堆積が行われる。図８において、マトリックスライ
ン20は“M"と呼ばれ、第１の色発光性蛍光体はP1と、マ
トリックスの穴は21と呼ばれる。マトリックスと蛍光体
の下には、光受容体36とフェースプレートパネル12の内
側表面がある。モニター123上で観察されたとき、マト
リックスラインは黒色に観測され、蛍光体が堆積される
べき隣接したマトリックスライン間の穴は、マトリック
スラインよりは顕著ではないが黒っぽく観測される。本
蛍光体堆積の結果から、青発光性蛍光体である光受容体
36上に堆積された第１の色発光性蛍光体P1が得られる。
図８において、EPS工程による堆積の中の蛍光体を示す
ために、蛍光体P1は穴21に完全には充填されていない。
しかしながら、穴21が第１の蛍光体により堆積され、充
填され、好ましくは図３に示すようにマトリックス20に
重なり合うまで堆積は継続される。ライン幅データが毎
秒約２回更新されるように、イメージング装置96と99の
出力はイメージプロセッサー122へ送られる。ライン幅
のスムースな成長関数が蓄積されたデータとマッチする
ように、サンプルパネルで測定されたものを補正値とし
て確立するために利用されるので、ライン幅データは経
過時間または静電荷とそれに比例した電圧のいずれかで
利用されることができる。穴21が充填された後、ライン
幅成長を視覚的に測定することはできないので、サンプ
ルパネルにおいて得られた経過時間及び／又は静電荷の
補正値は、パネル製造における蛍光体堆積の遮断時間を
決めるのに利用される。
第１の蛍光体堆積が終了した後、パネル12は蛍光体デ
ベロッパー40から取り除かれ、前記したコロナ帯電装置
へ移動され、そこで静電気的に再帯電される。再帯電は
光受容体36と光受容体36に堆積された第１の色発光性蛍
光体材料P1上に正電圧を再形成される。２つの残る色発
光性蛍光体P2とP3のそれぞれに対して、光露光と蛍光体
現像工程が繰り返される。パネル12が第２と第３蛍光体
現像40に置かれるとき、イメージング装置96と99は前の
堆積された蛍光体ラインを映し、もし前の蛍光体堆積が
間違って行われていた又はさもなければ許容できないの
であれば、堆積過程の終了を可能にする検査装置として
働く。図９と10に示すように、光受容体36上の２つの残
った色発光性蛍光体P2とP3のラインの各サイズはマトリ
ックス穴21のサイズよりもさらに大きく、ギャップは発
生しておらず、しかも穴の周辺の光吸収性マトリックス
“M"のわずかな重なりが得られることを確実にする。
ベロッパー40から取り除かれ、前記したコロナ帯電装置
へ移動され、そこで静電気的に再帯電される。再帯電は
光受容体36と光受容体36に堆積された第１の色発光性蛍
光体材料P1上に正電圧を再形成される。２つの残る色発
光性蛍光体P2とP3のそれぞれに対して、光露光と蛍光体
現像工程が繰り返される。パネル12が第２と第３蛍光体
現像40に置かれるとき、イメージング装置96と99は前の
堆積された蛍光体ラインを映し、もし前の蛍光体堆積が
間違って行われていた又はさもなければ許容できないの
であれば、堆積過程の終了を可能にする検査装置として
働く。図９と10に示すように、光受容体36上の２つの残
った色発光性蛍光体P2とP3のラインの各サイズはマトリ
ックス穴21のサイズよりもさらに大きく、ギャップは発
生しておらず、しかも穴の周辺の光吸収性マトリックス
“M"のわずかな重なりが得られることを確実にする。
蛍光体堆積監視（PDM）装置90と蛍光体デベロッパー4
0との間の相互作用は図11に示す。マトリックス20とそ
れの上にある光受容体36を有するフェースプレートパネ
ル12は、処理工程200のパネル支持体46に載せられる。
カメラ114を含むイメージング装置96と99はフェースプ
レートパネル12上に配置され、処理工程202において１
つは観察フェースプレート17の中央付近に、もう１つは
パネルの端近くの位置に配置される。カメラが位置に付
いたときに、通信信号203はPDM90に送られ、カメラの正
しい位置はどこか決める。カメラの位置取りは工程204
で決定される。カメラの正しい位置が決まると、工程20
6でカメラは焦点を合わせて、工程208において観察フェ
ースプレート17上の測定窓124が決められる。操作のこ
の点で、カメラ準備信号209がデベロッパー40へ送られ
る。PDM90が工程210で準備できたら、デベロッパー40は
工程212において第１蛍光体の堆積を開始する。通信信
号213がデベロッパー40からPDM90へ送られ、工程214に
て堆積を始めるかどうかを確認する。第１の摩擦電気的
に荷電された蛍光体の堆積が開始されるとき、工程216
で指摘されるように光受容体上の堆積された電荷は電位
計66により読み取られ、経過時間はPDMにより記録され
る。イメージング装置96と99はイメージプロセッサー12
2の適当なソフトウエアと共に用いられ、工程220におい
て蛍光体堆積が継続しているときは、工程218に指摘さ
れるように測定窓124の適当なマトリックス穴21におい
て蛍光体ラインを、及び窓内での別の蛍光体ラインを測
