JP3457385B2

JP3457385B2 - 墨出し装置

Info

Publication number: JP3457385B2
Application number: JP15877094A
Authority: JP
Inventors: 譲田中
Original assignee: Big Daishowa Seiki Co Ltd
Current assignee: Big Daishowa Seiki Co Ltd
Priority date: 1994-07-11
Filing date: 1994-07-11
Publication date: 2003-10-14
Anticipated expiration: 2018-10-14
Also published as: JPH0829169A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば建築現場におい
て床面から天井等への鉛直墨出し作業を行うのに使用さ
れる墨出し装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の墨出し装置は、実公平３−５５
０５２号公報その他に記載されているように、上下両端
から中心軸線に沿ってレーザービームを投射するビーム
投射器を、装置基台の中央開口部に枢支部を介して揺動
自在に枢支すると共に、複数の支持脚を装置基台に取付
けてなるもので、枢支部としてジャイロが使用されてい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来の墨出し装置で
は、ビーム投射器を枢支する枢支部として、簡便なジャ
イロが一般に使用されるが、このジャイロによれば、装
置の使用の際にビーム投射器が鉛直位置に静止するのに
時間がかかると言う難点がある。また、このビーム投射
器が短時間で静止するように枢支部に磁気制動方式等を
採用したものが提案されているが、これによると、装置
が大型化且つ重量化すると共に、製造コストが高くつく
と言う問題がある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めの本発明の請求項１に係る墨出し装置は、上下両端か
ら中心軸線Ｌに沿ってビームを投射するビーム投射器１
が、装置基台２の中央開口部３に枢支部４を介して揺動
自在に枢支されると共に、複数の支持脚５が装置基台２
に取付けられてなるものであって、前記ビーム投射器１
は、少なくとも上端からレーザービームが投射されるよ
うに構成され、前記枢支部４は、球心がビーム投射器１
の中心軸線Ｌを通るように当該投射器１の上端部に設け
られた大径球状軸部６と、この大径球状軸部６の下半部
側周辺に周方向一定間隔に配置されて、当該軸部６の球
面６ａと点接触する複数の小径球体７と、装置基台２の
中央開口部３側に設けられた環状の球体受け溝８とから
なり、前記球体受け溝８は、各球体７を点接触状態で溝
幅方向に転動変移可能に受支するように、球体７の半径
R₁よりも大きい曲率半径R₂を有する横断面円弧状に形成
されていることを特徴とする。

【０００５】本発明の請求項２に係る墨出し装置は、ビ
ーム投射器１が、その下端からビームを投射する光源と
しての光ダイオード１６備えていることを特徴とする。

【０００６】本発明の請求項３に係る墨出し装置は、装
置基台２の、ビーム投射器１を枢支している中央開口部
３を含む部分が、支持脚部５を取付けている部分に対
し、水平面に沿ったＸ方向及びこれと直交するＹ方向と
に移動調整可能に構成されていることを特徴とする。

【０００７】

【作用】本発明の作用を、実施例に対応する図１〜図４
を用いて説明すると、請求項１に係る墨出し装置におい
て、ビーム投射器１は、装置基台２に枢支部４を介して
鉛直位置に保持されると共に、上下両端からビームが投
射されると共に、少なくとも上端からはレーザービーム
Ｍが投射される。

【０００８】このビーム投射器１を枢支部４によって鉛
直位置に静止させるにあたり、静止前の揺動状態にある
ビーム投射器１が、例えば図２に示す矢印Ａ方向に揺動
して、大径球状軸部６が同じく矢印Ａ方向に回転する
と、図中右側の小径球体７は、矢印ａ方向に自転しつ
つ、球体受け溝８に沿って溝肩８ｂに向かう矢印ａ′方
向に転動変移して、その溝肩８ｂで転動を阻止される一
方、左側の小径球体７は、矢印ａ方向に自転しつつ、溝
肩８ｃに向かう矢印ａ′方向に転動変移して、その溝肩
８ｃで転動を阻止される。こうして球体受け溝８内での
小径球体７の転動が溝肩８ｂ，８ｃによって阻止される
と、大径球状軸部６に制動作用が働いて、ビーム投射器
１は矢印ＡＢ方向への揺動を阻止される。

