JP3468160B2 - 圧電デバイスの周波数調整方法および圧電デバイスの周波数調整装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、圧電デバイス表面
に形成された電極用金属膜の厚さを調節することにより
圧電デバイスの周波数を調整する方法および装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の圧電デバイスの周波数調整方法の
一例としては、金属蒸着法により圧電基板の表裏面に設
けられた各電極の厚さを選択的に増やして、この厚さを
増やした部分の共振周波数を低くすることで周波数を調
整するという方法がある。

【０００３】この周波数調整方法では、まず、圧電基板
の表裏面それぞれにマスクを配置して金属蒸着法により
所定形状の電極を形成し、この時点での圧電デバイスの
周波数特性を測定してどの電極をどの程度厚くするのか
を決定する。そして、厚くする必要のある電極のみを露
出するための開口部を有するマスクを用いて、金属蒸着
法により選択的に所望の電極の膜厚を厚くする。その結
果、圧電素子の共振周波数が低くなる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前述したように、従来
の周波数調整方法では、１回目の金属蒸着によってベー
スとなるアース電極を形成した後に、圧電デバイスの周
波数特性を測定しながら同時に２回目の金属蒸着を行い
周波数の調整を行っている。一般に、水晶基板は周辺温
度によって水晶基板自体の周波数特性が変化するので、
周波数特性を測定しながら行われる２回目の金属蒸着は
約２５℃±２℃の環境下で実施される。そのため、１回
目の金属蒸着に比べて２回目の金属蒸着は蒸着条件が悪
くなり、周波数調整後のアース電極のうちの２回目の金
属蒸着によって形成された部分の膜質が低下してしまう
といった問題があった。そして、この膜質の低下によ
り、挿入損失の劣化やエージング特性の劣化が発生し、
スプリアスの発生等の周波数特性の低下が生じていた。
また、２回目の金属蒸着では作業効率向上のために真空
度が低く設定されているので、蒸着源である銀のカス等
の異物が発生しやすくなるといった問題があった。

【０００５】さらに、この金属蒸着法では、蒸着の開始
および終了をシャッタの機械的な開閉により行っている
ので、開始および終了のタイミングを正確に把握・制御
することが困難であり、蒸着時間が短くなって周波数が
充分に下がらなかったり、逆に蒸着時間が長くなって周
波数が過度に下がる等、正確に周波数の調整ができない
といった問題があった。

【０００６】本発明は、このような問題を解決すべく創
案されたもので、圧電デバイスの周波数特性の低下や異
物の発生を防止できるとともに、周波数調整量の誤差を
低減できる圧電デバイスの周波数調整方法および周波数
調整装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
圧電デバイスの周波数調整方法は、圧電基板と、この圧
電基板の一主面に形成された入力電極、出力電極、なら
びにこれら入力電極および出力電極間の間隙部に配置さ
れたアース電極と、この圧電基板の他主面に形成され、
かつ、前記入力電極、出力電極、アース電極、ならびに
これら入力電極、出力電極およびアース電極間の各間隙
部に対向する共通電極とから構成されており、第１対称
モードと斜対称モードと第２対称モードとの相互作用に
よって１つの周波数特性が決定される圧電デバイスの周
波数特性を調整する方法であって、圧電デバイスの周波
数特性を測定する測定工程と、前記圧電基板の他主面お
よび前記共通電極の所定の領域を覆うマスク工程と、こ
の共通電極のうちのマスク工程で覆われた領域を除く領
域をエッチングするエッチング工程と、を有し、前記マ
スク工程と前記エッチング工程とによる、前記共通電極
のうち前記入力電極または前記出力電極に対向する領域
を除く領域を所定の厚さまでエッチングすることによ
り、前記入力電極と前記共通電極とを測定した周波数特
性と、前記出力電極と前記共通電極とを測定した周波数
特性とが一致するようこれら周波数特性のバランス調整
を行う第１手順と、前記共通電極のうち前記入力電極ま
たは前記出力電極に対向する領域を所定の厚さまでエッ
チングすることにより、前記バランス調整を行う第２手
順と、前記共通電極のうち前記入力電極および前記出力
電極に対向する領域を除く領域を所定の厚さまでエッチ
ングすることにより、斜対称モードおよび第１対称モー
ドの差と第２対称モードおよび第１対称モードの差との
比であるΔＦ比を狭くする調整を行う第３手順と、前記
共通電極のうち前記アース電極に対向する領域を除く領
域を所定の厚さまでエッチングすることにより、ΔＦ比
を広くする調整を行う第４手順と、前記共通電極のうち
前記入力電極、前記出力電極および前記アース電極に対
向する領域を除く領域を所定の厚さまでエッチングする
ことにより、第２対称モードおよび第１対称モードの差
であるΔＦを狭くする調整を行う第５手順と、前記共通
電極のうち前記入力電極、前記出力電極および前記アー
ス電極に対向する領域を所定の厚さまでエッチングする
ことにより、ΔＦを広くする調整を行う第６手順と、前
記共通電極の全ての領域を所定の厚さまでエッチングす
ることにより、中心周波数を調整する第７手順と、の少
なくともいずれか一つの同一前記手順の複数回組合せに
よる第１組合せ手順と、少なくともいずれか二つ以上の
前記手順の組合せによる第２組合せ手順と、もしくは前
記第１組合せ手順と第２組合せ手順との組合せによる第
３組合せ手順と、のいずれか一つの前記組合せ手順を前
記測定工程による圧電デバイスの周波数特性をモニター
しながら選択して実行し、圧電デバイスの周波数調整を
行うことによって特徴付けられる。以上の構成により、
周波数調整後の電極の一部分の膜質が低下することや異
物の発生を防止できるとともに、周波数調整の終了のタ
イミングをより正確に制御することができる。

【０００８】本発明の請求項２記載の圧電デバイスの周
波数調整方法は、圧電基板と、この圧電基板の一主面に
形成された入力電極、出力電極、ならびに入力電極およ
び出力電極間の間隙部に配置された第１アース電極と、
この圧電基板の他主面に形成され、かつ、前記入力電極
に対向する第２アース電極、第１アース電極に対向する
第３アース電極、および出力電極に対向する第４アース
電極とから構成されており、第１対称モードと斜対称モ
ードと第２対称モードとの相互作用によって１つの周波
数特性が決定される圧電デバイスの周波数特性を調整す
る方法であって、圧電デバイスの周波数特性を測定する
測定工程と、前記圧電基板の他主面および前記共通電極
の所定の領域を覆うマスク工程と、この共通電極のうち
のマスク工程で覆われた領域を除く領域をエッチングす
るエッチング工程と、を有し、前記マスク工程と前記エ
ッチング工程とによる、前記第２アース電極または前記
第４アース電極と前記第３アース電極とを所定の厚さま
でエッチングすることにより、前記入力電極と前記第２
アース電極とを測定した周波数特性と、前記出力電極と
前記第４アース電極とを測定した周波数特性とが一致す
るようこれら周波数特性のバランス調整を行う第１手順
と、前記第２アース電極または前記第４アース電極を所
定の厚さまでエッチングすることにより、前記バランス
調整を行う第２手順と、前記第３アース電極を所定の厚
さまでエッチングすることにより、斜対称モードおよび
第１対称モードの差と第２対称モードおよび第１対称モ
ードの差との比であるΔＦ比を狭くする調整を行う第３
手順と、前記第２アース電極および前記第４アース電極
を所定の厚さまでエッチングすることにより、ΔＦ比を
広くする調整を行う第４手順と、前記第２アース電極の
端辺部のうち前記第３アース電極に隣接する一端辺部お
よびこの一端辺部に対向する他端辺部と、前記第３アー
ス電極の端辺部のうち前記第４アース電極に隣接する一
端辺部および第２アース電極に隣接する他端辺部と、前
記第４アース電極の端辺部のうち前記第３アース電極に
隣接する一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺
部とを所定の厚さまでエッチングすることにより、第２
対称モードおよび第１対称モードの差であるΔＦを狭く
する調整を行う第５手順と、前記第２アース電極の一端
辺部および前記第３アース電極の他端辺部のうちの少な
くとも一方の端辺部と、前記第３アース電極の一端辺部
および前記第４アース電極の一端辺部のうちの少なくと
も一方の端辺部とを除く領域を所定の厚さまでエッチン
グすることにより、ΔＦを広くする調整を行う第６手順
と、前記第２アース電極、前記第３アース電極および前
記第４アース電極を所定の厚さまでエッチングすること
により、中心周波数を調整する第７手順と、の少なくと
もいずれか一つの同一前記手順の複数回組合せによる第
１組合せ手順と、少なくともいずれか二つ以上の前記手
順の組合せによる第２組合せ手順と、もしくは前記第１
組合せ手順と第２組合せ手順との組合せによる第３組合
せ手順と、のいずれか一つの前記組合せ手順を、前記測
定工程による圧電デバイスの周波数特性をモニターしな
がら選択して実行し、圧電デバイスの周波数調整を行う
ことによって特徴付けられる。以上の構成により、周波
数調整後の電極の一部分の膜質が低下することや異物の
発生を防止できるとともに、周波数調整の終了のタイミ
ングをより正確に制御することができる。

【０００９】本発明の請求項３記載の圧電デバイスの周
波数調整方法は、前記第１手順において、前記第２アー
ス電極と前記第３アース電極とを所定の厚さまでエッチ
ングする場合には、前記第４アース電極の一端辺部およ
び他端辺部も所定の厚さまでエッチングし、前記第４ア
ース電極と前記第３アース電極とを所定の厚さまでエッ
チングする場合には、前記第２アース電極の一端辺部お
よび他端辺部、または前記第４アース電極の一端辺部お
よび他端辺部も所定の厚さまでエッチングし、前記第３
手順において、前記第２アース電極の一端辺部および他
端辺部、ならびに前記第４アース電極の一端辺部および
他端辺部も所定の厚さまでエッチングし、前記第４手順
において、前記第３アース電極の一端辺部および他端辺
部も所定の厚さまでエッチングすることによって特徴付
けられる。以上の構成により、エッチングされない領域
をさらに詳細に限定することができるので、より微妙な
周波数調整を行うことができる。

【００１０】本発明の請求項４記載の圧電デバイスの周
波数調整方法は、圧電基板と、この圧電基板の一主面に
形成された入力電極および出力電極と、この圧電基板の
他主面に形成され、かつ、前記入力電極、出力電極、な
らびにこれら入力電極および出力電極の間隙部に対向す
る共通電極とから構成されており、対称モードと斜対称
モードとの相互作用によって１つの周波数特性が決定さ
れる圧電デバイスの周波数特性を調整する方法であっ
て、圧電デバイスの周波数特性を測定する測定工程と、
前記圧電基板の他主面および前記共通電極の所定の領域
を覆うマスク工程と、この共通電極のうちのマスク工程
で覆われた領域を除く領域をエッチングするエッチング
工程と、を有し、前記マスク工程と前記エッチング工程
とによる、前記共通電極のうち前記入力電極または前記
出力電極に対向する領域を除く領域を所定の厚さまでエ
ッチングすることにより、前記入力電極と前記共通電極
とを測定した周波数特性と、前記出力電極と前記共通電
極とを測定した周波数特性とが一致するようこれら周波
数特性のバランス調整を行う第１手順と、前記共通電極
のうち前記入力電極または前記出力電極に対向する領域
を所定の厚さまでエッチングすることにより、前記バラ
ンス調整を行う第２手順と、前記共通電極のうち前記入
力電極および前記出力電極に対向する領域を除く領域を
所定の厚さまでエッチングすることにより、斜対称モー
ドおよび対称モードの差であるΔＦを狭くする調整を行
う第３手順と、前記共通電極のうち前記入力電極および
前記出力電極に対向する領域を所定の厚さまでエッチン
グすることにより、ΔＦを広くする調整を行う第４手順
と、前記共通電極の全ての領域を所定の厚さまでエッチ
ングすることにより、中心周波数を調整する第５手順
と、の少なくともいずれか一つの同一前記手順の複数回
組合せによる第１組合せ手順と、少なくともいずれか二
つ以上の前記手順の組合せによる第２組合せ手順と、も
しくは前記第１組合せ手順と第２組合せ手順との組合せ
による第３組合せ手順と、のいずれか一つの前記組合せ
手順を前記測定工程による圧電デバイスの周波数特性を
モニターしながら選択して実行し、圧電デバイスの周波
数調整を行うことによって特徴付けられる。以上の構成
により、周波数調整後の電極の一部分の膜質が低下する
ことや異物の発生を防止できるとともに、周波数調整の
終了のタイミングをより正確に制御することができる。

【００１１】本発明の請求項５記載の圧電デバイスの周
波数調整方法は、圧電基板と、この圧電基板の一主面に
形成された入力電極および出力電極と、この圧電基板の
他主面に形成され、かつ、前記入力電極に対向する第１
アース電極および出力電極に対向する第２アース電極と
から構成されており、対称モードと斜対称モードとの相
互作用によって１つの周波数特性が決定される圧電デバ
イスの周波数特性を調整する方法であって、圧電デバイ
スの周波数特性を測定する測定工程と、前記圧電基板の
他主面および前記共通電極の所定の領域を覆うマスク工
程と、この共通電極のうちのマスク工程で覆われた領域
を除く領域をエッチングするエッチング工程と、を有
し、前記マスク工程と前記エッチング工程とによる、前
記第１アース電極または前記第２アース電極を所定の厚
さまでエッチングすることにより、前記入力電極と前記
第１アース電極とを測定した周波数特性と、前記出力電
極と前記第２アースとを測定した周波数特性とが一致す
るようこれら周波数特性のバランス調整を行う第１手順
と、前記第１アース電極の端辺部のうち前記第２アース
電極に隣接する一端辺部およびこの一端辺部に対向する
他端辺部と、前記第２アース電極の端辺部のうち前記第
１アース電極に隣接する一端辺部およびこの一端辺部に
対向する他端辺部とを所定の厚さまでエッチングするこ
とにより、斜対称モードおよび対称モードの差であるΔ
Ｆを狭くする調整を行う第２手順と、前記第１アース電
極の一端辺部と前記第２アース電極の一端辺部とを除く
領域を所定の厚さまでエッチングすることにより、ΔＦ
を広くする調整を行う第３手順と、前記第１アース電極
および前記第２アース電極を所定の厚さまでエッチング
することにより、中心周波数を調整する第４手順と、の
少なくともいずれか一つの同一前記手順の複数回組合せ
による第１組合せ手順と、少なくともいずれか二つ以上
の前記手順の組合せによる第２組合せ手順と、もしくは
前記第１組合せ手順と第２組合せ手順との組合せによる
第３組合せ手順と、のいずれか一つの前記組合せ手順を
前記測定工程による圧電デバイスの周波数特性をモニタ
ーしながら選択して実行し、圧電デバイスの周波数調整
を行うことによって特徴付けられる。以上の構成によ
り、周波数調整後の電極の一部分の膜質が低下すること
や異物の発生を防止できるとともに、周波数調整の終了
のタイミングをより正確に制御することができる。