定する。蓄積された電荷、経過時間及び蛍光体幅の処理
パラメーターは、工程222において指摘されるように確
立された限界点と比較され、もし限界点を超えていなけ
れば、通信信号223は工程224にある蛍光体デベロッパー
40へ送られ、処理限界点又は最大堆積時間を超えたかど
うかの決定がなされる。もし処理限界点又は最大堆積時
間を超えてなければ、蛍光体堆積は継続される。しかし
ながら、もし処理限界点又は最大堆積時間を超えていれ
ば、工程226に指摘されるように堆積は終了し、工程228
に指摘されるようにPDM90へ通信信号227が送られる。堆
積が終了したとき、処理データは工程230で分析され、
工程232で記録される。この時点でカメラは工程234に指
摘されるようにフェースプレート12上から取り除かれ、
カメラ位置を決定するために通信信号235が工程236にて
PDM90へ送られる。それからフェースプレート12は工程2
38にて降ろされ、工程240にてPDM90はリセットされ、開
始信号241及び242を送ることにより、次のパネルのため
にそれぞれ、カメラは準備され、処理限界点が確立され
ることを確める。第１蛍光体P1を有するパネル12はそれ
から静電気的に再帯電され、色選択電極25がその中に再
配置される。次に、パネル12が図示していないがライト
ハウスに置かれ、そこで光受容体36は第２の蛍光体P2が
堆積するであろう領域に光露光される。色選択電極はパ
ネル12から取り除かれ、パネル第２色発光性蛍光体P2の
堆積のために第２デベロッパー40へ移動される。処理は
繰り返され、さらに第３の色発光性蛍光体P3が堆積され
る。各蛍光体デベロッパー40は各蛍光体のライン幅を監
視する、各蛍光体デベロッパーと関連したPDM90を有し
ている。
0との間の相互作用は図11に示す。マトリックス20とそ
れの上にある光受容体36を有するフェースプレートパネ
ル12は、処理工程200のパネル支持体46に載せられる。
カメラ114を含むイメージング装置96と99はフェースプ
レートパネル12上に配置され、処理工程202において１
つは観察フェースプレート17の中央付近に、もう１つは
パネルの端近くの位置に配置される。カメラが位置に付
いたときに、通信信号203はPDM90に送られ、カメラの正
しい位置はどこか決める。カメラの位置取りは工程204
で決定される。カメラの正しい位置が決まると、工程20
6でカメラは焦点を合わせて、工程208において観察フェ
ースプレート17上の測定窓124が決められる。操作のこ
の点で、カメラ準備信号209がデベロッパー40へ送られ
る。PDM90が工程210で準備できたら、デベロッパー40は
工程212において第１蛍光体の堆積を開始する。通信信
号213がデベロッパー40からPDM90へ送られ、工程214に
て堆積を始めるかどうかを確認する。第１の摩擦電気的
に荷電された蛍光体の堆積が開始されるとき、工程216
で指摘されるように光受容体上の堆積された電荷は電位
計66により読み取られ、経過時間はPDMにより記録され
る。イメージング装置96と99はイメージプロセッサー12
2の適当なソフトウエアと共に用いられ、工程220におい
て蛍光体堆積が継続しているときは、工程218に指摘さ
れるように測定窓124の適当なマトリックス穴21におい
て蛍光体ラインを、及び窓内での別の蛍光体ラインを測
定する。蓄積された電荷、経過時間及び蛍光体幅の処理
パラメーターは、工程222において指摘されるように確
立された限界点と比較され、もし限界点を超えていなけ
れば、通信信号223は工程224にある蛍光体デベロッパー
40へ送られ、処理限界点又は最大堆積時間を超えたかど
うかの決定がなされる。もし処理限界点又は最大堆積時
間を超えてなければ、蛍光体堆積は継続される。しかし
ながら、もし処理限界点又は最大堆積時間を超えていれ
ば、工程226に指摘されるように堆積は終了し、工程228
に指摘されるようにPDM90へ通信信号227が送られる。堆
積が終了したとき、処理データは工程230で分析され、
工程232で記録される。この時点でカメラは工程234に指
摘されるようにフェースプレート12上から取り除かれ、
カメラ位置を決定するために通信信号235が工程236にて
PDM90へ送られる。それからフェースプレート12は工程2
38にて降ろされ、工程240にてPDM90はリセットされ、開
始信号241及び242を送ることにより、次のパネルのため
にそれぞれ、カメラは準備され、処理限界点が確立され
ることを確める。第１蛍光体P1を有するパネル12はそれ
から静電気的に再帯電され、色選択電極25がその中に再
配置される。次に、パネル12が図示していないがライト
ハウスに置かれ、そこで光受容体36は第２の蛍光体P2が
堆積するであろう領域に光露光される。色選択電極はパ
ネル12から取り除かれ、パネル第２色発光性蛍光体P2の
堆積のために第２デベロッパー40へ移動される。処理は
繰り返され、さらに第３の色発光性蛍光体P3が堆積され
る。各蛍光体デベロッパー40は各蛍光体のライン幅を監
視する、各蛍光体デベロッパーと関連したPDM90を有し
