JP3456297B2 - 二次元光アレイ及びその製造方法 - Google Patents

二次元光アレイ及びその製造方法

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JP3456297B2
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英敏 石田
信二 小川
俊昭 柿井
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光並列伝送に用い
る二次元配列LDアレイやPDアレイ等から構成される
光モジュールと結合する、光ファイバを精度良く配置し
た二次元光アレイ(光ファイバアレイ)の構造に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】光並列伝送においては、LD(PD)ア
レイをアレイ化して送受信の集積密度を大きくすること
が行われている。これらを用いたアレイ化LD(PD)
モジュールではLD(PD)アレイに光信号を入出力す
るために、精密に光ファイバを配列固定した光アレイが
必要とされる。アレイ配列としては一次元配列(直線状
配列)が一般的であるが、面発光レーザを用いた場合に
は、更に高集積化した二次元配列モジュールが可能であ
り、二次元光アレイが必要となる。
【0003】例えば、精度良く外径を揃えたマイクロ
ェルールに光ファイバを結線することにより、二次元光
アレイ化する方法が知られている(1993年電子情報
通信学会春期大会C−307)。また、微細超精密放電
加工により、金属基板等に光ファイバ挿入孔を二次元配
列精度良く加工することも技術的には可能である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
方法では個々のマイクロフェルールに夫々十分な外径精
度及び光ファイバ挿入孔との偏心精度を必要とし、更に
光アレイの心数分必要であるため、非常にコストのかか
るものとなる上に、心数が増える程、積層誤差も大きく
なるという問題がある。また、後者の方法では、加工配
列精度は十分であるが、多大な加工時間が必要であり、
量産には向かず、コストも安くならない。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を種々検討した結果、光アレイ基板の両面に平行溝を略
直交して設け、両溝の重複部に二次元配列した貫通角穴
を形成することにより、低コストでかつ量産に適した二
次元光アレイ及びその製法が提供できることを見出し、
本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は:
光ファイバ外径に略等しい幅の複数個の平行溝が光アレ
イ基板の両面より互いに略直交した、上面平行溝と下面
平行溝とが形成され、かつ両平行溝の深さの和を基板厚
さよりも大きく溝加工されており、しかも両平行溝の重
複部に二次元に配列された貫通角穴部が形成され、更に
前記角穴部に光ファイバが挿入され、その光ファイバが
二次元に精密配列し固定したことを特徴とする、二次元
光アレイを提供する。また、
【0006】 前記両平行溝の重複部の厚さが10μ
m以上200μm以下の間にある点にも特徴を有する。
また、 前記両平行溝が形成された基板が複数枚積層
されたものである点にも特徴を有する。また、 前記
基板が無機材料を材質とする点にも特徴を有する。ま
た、 前記基板がシリコンを材質とする点にも特徴を
有する。また、 光アレイ基板の両面に互いに略直交
し、両溝の深さの和が該基板厚さよりも大きくかつ光フ
ァイバ外径に略等しい幅を持つ複数個の平行溝を該基板
に溝加工して上面平行溝と下面平行溝とが形成され、し
かもその際に該両平行溝の重複部が二次元に配列された
貫通角穴を形成するようになし、次いで前記角穴部に光
ファイバを挿入して光ファイバを二次元に精密配列し固
定することを特徴とする、二次元光アレイの製造方法を
提供する。また、 前記両平行溝が形成された基板を
複数枚積層したものを用いる点にも特徴を有する。ま
た、 前記溝加工が研削加工による点にも特徴を有す
【0007】以下、本発明を図面などを参考にして更に
詳細に説明する。図1は本発明の二次元光アレイを構成
する交叉部分に角穴部を有する両平行溝が形成された
板の斜視図である。図2はその平面図 (イ)とその横断面
図 (ロ)である。図3は両平行溝の交叉部分に設けられた
角穴部の角穴位置を説明する模式図である。図4は本発
明の二次元光アレイ基板に光ファイバテープを配置固定
した状態を説明する平面図 (イ)及び底面図 (ロ)である。
【0008】図において、1は光アレイ基板であり、
2、3は夫々上面平行溝、下面平行溝であり、2’は上
面溝底部であり、4は貫通角穴部であり、5、5’は夫
々光アレイ基板上面、光アレイ基板下面であり、6はメ
タルフランジであり、7は8心×8枚のような光ファイ
バテープであり、8は光ファイバである。図1〜3に示
されるように、上面平行溝2、下面平行溝3は光ファイ
バ外径に略等しい幅を有し、かつ光ファイバを集めてテ
ープ状とするに十分な数を有し、光アレイ基板の両面
より互いに略直交し、かつ両平行溝の深さの和を基板厚
さよりも大きく溝加工されている。そして、該両平行
の重複部が二次元に配列された貫通角穴部4を形成して
おり、その角穴部4に夫々光ファイバを挿入して光フ
ァイバを二次元に精密配列し、ハンダ及び/又は有機接
着剤により固定して二次元光アレイを構成するのであ
る。
【0009】角穴部4に挿入された光ファイバは、光
アレイ基板1両面から加工された平行溝の側面により上
下左右の方向にそれぞれ規制されるが、両平行溝の重複
部は光ファイバの位置決めには寄与しない。このため
に、両平行溝の重複部の厚さは必要以上に大きくしない
ことが望ましい。具体的には、両平行溝の重複部の厚さ
は200μm以下、より好ましくは50μm以下がよ
い。一方、溝加工をブレードを用いた研削加工により行
う場合、溝底エッジ部には数μmの曲率が通常付く。従
って、溝幅精度を出すためには、重複部の厚さは10μ
m以上とることが望ましい。
【0010】従って、両溝の重複部の厚さは10μm以
上200μm以下、より好ましくは10μm以上50μ
m以下が望ましい。特に、溝加工を研削加工によると精
密加工の点で好ましい。角穴部4に挿入された光ファイ
バ8は、溝重複部両側の溝内において上下又は左右方向
の一方向のみ規制されているため、溝長手方向内では光
ファイバの剛性の範囲内での曲がりを生じ、結果とし
て配列精度の劣化を生じる可能性がある。従って、角穴
を有する両平行溝2、3が形成された光アレイ基板
を複数枚重ねて用いることも、曲がり自体を小さくす
る上で有効である。
【0011】なお、光アレイ基板の材質としては、ガス
発生の恐れのない無機材料、例えばシリコン、ガラス、
セラミックのいずれか又はそれらの組合せを用いること
が望ましく、更に加工性の良いシリコンを材質とすると
良い。
【0012】
【作用】本発明による二次元光アレイの製造における光
ファイバ配列の基準となる角穴加工は、光アレイ基板の
両面から互いに略直交する複数個を有する両平行溝2、
3を加工するだけであるため、市販されている高精度ダ
イサ等を用いればサブミクロンの配列精度は容易に達成
される。また、溝幅についても、摩粍の少ないブレード
及び光アレイ基板1の材質を選択することにより、1μ
m程度に精密に加工制御が可能である。更に、1枚の光
アレイ基板上に高密度に角穴部を溝加工し、後に切断チ
ップ化できるため、量産性に富み、低コスト化に有利で
ある。
【0013】
【実施例】本発明を図面に基づいて具体的に説明する
が、これらは本発明の範囲を制限しない。図4に基いて
本発明に従う8×8心二次元光アレイの場合について説
明する。基板にシリコンを用い、ダイサによる研削加工
により溝加工を行った。光ファイバ外径125μmに対
して溝幅127±1μm、溝ピッチは250±0.5μ
m、溝重複部の厚さは50μmとすることにより、各光
ファイバの配列精度は全て設定値に対して3μm以下と
精密加工することができた。
【0014】この値はGI型光ファイバ(コア径50μ
m)に対しては十分なものである。8枚の8心光ファイ
バテープは先端のみ上記光アレイ基板の角穴部4で位置
決めしハンダ固定を行い、後部はメタルフランジ6内に
て有機接着剤で固定した。また、光アレイ基板は1枚の
シリコンウエハから100チップ以上がとれ、量産化に
も有効であることが確認された。
【0015】
【発明の効果】以上の通り、精度良く、低コストでかつ
量産に適した二次元光アレイを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の二次元光アレイを構成する交叉部分に
角穴部を有する両平行溝が形成された基板の斜視図であ
る。
【図2】その平面図 (イ)とその横断面図 (ロ)である。
【図3】両平行溝の交叉部分に設けられた角穴部の角穴
位置を説明する模式図である。
【図4】本発明の二次元光アレイ基板に光ファイバテー
プを配置固定した状態を説明する平面図 (イ)及び底面図
(ロ)である。
【符号の説明】
1 光アレイ基板 2 上面平行溝 2’ 上面溝底部 3 下面平行溝 4 角穴部 5 光アレイ基板上面 5’ 光アレイ基板下面 6 メタルフランジ 7 光ファイバテープ 8 光ファイバ
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−288507(JP,A) 特開 平5−224093(JP,A) 特開 昭57−17913(JP,A) 特開 昭58−166309(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 6/42 G02B 6/36