【００１２】本発明の請求項６記載の圧電デバイスの周
波数調整方法は、前記第１手順において、前記第２アー
ス電極を所定の厚さまでエッチングする場合には、前記
第１アース電極の一端辺部および他端辺部も所定の厚さ
までエッチングし、前記第１アース電極を所定の厚さま
でエッチングする場合には、前記第２アース電極の一端
辺部および他端辺部も所定の厚さまでエッチングするこ
とによって特徴付けられる。以上の構成により、エッチ
ングされない領域をさらに詳細に限定することができる
ので、より微妙な周波数調整を行うことができる。

【００１３】本発明の請求項７記載の圧電デバイスの周
波数調整装置は、圧電基板と、この圧電基板の一主面に
形成された入力電極、出力電極、ならびにこれら入力電
極および出力電極間の間隙部に配置されたアース電極
と、この圧電基板の他主面に形成され、かつ、前記入力
電極、出力電極、アース電極、ならびにこれら入力電
極、出力電極およびアース電極間の各間隙部に対向する
共通電極とから構成されており、第１対称モードと斜対
称モードと第２対称モードとの相互作用によって１つの
周波数特性が決定される圧電デバイスの周波数特性を調
整する装置であって、圧電デバイスの周波数特性を測定
する測定手段と、前記圧電基板の他主面および前記共通
電極の所定の領域を覆うマスク手段と、この共通電極の
うちのマスク手段で覆われた領域を除く領域をエッチン
グするエッチング手段とから構成されており、前記共通
電極のうち前記入力電極または前記出力電極に対向する
領域が前記マスク手段により覆われ、前記共通電極のう
ち前記入力電極または前記出力電極に対向する領域を除
く領域が、前記測定手段によって測定された周波数特性
が所望の特性になるまで前記エッチング手段によりエッ
チングされることにより、前記入力電極と前記共通電極
とを測定した周波数特性と前記出力電極と前記共通電極
とを測定した周波数特性とが一致するようこれら周波数
特性のバランス調整が行われる第１調整パターンと、前
記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電極に対
向する領域を除く領域が前記マスク手段により覆われ、
前記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電極に
対向する領域が、前記測定手段によって測定された周波
数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段によ
りエッチングされることにより、前記バランス調整が行
われる第２調整パターンと、前記共通電極のうち前記入
力電極および前記出力電極に対向する領域が前記マスク
手段により覆われ、前記共通電極のうち前記入力電極お
よび前記出力電極に対向する領域を除く領域が、前記測
定手段によって測定された周波数特性が所望の特性にな
るまで前記エッチング手段によりエッチングされること
により、斜対称モードおよび第１対称モードの差と第２
対称モードおよび第１対称モードの差との比であるΔＦ
比を狭くする調整が行われる第３調整パターンと、前記
共通電極のうち前記アース電極に対向する領域がマスク
手段により覆われ、前記共通電極のうち前記アース電極
に対向する領域を除く領域が、前記測定手段によって測
定された周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチ
ング手段によりエッチングされることにより、ΔＦ比を
広くする調整が行われる第４調整パターンと、前記共通
電極のうち前記入力電極、前記出力電極および前記アー
ス電極に対向する領域がマスク手段により覆われ、前記
共通電極のうち前記入力電極、前記出力電極および前記
アース電極に対向する領域を除く領域が、前記測定手段
によって測定された周波数特性が所望の特性になるまで
前記エッチング手段によりエッチングされることによ
り、第２対称モードおよび第１対称モードの差であるΔ
Ｆを狭くする調整が行われる第５調整パターンと、前記
共通電極のうち前記入力電極、前記出力電極および前記
アース電極に対向する領域を除く領域がマスク手段によ
り覆われ、前記共通電極のうち前記入力電極、前記出力
電極および前記アース電極に対向する領域が、前記測定
手段によって測定された周波数特性が所望の特性になる
まで前記エッチング手段によりエッチングされることに
より、ΔＦを広くする調整が行われる第６調整パターン
と、前記共通電極を除く領域がマスク手段により覆わ
れ、前記共通電極の全ての領域が、前記測定手段によっ
て測定された周波数特性が所望の特性になるまで前記エ
ッチング手段によりエッチングされることにより、中心
周波数が調整される第７調整パターンと、の少なくとも
いずれか一つの同一前記調整パターンの複数回組合せに
よる第１組合せ調整パターンと、少なくともいずれか二
つ以上の前記調整パターンの組合せによる第２組合せ調
整パターンと、もしくは前記第１組合せ調整パターンと
第２組合せ調整パターンとの組合せによる第３組合せ調
整パターンと、のいずれかの前記組合せ調整パターン
が、前記測定手段による圧電デバイスの周波数特性をモ
ニターすることによって選択されて実施されることによ
り、圧電デバイスの周波数調整が行われることによって
特徴付けられる。以上の構成により、周波数調整後の電
極の一部分の膜質が低下することや異物の発生を防止で
きるとともに、周波数調整の終了のタイミングをより正
確に制御することができる。

【００１４】本発明の請求項８記載の圧電デバイスの周
波数調整装置は、圧電基板と、この圧電基板の一主面に
形成された入力電極、出力電極、ならびに入力電極およ
び出力電極間の間隙部に配置された第１アース電極と、
この圧電基板の他主面に形成され、かつ、前記入力電極
に対向する第２アース電極、第１アース電極に対向する
第３アース電極、および出力電極に対向する第４アース
電極とから構成されており、第１対称モードと斜対称モ
ードと第２対称モードとの相互作用によって１つの周波
数特性が決定される圧電デバイスの周波数特性を調整す
る装置であって、圧電デバイスの周波数特性を測定する
測定手段と、前記圧電基板の他主面、第２アース電極、
第３アース電極および第４アース電極の所定の領域を覆
うマスク手段と、この第２アース電極、第３アース電極
および第４アース電極のうちのマスク手段で覆われた領
域を除く領域をエッチングするエッチング手段とから構
成されており、前記第２アース電極または前記第４アー
ス電極と前記第３アース電極とを除く領域が前記マスク
手段により覆われ、前記第２アース電極または前記第４
アース電極と前記第３アース電極とが、測定手段によっ
て測定された周波数特性が所望の特性になるまで、前記
エッチング手段によりエッチングされることにより、前
記入力電極と前記第２アース電極とを測定した周波数特
性と、前記出力電極と前記第４アース電極とを測定した
周波数特性とが一致するようこれら周波数特性のバラン
ス調整が行われる第１調整パターンと、前記第２アース
電極または前記第４アース電極を除く領域が前記マスク
手段により覆われ、前記第２アース電極または前記第４
アース電極が、前記測定手段によって測定された周波数
特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段により
エッチングされることにより、前記バランス調整が行わ
れる第２調整パターンと、前記第３アース電極を除く領
域が前記マスク手段により覆われ、前記第３アース電極
が、測定手段によって測定された周波数特性が所望の特
性になるまで前記エッチング手段によりエッチングされ
ることにより、斜対称モードおよび第１対称モードの差
と第２対称モードおよび第１対称モードの差との比であ
るΔＦ比を狭くする調整が行われる第３調整パターン
と、前記第２アース電極および前記第４アース電極を除
く領域が前記マスク手段により覆われ、前記第２アース
電極および前記第４アース電極が、前記測定手段によっ
て測定された周波数特性が所望の特性になるまで前記エ
ッチング手段によりエッチングされることにより、ΔＦ
比を広くする調整が行われる第４調整パターンと、前記
第２アース電極の端辺部のうち前記第３アース電極に隣
接する一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺部
と、前記第３アース電極の端辺部のうち前記第４アース
電極に隣接する一端辺部および前記第２アース電極に隣
接する他端辺部と、前記第４アース電極の端辺部のうち
前記第３アース電極に隣接する一端辺部およびこの一端
辺部に対向する他端辺部とを除く領域が前記マスク手段
により覆われ、前記第２アース電極の端辺部のうち前記
第３アース電極に隣接する一端辺部およびこの一端辺部
に対向する他端辺部と、前記第３アース電極の端辺部の
うち前記第４アース電極に隣接する一端辺部および前記
第２アース電極に隣接する他端辺部と、前記第４アース
電極の端辺部のうち前記第３アース電極に隣接する一端
辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺部とが、測定
手段によって測定された周波数特性が所望の特性になる
まで前記エッチング手段によりエッチングされることに
より、第２対称モードおよび第１対称モードの差である
ΔＦを狭くする調整が行われる第５調整パターンと、前
記第２アース電極の一端辺部および前記第３アース電極
の他端辺部のうちの少なくとも一方の端辺部と、前記第
３アース電極の一端辺部および前記第４アース電極の一
端辺部のうちの少なくとも一方の端辺部とが前記マスク
手段により覆われ、前記第２アース電極の一端辺部およ
び前記第３アース電極の他端辺部のうちの少なくとも一
方の端辺部と、前記第３アース電極の一端辺部および前
記第４アース電極の一端辺部のうちの少なくとも一方の
端辺部とを除く領域が、前記測定手段によって測定され
た周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手
段によりエッチングされることにより、ΔＦを広くする
調整が行われる第６調整パターンと、前記第２アース電
極、前記第３アース電極および前記第４アース電極を除
く領域が前記マスク手段により覆われ、前記第２アース
電極、前記第３アース電極および前記第４アース電極
が、前記測定手段によって測定された周波数特性が所望
の特性になるまで前記エッチング手段によりエッチング
されることにより、中心周波数が調整される第７調整パ
ターンと、の少なくともいずれか一つの同一前記調整パ
ターンの複数回組合せによる第１組合せ調整パターン
と、少なくともいずれか二つ以上の前記調整パターンの
組合せによる第２組合せ調整パターンと、もしくは前記
第１組合せ調整パターンと第２組合せ調整パターンとの
組合せによる第３組合せ調整パターンと、のいずれかの
前記組合せ調整パターンが、前記測定手段による圧電デ
バイスの周波数特性をモニターすることによって選択さ
れて実施されることにより、圧電デバイスの周波数調整
が行われることによって特徴付けられる。以上の構成に
より、周波数調整後の電極の一部分の膜質が低下するこ
とや異物の発生を防止できるとともに、周波数調整の終
了のタイミングをより正確に制御することができる。

【００１５】本発明の請求項９記載の圧電デバイスの周
波数調整装置は、前記第１調整パターンにおいて、前記
第２アース電極と前記第３アース電極とがエッチングさ
れる場合には、前記第４アース電極の一端辺部および他
端辺部もエッチング手段によりエッチングされ、前記第
４アース電極と前記第３アース電極とがエッチングされ
る場合には、前記第２アース電極の一端辺部および他端
辺部もエッチング手段によりエッチングされ、前記第３
調整パターンにおいて、前記第２アース電極の一端辺部
および他端辺部、ならびに前記第４アース電極の一端辺
部および他端辺部もエッチング手段によりエッチングさ
れ、前記第４調整パターンにおいて、前記第３アース電
極の一端辺部および他端辺部もエッチング手段によりエ
ッチングされることによって特徴付けられる。以上の構
成により、エッチングされない領域をさらに詳細に限定
することができるので、より微妙な周波数調整を行うこ
とができる。

【００１６】本発明の請求項１０記載の圧電デバイスの
周波数調整装置は、圧電基板と、この圧電基板の一主面
に形成された入力電極および出力電極と、この圧電基板
の他主面に形成され、かつ、前記入力電極、出力電極、
ならびにこれら入力電極および出力電極の間隙部に対向
する共通電極とから構成されており、対称モードと斜対
称モードとの相互作用によって１つの周波数特性が決定
される圧電デバイスの周波数特性を調整する装置であっ
て、圧電デバイスの周波数特性を測定する測定手段と、
前記圧電基板の他主面および共通電極の所定の領域を覆
うマスク手段と、この共通電極のうちのマスク手段で覆
われた領域を除く領域をエッチングするエッチング手段
とから構成されており、前記共通電極のうち前記入力電
極または前記出力電極に対向する領域が前記マスク手段
により覆われ、前記共通電極のうち前記入力電極または
前記出力電極に対向する領域を除く領域が、前記測定手
段によって測定された周波数特性が所望の特性になるま
で前記エッチング手段によりエッチングされることによ
り、前記入力電極と前記共通電極とを測定した周波数特
性と、前記出力電極と前記共通電極とを測定した周波数
特性とが一致するようこれら周波数特性のバランス調整
が行われる第１調整パターンと、前記共通電極のうち前
記入力電極または前記出力電極に対向する領域を除く領
域が前記マスク手段により覆われ、前記共通電極のうち
前記入力電極または前記出力電極に対向する領域が、前
記測定手段によって測定された周波数特性が所望の特性
になるまで前記エッチング手段によりエッチングされる
ことにより、前記バランス調整が行われる第２調整パタ
ーンと、前記共通電極のうち前記入力電極および前記出
力電極に対向する領域が前記マスク手段により覆われ、
前記共通電極のうち前記入力電極および前記出力電極に
対向する領域を除く領域が、前記測定手段によって測定
された周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチン
グ手段によりエッチングされることにより、斜対称モー
ドおよび対称モードの差であるΔＦを狭くする調整が行
われる第３調整パターンと、前記共通電極のうち前記入
力電極および前記出力電極に対向する領域を除く領域が
前記マスク手段により覆われ、前記共通電極のうち前記
入力電極および前記出力電極に対向する領域が、前記測
定手段によって測定された周波数特性が所望の特性にな
るまで前記エッチング手段によりエッチングされること
により、ΔＦを広くする調整が行われる第４調整パター
ンと、前記共通電極を除く領域が前記マスク手段により
覆われ、前記共通電極の全ての領域が、前記測定手段に
よって測定された周波数特性が所望の特性になるまで前
記エッチング手段によりエッチングされることにより、
中心周波数が調整される第５調整パターンと、の少なく
ともいずれか一つの同一前記調整パターンの複数回組合
せによる第１組合せ調整パターンと、少なくともいずれ
か二つ以上の前記調整パターンの組合せによる第２組合
せ調整パターンと、もしくは前記第１組合せ調整パター
ンと第２組合せ調整パターンとの組合せによる第３組合
せ調整パターンと、のいずれかの前記組合せ調整パター
ンが、前記測定手段による圧電デバイスの周波数特性を
モニターすることによって選択されて実施されることに
より、圧電デバイスの周波数調整が行われることによっ
て特徴付けられる。以上の構成により、周波数調整後の
電極の一部分の膜質が低下することや異物の発生を防止
できるとともに、周波数調整の終了のタイミングをより
正確に制御することができる。