ている。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 リット，ピーター マイケル
アメリカ合衆国，ペンシルヴェニア州
17526，イースト・ピータースバーグ
スプリット・レイル・ドライヴ 2356番
(72)発明者 サウスゲート，ピーター デイヴィッド
アメリカ合衆国，ニュージャージー州
08852，キングストン，リッジ・ロード
958番
(72)発明者 ダシェル，ロバート アンソニー
アメリカ合衆国，ペンシルヴェニア州
17543，リティッツ，ペンドルトン・ド
ライヴ 2713番
(56)参考文献 特開 平７−169398（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−229926（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01J 9/227
H01J 9/42
Claims (11)
- 【請求項１】フェースプレートパネル（12）の内側表面
に配置されその中に複数の穴（21）を有する光吸収性マ
トリックス（20）を設けたフェースプレートパネルを有
するカラーCRT（10）の製造方法であって、 該マトリックスの上に光受容体（36）を形成し、 該光受容体上に実質的に均一な静電荷を有させ、 該光受容体の選択された領域に可視光を露光し、該光受
容体の未露光領域の電荷には影響を及ぼさずに該選択さ
れた領域の電荷に影響を及ぼし、それによって電荷潜像
を形成し、 荷電された蛍光体粒子を堆積する（212、213、214）こ
とにより該光受容体上に該電荷潜像を現像し、 該マトリックスにある開口部を通して荷電された蛍光体
粒子の堆積のライン幅（218）を外部から監視し、 所定のライン幅に達したときに荷電された蛍光体粒子の
堆積（226,227,228）を終了する制御信号を発生する 各段階を含むことを特徴とする製造方法。 - 【請求項２】光吸収性マトリックス（20）内に複数の穴
（21）を有する光吸収性マトリックスの上にある光受容
体（36）上に形成された電荷潜像上の荷電された蛍光体
粒子の堆積のライン幅（218）を監視し、該マトリック
スはCRTフェースプレートパネル（12）の観察フェース
プレート（17）の内側表面に配置されている蛍光体堆積
監視（PDM）装置（90）であって、 荷電された蛍光体粒子の堆積により該マトリックスの開
口部内に形成された蛍光体ラインの幅（218）を測定す
る該観察フェースプレートの外部の監視装置（96,99,12
3）と、 該PDM装置の該監視装置に反応して、所定のライン幅に
達したときに荷電された蛍光体粒子の堆積（226、228）
を終了する制御信号（227）を発生する制御装置（122）
と、 を含むことを特徴とするPDM装置。 - 【請求項３】CRTフェースプレートパネル（12）の観察
フェースプレート（17）の内側表面の上にあるマトリッ
クス（20）内に複数の穴（21）を有するマトリックスに
配置された光受容体（36）上に形成された静電潜像上の
摩擦電気的に荷電された蛍光体粒子の堆積を堆積し及び
監視する装置であって、 該フェースプレートパネルを支えるパネル支持体（46）
のある該光受容体上の該電荷潜像を現像するための摩擦
電気的に荷電された蛍光体粒子を提供する現像チャンバ
ー（42）を有する蛍光体デベロッパー（40）と、 該光受容体に接続された電気的接点（60）と、 コンデンサー（64）を通して該電気的接点へ接続された
電位計（66）を含み、摩擦電気的に荷電された蛍光体粒
子により該電荷潜像上に堆積される電荷の量を測定する
第１の監視装置と、 該観察フェースプレートの外部のイメージング装置（9
6,99）、イメージプロセッサー（122）、及び該電荷潜
像上の摩擦電気的に荷電された蛍光体粒子の堆積を映す
ビデオモニター（123）を含み、該ビデオモニターは該
観察フェースプレート上の測定窓（124）の表示を容易
にするための該イメージング装置に接続されている第２
の監視装置とを有し、 該第１と該第２監視装置は、該第１監視装置によって測
定された電荷の量が所定の電荷の量に達したとき及び該
第２監視装置によって映された該堆積のライン幅が所定
のライン幅に達したときに摩擦電気的に荷電された蛍光
体粒子の堆積（226、228）を終了させる制御信号（22
7）を発生する ことを特徴とする監視装置。 - 【請求項４】CRTフェースプレートパネル（12）の観察
フェースプレート（17）の内側表面の上に存在するマト
リックス（20）内に複数の穴（21）を有するマトリック
スに配置された光受容体（36）上に形成された電荷潜像
上の摩擦電気的に荷電された蛍光体粒子の堆積を堆積し
及び監視する装置であって、 該フェースプレートパネルを支えるパネル支持体（46）
を設け、摩擦電気的に荷電された蛍光体粒子及び該パネ
ル支持体の開口部（48）に対して摩擦電気的に荷電され
た蛍光体粒子が開口部を通り該光受容体上の該電荷潜像
へ行くのを可能にする手段をさらに含む現像チャンバー
（42）を有する蛍光体デベロッパー（40）と、 該光受容体へ接続された電気的接点（60）と、 摩擦電気的に荷電された蛍光体粒子により該電荷潜像上