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバ外径に略等しい幅の複数個の
    平行溝が光アレイ基板の両面より互いに略直交した、上
    面平行溝と下面平行溝とが形成され、かつ両平行溝の深
    さの和を基板厚さよりも大きく溝加工されており、しか
    も両平行溝の重複部に二次元に配列された貫通角穴部が
    形成され、更に前記角穴部に光ファイバが挿入され、そ
    の光ファイバが二次元に精密配列し固定したことを特徴
    とする、二次元光アレイ。
  2. 【請求項2】 前記両平行溝の重複部の厚さが10μm
    以上200μm以下の間にあることを特徴とする、請求
    項1記載の二次元光アレイ。
  3. 【請求項3】 前記両平行溝が形成された基板が複数枚
    積層されたものであることを特徴とする、請求項1記載
    の二次元光アレイ。
  4. 【請求項4】 前記基板が無機材料を材質とすることを
    特徴とする、請求項1記載の二次元光アレイ。
  5. 【請求項5】 前記基板がシリコンを材質とすることを
    特徴とする、請求項1記載の二次元光アレイ。
  6. 【請求項6】 光アレイ基板の両面に互いに略直交し、
    両溝の深さの和が該基板厚さよりも大きくかつ光ファイ
    バ外径に略等しい幅を持つ複数個の平行溝を該基板に溝
    加工して上面平行溝と下面平行溝とが形成され、しかも
    その際に該両平行溝の重複部が二次元に配列された貫通
    角穴を形成するようになし、次いで前記角穴部に光ファ
    イバを挿入して光ファイバを二次元に精密配列し固定す
    ることを特徴とする、二次元光アレイの製造方法。
  7. 【請求項7】 前記両平行溝が形成された基板を複数枚
    積層したものを用いることを特徴とする、請求項6記載
    の二次元光アレイの製造方法。
  8. 【請求項8】 前記溝加工が研削加工によることを特徴
    とする、請求項記載の二次元光アレイの製造方法。
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