【００１７】本発明の請求項１１記載の圧電デバイスの
周波数調整装置は、圧電基板と、この圧電基板の一主面
に形成された入力電極および出力電極と、この圧電基板
の他主面に形成され、かつ、前記入力電極に対向する第
１アース電極および出力電極に対向する第２アース電極
とから構成されており、対称モードと斜対称モードとの
相互作用によって１つの周波数特性が決定される圧電デ
バイスの周波数特性を調整する装置であって、圧電デバ
イスの周波数特性を測定する測定手段と、前記圧電基板
の他主面、第１アース電極および第２アース電極の所定
の領域を覆うマスク手段と、この第１アース電極および
第２アース電極のうちのマスク手段で覆われた領域を除
く領域をエッチングするエッチング手段とから構成され
ており、前記第１アース電極または前記第２アース電極
を除く領域が前記マスク手段により覆われ、前記第１ア
ース電極または前記第２アース電極が、前記測定手段に
よって測定された周波数特性が所望の特性になるまで前
記エッチング手段によりエッチングすることにより、前
記入力電極と前記第１アース電極とを測定した周波数特
性と、前記出力電極と前記第２アースとを測定した周波
数特性とが一致するようこれら周波数特性のバランス調
整が行われる第１調整パターンと、前記第１アース電極
の端辺部のうち前記第２アース電極に隣接する一端辺部
およびこの一端辺部に対向する他端辺部と、前記第２ア
ース電極の端辺部のうち前記第１アース電極に隣接する
一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺部とを除
く領域が前記マスク手段により覆われ、前記第１アース
電極の端辺部のうち前記第２アース電極に隣接する一端
辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺部と、前記第
２アース電極の端辺部のうち前記第１アース電極に隣接
する一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺部と
が、前記測定手段によって測定された周波数特性が所望
の特性になるまで前記エッチング手段によりエッチング
されることにより、斜対称モードおよび対称モードの差
であるΔＦを狭くする調整が行われる第２調整パターン
と、前記第１アース電極の一端辺部と前記第２アース電
極の一端辺部とが前記マスク手段により覆われ、前記第
１アース電極の一端辺部と前記第２アース電極の一端辺
部とを除く領域が、前記測定手段によって測定された周
波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段に
よりエッチングされることにより、ΔＦを広くする調整
が行われる第３調整パターンと、前記第１アース電極お
よび前記第２アース電極を除く領域が前記マスク手段に
より覆われ、前記第１アース電極および前記第２アース
電極が、前記測定手段によって測定された周波数特性が
所望の特性になるまで前記エッチング手段によりエッチ
ングされることにより、中心周波数が調整される第４調
整パターンと、の少なくともいずれか一つの同一前記調
整パターンの複数回組合せによる第１組合せ調整パター
ンと、少なくともいずれか二つ以上の前記調整パターン
の組合せによる第２組合せ調整パターンと、もしくは前
記第１組合せ調整パターンと第２組合せ調整パターンと
の組合せによる第３組合せ調整パターンと、のいずれか
の前記組合せ調整パターンが、前記測定手段による圧電
デバイスの周波数特性をモニターすることによって選択
されて実施されることにより、圧電デバイスの周波数調
整が行われることによって特徴付けられる。以上の構成
により、周波数調整後の電極の一部分の膜質が低下する
ことや異物の発生を防止できるとともに、周波数調整の
終了のタイミングをより正確に制御することができる。

【００１８】本発明の請求項１２記載の圧電デバイスの
周波数調整装置は、前記第１調整パターンにおいて、前
記第２アース電極をエッチングされる場合には、前記第
１アース電極の一端辺部および他端辺部もエッチングさ
れ、前記第１アース電極をエッチングされる場合には、
前記第２アース電極の一端辺部および他端辺部もエッチ
ングされることによって特徴付けられる。以上の構成に
より、エッチングされない領域をさらに詳細に限定する
ことができるので、より微妙な周波数調整を行うことが
できる。

【００１９】

【発明の実施の形態】次に、本発明の圧電デバイスの周
波数調整方法および周波数調整装置について説明する。 ［実施の形態１］まず、本発明の圧電デバイスの周波数
調整方法および周波数調整装置の実施の形態１について
図面を参照しつつ説明する。

【００２０】図１は、本実施の形態の圧電デバイスの周
波数調整方法を用いて周波数の調整が行われる前のベー
スとなる圧電デバイスの一例を示す説明図である。

【００２１】この圧電デバイスは、圧電基板１と、この
圧電基板１の一主面Ｓ１に形成された入力電極２、出力
電極３、ならびにこれら入力電極２および出力電極３間
の間隙部に配置されたアース電極４と、この圧電基板１
の他主面Ｓ２に形成され、かつ、入力電極２、出力電極
３、アース電極４、ならびにこれら入力電極２、出力電
極３およびアース電極４間の各間隙部に圧電基板１を介
して対向する共通電極５とから構成されている。

【００２２】この圧電デバイスの周波数特性は、第１対
称モード（いわゆるＳ−０対称モード（シンメタリーモ
ード））Ｆ１（図２（ａ）参照）と、斜対称モード（い
わゆるＡ−０斜対称モード（アンチシンメタリーモー
ド））Ｆ２（図２（ｂ）参照）と、第２対称モード（い
わゆるＳ−１対称モード（シンメタリーモードの次の共
振モード））Ｆ３（図２（ｃ）参照）との相互作用によ
って決定される。なお、図２において、縦軸は変位強度
を示し、横軸は圧電デバイス表面のある一点からの距離
を示す。

【００２３】この圧電デバイスの製造手順は、周波数の
調整が行われる前のベースとなる圧電デバイスを作成す
る第１工程と本発明の周波数調整方法を用いて圧電デバ
イスの周波数を調整する第２工程とからなる。

【００２４】この第１工程では、まず、圧電基板１の一
主面Ｓ１の所望の領域に、スパッタリング法または真空
蒸着法（例えばイオンビーム蒸着法または抵抗加熱法）
により、例えば銀等の金属膜を成膜して、入力電極２、
出力電極３、アース電極４を形成する。そして、圧電基
板１の他主面Ｓ２の所望の領域に、スパッタリング法ま
たは真空蒸着法（例えばイオンビーム蒸着法または抵抗
加熱法）により、例えば銀等の金属膜を成膜して、共通
電極５を形成する（図１参照）。その後、圧電デバイス
の動作に必要な加工を施したり配線（図示せず）を形成
して、圧電デバイスを作成する。なお、この時点では、
共通電極５は、その膜厚が設計値よりも厚めになるよう
に形成されている。

【００２５】続く第２工程では、圧電デバイスの周波数
特性をモニターしながら、この厚めに形成した共通電極
５の所望の領域を選択的にエッチングすることによって
周波数調整を行う。このエッチングには、圧電デバイス
の周波数特性を測定する測定手段としての測定機器およ
び周波数特性表示機器と、前記圧電基板１の他主面Ｓ２
および共通電極５の所定の領域を覆うマスクと、この共
通電極５のうちのマスクで覆われた領域を除く領域をエ
ッチングするエッチング手段としてのイオンガンとから
構成された周波数調整装置を用いる。この第２工程で用
いられる周波数調整方法における調整パターンには、バ
ランス調整、ΔＦ比調整、ΔＦ調整およびＦ０（中心周
波数）調整がある。なお、ΔＦ比およびΔＦはＦ１，Ｆ
２およびＦ３を用いて以下の式（１）および式（２）の
ように表すことができる。 ΔＦ比＝（Ｆ２−Ｆ１）／ΔＦ （１） ΔＦ＝Ｆ３−Ｆ１ （２） 次に、この周波数調整方法における各調整パターンにつ
いて図面を参照しつつ説明する。

【００２６】図３および図４は、本実施の形態の周波数
調整方法を用いて周波数調整された後の圧電デバイスの
一例を示す断面図であり、図５は、周波数調整前の圧電
デバイスの周波数特性と、本実施の形態の周波数調整方
法を用いて行われた周波数調整後の圧電デバイスの周波
数特性とを示すグラフである。なお、図５において、縦
軸はレベル（ｄＢ）を示し、横軸は周波数を示し、破線
は周波数調整前の周波数特性を示し、実線は周波数調整
後の周波数特性を示す。

【００２７】まず、バランスを調整する場合には、共通
電極５のうち入力電極２または出力電極３に対向する領
域を除く領域を所定の厚さまでエッチングする。例え
ば、イオンガン７を用いて共通電極５のうち入力電極２
に対向する領域を除く領域をエッチングする場合には、
図３（ａ）に示すように、共通電極５のうち入力電極２
に対向する領域をマスク６で覆い、一方、イオンガン７
を用いて共通電極５のうち出力電極３に対向する領域を
除く領域をエッチングする場合には、図３（ｂ）に示す
ように、共通電極５のうち出力電極３に対向する領域を
マスク６で覆う。さらに、バランスを調整する場合の他
の例として、共通電極５のうち入力電極２または出力電
極３に対向する領域を所定の厚さまでエッチングしても
よい。なお、上記バランス調整とは、入力電極２と共通
電極５とを測定機器の各端子に接続して測定した周波数
特性と、出力電極３と共通電極５とを測定機器の各端子
に接続して測定した周波数特性とが一致するように調整
を行うことをいう。

【００２８】また、ΔＦ比を狭くする調整を行う場合に
は、図３（ｃ）に示すように、共通電極５のうち入力電
極２および出力電極３に対向する領域をマスク６で覆っ
た状態で、イオンガン７を用いて、共通電極５のうち入
力電極２および出力電極３に対向する領域を除く領域を
所定の厚さまでエッチングする。この場合の周波数特性
の変化の一例を図５（ａ）に示す。

【００２９】また、ΔＦ比を広くする調整を行う場合に
は、図３（ｄ）に示すように、共通電極５のうちアース
電極４に対向する領域をマスク６で覆った状態で、イオ
ンガン７を用いて、共通電極５のうちアース電極４に対
向する領域を除く領域を所定の厚さまでエッチングす
る。この場合の周波数特性の変化の一例を図５（ｂ）に
示す。

【００３０】また、ΔＦを狭くする調整を行う場合に
は、図４（ａ）に示すように、共通電極５のうち入力電
極２、出力電極３およびアース電極４に対向する領域を
マスク６で覆った状態で、イオンガン７を用いて、共通
電極５のうち入力電極２、出力電極３およびアース電極
４に対向する領域を除く領域を所定の厚さまでエッチン
グする。この場合の周波数特性の変化の一例を図５
（ｃ）に示す。

【００３１】また、ΔＦを広くする調整を行う場合に
は、図４（ｂ）に示すように、共通電極５のうち入力電
極２、出力電極３およびアース電極４に対向する領域を
除く領域をマスク６で覆った状態で、イオンガン７を用
いて、共通電極５のうち入力電極２、出力電極３および
アース電極４に対向する領域を所定の厚さまでエッチン
グする。この場合の周波数特性の変化の一例を図５
（ｄ）に示す。

【００３２】また、中心周波数Ｆ０を調整する場合に
は、共通電極５の全ての領域を除く領域をマスク６で覆
った状態で、イオンガン７を用いて、共通電極５の全て
の領域を所定の厚さまでエッチングする。この場合の周
波数特性の変化の一例を図５（ｅ）に示す。

【００３３】なお、これらの調整パターンは、適宜組み
合わせて実施されるものであり、ある調整パターンが実
施されない場合や２回以上実施される場合もある。例え
ば、バランス調整を行った後、ΔＦ比調整を行い、バラ
ンス調整を再び行い、その後、ΔＦ調整を行い、バラン
ス調整を再び行い、最後にＦ０調整を行ってもよい。 ［実施の形態２］次に、本発明の圧電デバイスの周波数
調整方法および周波数調整装置の実施の形態２について
図面を参照しつつ説明する。

【００３４】図６は、本実施の形態の圧電デバイスの周
波数調整方法を用いて周波数の調整が行われる前のベー
スとなる圧電デバイスの他の例を示す説明図である。

【００３５】この圧電デバイスは、圧電基板１と、この
圧電基板１の一主面Ｓ１に形成された入力電極２、出力
電極３、ならびに入力電極２および出力電極３間の間隙
部に配置された第１アース電極１４と、この圧電基板１
の他主面Ｓ２に形成され、かつ、圧電基板１を介して入
力電極２に対向する第２アース電極１５、圧電基板１を
介して第１アース電極１４に対向する第３アース電極２
５、および圧電基板１を介して出力電極３に対向する第
４アース電極３５とから構成されている。

【００３６】この圧電デバイスの周波数特性は、前述の
実施の形態１において示した圧電デバイスと同様に、第
１対称モードＦ１と斜対称モードＦ２と第２対称モード
Ｆ３との相互作用によって決定される。

【００３７】また、この圧電デバイスの製造手順におけ
る第１工程は、前述の実施の形態１において示した工程
と同様の工程であるので、本実施の形態においては第１
工程の説明を省略する。

【００３８】続く第２工程では、圧電デバイスの周波数
特性をモニターしながら、厚めに形成した第２アース電
極１５、第３アース電極２５および第４アース電極３５
の所望の領域を選択的にエッチングすることによって周
波数調整を行う。このエッチングには、圧電デバイスの
周波数特性を測定する測定手段としての測定機器および
周波数特性表示機器と、前記圧電基板１の他主面Ｓ２、
第２アース電極１５、第３アース電極２５および第４ア
ース電極３５の所定の領域を覆うマスクと、この第２ア
ース電極１５、第３アース電極２５および第４アース電
極３５のうちのマスクで覆われた領域を除く領域をエッ
チングするエッチング手段としてのイオンガンとから構
成された周波数調整装置を用いる。この第２工程で用い
られる周波数調整方法における調整パターンには、前述
の実施の形態１において示した調整パターンと同様に、
バランス調整、ΔＦ比調整、ΔＦ調整およびＦ０（中心
周波数）調整がある。

【００３９】次に、この周波数調整方法における各調整
パターンについて図面を参照しつつ説明する。

【００４０】図７および図８は、本実施の形態の周波数
調整方法を用いて周波数調整された後の圧電デバイスの
一例を示す断面図である。

【００４１】まず、バランスを調整する場合には、第２
アース電極１５または第４アース電極３５と第３アース
電極２５とを所定の厚さまでエッチングする。例えば、
イオンガン７を用いて第４アース電極３５と第３アース
電極２５とをエッチングする場合には、図７（ａ）に示
すように、第４アース電極３５および第３アース電極２
５を除く領域をマスク６で覆い、一方、イオンガン７を
用いて第２アース電極１５と第３アース電極２５とをエ
ッチングする場合には、図７（ｂ）に示すように、第２
アース電極１５および第３アース電極２５を除く領域を
マスク６で覆う。さらに、バランスを調整する場合の他
の例として、第２アース電極１５または第４アース電極
３５を所定の厚さまでエッチングしてもよい。また、上
記バランス調整とは、入力電極２と第２アース電極１５
とを測定機器の各端子に接続して測定した周波数特性
と、出力電極３と第４アース電極３５とを測定機器の各
端子に接続して測定した周波数特性とが一致するように
調整を行うことをいう。

【００４２】なお、第４アース電極３５と第３アース電
極２５とをエッチングする場合に、第２アース電極１５
の端辺部のうちの第３アース電極２５に隣接する一端辺
部１５ａおよびこの一端辺部１５ａに対向する他端辺部
１５ｂも所定の厚さまでエッチングしてもよい。一方、
第２アース電極１５と第３アース電極２５とをエッチン
グする場合に、第４アース電極３５の端辺部のうちの第
３アース電極２５に隣接する一端辺部３５ａおよびこの
一端辺部３５ａに対向する他端辺部３５ｂも所定の厚さ
までエッチングしてもよい。このように、第２アース電
極１５または第４アース電極３５の一端辺部および他端
辺部をエッチングすることによって、より微妙なバラン
ス調整を行うことができる。