【０００９】しかして、矢印Ａ方向への揺動を阻止され
たビーム投射器１は、自重により鉛直位置へ復帰しよう
して、逆向きの矢印Ｂ方向へ揺動する。このビーム投射
器１の矢印Ｂ方向への揺動により、大径球状軸部６が矢
印Ｂ方向に回転すると、右側の小径球体７は、矢印ｂ方
向に自転しつつ、溝肩８ｃに向かう矢印ａ′方向に転動
変移して、その溝肩８ｃで転動を阻止される一方、左側
の小径球体７は、矢印ｂ方向に自転しつつ、溝肩８ｂに
向かう矢印ｂ′に転動変移し、溝肩８ｂで転動を阻止さ
れ、こうして小径球体７の転動が溝肩８ｂ，８ｃによっ
て阻止されると、大径球状軸部６に制動作用が働いて、
ビーム投射器１は矢印Ｂ方向への揺動を阻止され、ビー
ム投射器１は、自重により鉛直位置へ復帰しようして、
再び矢印Ａ方向へ揺動する。

【００１０】上記のような動作が数回繰り返されて、ビ
ーム投射器１は短時間で鉛直位置に静止する。この鉛直
位置において、各小径球体７が球体受け溝８の溝底８ａ
側に点接触すると共に、この溝底８ａ側での接点及び大
径球状軸部６との接点が、小径球体７の球心ｏと大径球
状軸部６の球心Ｏとを結ぶ線Ｈ上に並び、しかして各小
径球体７に均等にかかる大径球状軸部６の自重による押
圧荷重が前記線Ｈ上に作用し、これにより各小径球体７
が前記溝底８ａ側に転動不能に押圧固定された状態とな
って、大径球状軸部６を安定に保持し、それによってビ
ーム投射器１は鉛直位置に保持される。

【００１１】請求項２に係る墨出し装置によれば、ビー
ム投射器１の下端から中心軸線Ｌに沿って光ダイオード
１６からのビームＮが投射される。この場合、ビーム投
射器１の下端から地墨の付けられる床面までの距離は、
ビーム投射器１上端から天井等までの距離に較べてはる
かに短いので、光ダイオード１６でも十分なビームＮを
投射することができる。

【００１２】請求項３に係る墨出し装置によれば、ビー
ム投射器１を枢支している中央開口部３を含む部分が、
支持脚部５を取付けている部分に対し、水平面に沿った
Ｘ及びＹ方向に移動可能となる。従って、鉛直に位置さ
せたビーム投射器１の下端から出るビームＮを地墨２７
に正確に合わせようとるすときに、支持脚５をいちいち
移動させることなく、ビーム投射器１を枢支している中
央開口部３を含む部分のみを移動させて、地墨２７に対
するビームＮの位置合わせを、簡単容易に行うことがで
きる。

【００１３】

【実施例】実施例について図面を参照して説明すると、
図１において、１は、上下両端から中心軸線Ｌに沿って
ビームを投射するビーム投射器で、このビーム投射器１
の上端部が、装置基台２の中央開口部３に枢支部４を介
して揺動自在に枢支されており、この装置基台２の下端
部外周には支持脚５が取付けられている。

【００１４】前記枢支部４は、図２〜図４に拡大して詳
細に示すように、球心Ｏがビーム投射器１の中心軸線Ｌ
を通るようにこの投射器１の上端部に設けられた大径球
状軸部６と、この大径球状軸部６の下半部側周辺に保持
部片１０を介して周方向一定間隔おきに配置されて、当
該軸部６の球面６ａと点接触する複数の小径球体７と、
前記装置基台２の中央開口部３にビーム投射器１の中心
軸線Ｌと同心状に設けられた環状の球体受け溝８を有す
るリング部材９とからなり、球体受け溝８は、各球体７
を点接触状態で溝幅方向に転動変移可能に受支するよう
に、球体７の半径R₁よりも大きい曲率半径R₂を有する横
断面円弧状に形成されている。

