KR100371423B1 - 스크린구조체를전자사진적으로제조하는방법 - Google Patents

Abstract

본 발명에 따라 컬러 음극선관(10)의 페이스플레이트 패널(12)의 내부면에 형광 스크린 구조체를 정전기적으로 제조하는 방법은 유기 도전층(OC; 32)을 형성하도록 휘발성의 유기 도전 재료를 패널의 내측 표면에 코팅하는 단계와, 유기 광 도전층(OPC; 34)을 형성하도록 휘발성의 광도전 재료로 OC층을 코팅하는 단계를 포함하고 있다. 다음에 실질적으로 균일한 전압이 상기 OPC층에 인가되고, 아울러 상기 OPC층의 선택 영역은 이 OPC층의 노출되지 않은 영역의 전압에는 영향을 주지 않고 선택 영역의 전압에 영향을 주는 가시 광선에 노출된다. 다음에 마찰 전기적으로 대전된 흡광성 스크린 구조물 재료는 그 안에 개구를 가지는 흡광성 재료의 실질적으로 연속적인 매트릭스(23)를 형성하도록 OPC층의 노출되지 않은 영역에 증착된다. 본 발명의 방법은 OPC층에 평면층(35,135)을 형성하는 추가적인 단계와; 제2의 OC층(132)을 형성하도록 휘발성의 유기 도전 재료를 상기 평면층에 두번째로 코팅하고, 이어서 제2의 OPC층(134)을 형성하도록 휘발성의 유기 광도전 재료를 제2의 OC층에 두번째로 코팅하는 단계를 포함하고 있다는 점에 있어서 종래 방법의 개량 발명이다. 형광체 재료가 적절히 대전되어 노출되는 제2의 OPC층에 증착되고 따라서 상기 형광체는 매트릭스의 개구를 완전히 덮게 되고 이 개구에 인접하는 적어도 일부 매트릭스를 중첩시킨다.

Description

스크린 구조체를 전자 사진적으로 제조하는 방법{METHOD OF ELECTROPHOTOGRAPHICALLY MANUFACTURING A SCREEN ASSEMBLY}