【００４３】また、ΔＦ比を狭くする調整を行う場合に
は、図７（ｃ）に示すように、第３アース電極２５を除
く領域をマスク６で覆った状態で、イオンガン７を用い
て、第３アース電極２５を所定の厚さまでエッチングす
る。この場合の周波数特性の変化は、図５（ａ）に示す
周波数特性と同様になる。なお、この場合に、第２アー
ス電極１５の一端辺部１５ａおよび他端辺部１５ｂ、な
らびに第４アース電極３５の一端辺部３５ａおよび他端
辺部３５ｂも所定の厚さまでエッチングしてもよく、よ
り微妙にΔＦ比を狭くする調整を行うことができる。

【００４４】また、ΔＦ比を広くする調整を行う場合に
は、図７（ｄ）に示すように、第２アース電極１５およ
び第４アース電極３５を除く領域をマスク６で覆った状
態で、イオンガン７を用いて、第２アース電極１５およ
び第４アース電極３５を所定の厚さまでエッチングす
る。この場合の周波数特性の変化は、図５（ｂ）に示す
周波数特性と同様になる。なお、この場合に、第３アー
ス電極２５の端辺部のうちの第４アース電極３５に隣接
する一端辺部２５ａおよび第２アース電極１５に隣接す
る他端辺部２５ｂも所定の厚さまでエッチングしてもよ
く、より微妙にΔＦ比を狭くする調整を行うことができ
る。

【００４５】また、ΔＦを狭くする調整を行う場合に
は、図８（ａ）に示すように、第２アース電極１５の一
端辺部１５ａおよび他端辺部２５ａと、第３アース電極
２５の一端辺部２５ａおよび他端辺部２５ｂと、第４ア
ース電極３５の一端辺部３５ａおよび他端辺部３５ｂと
を除く領域をマスク６で覆った状態で、イオンガン７を
用いて、第２アース電極１５の一端辺部１５ａおよび他
端辺部１５ａと、第３アース電極２５の一端辺部２５ａ
および他端辺部２５ｂと、第４アース電極３５の一端辺
部３５ａおよび他端辺部３５ｂとを所定の厚さまでエッ
チングする。この場合の周波数特性の変化は、図５
（ｃ）に示す周波数特性と同様になる。

【００４６】また、ΔＦを広くする調整を行う場合に
は、図８（ｂ）に示すように、第２アース電極１５、第
３アース電極２５および第４アース電極３５のうち、第
２アース電極１５の一端辺部１５ａおよび第３アース電
極２５の他端辺部２５ｂのうちの少なくとも一方の端辺
部（図８（ｂ）では両端辺部）と、第３アース電極２５
の一端辺部２５ａおよび第４アース電極３５の一端辺部
３５ａのうちの少なくとも一方の端辺部（図８（ｂ）で
は両端辺部）とをマスク６で覆った状態で、イオンガン
７を用いて、第２アース電極１５、第３アース電極２５
および第４アース電極３５のうち、第２アース電極１５
の一端辺部１５ａおよび第３アース電極２５の他端辺部
２５ｂのうちの少なくとも一方の端辺部（図８（ｂ）で
は両端辺部）と、第３アース電極２５の一端辺部２５ａ
および第４アース電極３５の一端辺部３５ａのうちの少
なくとも一方の端辺部（図８（ｂ）では両端辺部）とを
除く領域を所定の厚さまでエッチングする。この場合の
周波数特性の変化は、図５（ｄ）に示す周波数特性と同
様になる。

【００４７】また、中心周波数Ｆ０を調整する場合に
は、第２アース電極１５、第３アース電極２５および第
４アース電極３５を除く領域をマスク６で覆った状態
で、イオンガン７を用いて、第２アース電極１５、第３
アース電極２５および第４アース電極３５を所定の厚さ
までエッチングする。この場合の周波数特性の変化は、
図５（ｅ）に示す周波数特性と同様になる。

【００４８】なお、これらの調整パターンは、適宜組み
合わせて実施されるものであり、ある調整パターンが実
施されない場合や２回以上実施される場合もある。例え
ば、バランス調整を行った後、ΔＦ比調整を行い、バラ
ンス調整を再び行い、その後、ΔＦ調整を行い、バラン
ス調整を再び行い、最後にＦ０調整を行ってもよい。 ［実施の形態３］次に、本発明の圧電デバイスの周波数
調整方法および周波数調整装置の実施の形態３について
図面を参照しつつ説明する。

【００４９】図９は、本実施の形態の圧電デバイスの周
波数調整方法を用いて周波数の調整が行われる前のベー
スとなる圧電デバイスの他の例を示す説明図である。

【００５０】この圧電デバイスは、圧電基板１と、この
圧電基板１の一主面Ｓ１に形成された入力電極２および
出力電極３と、この圧電基板１の他主面Ｓ２に形成さ
れ、かつ、入力電極２、出力電極３、ならびにこれら入
力電極２および出力電極３の間隙部に圧電基板１を介し
て対向する共通電極４５とから構成されている。

【００５１】この圧電デバイスの周波数特性は、第１対
称モード（いわゆるＳ−０対称モード（シンメタリーモ
ード））Ｆ１と、斜対称モード（いわゆるＡ−０斜対称
モード（アンチシンメタリーモード））Ｆ２との相互作
用によって決定される。

【００５２】また、この圧電デバイスの製造手順におけ
る第１工程は、前述の実施の形態１において示した工程
と同様の工程であるので、本実施の形態においては第１
工程の説明を省略する。

【００５３】続く第２工程では、圧電デバイスの周波数
特性をモニターしながら、厚めに形成した共通電極４５
の所望の領域を選択的にエッチングすることによって周
波数調整を行う。このエッチングには、圧電デバイスの
周波数特性を測定する測定手段としての測定機器および
周波数表示機器と、前記圧電基板１の他主面Ｓ２および
共通電極４５の所定の領域を覆うマスクと、この共通電
極４５のうちのマスクで覆われた領域を除く領域をエッ
チングするエッチング手段としてのイオンガンとから構
成された周波数調整装置を用いる。この第２工程で用い
られる周波数調整方法における調整パターンには、バラ
ンス調整、ΔＦ調整およびＦ０（中心周波数）調整があ
る。なお、ΔＦはＦ１およびＦ２を用いて以下の式
（３）のように表すことができる。 ΔＦ＝Ｆ２−Ｆ１ （３） 次に、この周波数調整方法における各調整パターンにつ
いて図面を参照しつつ説明する。

【００５４】図１０は、本実施の形態の周波数調整方法
を用いて周波数調整された後の圧電デバイスの一例を示
す断面図である。

【００５５】まず、バランスを調整する場合には、共通
電極４５のうち入力電極２または出力電極３に対向する
領域を除く領域を所定の厚さまでエッチングする。例え
ば、イオンガン７を用いて共通電極４５のうち入力電極
２に対向する領域を除く領域をエッチングする場合に
は、図１０（ａ）に示すように、共通電極４５のうち入
力電極２に対向する領域をマスク６で覆い、一方、イオ
ンガン７を用いて共通電極４５のうち出力電極３に対向
する領域を除く領域をエッチングする場合には、図１０
（ｂ）に示すように、共通電極４５のうち出力電極３に
対向する領域をマスク６で覆う。さらに、バランスを調
整する場合の他の例として、共通電極４５のうち入力電
極２または出力電極３に対向する領域を所定の厚さまで
エッチングしてもよい。なお、上記バランス調整とは、
入力電極２と共通電極４５とを測定機器の各端子に接続
して測定した周波数特性と、出力電極３と共通電極４５
とを測定機器の各端子に接続して測定した周波数特性と
が一致するように調整を行うことをいう。

【００５６】また、ΔＦを狭くする調整を行う場合に
は、図１０（ｃ）に示すように、共通電極４５のうち入
力電極２および出力電極３に対向する領域をマスク６で
覆った状態で、イオンガン７を用いて、共通電極４５の
うち入力電極２および出力電極３に対向する領域を除く
領域を所定の厚さまでエッチングする。

【００５７】また、ΔＦを広くする調整を行う場合に
は、図１０（ｄ）に示すように、共通電極４５のうち入
力電極２および出力電極３に対向する領域を除く領域を
マスク６で覆った状態で、イオンガン７を用いて、共通
電極４５のうち入力電極２および出力電極３に対向する
領域を所定の厚さまでエッチングする。

【００５８】また、中心周波数Ｆ０を調整する場合に
は、図１０（ｅ）に示すように、共通電極４５を除く領
域をマスク６で覆った状態で、イオンガン７を用いて、
共通電極４５の全ての領域を所定の厚さまでエッチング
する。

【００５９】なお、これらの調整パターンは、適宜組み
合わせて実施されるものであり、ある調整パターンが実
施されない場合や２回以上実施される場合もある。例え
ば、バランス調整を行った後、ΔＦ調整を行い、バラン
ス調整を再び行い、最後にＦ０調整を行ってもよい。 ［実施の形態４］次に、本発明の圧電デバイスの周波数
調整方法および周波数調整装置の実施の形態４について
図面を参照しつつ説明する。

【００６０】図１１は、本実施の形態の圧電デバイスの
周波数調整方法を用いて周波数の調整が行われる前のベ
ースとなる圧電デバイスの他の例を示す説明図である。

【００６１】この圧電デバイスは、圧電基板１と、この
圧電基板１の一主面Ｓ１に形成された入力電極２および
出力電極３と、この圧電基板１の他主面Ｓ２に形成さ
れ、かつ、圧電基板１を介して入力電極２に対向する第
１アース電極５５および圧電基板１を介して出力電極３
に対向する第２アース電極６５とから構成されている。

【００６２】この圧電デバイスの周波数特性は、前述の
実施の形態３において示した圧電デバイスと同様に、第
１対称モードＦ１と斜対称モードＦ２との相互作用によ
って決定される。

【００６３】また、この圧電デバイスの製造手順におけ
る第１工程は、前述の実施の形態１において示した工程
と同様の工程であるので、本実施の形態においては第１
工程の説明を省略する。

【００６４】続く第２工程では、圧電デバイスの周波数
特性をモニターしながら、厚めに形成した第１アース電
極５５および第２アース電極６５の所望の領域を選択的
にエッチングすることによって周波数調整を行う。この
エッチングには、圧電デバイスの周波数特性を測定する
測定手段としての測定機器および周波数特性表示機器
と、前記圧電基板１の他主面Ｓ２、第１アース電極５５
および第２アース電極６５の所定の領域を覆うマスク
と、この第１アース電極５５および第２アース電極６５
のうちのマスクで覆われた領域を除く領域をエッチング
するエッチング手段としてのイオンガンとから構成され
た周波数調整装置を用いる。この第２工程で用いられる
周波数調整方法における調整パターンには、前述の実施
の形態３において示した調整パターンと同様に、バラン
ス調整、ΔＦ調整およびＦ０（中心周波数）調整があ
る。

【００６５】次に、この周波数調整方法における各調整
パターンについて図面を参照しつつ説明する。

【００６６】図１２は、本実施の形態の周波数調整方法
を用いて周波数調整された後の圧電デバイスの一例を示
す断面図である。

【００６７】まず、バランスを調整する場合には、第１
アース電極５５または第２アース電極６５を所定の厚さ
までエッチングする。例えば、イオンガン７を用いて第
２アース電極６５をエッチングする場合には、図１２
（ａ）に示すように、第２アース電極６５を除く領域を
マスク６で覆い、一方、イオンガン７を用いて第１アー
ス電極５５をエッチングする場合には、図１２（ｂ）に
示すように、第１アース電極５５を除く領域をマスク６
で覆う。また、上記バランス調整とは、入力電極２と第
１アース電極５５とを測定機器の各端子に接続して測定
した周波数特性と、出力電極３と第２アース６５とを測
定機器の各端子に接続して測定した周波数特性とが一致
するように調整を行うことをいう。

【００６８】なお、第２アース電極６５をエッチングす
る場合に、第１アース電極５５の端辺部のうちの第２ア
ース電極６５に隣接する一端辺部５５ａおよびこの一端
辺部５５ａに対向する他端辺部５５ｂも所定の厚さまで
エッチングしてもよい。一方、第１アース電極５５をエ
ッチングする場合に、第２アース電極６５の端辺部のう
ちの第１アース電極５５に隣接する一端辺部６５ａおよ
びこの一端辺部６５ａに対向する他端辺部６５ｂも所定
の厚さまでエッチングしてもよい。このように、第１ア
ース電極５５または第２アース電極６５の一端辺部およ
び他端辺部をエッチングすることによって、より微妙な
バランス調整を行うことができる。

【００６９】また、ΔＦを狭くする調整を行う場合に
は、図１２（ｃ）に示すように、第１アース電極５５の
一端辺部５５ａおよび他端辺部５５ｂと、第２アース電
極６５の一端辺部６５ａおよび他端辺部６５ｂとを除く
領域をマスク６で覆った状態で、イオンガン７を用い
て、第１アース電極５５の一端辺部５５ａおよび他端辺
部５５ｂと、第２アース電極６５の一端辺部６５ａおよ
び他端辺部６５ｂとを所定の厚さまでエッチングする。

【００７０】また、ΔＦを広くする調整を行う場合に
は、図１２（ｄ）に示すように、第１アース電極５５お
よび第２アース電極６５のうち、第１アース電極５５の
一端辺部５５ａと第２アース電極６５の一端辺部６５ａ
とをマスク６で覆った状態で、イオンガン７を用いて、
第１アース電極５５および第２アース電極６５のうち、
第１アース電極５５の一端辺部５５ａと第２アース電極
６５の一端辺部６５ａとを除く領域を所定の厚さまでエ
ッチングする。

【００７１】また、中心周波数Ｆ０を調整する場合に
は、第１アース電極５５および第２アース電極６５を除
く領域をマスク６で覆った状態で、イオンガン７を用い
て、第１アース電極５５および第２アース電極６５を所
定の厚さまでエッチングする。

【００７２】なお、これらの調整パターンは、適宜組み
合わせて実施されるものであり、ある調整パターンが実
施されない場合や２回以上実施される場合もある。例え
ば、バランス調整を行った後、ΔＦ調整を行い、バラン
ス調整を再び行い、最後にＦ０調整を行ってもよい。

【００７３】本発明の圧電デバイスの周波数調整方法お
よび周波数調整装置によれば、最適な成膜条件下で電極
を厚めに形成した後、電極を所定量除去して膜厚を薄く
することにより周波数調整を行うので、電極の膜質が部
分的に低下したり、銀のカス等の異物が発生することが
ない。さらに、イオンガンによるエッチングの開始およ
び終了は電気信号による制御で行えるので、エッチング
の開始および終了のタイミングを正確に把握・制御する
ことができ、周波数の調整をより正確に行うことができ
る。

