JP3436397B2 - 鉛スプラッシュコンデンサーの操業方法 - Google Patents
鉛スプラッシュコンデンサーの操業方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、亜鉛蒸気を含有した還
元炉排ガスから亜鉛を熔融亜鉛として回収するための鉛
スプラッシュコンデンサーの操業方法に関する。
元炉排ガスから亜鉛を熔融亜鉛として回収するための鉛
スプラッシュコンデンサーの操業方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】鉛を含む亜鉛精鉱より鉛と亜鉛とを同時
に回収する代表的な乾式亜鉛製錬法としてＩＳＰ法があ
る。このＩＳＰ法では、還元炉で含亜鉛原料を還元熔解
し、亜鉛を揮発させ、排ガスと共に後工程の回収工程に
送り、亜鉛を回収している。そして、この回収工程に熔
体鉛を吸収剤として用いる鉛スプラッシュコンデンサー
を用いている。
に回収する代表的な乾式亜鉛製錬法としてＩＳＰ法があ
る。このＩＳＰ法では、還元炉で含亜鉛原料を還元熔解
し、亜鉛を揮発させ、排ガスと共に後工程の回収工程に
送り、亜鉛を回収している。そして、この回収工程に熔
体鉛を吸収剤として用いる鉛スプラッシュコンデンサー
を用いている。
【０００３】この鉛スプラッシュコンデンサーは、例え
ば図２、図３に示したように、コンデンサー本体７と、
冷却樋８と、フラックス炉９と、分離炉１０と、加熱炉
１１と、リターン炉１２とから構成されている。コンデ
ンサー本体７は、一端が還元炉１７の出口１に結合さ
れ、他端に煙道２が設けられている。コンデンサー本体
７の中央部３に鉛スプラッシュローター４を複数個設け
る。コンデンサー本体７の還元炉排ガス入り口側に、熔
体鉛でシールされたアンダーフロー構造で設けられたサ
ンプ５を設ける。サンプ５には、鉛ポンプ６が設けられ
る。
ば図２、図３に示したように、コンデンサー本体７と、
冷却樋８と、フラックス炉９と、分離炉１０と、加熱炉
１１と、リターン炉１２とから構成されている。コンデ
ンサー本体７は、一端が還元炉１７の出口１に結合さ
れ、他端に煙道２が設けられている。コンデンサー本体
７の中央部３に鉛スプラッシュローター４を複数個設け
る。コンデンサー本体７の還元炉排ガス入り口側に、熔
体鉛でシールされたアンダーフロー構造で設けられたサ
ンプ５を設ける。サンプ５には、鉛ポンプ６が設けられ
る。
【０００４】フラックス炉９では、冷却樋８より堰１６
をオーバーフローして流出する熔体鉛に塩化アンモニウ
ムなどを添加する。分離炉１０は、鉛と亜鉛とを分離す
る。加熱炉１１は、回収した亜鉛の温度を一定に維持す
るために用いる。リターン炉１２は、回収した熔体鉛を
コンデンサー本体７に戻すためのものである。
をオーバーフローして流出する熔体鉛に塩化アンモニウ
ムなどを添加する。分離炉１０は、鉛と亜鉛とを分離す
る。加熱炉１１は、回収した亜鉛の温度を一定に維持す
るために用いる。リターン炉１２は、回収した熔体鉛を
コンデンサー本体７に戻すためのものである。
【０００５】このような鉛スプラッシュコンデンサーの
操業に際しては、熔体鉛をサンプ５より鉛ポンプ６を用
いて冷却樋８に供給し、リターン炉１２より熔体鉛をコ
ンデンサー本体７に戻して熔体鉛の循環系を構成する。
操業に際しては、熔体鉛をサンプ５より鉛ポンプ６を用
いて冷却樋８に供給し、リターン炉１２より熔体鉛をコ
ンデンサー本体７に戻して熔体鉛の循環系を構成する。
【０００６】一方、還元炉１７の出口１よりコンデンサ
ー本体７内に還元炉排ガスを導入し、コンデンサー本体
７に設けられた鉛スプラッシュローター４を用いて、循
環している熔体鉛（循環鉛ともいう）と還元炉排ガスと
を接触させ、還元炉排ガス中の亜鉛蒸気を熔体鉛中に熔
解させる。
ー本体７内に還元炉排ガスを導入し、コンデンサー本体
７に設けられた鉛スプラッシュローター４を用いて、循
環している熔体鉛（循環鉛ともいう）と還元炉排ガスと
を接触させ、還元炉排ガス中の亜鉛蒸気を熔体鉛中に熔
解させる。
【０００７】亜鉛を熔解した熔体鉛は、冷却樋８で冷却
され、熔体鉛中に熔解していた亜鉛を熔出させる。
され、熔体鉛中に熔解していた亜鉛を熔出させる。
【０００８】フラックス炉９では、塩化アンモニウムな
どのフラックスを添加し、亜鉛からの若干の脱砒素と熔
体鉛中に存在する固体状の酸化亜鉛を液体状として、フ
ラックスドロスを形成させ、浮上分離する。その後、分
離炉１０で亜鉛と熔体鉛との分離を完了させる。亜鉛は