1990년 5월 1일 등록된 다타(Datta)의 미국 특허 제4,921,767호와 1993년 7월 20일 등록된 리들(Riddle) 등의 미국 특허 제5,229,234호에 개시된 기술에 따르면, 건조 분말상의 마찰 전기적으로 대전되는 색 발광 형광체가 정전기적으로 대전될 수 있는 광 수용기(photoreceptor) 위에 연속적으로 증착된다. 여기에서, 광 수용기는 그 위에 건조 분말상의 마찰 전기적으로 대전되는 흡광성 매트릭스(light-absorbing matrix)를 지닌다. 광 수용기는 유기 도전층(OC)과 그 유기 도전층 위에 형성되는 것이 바람직한 유기 광도전층(OPC)을 포함하고 있으며, 이들 층 모두는 CRT페이스플레이트 패널의 내측 표면에 연속적으로 증착된다. 처음에 광 수용기의OPC층은 1992년 1월 28일 등록된 다타 등의 미국 특허 제5,083,959호에 개시된 적당한 코로나 방전 장치를 이용하여 양의 전위로 정전기적으로 대전된다. 이어서 광 수용기의 특정한 영역을 선택하여 가시 광선에 노출시키고, 노출되지 않은 영역의 전하에 영향을 주지 않으면서 노출된 영역을 방전시킨다. 다음에 마찰 전기적으로 음으로 대전된 흡광성 재료가 광 수용기의 대전되고 노출되지 않은 영역 위에 직접 현상에 의하여 증착되어서, 흡광성 재료의 연속 패턴을 형성한다. 그 연속 패턴은 매트릭스라고 불리는 것으로, 그 안에 개방 영역을 지니고 있다. EPS-증착 매트릭스의 광학 밀도 또는 불투광성(不透光性; opacity)을 충분히 크게 하기 위해서는, 충분한 양의 흡광성 재료를 내장시킬 필요가 있다. 그러나, 그것은 매트릭스의 표면을 거칠게 만든다. 코로나 방전 장치를 사용하여 광 수용기와 매트릭스를 재충전 시키면 그 위에 정전하가 분포하게 된다. 광 수용기의 전하량이 미리 증착된 매트릭스 상의 전하량과 동일한 것이 바람직하지만, 광 수용기와 매트릭스가 반드시 동일한 전위로 충전될 필요는 없다. 실제로 매트릭스의 전하 수용성(acceptance)과 광 수용기의 전하 수용성은 다르다. 결과적으로 광 수용기의 특정한 영역을 방전시키기 위하여 광 수용기의 특정한 영역을 선택하여 가시 광선에 노출시켰을 때, 마찰 전기적으로 양(+)으로 대전된 색 발광 형광체 재료의 반전 현상(reversal development)이 보다 용이해지기 때문에, 매트릭스는 광 수용기의 노출되지 않은 영역에 있는 양(+)의 전하량과는 다른 양(+)의 전하량을 보유하게 된다. 이러한 전하량의 차이는 양으로 대전된 색 발광 형광체 재료의 증착에 영향을 미치게 된다. 즉 형광체가 광 수용기의 노출되지 않은 영역에 있는 전하보다 매트릭스 상에 있는전하에 의하여 보다 강하게 반발하게 되는 것이다. 매트릭스의 이러한 강한 반발 효과가 색 발광 형광체를 광 수용기 위의 소정의 위치에서 약간 이탈시킨다. 매트릭스의 반발 효과는 작지만, 그 효과는 색 발광 형광체 라인의 폭을 충분히 좁게 할 수 있을 정도이며, 그 효과로 인하여 형광체 라인들이 서로 접촉하지 않게 되고, 매트릭스의 에지에서 중첩하지 않게 된다. 따라서, 형광체 라인과 그 주위 매트릭스 사이에 작은 갭이 생기게 된다. 이러한 갭은 각 화소에 있는 형광체의 밝기를 감소시키기 때문에 받아들이기 어렵다. 더욱이, 스크린 구조체에 반사 백킹(reflective backing)과 애노드 접촉을 제공하기 위하여 알루미늄 처리가 되었을 경우에는 그 갭을 육안으로 식별할 수도 있다.

EPS-증착 매트릭스의 반발 효과를 감소시키기 위한 한 가지 방법이, 발명의 명칭이 "전자 사진적 형광체 증착 방법(METHOD OF ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOSPHOR DEPOSITION)"이고, 1995년 10월 3일 등록된 리트 등의 미국 특허 제5,455,132호에 기재되어 있다. 이 출원에서 EPS 증착 매트릭스를 사용하지 않고, 종래의 습식 슬러리 매트릭스를 사용하고 있다. 습식 슬러리 매트릭스에 대해서는 1971년 1월 26일 등록된 메이요드의 미국 특허 제3,558,310호에 기재되어 있다. 종래의 매트릭스는 페이스플레이트의 내측 표면에 바로 형성된다. 종래의 매트릭스는 얇고 매끄럽고 양호한 불투광성을 지니고 있으며, OC층과 OPC층들이 페이스플레이트의 내측 표면 위에 직접 증착될 수 있다. 또한, 증착된 OC층과 OPC층들은 매트릭스와 EPS-증착 형광체 사이의 정전기적 상호 작용을 제거한다. 그러나, 스크리닝 동작의 효율을 높이고 완전 건식 스크리닝 처리를 하기 위해서는 EPS 처리에 의해 매트릭스를증착하는 것이 바람직하다. 여기에서, 전술한 좋지 않은 정전기적 상호 작용을 없애야 할 것이다.

따라서, 3색 발광 형광체를 EPS 증착시키는 동안 매트릭스가 정전기적으로 충전되지 않고, 스크린 구조체에서 다음에 행해질 처리를 위하여 평평한 표면을 제공할 수 있도록 평면층을 형성하여, 형광체가 매트릭스에 대하여 맞는 위치에 자리를 잡을 수 있게 하기 위하여, 종래의 EPS-증착 매트릭스를 전기적으로 분리시킬 필요가 있다.