【００７４】

【発明の効果】本発明の請求項１記載の圧電デバイスの
周波数調整方法は、圧電基板と、この圧電基板の一主面
に形成された入力電極、出力電極、ならびにこれら入力
電極および出力電極間の間隙部に配置されたアース電極
と、この圧電基板の他主面に形成され、かつ、前記入力
電極、出力電極、アース電極、ならびにこれら入力電
極、出力電極およびアース電極間の各間隙部に対向する
共通電極とから構成されており、第１対称モードと斜対
称モードと第２対称モードとの相互作用によって１つの
周波数特性が決定される圧電デバイスの周波数特性を調
整する方法であって、圧電デバイスの周波数特性を測定
する測定工程と、前記圧電基板の他主面および前記共通
電極の所定の領域を覆うマスク工程と、この共通電極の
うちのマスク工程で覆われた領域を除く領域をエッチン
グするエッチング工程と、を有し、前記マスク工程と前
記エッチング工程とによる、前記共通電極のうち前記入
力電極または前記出力電極に対向する領域を除く領域を
所定の厚さまでエッチングすることにより、前記入力電
極と前記共通電極とを測定した周波数特性と、前記出力
電極と前記共通電極とを測定した周波数特性とが一致す
るようこれら周波数特性のバランス調整を行う第１手順
と、前記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電
極に対向する領域を所定の厚さまでエッチングすること
により、前記バランス調整を行う第２手順と、前記共通
電極のうち前記入力電極および前記出力電極に対向する
領域を除く領域を所定の厚さまでエッチングすることに
より、斜対称モードおよび第１対称モードの差と第２対
称モードおよび第１対称モードの差との比であるΔＦ比
を狭くする調整を行う第３手順と、前記共通電極のうち
前記アース電極に対向する領域を除く領域を所定の厚さ
までエッチングすることにより、ΔＦ比を広くする調整
を行う第４手順と、前記共通電極のうち前記入力電極、
前記出力電極および前記アース電極に対向する領域を除
く領域を所定の厚さまでエッチングすることにより、第
２対称モードおよび第１対称モードの差であるΔＦを狭
くする調整を行う第５手順と、前記共通電極のうち前記
入力電極、前記出力電極および前記アース電極に対向す
る領域を所定の厚さまでエッチングすることにより、Δ
Ｆを広くする調整を行う第６手順と、前記共通電極の全
ての領域を所定の厚さまでエッチングすることにより、
中心周波数を調整する第７手順と、の少なくともいずれ
か一つの同一前記手順の複数回組合せによる第１組合せ
手順と、少なくともいずれか二つ以上の前記手順の組合
せによる第２組合せ手順と、もしくは前記第１組合せ手
順と第２組合せ手順との組合せによる第３組合せ手順
と、のいずれか一つの前記組合せ手順を前記測定工程に
よる圧電デバイスの周波数特性をモニターしながら選択
して実行し、圧電デバイスの周波数調整を行うものであ
るので、圧電デバイスの周波数特性の低下や異物の発生
を防止できるとともに、周波数調整量の誤差を低減でき
る。

【００７５】本発明の請求項２記載の圧電デバイスの周
波数調整方法は、圧電基板と、この圧電基板の一主面に
形成された入力電極、出力電極、ならびに入力電極およ
び出力電極間の間隙部に配置された第１アース電極と、
この圧電基板の他主面に形成され、かつ、前記入力電極
に対向する第２アース電極、第１アース電極に対向する
第３アース電極、および出力電極に対向する第４アース
電極とから構成されており、第１対称モードと斜対称モ
ードと第２対称モードとの相互作用によって１つの周波
数特性が決定される圧電デバイスの周波数特性を調整す
る方法であって、圧電デバイスの周波数特性を測定する
測定工程と、前記圧電基板の他主面および前記共通電極
の所定の領域を覆うマスク工程と、この共通電極のうち
のマスク工程で覆われた領域を除く領域をエッチングす
るエッチング工程と、を有し、前記マスク工程と前記エ
ッチング工程とによる、前記第２アース電極または前記
第４アース電極と前記第３アース電極とを所定の厚さま
でエッチングすることにより、前記入力電極と前記第２
アース電極とを測定した周波数特性と、前記出力電極と
前記第４アース電極とを測定した周波数特性とが一致す
るようこれら周波数特性のバランス調整を行う第１手順
と、前記第２アース電極または前記第４アース電極を所
定の厚さまでエッチングすることにより、前記バランス
調整を行う第２手順と、前記第３アース電極を所定の厚
さまでエッチングすることにより、斜対称モードおよび
第１対称モードの差と第２対称モードおよび第１対称モ
ードの差との比であるΔＦ比を狭くする調整を行う第３
手順と、前記第２アース電極および前記第４アース電極
を所定の厚さまでエッチングすることにより、ΔＦ比を
広くする調整を行う第４手順と、前記第２アース電極の
端辺部のうち前記第３アース電極に隣接する一端辺部お
よびこの一端辺部に対向する他端辺部と、前記第３アー
ス電極の端辺部のうち前記第４アース電極に隣接する一
端辺部および第２アース電極に隣接する他端辺部と、前
記第４アース電極の端辺部のうち前記第３アース電極に
隣接する一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺
部とを所定の厚さまでエッチングすることにより、第２
対称モードおよび第１対称モードの差であるΔＦを狭く
する調整を行う第５手順と、前記第２アース電極の一端
辺部および前記第３アース電極の他端辺部のうちの少な
くとも一方の端辺部と、前記第３アース電極の一端辺部
および前記第４アース電極の一端辺部のうちの少なくと
も一方の端辺部とを除く領域を所定の厚さまでエッチン
グすることにより、ΔＦを広くする調整を行う第６手順
と、前記第２アース電極、前記第３アース電極および前
記第４アース電極を所定の厚さまでエッチングすること
により、中心周波数を調整する第７手順と、の少なくと
もいずれか一つの同一前記手順の複数回組合せによる第
１組合せ手順と、少なくともいずれか二つ以上の前記手
順の組合せによる第２組合せ手順と、もしくは前記第１
組合せ手順と第２組合せ手順との組合せによる第３組合
せ手順と、のいずれか一つの前記組合せ手順を、前記測
定工程による圧電デバイスの周波数特性をモニターしな
がら選択して実行し、圧電デバイスの周波数調整を行う
ものであるので、圧電デバイスの周波数特性の低下や異
物の発生を防止できるとともに、周波数調整量の誤差を
低減できる。

【００７６】本発明の請求項３記載の圧電デバイスの周
波数調整方法は、前記第１手順において、前記第２アー
ス電極と前記第３アース電極とを所定の厚さまでエッチ
ングする場合には、前記第４アース電極の一端辺部およ
び他端辺部も所定の厚さまでエッチングし、前記第４ア
ース電極と前記第３アース電極とを所定の厚さまでエッ
チングする場合には、前記第２アース電極の一端辺部お
よび他端辺部、または前記第４アース電極の一端辺部お
よび他端辺部も所定の厚さまでエッチングし、前記第３
手順において、前記第２アース電極の一端辺部および他
端辺部、ならびに前記第４アース電極の一端辺部および
他端辺部も所定の厚さまでエッチングし、前記第４手順
において、前記第３アース電極の一端辺部および他端辺
部も所定の厚さまでエッチングするものであるので、エ
ッチングされない領域をさらに詳細に限定することがで
き、所望とする周波数調整をより容易に実現することが
できる。

【００７７】本発明の請求項４記載の圧電デバイスの周
波数調整方法は、圧電基板と、この圧電基板の一主面に
形成された入力電極および出力電極と、この圧電基板の
他主面に形成され、かつ、前記入力電極、出力電極、な
らびにこれら入力電極および出力電極の間隙部に対向す
る共通電極とから構成されており、対称モードと斜対称
モードとの相互作用によって１つの周波数特性が決定さ
れる圧電デバイスの周波数特性を調整する方法であっ
て、圧電デバイスの周波数特性を測定する測定工程と、
前記圧電基板の他主面および前記共通電極の所定の領域
を覆うマスク工程と、この共通電極のうちのマスク工程
で覆われた領域を除く領域をエッチングするエッチング
工程と、を有し、前記マスク工程と前記エッチング工程
とによる、前記共通電極のうち前記入力電極または前記
出力電極に対向する領域を除く領域を所定の厚さまでエ
ッチングすることにより、前記入力電極と前記共通電極
とを測定した周波数特性と、前記出力電極と前記共通電
極とを測定した周波数特性とが一致するようこれら周波
数特性のバランス調整を行う第１手順と、前記共通電極
のうち前記入力電極または前記出力電極に対向する領域
を所定の厚さまでエッチングすることにより、前記バラ
ンス調整を行う第２手順と、前記共通電極のうち前記入
力電極および前記出力電極に対向する領域を除く領域を
所定の厚さまでエッチングすることにより、斜対称モー
ドおよび対称モードの差であるΔＦを狭くする調整を行
う第３手順と、前記共通電極のうち前記入力電極および
前記出力電極に対向する領域を所定の厚さまでエッチン
グすることにより、ΔＦを広くする調整を行う第４手順
と、前記共通電極の全ての領域を所定の厚さまでエッチ
ングすることにより、中心周波数を調整する第５手順
と、の少なくともいずれか一つの同一前記手順の複数回
組合せによる第１組合せ手順と、少なくともいずれか二
つ以上の前記手順の組合せによる第２組合せ手順と、も
しくは前記第１組合せ手順と第２組合せ手順との組合せ
による第３組合せ手順と、のいずれか一つの前記組合せ
手順を前記測定工程による圧電デバイスの周波数特性を
モニターしながら選択して実行し、圧電デバイスの周波
数調整を行うものであるので、圧電デバイスの周波数特
性の低下や異物の発生を防止できるとともに、周波数調
整量の誤差を低減できる。

【００７８】本発明の請求項５記載の圧電デバイスの周
波数調整方法は、圧電基板と、この圧電基板の一主面に
形成された入力電極および出力電極と、この圧電基板の
他主面に形成され、かつ、前記入力電極に対向する第１
アース電極および出力電極に対向する第２アース電極と
から構成されており、対称モードと斜対称モードとの相
互作用によって１つの周波数特性が決定される圧電デバ
イスの周波数特性を調整する方法であって、圧電デバイ
スの周波数特性を測定する測定工程と、前記圧電基板の
他主面および前記共通電極の所定の領域を覆うマスク工
程と、この共通電極のうちのマスク工程で覆われた領域
を除く領域をエッチングするエッチング工程と、を有
し、前記マスク工程と前記エッチング工程とによる、前
記第１アース電極または前記第２アース電極を所定の厚
さまでエッチングすることにより、前記入力電極と前記
第１アース電極とを測定した周波数特性と、前記出力電
極と前記第２アースとを測定した周波数特性とが一致す
るようこれら周波数特性のバランス調整を行う第１手順
と、前記第１アース電極の端辺部のうち前記第２アース
電極に隣接する一端辺部およびこの一端辺部に対向する
他端辺部と、前記第２アース電極の端辺部のうち前記第
１アース電極に隣接する一端辺部およびこの一端辺部に
対向する他端辺部とを所定の厚さまでエッチングするこ
とにより、斜対称モードおよび対称モードの差であるΔ
Ｆを狭くする調整を行う第２手順と、前記第１アース電
極の一端辺部と前記第２アース電極の一端辺部とを除く
領域を所定の厚さまでエッチングすることにより、ΔＦ
を広くする調整を行う第３手順と、前記第１アース電極
および前記第２アース電極を所定の厚さまでエッチング
することにより、中心周波数を調整する第４手順と、の
少なくともいずれか一つの同一前記手順の複数回組合せ
による第１組合せ手順と、少なくともいずれか二つ以上
の前記手順の組合せによる第２組合せ手順と、もしくは
前記第１組合せ手順と第２組合せ手順との組合せによる
第３組合せ手順と、のいずれか一つの前記組合せ手順を
前記測定工程による圧電デバイスの周波数特性をモニタ
ーしながら選択して実行し、圧電デバイスの周波数調整
を行なうものであるので、圧電デバイスの周波数特性の
低下や異物の発生を防止できるとともに、周波数調整量
の誤差を低減できる。

【００７９】本発明の請求項６記載の圧電デバイスの周
波数調整方法は、前記第１手順において、前記第２アー
ス電極を所定の厚さまでエッチングする場合には、前記
第１アース電極の一端辺部および他端辺部も所定の厚さ
までエッチングし、前記第１アース電極を所定の厚さま
でエッチングする場合には、前記第２アース電極の一端
辺部および他端辺部も所定の厚さまでエッチングするも
のであるので、エッチングされない領域をさらに詳細に
限定することができ、所望とする周波数調整をより容易
に実現することができる。

【００８０】本発明の請求項７記載の圧電デバイスの周
波数調整装置は、圧電基板と、この圧電基板の一主面に
形成された入力電極、出力電極、ならびにこれら入力電
極および出力電極間の間隙部に配置されたアース電極
と、この圧電基板の他主面に形成され、かつ、前記入力
電極、出力電極、アース電極、ならびにこれら入力電
極、出力電極およびアース電極間の各間隙部に対向する
共通電極とから構成されており、第１対称モードと斜対
称モードと第２対称モードとの相互作用によって１つの
周波数特性が決定される圧電デバイスの周波数特性を調
整する装置であって、圧電デバイスの周波数特性を測定
する測定手段と、前記圧電基板の他主面および前記共通
電極の所定の領域を覆うマスク手段と、この共通電極の
うちのマスク手段で覆われた領域を除く領域をエッチン
グするエッチング手段とから構成されており、前記共通
電極のうち前記入力電極または前記出力電極に対向する
領域が前記マスク手段により覆われ、前記共通電極のう
ち前記入力電極または前記出力電極に対向する領域を除
く領域が、前記測定手段によって測定された周波数特性
が所望の特性になるまで前記エッチング手段によりエッ
チングされることにより、前記入力電極と前記共通電極
とを測定した周波数特性と前記出力電極と前記共通電極
とを測定した周波数特性とが一致するようこれら周波数
特性のバランス調整が行われる第１調整パターンと、前
記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電極に対
向する領域を除く領域が前記マスク手段により覆われ、
前記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電極に
対向する領域が、前記測定手段によって測定された周波
数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段によ
りエッチングされることにより、前記バランス調整が行
われる第２調整パターンと、前記共通電極のうち前記入
力電極および前記出力電極に対向する領域が前記マスク
手段により覆われ、前記共通電極のうち前記入力電極お
よび前記出力電極に対向する領域を除く領域が、前記測
定手段によって測定された周波数特性が所望の特性にな
るまで前記エッチング手段によりエッチングされること
により、斜対称モードおよび第１対称モードの差と第２
対称モードおよび第１対称モードの差との比であるΔＦ
比を狭くする調整が行われる第３調整パターンと、前記
共通電極のうち前記アース電極に対向する領域がマスク
手段により覆われ、前記共通電極のうち前記アース電極
に対向する領域を除く領域が、前記測定手段によって測
定された周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチ
ング手段によりエッチングされることにより、ΔＦ比を
広くする調整が行われる第４調整パターンと、前記共通
電極のうち前記入力電極、前記出力電極および前記アー
ス電極に対向する領域がマスク手段により覆われ、前記
共通電極のうち前記入力電極、前記出力電極および前記
アース電極に対向する領域を除く領域が、前記測定手段
によって測定された周波数特性が所望の特性になるまで
前記エッチング手段によりエッチングされることによ
り、第２対称モードおよび第１対称モードの差であるΔ
Ｆを狭くする調整が行われる第５調整パターンと、前記
共通電極のうち前記入力電極、前記出力電極および前記
アース電極に対向する領域を除く領域がマスク手段によ
り覆われ、前記共通電極のうち前記入力電極、前記出力
電極および前記アース電極に対向する領域が、前記測定
手段によって測定された周波数特性が所望の特性になる
まで前記エッチング手段によりエッチングされることに
より、ΔＦを広くする調整が行われる第６調整パターン
と、前記共通電極を除く領域がマスク手段により覆わ
れ、前記共通電極の全ての領域が、前記測定手段によっ
て測定された周波数特性が所望の特性になるまで前記エ
ッチング手段によりエッチングされることにより、中心
周波数が調整される第７調整パターンと、の少なくとも
いずれか一つの同一前記調整パターンの複数回組合せに
よる第１組合せ調整パターンと、少なくともいずれか二
つ以上の前記調整パターンの組合せによる第２組合せ調
整パターンと、もしくは前記第１組合せ調整パターンと
第２組合せ調整パターンとの組合せによる第３組合せ調
整パターンと、のいずれかの前記組合せ調整パターン
が、前記測定手段による圧電デバイスの周波数特性をモ
ニターすることによって選択されて実施されることによ
り、圧電デバイスの周波数調整が行われるものであるの
で、圧電デバイスの周波数特性の低下や異物の発生を防
止できるとともに、周波数調整量の誤差を低減できる。