【００１５】前記各小径球体７は、装置基台２が水平に
位置した状態でビーム投射器１が鉛直位置にあるとき、
図２の実線図示のように、大径球状軸部６との接点と直
径方向に対向する部位が球体受け溝８の溝底８ａに点接
触すると共に、この溝底８ａから溝肩８ｂ，８ｃに至る
部分に間隙部１１，１２を形成する。しかして、ビーム
投射器１が図２の実線で示す鉛直位置に枢支されている
状態から仮想線図示のように矢印Ａ方向に揺動して、大
径球状軸部６が同じく矢印Ａ方向に回転すると、この大
径球状軸部６と点接触している同図右側の小径球体７
は、矢印ａ方向に自転しつつ、溝幅方向上向きに、即ち
溝肩８ｂに近づく矢印ａ′方向に転動変移し、そして仮
想線図示のように溝肩８ｂのところで転動を阻止され
る。一方、この右側の小径球体７と対称位置にある左側
の小径球体７は、逆方向ではあるが、上記右側の小径球
体７と同様にして、矢印ａ方向に自転しつつ、溝幅方向
下向きに、即ち溝肩８ｃに近づく矢印ａ′方向に転動変
移し、仮想線図示のように溝肩８ｃのところで転動を阻
止される。こうして小径球体７の矢印ａ′方向への転動
が溝肩８ｂ，８ｃによって阻止されると、大径球状軸部
６に制動作用が働き、それによってビーム投射器１は、
矢印Ａ方向への揺動が制止される。

【００１６】上記のように矢印Ａ方向への揺動が制止さ
れたビーム投射器１は、自重により鉛直位置へ復帰しよ
うして、逆方向、即ち矢印Ｂ方向へ揺動する。このビー
ム投射器１の矢印Ｂ方向への揺動により、大径球状軸部
６が矢印Ｂ方向に回転すると、右側の小径球体７は、矢
印ｂ方向に自転しつつ、溝幅方向下向きに、即ち溝肩８
ｃに近づく矢印ｂ′方向に転動変移し、仮想線図示のよ
うに溝肩８ｃのところで転動を阻止される。一方、左側
の小径球体７は、矢印ｂ方向に自転しつつ、溝幅方向上
向きに、即ち溝肩８ｂに近づく矢印ｂ′方向に転動変移
し、仮想線図示のように溝肩８ｂのところで転動を阻止
される。こうして小径球体７の矢印ｂ′方向への転動が
溝肩８ｂ，８ｃによって阻止されると、大径球状軸部６
に制動作用が働いて、ビーム投射器１は矢印Ｂ方向への
揺動が制止され、そしてこのビーム投射器１は、前記同
様に自重により鉛直位置へ復帰しようして、再び矢印Ａ
方向へ揺動する。

【００１７】しかして、上述したような動作が数回繰り
返されて、ビーム投射器１は短時間で実線図示のような
鉛直位置に静止することになる。この鉛直位置において
は、各小径球体７が球体受け溝８の溝底８ａに点接触す
ると共に、この溝底８ａでの接点と、当該球体７の大径
球状軸部６との接点とが、小径球体７の球心ｏと大径球
状軸部６の球心Ｏとを結ぶ線Ｈ上に並置して、各小径球
体７に均等にかかる大径球状軸部６の自重による押圧荷
重が上記線Ｈ上に作用する。これにより、各小径球体７
は球体受け溝８の溝底８ａで転動不能に固定された状態
となって、大径球状軸部６を安定に保持し、それによっ
てビーム投射器１は鉛直位置に保持される。

【００１８】この枢支部４によれば、上述したように、
ビーム投射器１がこの枢支部４を中心に揺動する際に、
その揺動端において球体受け溝８内を転動する小径球体
７が溝肩８ｂ，８ｃで転動を阻止されることによって、
ビーム投射器１の揺動範囲が制限されることから、ビー
ム投射器１は、揺動幅が不必要に拡がることがなくな
り、従って最小の揺動幅で短時間のうちに鉛直位置に静
止することができる。

【００１９】前記ビーム投射器１の構造について図１及
び図２を参照して説明すると、このビーム投射器１は、
円筒状の器本体１３と、この器本体１３の上端部に同心
状に固着されたヘッド１４と、器本体１３の上部側径大
筒部１３ａに内蔵された上部光源用のレーザー発振器１
５と、器本体１３の下部側径小筒部１３ｂの下端部に内
蔵された下部光源用の光ダイオード１６と、器本体１３
の下部側径小筒部１３ｂに着脱可能に内蔵された電源用
の電池１７と、この下部側径小筒部１３ｂに外嵌された
円筒状のカバー１８とからなる。