본 발명은 전자 사진 스크리닝 처리(electrophotographic screening:EPS) 방법(마찰 전기적으로 하전되는 스크린 구조 재료를 사용함)으로 음극선관의 발광 스크린 구조체를 제조하는 방법에 관한 것으로, 특히 전에 증착된 EPS 매트릭스의 하전 특성으로 인하여 다음에 증착된 형광체에 발생하는 위치 오차를 제거하고, 스크린 구조체에 매끄러운 표면을 제공하는 "평면화(planarizing)"층을 형성하는 방법에 관한 것이다.

첨부 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명에 따라 제조되는 컬러 음극선관의 부분적인 축방향 단면도.

도 2는 도 1에 도시하는 음극선관의 스크린 구조체를 나타내는 도면.

도 3 내지 도 8은 종래 기술에 따른 몇 가지 EPS 처리 단계를 페이스플레이트 패널에 나타낸 도면.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 페이스플레이트 패널의 부분도.

도 10은 본 발명에 따른 다른 실시예에 따른 페이스플레이트 패널의 부분도.

본 발명에 따르면, 형광 스크린 구조체를 컬러 음극선관 페이스플레이트 패널의 내측 표면에 전자 사진적으로 제조하기 위한 방법은, 휘발성 유기 도전 재료를 패널의 내측 표면에 코팅하여 유기 도전층(OC)을 형성하는 단계와, 휘발성 광도전 재료를 상기 OC층 위에 오버코팅하여 유기 광도전층(OPC)을 형성하는 단계를 포함한다. 그런 다음 실질적으로 균일한 전위가 OPC층에 형성되고, OPC층의 선택된 영역의 전압에는 영향을 주지만 OPC층의 노출되지 않은 영역의 전압에는 영향을 주지 않도록 OPC층의 선택된 영역을 가시 광선에 노출시키게 된다. 다음으로, 마찰 전기적으로 대전된 흡광성 스크린 구조 재료가 OPC층의 노출되지 않은 영역에 증착되어서, 개구 영역을 지니면서 흡광성 재료의 실질적으로 연속적인 매트릭스를 형성한다. 본 발명에 따른 방법은 다음과 같은 추가적인 단계를 포함함으로써 종래의 기술을 개선시키고 있다. 즉, OPC층 위에 평면층을 형성하는 단계와; 휘발성 유기 도전 재료의 두 번째 코팅을 위하여 상기 평면층을 오버코팅함으로써, 제2의의 OC층을 형성하는 단계와; 휘발성 유기 광도전성 재료의 두 번째 코팅을 위하여 상기 OC층을 오버코팅함으로씨, 제2의의 OPC층을 형성하는 단계를 포함한다.

도 1은 사각형의 판넬(15)에 의해 사각형의 페이스플레이트 패널(12)과 관형의 목부(14)가 결합되는 유리 엔벨로프(11)를 포함하는 컬러 음극선관(10)을 나타낸다. 펀넬(15)은 애노드 버튼(16)과 접촉하고 목부(14)로 연장하는 내부 도전성 코팅부(도시를 생략함)를 가지고 있다. 패널(12)은 뷰잉 페이스플레이트 또는 기판(18)과, 주변 플렌지 또는 측벽(20)을 가지고 있으며, 이 측벽은 유리 혼합물(21)에 의해서 판넬(15)에 밀봉 결합된다. 3색 형광체 스크린(22)은 페이스플레이트(18)의 내측 표면에 설치된다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 스크린(22)은 라인 스크린이고, 컬러 그룹 또는 3개의 스트라이프가 한 조를 이루는 화소에 적색-발광, 녹색-발광, 청색-발광 형광체 스트라이프들인 R, G, B가 각각 순서대로배치된 다수의 스크린 소자들을 포함하고 있다. 이 스트라이프들은 일반적으로 전자빔이 생성되는 평면과 수직인 방향으로 연장한다. 상기 실시예에 따른 수직한 시청 위치에서 보더라도 형광체 스트라이프들은 수직 방향으로 연장한다. 형광체 스트라이프부들의 적어도 일부는 당해 기술 분야에서 잘 알려져 있는 바와 같이, 비교적 얇은 흡광성 매트릭스(23)를 오버랩한다. 도트 스크린 역시 본 발명의 방법에 따라 형성될 수 있다. 알루미늄으로 형성되는 것이 바람직한 얇은 도전층(24)을 스크린(22)에 도포함으로써, 스크린에 균일한 전위를 인가하고, 페이스플레이트(18)을 통하여 형광체 소자로부터 방출되는 빛을 반사하기 위한 수단을 제공한다. 스크린(22)과 도포된 알루미늄층(24)은 스크린 구조체를 구성한다. 다공의 컬러 선택 전극 또는 섀도우 마스크(25)는 종래의 수단을 사용하여 스크린 구조체와 소정의 간격을 두고 착탈 가능하게 장착된다.