【００８１】本発明の請求項８記載の圧電デバイスの周
波数調整装置は、圧電基板と、この圧電基板の一主面に
形成された入力電極、出力電極、ならびに入力電極およ
び出力電極間の間隙部に配置された第１アース電極と、
この圧電基板の他主面に形成され、かつ、前記入力電極
に対向する第２アース電極、第１アース電極に対向する
第３アース電極、および出力電極に対向する第４アース
電極とから構成されており、第１対称モードと斜対称モ
ードと第２対称モードとの相互作用によって１つの周波
数特性が決定される圧電デバイスの周波数特性を調整す
る装置であって、圧電デバイスの周波数特性を測定する
測定手段と、前記圧電基板の他主面、第２アース電極、
第３アース電極および第４アース電極の所定の領域を覆
うマスク手段と、この第２アース電極、第３アース電極
および第４アース電極のうちのマスク手段で覆われた領
域を除く領域をエッチングするエッチング手段とから構
成されており、前記第２アース電極または前記第４アー
ス電極と前記第３アース電極とを除く領域が前記マスク
手段により覆われ、前記第２アース電極または前記第４
アース電極と前記第３アース電極とが、測定手段によっ
て測定された周波数特性が所望の特性になるまで、前記
エッチング手段によりエッチングされることにより、前
記入力電極と前記第２アース電極とを測定した周波数特
性と、前記出力電極と前記第４アース電極とを測定した
周波数特性とが一致するようこれら周波数特性のバラン
ス調整が行われる第１調整パターンと、前記第２アース
電極または前記第４アース電極を除く領域が前記マスク
手段により覆われ、前記第２アース電極または前記第４
アース電極が、前記測定手段によって測定された周波数
特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段により
エッチングされることにより、前記バランス調整が行わ
れる第２調整パターンと、前記第３アース電極を除く領
域が前記マスク手段により覆われ、前記第３アース電極
が、測定手段によって測定された周波数特性が所望の特
性になるまで前記エッチング手段によりエッチングされ
ることにより、斜対称モードおよび第１対称モードの差
と第２対称モードおよび第１対称モードの差との比であ
るΔＦ比を狭くする調整が行われる第３調整パターン
と、前記第２アース電極および前記第４アース電極を除
く領域が前記マスク手段により覆われ、前記第２アース
電極および前記第４アース電極が、前記測定手段によっ
て測定された周波数特性が所望の特性になるまで前記エ
ッチング手段によりエッチングされることにより、ΔＦ
比を広くする調整が行われる第４調整パターンと、前記
第２アース電極の端辺部のうち前記第３アース電極に隣
接する一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺部
と、前記第３アース電極の端辺部のうち前記第４アース
電極に隣接する一端辺部および前記第２アース電極に隣
接する他端辺部と、前記第４アース電極の端辺部のうち
前記第３アース電極に隣接する一端辺部およびこの一端
辺部に対向する他端辺部とを除く領域が前記マスク手段
により覆われ、前記第２アース電極の端辺部のうち前記
第３アース電極に隣接する一端辺部およびこの一端辺部
に対向する他端辺部と、前記第３アース電極の端辺部の
うち前記第４アース電極に隣接する一端辺部および前記
第２アース電極に隣接する他端辺部と、前記第４アース
電極の端辺部のうち前記第３アース電極に隣接する一端
辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺部とが、測定
手段によって測定された周波数特性が所望の特性になる
まで前記エッチング手段によりエッチングされることに
より、第２対称モードおよび第１対称モードの差である
ΔＦを狭くする調整が行われる第５調整パターンと、前
記第２アース電極の一端辺部および前記第３アース電極
の他端辺部のうちの少なくとも一方の端辺部と、前記第
３アース電極の一端辺部および前記第４アース電極の一
端辺部のうちの少なくとも一方の端辺部とが前記マスク
手段により覆われ、前記第２アース電極の一端辺部およ
び前記第３アース電極の他端辺部のうちの少なくとも一
方の端辺部と、前記第３アース電極の一端辺部および前
記第４アース電極の一端辺部のうちの少なくとも一方の
端辺部とを除く領域が、前記測定手段によって測定され
た周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手
段によりエッチングされることにより、ΔＦを広くする
調整が行われる第６調整パターンと、前記第２アース電
極、前記第３アース電極および前記第４アース電極を除
く領域が前記マスク手段により覆われ、前記第２アース
電極、前記第３アース電極および前記第４アース電極
が、前記測定手段によって測定された周波数特性が所望
の特性になるまで前記エッチング手段によりエッチング
されることにより、中心周波数が調整される第７調整パ
ターンと、の少なくともいずれか一つの同一前記調整パ
ターンの複数回組合せによる第１組合せ調整パターン
と、少なくともいずれか二つ以上の前記調整パターンの
組合せによる第２組合せ調整パターンと、もしくは前記
第１組合せ調整パターンと第２組合せ調整パターンとの
組合せによる第３組合せ調整パターンと、のいずれかの
前記組合せ調整パターンが、前記測定手段による圧電デ
バイスの周波数特性をモニターすることによって選択さ
れて実施されることにより、圧電デバイスの周波数調整
が行われるものであるので、圧電デバイスの周波数特性
の低下や異物の発生を防止できるとともに、周波数調整
量の誤差を低減できる。

【００８２】本発明の請求項９記載の圧電デバイスの周
波数調整装置は、前記第１調整パターンにおいて、前記
第２アース電極と前記第３アース電極とがエッチングさ
れる場合には、前記第４アース電極の一端辺部および他
端辺部もエッチング手段によりエッチングされ、前記第
４アース電極と前記第３アース電極とがエッチングされ
る場合には、前記第２アース電極の一端辺部および他端
辺部もエッチング手段によりエッチングされ、前記第３
調整パターンにおいて、前記第２アース電極の一端辺部
および他端辺部、ならびに前記第４アース電極の一端辺
部および他端辺部もエッチング手段によりエッチングさ
れ、前記第４調整パターンにおいて、前記第３アース電
極の一端辺部および他端辺部もエッチング手段によりエ
ッチングされるものであるので、エッチングされない領
域をさらに詳細に限定することができ、所望とする周波
数調整をより容易に実現することができる。

【００８３】本発明の請求項１０記載の圧電デバイスの
周波数調整装置は、圧電基板と、この圧電基板の一主面
に形成された入力電極および出力電極と、この圧電基板
の他主面に形成され、かつ、前記入力電極、出力電極、
ならびにこれら入力電極および出力電極の間隙部に対向
する共通電極とから構成されており、対称モードと斜対
称モードとの相互作用によって１つの周波数特性が決定
される圧電デバイスの周波数特性を調整する装置であっ
て、圧電デバイスの周波数特性を測定する測定手段と、
前記圧電基板の他主面および共通電極の所定の領域を覆
うマスク手段と、この共通電極のうちのマスク手段で覆
われた領域を除く領域をエッチングするエッチング手段
とから構成されており、前記共通電極のうち前記入力電
極または前記出力電極に対向する領域が前記マスク手段
により覆われ、前記共通電極のうち前記入力電極または
前記出力電極に対向する領域を除く領域が、前記測定手
段によって測定された周波数特性が所望の特性になるま
で前記エッチング手段によりエッチングされることによ
り、前記入力電極と前記共通電極とを測定した周波数特
性と、前記出力電極と前記共通電極とを測定した周波数
特性とが一致するようこれら周波数特性のバランス調整
が行われる第１調整パターンと、前記共通電極のうち前
記入力電極または前記出力電極に対向する領域を除く領
域が前記マスク手段により覆われ、前記共通電極のうち
前記入力電極または前記出力電極に対向する領域が、前
記測定手段によって測定された周波数特性が所望の特性
になるまで前記エッチング手段によりエッチングされる
ことにより、前記バランス調整が行われる第２調整パタ
ーンと、前記共通電極のうち前記入力電極および前記出
力電極に対向する領域が前記マスク手段により覆われ、
前記共通電極のうち前記入力電極および前記出力電極に
対向する領域を除く領域が、前記測定手段によって測定
された周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチン
グ手段によりエッチングされることにより、斜対称モー
ドおよび対称モードの差であるΔＦを狭くする調整が行
われる第３調整パターンと、前記共通電極のうち前記入
力電極および前記出力電極に対向する領域を除く領域が
前記マスク手段により覆われ、前記共通電極のうち前記
入力電極および前記出力電極に対向する領域が、前記測
定手段によって測定された周波数特性が所望の特性にな
るまで前記エッチング手段によりエッチングされること
により、ΔＦを広くする調整が行われる第４調整パター
ンと、前記共通電極を除く領域が前記マスク手段により
覆われ、前記共通電極の全ての領域が、前記測定手段に
よって測定された周波数特性が所望の特性になるまで前
記エッチング手段によりエッチングされることにより、
中心周波数が調整される第５調整パターンと、の少なく
ともいずれか一つの同一前記調整パターンの複数回組合
せによる第１組合せ調整パターンと、少なくともいずれ
か二つ以上の前記調整パターンの組合せによる第２組合
せ調整パターンと、もしくは前記第１組合せ調整パター
ンと第２組合せ調整パターンとの組合せによる第３組合
せ調整パターンと、のいずれかの前記組合せ調整パター
ンが、前記測定手段による圧電デバイスの周波数特性を
モニターすることによって選択されて実施されることに
より、圧電デバイスの周波数調整が行われるものである
ので、圧電デバイスの周波数特性の低下や異物の発生を
防止できるとともに、周波数調整量の誤差を低減でき
る。

【００８４】本発明の請求項１１記載の圧電デバイスの
周波数調整装置は、圧電基板と、この圧電基板の一主面
に形成された入力電極および出力電極と、この圧電基板
の他主面に形成され、かつ、前記入力電極に対向する第
１アース電極および出力電極に対向する第２アース電極
とから構成されており、対称モードと斜対称モードとの
相互作用によって１つの周波数特性が決定される圧電デ
バイスの周波数特性を調整する装置であって、圧電デバ
イスの周波数特性を測定する測定手段と、前記圧電基板
の他主面、第１アース電極および第２アース電極の所定
の領域を覆うマスク手段と、この第１アース電極および
第２アース電極のうちのマスク手段で覆われた領域を除
く領域をエッチングするエッチング手段とから構成され
ており、前記第１アース電極または前記第２アース電極
を除く領域が前記マスク手段により覆われ、前記第１ア
ース電極または前記第２アース電極が、前記測定手段に
よって測定された周波数特性が所望の特性になるまで前
記エッチング手段によりエッチングすることにより、前
記入力電極と前記第１アース電極とを測定した周波数特
性と、前記出力電極と前記第２アースとを測定した周波
数特性とが一致するようこれら周波数特性のバランス調
整が行われる第１調整パターンと、前記第１アース電極
の端辺部のうち前記第２アース電極に隣接する一端辺部
およびこの一端辺部に対向する他端辺部と、前記第２ア
ース電極の端辺部のうち前記第１アース電極に隣接する
一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺部とを除
く領域が前記マスク手段により覆われ、前記第１アース
電極の端辺部のうち前記第２アース電極に隣接する一端
辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺部と、前記第
２アース電極の端辺部のうち前記第１アース電極に隣接
する一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺部と
が、前記測定手段によって測定された周波数特性が所望
の特性になるまで前記エッチング手段によりエッチング
されることにより、斜対称モードおよび対称モードの差
であるΔＦを狭くする調整が行われる第２調整パターン
と、前記第１アース電極の一端辺部と前記第２アース電
極の一端辺部とが前記マスク手段により覆われ、前記第
１アース電極の一端辺部と前記第２アース電極の一端辺
部とを除く領域が、前記測定手段によって測定された周
波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段に
よりエッチングされることにより、ΔＦを広くする調整
が行われる第３調整パターンと、前記第１アース電極お
よび前記第２アース電極を除く領域が前記マスク手段に
より覆われ、前記第１アース電極および前記第２アース
電極が、前記測定手段によって測定された周波数特性が
所望の特性になるまで前記エッチング手段によりエッチ
ングされることにより、中心周波数が調整される第４調
整パターンと、の少なくともいずれか一つの同一前記調
整パターンの複数回組合せによる第１組合せ調整パター
ンと、少なくともいずれか二つ以上の前記調整パターン
の組合せによる第２組合せ調整パターンと、もしくは前
記第１組合せ調整パターンと第２組合せ調整パターンと
の組合せによる第３組合せ調整パターンと、のいずれか
の前記組合せ調整パターンが、前記測定手段による圧電
デバイスの周波数特性をモニターすることによって選択
されて実施されることにより、圧電デバイスの周波数調
整が行われるものであるので、圧電デバイスの周波数特
性の低下や異物の発生を防止できるとともに、周波数調
整量の誤差を低減できる。

【００８５】本発明の請求項１２記載の圧電デバイスの
周波数調整装置は、前記第１調整パターンにおいて、前
記第２アース電極をエッチングされる場合には、前記第
１アース電極の一端辺部および他端辺部もエッチングさ
れ、前記第１アース電極をエッチングされる場合には、
前記第２アース電極の一端辺部および他端辺部もエッチ
ングされるものであるので、エッチングされない領域を
さらに詳細に限定することができ、所望とする周波数調
整をより容易に実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態１の圧電デバイスの周波数調整方法
を用いて周波数の調整が行われる前のベースとなる圧電
デバイスの一例を示す説明図である。