【００２０】ヘッド１４は、ビーム投射器１の中心軸線
Ｌに沿って器本体１３の上端から突出する中空状の軸頸
部１９を有し、この軸頸部１９には前記枢支部４の大径
球状軸部６が孔部６ａを介して同心状に嵌装されている
と共に、軸頸部１９の上端に大径球状軸部６を固定する
ナット２０が螺着されている。前記レーザー発振器１５
からのレーザービームＭは、ヘッド１４の下部に設けら
れた光平行用レンズ２１を介し軸頸部１９の中空部１９
ａを通って上方へ投射され、また、光ダイオード１６か
らのビームＮは、前記下部側径小筒部１３ｂ内の下端部
に設けられた集光レンズ２２を介して下部透光口２３か
ら下方へ投射されるようになっている。尚、レーザービ
ームＭ及びビームＮの投射は、器本体１３に設けられた
電源スイッチＳを入れることによって同時に行うことが
できる。

【００２１】また、器本体１３の下部側径小筒部１３ｂ
には、横断面半円弧状の開口部２４がほぼ全長に亘って
開口され、この開口部２４には同じく横断面半円弧状の
蓋２５が着脱自在に装着される。また、カバー１８は、
上記開口部２４に蓋２５を取付けた状態で上記下部側径
小筒部１３ｂに外嵌されると共に、ねじ部２６によって
器本体１３に螺合固定される。従って、電池１７の装入
や交換に際しては、器本体１３の下部側径小筒部１３ｂ
からカバー１８を抜き取った後、蓋２５を取り外せばよ
い。尚、器本体１３を、上記開口部２４を除きビーム投
射器１の全長に亘って一体構造としたのは、この器本体
１３を製作する際に芯出し（ビーム投射器１の中心軸線
Ｌを出すこと）を容易にするためである。因みに、器本
体１３を上下に分割した構造とすれば、上記の芯出しが
非常に困難となる。

【００２２】更に、前記装置基台２は、図１に示すよう
に、支持脚５を枢着している基台本体２ａと、これの上
部に螺合されるキャップ２ｂとからなり、そして基台本
体２ａの上壁部に前記中央開口部３が設けてあり、また
キャップ２ｂの上部中央にはビーム投射器１の上端から
投射されるレーザービームＭを通す上部透光口２６が設
けてある。

【００２３】次に、上述したような構成を有する墨出し
装置の使用方法について説明すると、図５に示すよう
に、あらかじめ室内の床に地墨２７を付けた箇所に墨出
し装置を置いて、電源スイッチＳを入れ、ビーム投射器
１の上下両端からレーザービームＭ及びビームＮを投射
させると共に、ビーム投射器１が自重により鉛直となる
ようにする。

【００２４】このとき、ビーム投射器１は、枢支部４を
中心に数回揺動を繰り返して、短時間で鉛直位置に静止
することができる。即ち、図２に示すように、ビーム投
射器１が例えば矢印Ａ方向に揺動して、大径球状軸部６
が矢印Ａ方向に回転すると、図中右側の小径球体７は、
矢印ａ方向に自転しつつ、球体受け溝８に沿って溝幅方
向上向きの矢印ａ′方向（溝肩８ｂに近づく方向）に転
動変移して、その溝肩８ｂのところで転動を阻止される
一方、図中左側の小径球体７は、同図の矢印ａ方向に自
転しつつ、球体受け溝８に沿って溝幅方向下向きの矢印
ａ′方向（溝肩８ｃに近づく方向）に転動変移して、そ
の溝肩８ｃのところで転動を阻止され、こうして小径球
体７の矢印ａ′方向への転動が溝肩８ｂ，８ｃによって
阻止されると、大径球状軸部６に制動作用が働いて、ビ
ーム投射器１は矢印Ａ方向への揺動が制止される。

【００２５】しかして、矢印Ａ方向への揺動を制止され
たビーム投射器１は、自重により鉛直位置へ復帰しよう
して、逆向きの矢印Ｂ方向へ揺動する。このビーム投射
器１の矢印Ｂ方向への揺動により、大径球状軸部６が矢
印Ｂ方向に回転すると、右側の小径球体７は、矢印ｂ方
向に自転しつつ、溝幅方向下向きの矢印ｂ′方向（溝肩
８ｃに近づく方向）に転動変移し、溝肩８ｃのところで
転動を阻止される一方、左側の小径球体７は、矢印ｂ方
向に自転しつつ、溝幅方向上向きの矢印ｂ′（溝肩８ｂ
に近づく方向）に転動変移し、溝肩８ｂので転動を阻止
され、こうして小径球体７の矢印ｂ′方向への転動が溝
肩８ｂ，８ｃによって阻止されると、大径球状軸部６に
制動作用が働いて、ビーム投射器１は矢印Ｂ方向への揺
動が制止され、ビーム投射器１は、自重により鉛直位置
へ復帰しようして、再び矢印Ａ方向へ揺動する。