도1 에 점선으로 개략적으로 나타낸 전자총(26)은 목부(14)의 중심에 장착 되어서, 전자빔을 생성하고 스크린(22)을 향하여 마스크(25)내의 구멍들을 통과하는 컨버전트 경로를 따라 전자빔을 안내한다. 전자총은 당해 기술 분야에서 일반적으로 사용되는 것을 사용하면 된다.

음극선관(10)은 펀넬-목부가 결합하는 영역에 위치하는 요크(30)와 같은 외부 자계 편향 요크와 함께 사용되도록 설계될 수도 있다. 작동시 요크(30)는 3개의 빔들에 자계를 가하여 스크린 위의 사각 래스터를 향하여 수평 방향 및 수직 방향으로 빔이 주사되게 한다. 초기 편향면(제로 편향)은 도 1에서 요크(30)의 대략 중앙에 라인 P-P로 도시하는 바와 같다. 설명을 간단하게 하기 위하여, 편향 영역내에서 빔이 편향하는 실제 경로에 대해서는 도시를 생략한다.

스크린은 미국 특허 제4,921,767호에 설명되고 있는 EPS 처리 방법에 의해 제조된다. 그 처리의 일부 단계를 도 3 내지 도 8에 도시하고 있다. 패널에 흡광성 매트릭스(23)를 증착시키기 위하여 공지 기술을 사용하여 처음에는 부식액으로 패널을 세척하고, 물로 헹구어내고, 플루오르화 수소산으로 상기 페널을 에칭하고 다시 물로 에칭한다. 페이스플레이트 패널(12)의 시청 영역(18)의 내부 표면에 휘발성 유기 도전 재료를 코팅하여 유기 도전층(OC; 32)을 형성한다. 이러한 유기 도전층(32)은 그 위에 도포될 휘발성의 유기 광도전층(OPC; 34)을 위한 전극을 제공한다. OC층(33)과 OPC층(34)이 조합하여 광 수용기(36)를 형성한다. OC층(32)과 그 위의 OPC층(34)으로 이루어지는 광 수용기(36)를 가지는 페이스플레이트 구조가 도 3에 도시되어 있다. OC층(32)의 재료는 1994년 12월 6일 등록된 다타 등의 미국 특허 제5,370,952호에 기재되어 있는 것과 같은 4기 암모니아 중합 전해질(Certain quaternary ammonium polyelectrolytes)을 포함하는 것이다. OPC층은 수지, 전자 도우너 재료, 전자 억셉터 재료, 표면 활성제와 유기 용매로 구성된 용액이 OC층(32) 위에 도포된 것이다. OPC층(34)을 형성하기 위하여 사용되는 적절한 재료의 예는 1994년 12월 6일 등록된 다타 등의 미국 특허 제5,370,952호에 설명되어 있다.

EPS 처리에 의해 매트릭스(23)를 형성하기 위해서, 도 4에 개략적으로 도시되고 미국 특허 제5,083,959호에 기재되어 있는 형태의 코로나 방전 장치(38)를 이용하여, OPC층(34)을 대략 +200 V 내지 +700 V 범위 내의 적절한 전위로 정전기적으로 대전시킨다. 그런 다음, 섀도우 마스크(25)를 페이스플레이트 패널(12)안으로 삽입하고 패널을 도 5에 개략적으로 도시하는 장치(40)인 쓰리-인-원(three-in-one) 라이트하우스(lighthouse) 위에 배치한다. 라이트하우스는 OPC층(34)을 가시광선에 노출시킨다. 이 때 가시 광선은 광원(42)에서 투사되어 섀도우마스크의 개구를 통과한다. OPC층(34)은 음극선관(10)의 전자총(26)에서 방출된 3 개의 전자빔의 경로를 시뮬레이트할 수 있도록 배치된 광원에 의하여 2 회 더 반복적으로 노출된다. 빛은 형광 물질이 다음에 증착될 영역인 OPC층(34)의 노출 영역을 방전시키지만, OPC층(34)의 노출되지 않은 영역의 양전하는 그대로 유지시킨다. 세 번째 노출 이후에 라이트하우스에서 패널을 제거하고 다시 이 패널에서 섀도우 마스크를 제거한다.