【図２】圧電デバイスの周波数特性を決定する第１対称
モード、斜対称モードおよび第２対称モードの一例を示
すグラフである。

【図３】実施の形態１の周波数調整方法を用いて周波数
調整された後の圧電デバイスの一例を示す断面図であ
る。

【図４】実施の形態１の周波数調整方法を用いて周波数
調整された後の圧電デバイスの一例を示す断面図であ
る。

【図５】周波数調整前の圧電デバイスの周波数特性と、
実施の形態１の周波数調整方法を用いて行われた周波数
調整後の圧電デバイスの周波数特性とを示すグラフであ
る。

【図６】実施の形態２の圧電デバイスの周波数調整方法
を用いて周波数の調整が行われる前のベースとなる圧電
デバイスの他の例を示す説明図である。

【図７】実施の形態２の周波数調整方法を用いて周波数
調整された後の圧電デバイスの一例を示す断面図であ
る。

【図８】実施の形態２の周波数調整方法を用いて周波数
調整された後の圧電デバイスの一例を示す断面図であ
る。

【図９】実施の形態３の圧電デバイスの周波数調整方法
を用いて周波数の調整が行われる前のベースとなる圧電
デバイスの他の例を示す説明図である。

【図１０】実施の形態３の周波数調整方法を用いて周波
数調整された後の圧電デバイスの一例を示す断面図であ
る。

【図１１】実施の形態４の圧電デバイスの周波数調整方
法を用いて周波数の調整が行われる前のベースとなる圧
電デバイスの他の例を示す説明図である。

【図１２】実施の形態４の周波数調整方法を用いて周波
数調整された後の圧電デバイスの一例を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１ 圧電基板 ２ 入力電極 ３ 出力電極 ４ アース電極 ５ 共通電極 ６ マスク ７ イオンガン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H03H 3/00 - 3/04