【００２６】上記のような動作が数回繰り返されて、ビ
ーム投射器１は、短時間で鉛直位置に静止することにな
る。この場合、装置基台２は水平に位置していることが
望ましいが、これが水平に対し多少傾斜していても、枢
支部４によるビーム投射器１の鉛直位置決めに支障を来
すことはない。

【００２７】このようにしてビーム投射器１が鉛直位置
に静止されたとき、このビーム投射器１の下透光口２３
から出るビームＮを地墨２７に合わせると、上透光口２
６から出るレーザービームＭが天井に投射されて、地墨
２７の鉛直線上に自動的に墨付け位置を表示し、この表
示位置に墨を付けて天井墨２８とする。この天井墨２８
を、照明器具、アンカーボルト等の取付け位置とするこ
とができる。

【００２８】以上説明した実施例では、装置基台２を、
支持脚５を枢着している基台本体２ａと、これの上部に
螺合されるキャップ２ｂとで構成すると共に、基台本体
２その自体を一体形成したものであるが、図６〜図８に
は、装置基台２におけるビーム投射器１を枢支している
中央開口部３を含む部分が、支持脚部５を取付けている
部分に対し、水平面に沿ったＸ方向及びこれと直交する
Ｙ方向とに移動調整可能とした実施例を示している。

【００２９】即ち、図６〜図８に示すように、装置基台
２は基台本体２ａとキャップ２ｂとからなるものである
が、基台本体２ａは、ビーム投射器１を枢支している中
央開口部３を含む上部側部材２９と、支持脚部５を取付
けている下部側部材３０と、これら両部材２９，３０の
間に介在する中間部材３１とから構成し、キャップ２ｂ
は上部側部材２９に取付ける。そして、上部側部材２９
と中間部材３１とには、両部材２９，３１を水平面に沿
って例えばＹ方向に相対移動させるための蟻溝２９ａと
蟻３１ａとを設け、中間部材３１と下部側部材３０とに
は、両部材３１，３０を水平面に沿ってＹ方向と直交す
るＸ方向に相対移動させるための蟻溝３１ｂと蟻３０ａ
とを設け、上部側部材２９には、螺軸３２の回転によっ
て、当該上部側部材２９をＸ方向に駆動させるためのね
じ駆動機構３３を設け、また中間部材３１には、螺軸３
４の回転によって、この中間部材３１を上部側部材２９
と共にＹ方向に駆動させるためのねじ駆動機構３５を設
けている。

【００３０】上記ねじ駆動機構３３は、中間部材３１に
固定されて螺軸３２を回転のみ可能に支承する軸受３６
と、上部側部材２９に固定されて螺軸３２と螺合するナ
ット部材３７とからなり、上記ねじ駆動機構３５は、下
部側部材３０に固定されて螺軸３４を回転のみ可能に支
承する軸受３８と、中間部材３１に固定されて螺軸３４
と螺合するナット部材３９とからなる。各螺軸３２，３
４には回転操作用のつまみ３２ａ，３４ａが設けてあ
る。

【００３１】従って、例えば、つまみ３４ａを介して螺
軸３４を正逆いずれかに回転させると、図６に示すよう
に、上部側部材２９と中間部材３１とが下部側部材３０
に対してＸ方向に移動し、これに伴いビーム投射器１が
Ｘ方向に移動する。この図６には、キャップ２ｂ付き上
部側部材２９と中間部材３１、及びビーム投射器１がＸ
方向に移動した状態を仮想線で示す。また図７に示すよ
うに、つまみ３２ａを介して螺軸３２を正逆いずれかに
回転させると、上部側部材２９が中間部材３１と下部側
部材３０とに対してＹ方向に移動し、これに伴ってビー
ム投射器１もＹ方向に移動する。図７には、キャップ２
ｂ付き上部側部材２９及びビーム投射器１がＹ方向に移
動した状態を仮想線で示す。

【００３２】上記のような装置基台２によると、図５に
示すように、この装置を床の地墨２７を付けた箇所に置
いて、鉛直に位置させたビーム投射器１の下端から出る
ビームＮを地墨２７に正確に合わせようとるすときに、
支持脚５をいちいち移動させることなく、ねじ駆動機構
３３，３５を操作するだけで、ビーム投射器１をＸ，Ｙ
方向に適宜に移動調整できて、地墨２７に対するビーム
Ｎの位置合わせを、簡単容易に行うことができる。