OPC층(34)의 양으로 대전된 영역은 1995년 12월 19일 등록된 리들 등의 미국 특허 제5,477,285호에 기재되어 있는 형태의 현상기(44)에서 마찰 전기적으로 음으로 대전된 흡광성 재료 입자를 OPC층(34) 위에 증착함으로써 OPC층(34)의 양으로 대전된 영역이 바로 현상된다. 적절한 흡광성 재료는 450℃의 음극선관 처리 온도에서 안정적인 검은 안료(pigment)를 포함한다. 흡광성 재료를 제조하는데 적절한 검은 안료는 철망간 산화물(iron manganese oxide)과; 철코발트 산화물(iron cobalt oxide)과; 아연철 황화물(zinc iron sulfide)과; 절연 카본 블랙(insulating carbon black)을 포함한다. 상기한 미국 특허 제4,921,767호에 기재되어 있는 바와 같이, 안료, 폴리머 및 재료에 분포되어 있는 마찰 전기에 따른 전하의 크기를 제어하는 적절한 전하 제어제(charge control agent)를 융합블랜딩(melt-blending)하여 흡광성 재료를 준비한다. 현상(44) 내의 마찰 전기총(46)은 음전하를 흡광성 매트릭스 입자에 공급한다. 매트릭스 재료의 음으로 대전된 흡광성 입자는 OPC층(34)의 방전 영역에서는 인력을 받지 않지만, 방전 영역을 둘러싸는 양전하 영역에 인력을 받기 때문에, 이러한 과정이 없다면 실질적으로 연속적인 매트릭스를 형성할 영역에 개구 또는 윈도우를 형성하고, 그 위에 발광 형광체가 도포된다. 상기한 미국 특허 제5,229,234호에 기재되어 있는 바와 같이, 매트릭스의 불투광성을 증가시키기 위하여 매트릭스 재료를 두 번째로 증착한다. 현상된 이후의 매트릭스(23)를 도 7에 도시하고 있다. 페이스플레이트의 대각선 길이가 51 cm(20 inch)인 경우, 매트릭스에 형성된 윈도우 개구는 대략 0.13 mm 내지 0.18 mm의 폭을 가지며, 매트릭스 라인은 대략 0.1 mm 내지 0.15 mm의 폭을 갖는다. 도 8에 도시하고 있고 상기한 미국 특허 제4,921,767호에 기재되어 있는 바와 같이, 매트릭스(23)의 흡광성 재료가 연속되는 처리 중에 재료의 이동을 방지하기 위해, OPC층(34)의 아래쪽에서 융합된다.

미국 특허 제4,921,767호에 기재하고 있는 종래의 EPS 처리에 있어서, 매트릭스 코팅된 페이스플레이트 패널은 양의 전위로 균일하게 재대전되고, 전하 이미지를 형성할 수 있도록 섀도우 마스크의 애퍼쳐를 통해 가시 광선을 통과시킴으로써 재노출되며, 색 발광 형광체로 현상된다. 그러나, 상기한 바와 같이 종래의 기술에 따른 매트릭스(23)는 재대전 단계(recharging step)에서 정전기적 전위를 얻게 되는데, 그 정전기적 전위가 OPC층(34)에 의해 얻어진 정전기적 전위와 서로 다를 뿐만 아니라 그보다 더 큰 양의 값을 지닌다. 매트릭스(23) 상의 더 높은 양의전압이 마찰에 의해 양으로 대전된 형광체 입자와 반발하고, 결국 형광체 입자는 매트릭스 내의 개구를 완전히 채우지 못하고 문제가 되는 작은 갭들을 남긴다.