加熱炉１１に導入して所定温度とした後に、粗亜鉛とし
て鋳造する。そして、熔体鉛は、リターン炉１２を介し
てコンデンサー本体７の下流側に戻す。
どのフラックスを添加し、亜鉛からの若干の脱砒素と熔
体鉛中に存在する固体状の酸化亜鉛を液体状として、フ
ラックスドロスを形成させ、浮上分離する。その後、分
離炉１０で亜鉛と熔体鉛との分離を完了させる。亜鉛は
加熱炉１１に導入して所定温度とした後に、粗亜鉛とし
て鋳造する。そして、熔体鉛は、リターン炉１２を介し
てコンデンサー本体７の下流側に戻す。
【０００９】なお、コンデンサー本体７内では、前記し
たように熔体鉛中への亜鉛の吸収効率を上げるために、
鉛スプラッシュローター４で熔体鉛をスプラッシュさせ
る他、整流板１３を設置して、還元炉排ガスと熔体鉛と
が互いに効率良く接触するよう整流している。整流板１
３は、互い違い状に配置され、整流板１３同士の間、あ
るいは整流板１３とコンデンサ本体７との間に開口部を
形成する。
たように熔体鉛中への亜鉛の吸収効率を上げるために、
鉛スプラッシュローター４で熔体鉛をスプラッシュさせ
る他、整流板１３を設置して、還元炉排ガスと熔体鉛と
が互いに効率良く接触するよう整流している。整流板１
３は、互い違い状に配置され、整流板１３同士の間、あ
るいは整流板１３とコンデンサ本体７との間に開口部を
形成する。
【００１０】このような鉛スプラッシュコンデンサーの
操業においては、熔体鉛を効率良くスプラッシュさせる
ために、鉛スプラッシュローター４の攪拌羽根を熔体鉛
中の適切な深さに保つことと、熔体鉛と還元炉排ガスと
を良好に整流することとが極めて重要となる。このため
には整流板１３の各々の開口部の開口状態をいかに良好
な状態に維持し、閉塞させないようにすることが重要と
なる。しかし、熔体鉛層の表面には還元炉排ガスに含ま
れるダストや再酸化して発生した酸化亜鉛ダストを主と
したいわゆるコンデンサードロスが浮遊する。
操業においては、熔体鉛を効率良くスプラッシュさせる
ために、鉛スプラッシュローター４の攪拌羽根を熔体鉛
中の適切な深さに保つことと、熔体鉛と還元炉排ガスと
を良好に整流することとが極めて重要となる。このため
には整流板１３の各々の開口部の開口状態をいかに良好
な状態に維持し、閉塞させないようにすることが重要と
なる。しかし、熔体鉛層の表面には還元炉排ガスに含ま
れるダストや再酸化して発生した酸化亜鉛ダストを主と
したいわゆるコンデンサードロスが浮遊する。
【００１１】このコンデンサードロスは、熔体鉛と共に
コンデンサー下流側から上流側に移動してサンプ５へ排
出される。この移動の際に、整流板１３が障害物とな
り、コンデンサードロスは、整流板１３の開口部に堆積
し、該開口部を閉塞させることになる。この閉塞現象が
顕著となるのは、サンプ５へのコンデンサードロスの排
出が不十分で、整流板１３の上流域の熔体鉛層上にコン
デンサードロスが多量に堆積しているときである。
コンデンサー下流側から上流側に移動してサンプ５へ排
出される。この移動の際に、整流板１３が障害物とな
り、コンデンサードロスは、整流板１３の開口部に堆積
し、該開口部を閉塞させることになる。この閉塞現象が
顕著となるのは、サンプ５へのコンデンサードロスの排
出が不十分で、整流板１３の上流域の熔体鉛層上にコン
デンサードロスが多量に堆積しているときである。
【００１２】このようにして、整流板１３における開口
部が閉塞したために、熔体鉛の円滑な流れが妨げられる
と、コンデンサー本体７の下流側では熔体鉛層のレベル
が上昇し、上流側では逆に低下する。この結果、鉛スプ
ラッシュローター４の羽根の位置が最適位置よりずれ、
スプラッシュ効率の低下を招く。甚だしい場合には、コ
ンデンサー本体７とサンプ５との間に設けられたシール
部でシール切れが生じ、コンデンサー本体７内から一酸
化炭素濃度の高い還元炉排ガスが洩出し、安全上極めて
危険な状況となる。
部が閉塞したために、熔体鉛の円滑な流れが妨げられる
と、コンデンサー本体７の下流側では熔体鉛層のレベル
が上昇し、上流側では逆に低下する。この結果、鉛スプ
ラッシュローター４の羽根の位置が最適位置よりずれ、
スプラッシュ効率の低下を招く。甚だしい場合には、コ
ンデンサー本体７とサンプ５との間に設けられたシール
部でシール切れが生じ、コンデンサー本体７内から一酸
化炭素濃度の高い還元炉排ガスが洩出し、安全上極めて
危険な状況となる。
【００１３】よって、これを防止するために整流板１３