【００３３】

【発明の効果】本発明の請求項１に係る墨出し装置によ
れば、装置基台の中央開口部でビーム投射器を枢支する
枢支部を、ビーム投射器側に設けた大径球状軸部と、装
置基台側に設けた複数の小径球体及びこれを点接触状態
で溝幅方向に転動変移可能に受支する球体受け溝とから
なる簡単且つコンパクトな構造でありながら、ビーム投
射器を短時間で鉛直位置に静止させることができ、従っ
てまた装置の小型化と軽量化を図ることができる。ま
た、球体受け溝内を転動する小径球体が溝肩で転動を阻
止されて、ビーム投射器の揺動範囲が制限されるため、
ビーム投射器は、揺動幅が不必要に拡がることがなくな
り、最小の揺動幅で瞬時に鉛直位置に静止させることが
できる。

【００３４】請求項２に係る墨出し装置によれば、ビー
ム投射器１の下部光源として光ダイオードを備えている
ため、電力の消費を少なくできて、電源電池の寿命を延
ばすことができる。

【００３５】請求項３に係る墨出し装置によれば、鉛直
に位置させたビーム投射器の下端から出るビームを地墨
に合わせるときに、支持脚をいちいち移動させることな
く、ビーム投射器を枢支している中央開口部を含む部分
のみを移動させるだけで、地墨に対するビームの位置合
わせを、簡単容易に行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す墨出し装置の一部断面
側面図である。

【図２】上記墨出し装置の枢支部を示す拡大詳細縦断面
図である。

【図３】図２のＺ−Ｚ線断面図である。

【図４】図２の一部拡大図である。

【図５】上記墨出し装置の使用方法を示す説明斜視図で
ある。

【図６】本発明の他の実施例による墨出し装置の要部を
示す縦断側面図である。

【図７】図６の墨出し装置を水平面に沿って９０度回転
した状態における縦断側面図である。

【図８】図６の墨出し装置の一部切欠平面図である。

【符号の説明】

１ビーム投射器２装置基台２ａ基台本体２ｂキャップ３中央開口部４枢支部５支持脚６大径球状軸部７小径球体８球体受け溝８ａ溝底８ｂ溝肩８ｃ溝肩１３ビーム投射器の器本体１６光ダイオード１８電源電池２３下透光口２６上透光口２７地墨２８天井墨２９装置基台の上部側部材３０装置基台の下部側部材３１装置基台の中間部材３２螺軸３３ねじ駆動機構３４螺軸３５ねじ駆動機構Ｌビーム投射器の中心軸線Ｏ球体受け溝の球心ｏ小径球体の球心 R₁ 小径球体の半径 R₂ 横断面円弧状球体受け溝の曲率半径Ｍビーム投射器の上端から投射されるレーザー
ビームＮビーム投射器の下端から投射されるビーム

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】上下両端から中心軸線Ｌに沿ってビームを
投射するビーム投射器１が、装置基台２の中央開口部３
に枢支部４を介して揺動自在に枢支されると共に、複数
の支持脚５が装置基台２に取付けられてなる墨出し装置
において、前記ビーム投射器１は、少なくとも上端から
レーザービームが投射されるように構成され、前記枢支
部４は、球心Ｏがビーム投射器１の中心軸線Ｌを通るよ
うに当該投射器１の上端部に設けられた大径球状軸部６
と、この大径球状軸部６の下半部側周辺に周方向一定間
隔に配置されて、当該軸部６の球面６ａと点接触する複
数の小径球体７と、装置基台２の中央開口部３側に設け
られた環状の球体受け溝８とからなり、前記球体受け溝
８は、各球体７を点接触状態で溝幅方向に転動変移可能
に受支するように、球体７の半径よりも曲率半径の大き
い横断面円弧状に形成されていることを特徴とする墨出
し装置。
【請求項２】前記ビーム投射器１は、その下端からビー
ムを投射する光源としての光ダイオード１６備えている
ことを特徴とする請求項１に記載の墨出し装置。
【請求項３】前記装置基台２は、ビーム投射器１を枢支
している中央開口部３を含む部分が、支持脚部５を取付
けている部分に対し、水平面に沿ったＸ方向及びこれと
直交するＹ方向とに移動調整可能に構成されていること
を特徴とする請求項１または２に記載の墨出し装置。