이러한 갭들을 제거하기 위해 매트릭스(23)는 연속적으로 증착된 형광체와는 정전기적으로 분리되어 있어야 한다. 이는 OPC층(34)상에 평면층(35)을 형성하고, 그 평면층(35)을 제2의 OC층(132)과 제2의 OPC층(134)으로 도포함으로써 달성될 수 있다. 도 9에 도시하는 본 발명의 방법의 제1 실시예에 따르면, 평면층(35)을 별도의 층으로 형성하지 않고, 매트릭스(23)를 OPC층(34)에 융합시켜서 형성한다. 이는 흡광성 매트릭스 재료에 폴리머 코팅을 용해시켜서 달성하거나, 융합 작용으로 상기 OPC층(34)에 매트릭스 재료가 흡수되게 하여 달성한다. 다음으로 평면층(35)에 처음의 OC층(32)에 사용된 것과 동일한 휘발성의 유기 도전 재료를 다시 두 번째로 코팅하여 제2의 OC층(132)을 형성한다. 이어서 OC층(132)에 처음의 OPC층(34)에 사용된 것과 동일한 휘발성의 유기 광도전 코팅 재료를 다시 두 번째로 코팅하여 제2의 OPC층(134)을 형성한다. 이러한 구조는 EPS-증착 매트릭스(23)에 충분한 전기적 절연을 제공한다. 따라서, 매트릭스는 후술하는 바와 같이, 형광체를 증착하는 동안 제2의 OPC층(134)의 전하량에 영향을 주지 않게 된다.

본 발명의 방법에 따른 제2의 실시예가 도 10에 도시되어 있다. 제2의 실시예는 EPS-증착 매트릭스(23)가 필요한 불투광성을 제공하기 위하여 내장되어 있고, 연속적으로 OC층을 직접 코팅하는데 방해가 될 정도로 표면이 거친 경우에 특히 유용하다. 필라델피아의 ROIIM and HAAS사의 RHOPLEX B-74라는 상표명으로 시판되고 있는 필름 에멀젼을 도포함으로써, 별도의 평면층(135)을 매트릭스와 OPC층(34) 위에 제공한다. 필름 에멀전은 적절한 온도로 스크린을 구울 때 제거될 수 있는 휘발성 수지를 포함한다. 평면층(135)을 형성한 후, 상술한 제2의 OC층(132)을 평면층(135) 위에 코팅하고, 다시 OPC층(134)을 OC층(132)위에 코팅한다. 평면층(135)은 스크린 구조체의 제2의 OC층(132)과 제2의 OPC층(134)이 형성될 수 있도록 평평하고 적당한 수준의 표면을 제공하며, 매트릭스(23)와 그 다음에 연속적으로 증착된 색 발광 형광체 사이의 상호 작용을 없애고 위치 설정에 있어서 오차가 없게 한다. 제2의 실시예의 단점이라고 한다면, 스크린 구조체에 부가된 유기 필름 재료를 스크린을 굽는 과정을 통하여 제거하여야 한다는 것이 될 것이다.