に堆積される電荷の量を測定するための該電気的接点へ
接続された第１の監視手段（66）と、 該観察フェースパネルの外部の、該電荷潜像上への摩擦
電気的に荷電された蛍光体粒子の堆積により形成される
スクリーン要素のサイズを測定するための第２の監視手
段（96,99）を含む蛍光体堆積監視（PDM）装置（90）
と、 該第１と該第２の監視手段に反応して、該第１監視装置
によって測定された電荷の量が所定の電荷の量に達した
とき及び該第２監視装置によって映された該堆積のライ
ン幅が所定のライン幅に達したときに摩擦電気的に荷電
された蛍光体粒子の堆積（226、228）を終了する制御信
号（227）を発生するための制御手段（122）と、 から成ることを特徴とする監視装置。 - 【請求項５】該第２の監視手段は、該観察フェースプレ
ート上の測定窓（124）を観察する該観察フェースプレ
ート（17）の外側表面から離れて配置されたイメージン
グ装置（96,99）と、該測定窓を表示する該イメージン
グ装置へ接続されたビデオモニター（123）を有するイ
メージプロセッサー（122）とから成ることを特徴とす
る請求項４記載の装置。 - 【請求項６】該イメージング装置（96,99）は、主要部
（102）と該主要部に取付けられた２つの対向して配置
された末端部（104,106）から成る支持体骨組（100）
と、該主要部に固定された支持ブラケット（108）及び
モーター（110）と、該モーターから伸びてカメラ（1
4）に取付けられた対物レンズ（116）を有するカメラに
固定されているモーターシャフト（112）とより成り、
該モータは対物レンズの上の該スクリーン要素を映すこ
とにより該カメラの焦点を合わせるために該カメラと該
対物レンズ双方を主要部に平行な面内で動かすことを特
徴とする請求項５記載の装置。 - 【請求項７】該対物レンズ（116）から離れて配置され
た傾いたミラー（118）と，該傾いたミラーと該スクリ
ーン要素との間に配置されたまぶしさのない光源をさら
に含むことを特徴とする請求項６記載の装置。 - 【請求項８】該まぶしさのない光源は同軸光ファイバー
光リング（120）であり、該ミラー（118）は45度の角度
で傾いていることを特徴とする請求項７記載の装置。 - 【請求項９】該制御手段は、該光受容体（36）上への該
蛍光体粒子の堆積の間に行われた一連の周期的な蛍光体
ライン幅測定から成り、該一連の蛍光体ライン幅測定
は、所望のライン幅値と比較されることを特徴とする請
求項４記載の装置。 - 【請求項１０】該制御手段は、電荷の量の関数としての
ライン幅の所定の補正値からさらに成り、該電位計（6
6）により測定された電荷の量は、所定の補正値を参照
して堆積時間を調整するために利用されることを特徴と
する請求項４記載の装置。 - 【請求項１１】該制御手段は、該ビデオモニター（12
3）上に蛍光体ライン幅の測定を映すことから成ること
を特徴とする請求項４記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/728,010 | 1996-10-09 | ||
| US08/728,010 US5790913A (en) | 1996-10-09 | 1996-10-09 | Method and apparatus for manufacturing a color CRT |
| PCT/US1997/017316 WO1998015967A1 (en) | 1996-10-09 | 1997-09-24 | Method and apparatus for manufacturing a color crt |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001502465A JP2001502465A (ja) | 2001-02-20 |
| JP3474199B2 true JP3474199B2 (ja) | 2003-12-08 |
Family
ID=24925061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51757198A Expired - Fee Related JP3474199B2 (ja) | 1996-10-09 | 1997-09-24 | カラー陰極線管の製造方法と製造装置 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
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| KR (1) | KR20000048946A (ja) |
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| AU (1) | AU4503897A (ja) |
| MY (1) | MY120220A (ja) |
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