Claims (12)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】圧電基板と、この圧電基板の一主面に形成
   された入力電極、出力電極、ならびにこれら入力電極お
   よび出力電極間の間隙部に配置されたアース電極と、こ
   の圧電基板の他主面に形成され、かつ、前記入力電極、
   出力電極、アース電極、ならびにこれら入力電極、出力
   電極およびアース電極間の各間隙部に対向する共通電極
   とから構成されており、第１対称モードと斜対称モード
   と第２対称モードとの相互作用によって１つの周波数特
   性が決定される圧電デバイスの周波数特性を調整する方
   法であって、圧電デバイスの周波数特性を測定する測定工程と、前記
   圧電基板の他主面および前記共通電極の所定の領域を覆
   うマスク工程と、この共通電極のうちのマスク工程で覆
   われた領域を除く領域をエッチングするエッチング工程
   と、を有し、 前記マスク工程と前記エッチング工程とによる、 前記共
   通電極のうち前記入力電極または前記出力電極に対向す
   る領域を除く領域を所定の厚さまでエッチングすること
   により、前記入力電極と前記共通電極とを測定した周波
   数特性と、前記出力電極と前記共通電極とを測定した周
   波数特性とが一致するようこれら周波数特性のバランス
   調整を行う第１手順と、 前記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電極に
   対向する領域を所定の厚さまでエッチングすることによ
   り、前記バランス調整を行う第２手順と、 前記共通電極のうち前記入力電極および前記出力電極に
   対向する領域を除く領域を所定の厚さまでエッチングす
   ることにより、斜対称モードおよび第１対称モードの差
   と第２対称モードおよび第１対称モードの差との比であ
   るΔＦ比を狭くする調整を行う第３手順と、 前記共通電極のうち前記アース電極に対向する領域を除
   く領域を所定の厚さまでエッチングすることにより、Δ
   Ｆ比を広くする調整を行う第４手順と、 前記共通電極のうち前記入力電極、前記出力電極および
   前記アース電極に対向する領域を除く領域を所定の厚さ
   までエッチングすることにより、第２対称モードおよび
   第１対称モードの差であるΔＦを狭くする調整を行う第
   ５手順と、 前記共通電極のうち前記入力電極、前記出力電極および
   前記アース電極に対向する領域を所定の厚さまでエッチ
   ングすることにより、ΔＦを広くする調整を行う第６手
   順と、 前記共通電極の全ての領域を所定の厚さまでエッチング
   することにより、中心周波数を調整する第７手順と、の
   少なくともいずれか一つの同一前記手順の複数回組合せ
   による第１組合せ手順と、少なくともいずれか二つ以上
   の前記手順の組合せによる第２組合せ手順と、もしくは
   前記第１組合せ手順と第２組合せ手順との組合せによる
   第３組合せ手順と、のいずれか一つの前記組合せ手順を
   前記測定工程による圧電デバイスの周波数特性をモニタ
   ーしながら選択して実行し、圧電デバイスの周波数調整
   を行うことを特徴とする圧電デバイスの周波数調整方
   法。
2. 【請求項２】圧電基板と、この圧電基板の一主面に形成
   された入力電極、出力電極、ならびに入力電極および出
   力電極間の間隙部に配置された第１アース電極と、この
   圧電基板の他主面に形成され、かつ、前記入力電極に対
   向する第２アース電極、第１アース電極に対向する第３
   アース電極、および出力電極に対向する第４アース電極
   とから構成されており、第１対称モードと斜対称モード
   と第２対称モードとの相互作用によって１つの周波数特
   性が決定される圧電デバイスの周波数特性を調整する方
   法であって、圧電デバイスの周波数特性を測定する測定工程と、前記
   圧電基板の他主面および前記共通電極の所定の領域を覆
   うマスク工程と、この共通電極のうちのマスク工程で覆
   われた領域を除く領域をエッチングするエッチング工程
   と、を有し、 前記マスク工程と前記エッチング工程とによる、 前記第
   ２アース電極または前記第４アース電極と前記第３アー
   ス電極とを所定の厚さまでエッチングすることにより、
   前記入力電極と前記第２アース電極とを測定した周波数
   特性と、前記出力電極と前記第４アース電極とを測定し
   た周波数特性とが一致するようこれら周波数特性のバラ
   ンス調整を行う第１手順と、 前記第２アース電極または前記第４アース電極を所定の
   厚さまでエッチングすることにより、前記バランス調整
   を行う第２手順と、 前記第３アース電極を所定の厚さまでエッチングするこ
   とにより、斜対称モードおよび第１対称モードの差と第
   ２対称モードおよび第１対称モードの差との比であるΔ
   Ｆ比を狭くする調整を行う第３手順と、 前記第２アース電極および前記第４アース電極を所定の
   厚さまでエッチングすることにより、ΔＦ比を広くする
   調整を行う第４手順と、 前記第２アース電極の端辺部のうち前記第３アース電極
   に隣接する一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端
   辺部と、前記第３アース電極の端辺部のうち前記第４ア
   ース電極に隣接する一端辺部および第２アース電極に隣
   接する他端辺部と、前記第４アース電極の端辺部のうち
   前記第３アース電極に隣接する一端辺部およびこの一端
   辺部に対向する他端辺部とを所定の厚さまでエッチング
   することにより、第２対称モードおよび第１対称モード
   の差であるΔＦを狭くする調整を行う第５手順と、 前記第２アース電極の一端辺部および前記第３アース電
   極の他端辺部のうちの少なくとも一方の端辺部と、前記
   第３アース電極の一端辺部および前記第４アース電極の
   一端辺部のうちの少なくとも一方の端辺部とを除く領域
   を所定の厚さまでエッチングすることにより、ΔＦを広
   くする調整を行う第６手順と、 および前記第２アース電極、前記第３アース電極および
   前記第４アース電極を所定の厚さまでエッチングするこ
   とにより、中心周波数を調整する第７手順と、の少なく
   ともいずれか一つの同一前記手順の複数回組合せによる
   第１組合せ手順と、少なくともいずれか二つ以上の前記
   手順の組合せによる第２組合せ手順と、もしくは前記第
   １組合せ手順と第２組合せ手順との組合せによる第３組
   合せ手順と、のいずれか一つの前記組合せ手順を、前記
   測定工程による圧電デバイスの周波数特性をモニターし
   ながら選択して実行し、圧電デバイスの周波数調整を行
   うことを特徴とする圧電デバイスの周波数調整方法。
3. 【請求項３】前記第１手順において、前記第２アース電
   極と前記第３アース電極とを所定の厚さまでエッチング
   する場合には、前記第４アース電極の一端辺部および他
   端辺部も所定の厚さまでエッチングし、前記第４アース
   電極と前記第３アース電極とを所定の厚さまでエッチン
   グする場合には、前記第２アース電極の一端辺部および
   他端辺部、または前記第４アース電極の一端辺部および
   他端辺部も所定の厚さまでエッチングし、前記第３手順
   において、前記第２アース電極の一端辺部および他端辺
   部、ならびに前記第４アース電極の一端辺部および他端
   辺部も所定の厚さまでエッチングし、前記第４手順にお
   いて、前記第３アース電極の一端辺部および他端辺部も
   所定の厚さまでエッチングすることを特徴とする請求項
   ２記載の圧電デバイスの周波数調整方法。
4. 【請求項４】圧電基板と、この圧電基板の一主面に形成
   された入力電極および出力電極と、この圧電基板の他主
   面に形成され、かつ、前記入力電極、出力電極、ならび
   にこれら入力電極および出力電極の間隙部に対向する共
   通電極とから構成されており、対称モードと斜対称モー
   ドとの相互作用によって１つの周波数特性が決定される
   圧電デバイスの周波数特性を調整する方法であって、圧電デバイスの周波数特性を測定する測定工程と、前記
   圧電基板の他主面および前記共通電極の所定の領域を覆
   うマスク工程と、この共通電極のうちのマスク工程で覆
   われた領域を除く領域をエッチングするエッチング工程
   と、を有し、 前記マスク工程と前記エッチング工程とによる、 前記共
   通電極のうち前記入力電極または前記出力電極に対向す
   る領域を除く領域を所定の厚さまでエッチングすること
   により、前記入力電極と前記共通電極とを測定した周波
   数特性と、前記出力電極と前記共通電極とを測定した周
   波数特性とが一致するようこれら周波数特性のバランス
   調整を行う第１手順と、 前記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電極に
   対向する領域を所定の厚さまでエッチングすることによ
   り、前記バランス調整を行う第２手順と、 前記共通電極のうち前記入力電極および前記出力電極に
   対向する領域を除く領域を所定の厚さまでエッチングす
   ることにより、斜対称モードおよび対称モードの差であ
   るΔＦを狭くする調整を行う第３手順と、 前記共通電極のうち前記入力電極および前記出力電極に
   対向する領域を所定の厚さまでエッチングすることによ
   り、ΔＦを広くする調整を行う第４手順と、 前記共通電極の全ての領域を所定の厚さまでエッチング
   することにより、中心周波数を調整する第５手順と、の
   少なくともいずれか一つの同一前記手順の複数回組合せ
   による第１組合せ手順と、少なくともいずれか二つ以上
   の前記手順の組合せによる第２組合せ手順と、もしくは
   前記第１組合せ手順と第２組合せ手順と の組合せによる
   第３組合せ手順と、のいずれか一つの前記組合せ手順を
   前記測定工程による圧電デバイスの周波数特性をモニタ
   ーしながら選択して実行し、圧電デバイスの周波数調整
   を行うことを特徴とする圧電デバイスの周波数調整方
   法。
5. 【請求項５】圧電基板と、この圧電基板の一主面に形成
   された入力電極および出力電極と、この圧電基板の他主
   面に形成され、かつ、前記入力電極に対向する第１アー
   ス電極および出力電極に対向する第２アース電極とから
   構成されており、対称モードと斜対称モードとの相互作
   用によって１つの周波数特性が決定される圧電デバイス
   の周波数特性を調整する方法であって、圧電デバイスの周波数特性を測定する測定工程と、前記
   圧電基板の他主面および前記共通電極の所定の領域を覆
   うマスク工程と、この共通電極のうちのマスク工程で覆
   われた領域を除く領域をエッチングするエッチング工程
   と、を有し、 前記マスク工程と前記エッチング工程とによる、 前記第
   １アース電極または前記第２アース電極を所定の厚さま
   でエッチングすることにより、前記入力電極と前記第１
   アース電極とを測定した周波数特性と、前記出力電極と
   前記第２アースとを測定した周波数特性とが一致するよ
   うこれら周波数特性のバランス調整を行う第１手順と、 前記第１アース電極の端辺部のうち前記第２アース電極
   に隣接する一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端
   辺部と、前記第２アース電極の端辺部のうち前記第１ア
   ース電極に隣接する一端辺部およびこの一端辺部に対向
   する他端辺部とを所定の厚さまでエッチングすることに
   より、斜対称モードおよび対称モードの差であるΔＦを
   狭くする調整を行う第２手順と、 前記第１アース電極の一端辺部と前記第２アース電極の
   一端辺部とを除く領域を所定の厚さまでエッチングする
   ことにより、ΔＦを広くする調整を行う第３手順と、 前記第１アース電極および前記第２アース電極を所定の
   厚さまでエッチングすることにより、中心周波数を調整
   する第４手順と、の少なくともいずれか一つの同一前記
   手順の複数回組合せによる第１組合せ手順と、少なくと
   もいずれか二つ以上の前記手順の組合せによる第２組合
   せ手順と、もしくは前記第１組合せ手順 と第２組合せ手
   順との組合せによる第３組合せ手順と、のいずれか一つ
   の前記組合せ手順を前記測定工程による圧電デバイスの
   周波数特性をモニターしながら選択して実行し、圧電デ
   バイスの周波数調整を行うことを特徴とする圧電デバイ
   スの周波数調整方法。
6. 【請求項６】前記第１手順において、前記第２アース電
   極を所定の厚さまでエッチングする場合には、前記第１
   アース電極の一端辺部および他端辺部も所定の厚さまで
   エッチングし、前記第１アース電極を所定の厚さまでエ
   ッチングする場合には、前記第２アース電極の一端辺部
   および他端辺部も所定の厚さまでエッチングすることを
   特徴とする請求項５記載の圧電デバイスの周波数調整方
   法。
7. 【請求項７】圧電基板と、この圧電基板の一主面に形成
   された入力電極、出力電極、ならびにこれら入力電極お
   よび出力電極間の間隙部に配置されたアース電極と、こ
   の圧電基板の他主面に形成され、かつ、前記入力電極、
   出力電極、アース電極、ならびにこれら入力電極、出力
   電極およびアース電極間の各間隙部に対向する共通電極
   とから構成されており、第１対称モードと斜対称モード
   と第２対称モードとの相互作用によって１つの周波数特
   性が決定される圧電デバイスの周波数特性を調整する装
   置であって、 圧電デバイスの周波数特性を測定する測定手段と、前記
   圧電基板の他主面および前記共通電極の所定の領域を覆
   うマスク手段と、この共通電極のうちのマスク手段で覆
   われた領域を除く領域をエッチングするエッチング手段
   とから構成されており、 前記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電極に
   対向する領域が前記マスク手段により覆われ、前記共通
   電極のうち前記入力電極または前記出力電極に対向する
   領域を除く領域が、前記測定手段によって測定された周
   波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段に
   よりエッチングされることにより、前記入力電極と前記
   共通電極とを測定した周波数特性と前記出力電極と前記
   共通電極とを測定した周波数特性とが一致するようこれ
   ら周波数特性のバランス調整が行われる第１調整パター
   ンと、 前記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電極に
   対向する領域を除く領域が前記マスク手段により覆わ
   れ、前記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電
   極に対向する領域が、前記測定手段によって測定された
   周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段
   によりエッチングされることにより、前記バランス調整
   が行われる第２調整パターンと、 前記共通電極のうち前記入力電極および前記出力電極に
   対向する領域が前記マスク手段により覆われ、前記共通
   電極のうち前記入力電極および前記出力電極に対向する
   領域を除く領域が、前記測定手段によって測定された周
   波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段に
   よりエッチングされることにより、斜対称モードおよび
   第１対称モードの差と第２対称モードおよび第１対称モ
   ードの差との比であるΔＦ比を狭くする調整が行われる
   第３調整パターンと、 前記共通電極のうち前記アース電極に対向する領域がマ
   スク手段により覆われ、前記共通電極のうち前記アース
   電極に対向する領域を除く領域が、前記測定手段によっ
   て測定された周波数特性が所望の特性になるまで前記エ
   ッチング手段によりエッチングされることにより、ΔＦ
   比を広くする調整が行われる第４調整パターンと、 前記共通電極のうち前記入力電極、前記出力電極および
   前記アース電極に対向する領域がマスク手段により覆わ
   れ、前記共通電極のうち前記入力電極、前記出力電極お
   よび前記アース電極に対向する領域を除く領域が、前記
   測定手段によって測定された周波数特性が所望の特性に
   なるまで前記エッチング手段によりエッチングされるこ
   とにより、第２対称モードおよび第１対称モードの差で
   あるΔＦを狭くする調整が行われる第５調整パターン
   と、 前記共通電極のうち前記入力電極、前記出力電極および
   前記アース電極に対向する領域を除く領域がマスク手段
   により覆われ、前記共通電極のうち前記入力電極、前記
   出力電極および前記アース電極に対向する領域が、前記
   測定手段によって測定された周波数特性が所望の特性に
   なるまで前記エッチング手段によりエッチングされるこ
   とにより、ΔＦを広くする調整が行われる第６調整パタ
   ーンと、 前記共通電極を除く領域がマスク手段により覆われ、前
   記共通電極の全ての領域が、前記測定手段によって測定
   された周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチン
   グ手段によりエッチングされることにより、中心周波数
   が調整される第７調整パターンと、の少なくともいずれ
   か一つの同一前記調整パターンの複数回組合せによる第
   １組合せ調整パターンと、少なくともいずれか二つ以上
   の前記調整パターンの組合せによる第２組合せ調整パタ
   ーンと、もしくは前記第１組合せ調整パターンと第２組
   合せ調整パターンとの組合せによる第３組合せ調整パタ
   ーンと、のいずれかの前記組合せ調整パターンが、前記
   測定手段による圧電デバイスの周波数特性をモニターす
   ることによって選択されて実施されることにより、圧電
   デバイスの周波数調整が行われることを特徴とする圧電
   デバイスの周波数調整装置。
8. 【請求項８】圧電基板と、この圧電基板の一主面に形成
   された入力電極、出力電極、ならびに入力電極および出
   力電極間の間隙部に配置された第１アース電極と、この
   圧電基板の他主面に形成され、かつ、前記入力電極に対
   向する第２アース電極、第１アース電極に対向する第３
   アース電極、および出力電極に対向する第４アース電極
   とから構成されており、第１対称モードと斜対称モード
   と第２対称モードとの相互作用によって１つの周波数特
   性が決定される圧電デバイスの周波数特性を調整する装
   置であって、 圧電デバイスの周波数特性を測定する測定手段と、前記
   圧電基板の他主面、第２アース電極、第３アース電極お
   よび第４アース電極の所定の領域を覆うマスク手段と、
   この第２アース電極、第３アース電極および第４アース
   電極のうちのマスク手段で覆われた領域を除く領域をエ
   ッチングするエッチング手段とから構成されており、 前記第２アース電極または前記第４アース電極と前記第
   ３アース電極とを除く領域が前記マスク手段により覆わ
   れ、前記第２アース電極または前記第４アース電極と前
   記第３アース電極とが、測定手段によって測定された周
   波数特性が所望の特性になるまで、前記エッチング手段
   によりエッチングされることにより、前記入力電極と前
   記第２アース電極とを測定した周波数特性と、前記出力
   電極と前記第４アース電極とを測定した周波数特性とが
   一致するようこれら周波数特性のバランス調整が行われ
   る第１調整パターンと、 前記第２アース電極または前記第４アース電極を除く領
   域が前記マスク手段により覆われ、前記第２アース電極
   または前記第４アース電極が、前記測定手段によって測
   定された周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチ
   ング手段によりエッチングされることにより、前記バラ
   ンス調整が行われる第２調整パターンと、 前記第３アース電極を除く領域が前記マスク手段により
   覆われ、前記第３アース電極が、測定手段によって測定
   された周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチン
   グ手段によりエッチングされることにより、斜対称モー
   ドおよび第１対称モードの差と第２対称モードおよび第
   １対称モードの差との比であるΔＦ比を狭くする調整が
   行われる第３調整パターンと、 前記第２アース電極および前記第４アース電極を除く領
   域が前記マスク手段により覆われ、前記第２アース電極
   および前記第４アース電極が、前記測定手段によって測
   定された周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチ
   ング手段によりエッチングされることにより、ΔＦ比を
   広くする調整が行われる第４調整パターンと、 前記第２アース電極の端辺部のうち前記第３アース電極
   に隣接する一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端
   辺部と、前記第３アース電極の端辺部のうち前記第４ア
   ース電極に隣接する一端辺部および前記第２アース電極
   に隣接する他端辺部と、前記第４アース電極の端辺部の
   うち前記第３アース電極に隣接する一端辺部およびこの
   一端辺部に対向する他端辺部とを除く領域が前記マスク
   手段により覆われ、前記第２アース電極の端辺部のうち
   前記第３アース電極に隣接する一端辺部およびこの一端
   辺部に対向する他端辺部と、前記第３アース電極の端辺
   部のうち前記第４アース電極に隣接する一端辺部および
   前記第２アース電極に隣接する他端辺部と、前記第４ア
   ース電極の端辺部のうち前記第３アース電極に隣接する
   一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端辺部とが、
   測定手段によって測定された周波数特性が所望の特性に
   なるまで前記エッチング手段によりエッチングされるこ
   とにより、第２対称モードおよび第１対称モードの差で
   あるΔＦを狭くする調整が行われる第５調整パターン
   と、 前記第２アース電極の一端辺部および前記第３アース電
   極の他端辺部のうちの少なくとも一方の端辺部と、前記
   第３アース電極の一端辺部および前記第４アース電極の
   一端辺部のうちの少なくとも一方の端辺部とが前記マス
   ク手段により覆われ、前記第２アース電極の一端辺部お
   よび前記第３アース電極の他端辺部のうちの少なくとも
   一方の端辺部と、前記第３アース電極の一端辺部および
   前記第４アース電極の一端辺部のうちの少なくとも一方
   の端辺部とを除く領域が、前記測定手段によって測定さ
   れた周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング
   手段によりエッチングされることにより、ΔＦを広くす
   る調整が行われる第６調整パターンと、 前記第２アース電極、前記第３アース電極および前記第
   ４アース電極を除く領域が前記マスク手段により覆わ
   れ、前記第２アース電極、前記第３アース電極および前
   記第４アース電極が、前記測定手段によって測定された
   周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段
   によりエッチングされることにより、中心周波数が調整
   される第７調整パターンと、の少なくともいずれか一つ
   の同一前記調整パターンの複数回組合せによる第１組合
   せ調整パターンと、少なくともいずれか二つ以上の前記
   調整パターンの組合せによる第２組合せ調整パターン
   と、もしくは前記第１組合せ調整パターンと第２組合せ
   調整パターンとの組合せによる第３組合せ調整パターン
   と、のいずれかの前記組合せ調整パターンが、前記測定
   手段による圧電デバイスの周波数特性をモニターするこ
   とによって選択されて実施されることにより、圧電デバ
   イスの周波数調整が行われることを特徴とする圧電デバ
   イスの周波数調整装置。
9. 【請求項９】前記第１調整パターンにおいて、前記第２
   アース電極と前記第３アース電極とがエッチングされる
   場合には、前記第４アース電極の一端辺部および他端辺
   部もエッチング手段によりエッチングされ、前記第４ア
   ース電極と前記第３アース電極とがエッチングされる場
   合には、前記第２アース電極の一端辺部および他端辺部
   もエッチング手段によりエッチングされ、前記第３調整
   パターンにおいて、前記第２アース電極の一端辺部およ
   び他端辺部、ならびに前記第４アース電極の一端辺部お
   よび他端辺部もエッチング手段によりエッチングされ、
   前記第４調整パターンにおいて、前記第３アース電極の
   一端辺部および他端辺部もエッチング手段によりエッチ
   ングされることを特徴とする請求項８記載の圧電デバイ
   スの周波数調整装置。
10. 【請求項１０】圧電基板と、この圧電基板の一主面に形
    成された入力電極および出力電極と、この圧電基板の他
    主面に形成され、かつ、前記入力電極、出力電極、なら
    びにこれら入力電極および出力電極の間隙部に対向する
    共通電極とから構成されており、対称モードと斜対称モ
    ードとの相互作用によって１つの周波数特性が決定され
    る圧電デバイスの周波数特性を調整する装置であって、 圧電デバイスの周波数特性を測定する測定手段と、前記
    圧電基板の他主面および共通電極の所定の領域を覆うマ
    スク手段と、この共通電極のうちのマスク手段で覆われ
    た領域を除く領域をエッチングするエッチング手段とか
    ら構成されており、 前記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電極に
    対向する領域が前記マスク手段により覆われ、前記共通
    電極のうち前記入力電極または前記出力電極に対向する
    領域を除く領域が、前記測定手段によって測定された周
    波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段に
    よりエッチングされることにより、前記入力電極と前記
    共通電極とを測定した周波数特性と、前記出力電極と前
    記共通電極とを測定した周波数特性とが一致するようこ
    れら周波数特性のバランス調整が行われる第１調整パタ
    ーンと、 前記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電極に
    対向する領域を除く領域が前記マスク手段により覆わ
    れ、前記共通電極のうち前記入力電極または前記出力電
    極に対向する領域が、前記測定手段によって測定された
    周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段
    によりエッチングされることにより、前記バランス調整
    が行われる第２調整パターンと、 前記共通電極のうち前記入力電極および前記出力電極に
    対向する領域が前記マスク手段により覆われ、前記共通
    電極のうち前記入力電極および前記出力電極に対向する
    領域を除く領域が、前記測定手段によって測定された周
    波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段に
    よりエッチングされることにより、斜対称モードおよび
    対称モードの差であるΔＦを狭くする調整が行われる第
    ３調整パ ターンと、 前記共通電極のうち前記入力電極および前記出力電極に
    対向する領域を除く領域が前記マスク手段により覆わ
    れ、前記共通電極のうち前記入力電極および前記出力電
    極に対向する領域が、前記測定手段によって測定された
    周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段
    によりエッチングされることにより、ΔＦを広くする調
    整が行われる第４調整パターンと、 前記共通電極を除く領域が前記マスク手段により覆わ
    れ、前記共通電極の全ての領域が、前記測定手段によっ
    て測定された周波数特性が所望の特性になるまで前記エ
    ッチング手段によりエッチングされることにより、中心
    周波数が調整される第５調整パターンと、の少なくとも
    いずれか一つの同一前記調整パターンの複数回組合せに
    よる第１組合せ調整パターンと、少なくともいずれか二
    つ以上の前記調整パターンの組合せによる第２組合せ調
    整パターンと、もしくは前記第１組合せ調整パターンと
    第２組合せ調整パターンとの組合せによる第３組合せ調
    整パターンと、のいずれかの前記組合せ調整パターン
    が、前記測定手段による圧電デバイスの周波数特性をモ
    ニターすることによって選択されて実施されることによ
    り、圧電デバイスの周波数調整が行われることを特徴と
    する圧電デバイスの周波数調整装置。
11. 【請求項１１】圧電基板と、この圧電基板の一主面に形
    成された入力電極および出力電極と、この圧電基板の他
    主面に形成され、かつ、前記入力電極に対向する第１ア
    ース電極および出力電極に対向する第２アース電極とか
    ら構成されており、対称モードと斜対称モードとの相互
    作用によって１つの周波数特性が決定される圧電デバイ
    スの周波数特性を調整する装置であって、 圧電デバイスの周波数特性を測定する測定手段と、前記
    圧電基板の他主面、第１アース電極および第２アース電
    極の所定の領域を覆うマスク手段と、この第１アース電
    極および第２アース電極のうちのマスク手段で覆われた
    領域を除く領域をエッチングするエッチング手段とから
    構成されており、 前記第１アース電極または前記第２アース電極を除く領
    域が前記マスク手段により覆われ、前記第１アース電極
    または前記第２アース電極が、前記測定手段によって測
    定された周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチ
    ング手段によりエッチングすることにより、前記入力電
    極と前記第１アース電極とを測定した周波数特性と、前
    記出力電極と前記第２アースとを測定した周波数特性と
    が一致するようこれら周波数特性のバランス調整が行わ
    れる第１調整パターンと、 前記第１アース電極の端辺部のうち前記第２アース電極
    に隣接する一端辺部およびこの一端辺部に対向する他端
    辺部と、前記第２アース電極の端辺部のうち前記第１ア
    ース電極に隣接する一端辺部およびこの一端辺部に対向
    する他端辺部とを除く領域が前記マスク手段により覆わ
    れ、前記第１アース電極の端辺部のうち前記第２アース
    電極に隣接する一端辺部およびこの一端辺部に対向する
    他端辺部と、前記第２アース電極の端辺部のうち前記第
    １アース電極に隣接する一端辺部およびこの一端辺部に
    対向する他端辺部とが、前記測定手段によって測定され
    た周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチング手
    段によりエッチングされることにより、斜対称モードお
    よび対称モードの差であるΔＦを狭くする調整が行われ
    る第２調整パターンと、 前記第１アース電極の一端辺部と前記第２アース電極の
    一端辺部とが前記マスク手段により覆われ、前記第１ア
    ース電極の一端辺部と前記第２アース電極の一端辺部と
    を除く領域が、前記測定手段によって測定された周波数
    特性が所望の特性になるまで前記エッチング手段により
    エッチングされることにより、ΔＦを広くする調整が行
    われる第３調整パターンと、 前記第１アース電極および前記第２アース電極を除く領
    域が前記マスク手段により覆われ、前記第１アース電極
    および前記第２アース電極が、前記測定手段によって測
    定された周波数特性が所望の特性になるまで前記エッチ
    ング手段によりエッチングされることにより、中心周波
    数が調整される第４調整パターンと、の少なくともいず
    れか一つの同一前記調整パターンの複数回組合せによる
    第１組合せ調整パターンと、少なくともいずれか二つ以
    上の前記調整パターンの組合せによる第２組合せ調整パ
    ターンと、もしくは前記第１組合せ調整パターンと第２
    組合せ調整パターンとの組合せによる第３組合せ調整パ
    ターンと、のいずれかの前記組合せ調整パターンが、前
    記測定手段による圧電デバイスの周波数特性をモニター
    することによって選択されて実施されることにより、圧
    電デバイスの周波数調整が行われることを特徴とする圧
    電デバイスの周波数調整装置。
12. 【請求項１２】前記第１調整パターンにおいて、前記第
    ２アース電極をエッチングされる場合には、前記第１ア
    ース電極の一端辺部および他端辺部もエッチングされ、
    前記第１アース電極をエッチングされる場合には、前記
    第２アース電極の一端辺部および他端辺部もエッチング
    されることを特徴とする請求項１１記載の圧電デバイス
    の周波数調整装置。