스크린에서 다음에 진행되는 처리는 종래의 EPS 방법과 유사하다. 제2의 OPC층(134)이 미국 특허 제5,083,959호에 기재된 코로나 방전 장치를 이용하여 균일하게 정전기적으로 대전된다. 그것은 제2의 OPC층(134)을 대략 +200 V 내지 +700 V의 범위 내의 전압으로 대전시킨다. 이어서 섀도우 마스크(25)가 패널(12)에 삽입되고 양으로 대전된 제2의 OPC층(134)이 섀도우 마스크(25)를 통과하여 크세논 플래시 램프 또는 라이트하우스(도시를 생략함) 내에 설치된 수은등과 같이 충분한 강도의 빛을 투사하는 다른 광원에서 나오는 빛에 노출된다. 음극선관의 전자총에서 나오는 전자빔 중 하나의 각도와 동일한 각도로 섀도우 마스크(25)의 애피쳐를 통과하는 빛은 그 빛이 입사하는 제2의 OPC층(134)의 발광 영역을 방전시킨다. 상기한 1995년 12월 19일 등록된 리들 등의 미국 특허 제5,477,285호에 기재하고 있는 바와 같이, 패널(12)에서 섀도우 마스크를 제거하고 그 패널을 제1의 형광체 현상기(도시를 생략함)에 설치한다. 첫번째 색 발광 형광체 재료가 현상기 내에서 마찰에의해 양으로 대전되어 제2의 OPC층(134)으로 간다. 양으로 대전된 첫번째 색 발광 형광체 재료가 제2의 OPC층(134) 상의 양으로 대전된 영역에 의해 반발되고, "반전현상(reversal development)"과 같은 잘 알려진 처리에 의해 방전 영역에 증착된다. 반전 현상시 마찰 전기적으로 대전된 스크린 구조물의 재료는 OPC층(134)의 비슷하게 대전된 영역에 의해 반발되어 방전된 영역에 증착된다. 제1의 색 발광 형광체의 각 라인의 크기는 매트릭스 내의 개구의 크기보다 약간 크기 때문에, 각 개구를 완전히 커버할 수 있고, 개구를 둘러싸는 흡광성 매트릭스 재료를 약간 중첩시킬 수 있다. 이어서, 패널(12)은 상술한 코로나 방전 장치를 이용하여 재대전된다. 양의 전압이 제2의 OPC층(134)과 이 층 위에 증착된 첫번째 색 발광 형광체에 형성된다. 광 노출과 형광체의 현상 단계는 나머지 2 개의 색 발광 형광체 각각에 대해서 반복되며, 각 경우에 광 노출을 위한 라이트하우스 내의 광의 위치는 계류 중인 미국 특허 출원 제250,231호에 기재하고 있는 방법에 따른다. 제2의 OPC층(134) 상의 다른 2 개의 색 발광 형광체의 라인의 크기는 각각 매트릭스 개구의 크기보다 크기 때문에 갭이 전혀 발생하지 않도록 할 수 있고, 개구를 둘러싸는 흡광성 재료를 약간 중첩시킬 수 있다. 3개의 색 발광 형광체는 1994년 8월 30일 Ritt 등에 의해 출원되어 계류 중인 미국 특허 출원 제297,740호에 기재된 방법으로 제2의 OPC층에 고정된다. 이어서 스크린 구조물은 필름 처리되고 알루미늄 처리되어 발광 스크린 구조체를 형성한다. 스크린 구조체의 제조에 사용되는 다량의 유기 재료때문에, 알루미늄 처리 이전에 붕소산이나 암모늄 옥살레이트(ammonium oxalate)를 필름 처리된 스크린 구조물에 도포하는 것과 같은 잘 알려진 기술을 사용하여 알루미늄층에 작은 개구들을 제공한다. 그렇게 했을 때 그 개구들은 휘발성 유기물들이 알루미늄 층 내에서 기포를 발생시키지 않고 휘발될 수 있게 한다. 스크린 구조체는 약 400℃의 온도에서 약 30 분 동안 구워져 스크린 구조체의 휘발성 성분들을 내보낸다.

Claims (6)

1. 컬러 음극선관(10)의 페이스플레이트 패널(12)의 내측 표면에 형광 스크린 구조체를 전자 사진적으로 제조하기 위하여,

   휘발성 유기 도전 재료를 상기 패널의 내측 표면에 코팅하여 제1 유기 도전층(OC; 32)을 형성하는 단계와;

   휘발성 광도전 재료를 상기 제1 OC층 위에 오버코팅하여 제1 유기 광도전층(OPC; 34)을 형성하는 단계와;

   상기 제1 OPC층에 실질적으로 균일한 정전기적 전압을 형성하는 단계와;

   상기 제1 OPC층의 선택된 영역을 가시 광선에 노출 - 이 노출로 인하여 노출된 영역의 전압은 영향을 받지만 상기 제1 OPC층의 노출되지 않은 영역의 전압은 영향을 받지 않음 - 시키는 단계와;

   흡광성 재료로 실질적으로 연속적인 매트릭스(23) - 개방 영역을 지님 - 를 형성하도록 상기 제1 OPC층의 노출되지 않은 영역에 마찰 전기적으로 대전된 흡광성 스크린 구조 재료를 증착하는 단계를 포함하는 형광 스크린 구조체 제조 방법에 있어서,

   (a) 평면층(35, 135)을 형성하는 단계와;

   (b) 상기 휘발성의 유기 도전 재료를 두 번째로 상기 평면층에 코팅하여 제2의 OC층(132)을 형성하는 단계와;

   (c) 상기 휘발성의 유기 광도전 재료를 두 번째로 상기 제2의 OC층에 코팅하여 제2의 OPC층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 형광 스크린 구조체 제조 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 평면층(35)은 상기 흡광성 재료가 상기 제1 OPC층(34)에 융합하여 형성되는 것을 특징으로 하는 형광 스크린 구조체 제조 방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 평면층(135)은 상기 제1 OPC층(34)과 상기 흡광성 매트릭스(23) 재료를 덮는 필름을 도포하여 형성되는 것을 특징으로 하는 형광 스크린 구조체 제조 방법.
4. 제1항에 있어서,

   (d) 제2의 OPC층(134)에 실질적으로 균일한 정전기적 전압을 형성하는 단계와;

   (e) 상기 제2의 OPC층의 선택된 영역을 가시 광선에 노출 - 이 때 노출된 영역의 전압이 영향을 받음 - 시키는 단계와;

   (f) 상기 제1 OPC층의 노출된 선택 영역에 마찰 전기적으로 대전된 제1 색 발광 형광체를 증착하여, 상기 제1 색 발광 형광체가 상기 제1 색상의 위치에 대응하는 상기 매트릭스(23)의 개방 영역과 그 개방 영역을 둘러싸는 상기 흡광성 재료의 적어도 일부를 덮을 수 있게 하는 단계와;

   (g) 상기 제2의 OPC층과 상기 제1의 색 발광 형광체의 노출되지 않은 영역을재충전시켜서 그 위에 정전기적 전위를 다시 형성하는 단계와;

   (h) 상기 제2의 OPC층의 선택된 영역을 광원으로부터 나오는 가시 광선에 노출 - 이 때 노출된 영역의 전압에는 영향을 주지만, 상기 제2의 OPC층과 상기 제1의 색 발광 형광체의 노출되지 않은 영역의 전압에는 영향을 주지 않고 그대로 유지시킴 - 시키는 단계와;

   (i) 상기 제2 OPC층의 노출된 선택 영역에 마찰 전기적으로 대전된 제2 색 발광 형광체를 증착하여, 상기 제2 색 발광 형광체가 상기 제2 색상의 위치에 대응하는 상기 매트릭스(23)의 개방 영역과 그 개방 영역을 둘리싸는 상기 흡광성 재료의 적어도 일부를 덮을 수 있게 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 형광 스크린 구조체 제조 방법.
5. 제4항에 있어서,

   (j) 상기 제2의 OPC층(134)과 상기 제1 및 제2의 색 발광 형광체의 노출되지 않은 영역을 재충전시켜서 그 위에 정전기적 전위를 다시 형성하는 단계와;

   (k) 상기 제2의 OPC층의 선택된 영역을 광원으로부터 나오는 가시 광선에 노출 - 이 때 노출된 영역의 전압에는 영향을 주지만, 상기 제2의 OPC층과 상기 제1 및 제2의 색 발광 형광체의 노출되지 않은 영역의 전압에는 영향을 주지 않고 그대로 유지시킴 - 시키는 단계와;

   (l) 상기 제2 OPC층의 노출된 선택 영역에 마찰 전기적으로 대전된 제3 색 발광 형광체를 증착하여, 상기 제3 색 발광 형광체가 상기 매트릭스(23)의 나머지개방 영역과 그 개방 영역을 둘러싸는 상기 흡광성 재료의 적어도 일부를 덮을 수 있게 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 형광 스크린 구조체 제조 방법.
6. 제5항에 있어서,

   (m) 상기 형광 스크린의 상기 제2의 OPC층(134)에 상기 형광체를 고정시키는 단계와;

   (n) 상기 고정된 스크린을 필름 처리하는 단계와;

   (o) 상기 필름 처리된 스크린을 알루미늄 처리하는 단계와;

   (p) 알루미늄 처리된 스크린을 구워서 스크린으로부터 휘발성 성분을 제거하여 형광 스크린 구조체를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 형광 스크린 구조체 제조 방법.

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