の開口部のコンデンサードロスを適宜除去しなければな
らない。しかし、操業中にコンデンサー本体７に付属す
る点検口を解放して整流板１３の開口部の閉塞物を除去
しようとすれば、コンデンサー本体内には、一酸化炭素
濃度が高く、比較的低温度の還元炉排ガスが充満してい
るから、これにより一酸化炭素中毒やガス爆発を引き起
こす危険が高くなる。そのため、整流板１３の開口部の
閉塞物の除去は炉操業を停止して実施する必要があり、
操業度の低下が避けられない。
の開口部のコンデンサードロスを適宜除去しなければな
らない。しかし、操業中にコンデンサー本体７に付属す
る点検口を解放して整流板１３の開口部の閉塞物を除去
しようとすれば、コンデンサー本体内には、一酸化炭素
濃度が高く、比較的低温度の還元炉排ガスが充満してい
るから、これにより一酸化炭素中毒やガス爆発を引き起
こす危険が高くなる。そのため、整流板１３の開口部の
閉塞物の除去は炉操業を停止して実施する必要があり、
操業度の低下が避けられない。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】以上述べたようにコン
デンサードロスが整流板に付着することを防止すること
と、あるいは操業度を低下させることなくコンデンサー
ドロスを整流板より除去することは、極めて重要である
にも拘らず、未だ有効な方法は開示されていない。
デンサードロスが整流板に付着することを防止すること
と、あるいは操業度を低下させることなくコンデンサー
ドロスを整流板より除去することは、極めて重要である
にも拘らず、未だ有効な方法は開示されていない。
【００１５】本発明は上記状況に鑑みなされたものであ
り、コンデンサードロスの整流板への付着を防止するた
めの方法の提供を目的とする。
り、コンデンサードロスの整流板への付着を防止するた
めの方法の提供を目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の方法は、亜鉛蒸気を含有した還元炉排ガスから亜鉛
を熔融亜鉛として回収する鉛スプラッシュコンデンサー
の操業方法において、コンデンサー本体内に設けられた
整流板の近傍の熔体鉛中に不活性ガス、一酸化炭素、二
酸化炭素の少なくとも一種を５Ｎｍ3 ／時以上の割合で
吹き込むものであり、好ましくは断続的または連続的に
吹き込むものである。
明の方法は、亜鉛蒸気を含有した還元炉排ガスから亜鉛
を熔融亜鉛として回収する鉛スプラッシュコンデンサー
の操業方法において、コンデンサー本体内に設けられた
整流板の近傍の熔体鉛中に不活性ガス、一酸化炭素、二
酸化炭素の少なくとも一種を５Ｎｍ3 ／時以上の割合で
吹き込むものであり、好ましくは断続的または連続的に
吹き込むものである。
【００１７】
【作用】熔体鉛の表面に浮遊するコンデンサードロス
は、発生して間もない初期段階では粉状で分散しやすい
が、相互に付着成長したり、あるいは整流板に付着した
りして、固化してしまうと、容易に除去できない。この
現象を利用して、本発明の方法は、コンデンサードロス
発生の初期の段階で、整流板へのコンデンサードロスの
付着を防止する。
は、発生して間もない初期段階では粉状で分散しやすい
が、相互に付着成長したり、あるいは整流板に付着した
りして、固化してしまうと、容易に除去できない。この
現象を利用して、本発明の方法は、コンデンサードロス
発生の初期の段階で、整流板へのコンデンサードロスの
付着を防止する。
【００１８】コンデンサー本体内に設けられた整流板の
近傍に不活性ガスなどを吹き込むのは、整流板開口部の
近傍の熔体鉛を攪拌し、その表面に堆積するダストが互
いに付着成長したり、あるいは整流板に付着したりして
固化する前に、コンデンサー内に分散させ、ダストの滞
留を防止するためである。なお、不活性ガスなどを吹き
込む深さは特に制限するものではなく、任意でよい。
近傍に不活性ガスなどを吹き込むのは、整流板開口部の
近傍の熔体鉛を攪拌し、その表面に堆積するダストが互
いに付着成長したり、あるいは整流板に付着したりして
固化する前に、コンデンサー内に分散させ、ダストの滞
留を防止するためである。なお、不活性ガスなどを吹き
込む深さは特に制限するものではなく、任意でよい。
【００１９】熔体鉛中に吹き込む気体として不活性ガス
や一酸化炭素や二酸化炭素を使用するのは、コンデンサ
ー本体内の還元炉排ガス中のＣＯ濃度が２０〜４５％と
高く、かつ排ガス温度は４００〜７００℃と低温である
ため、Ｏ2 が混入するとＣＯ爆発を引き起こす危険性が
あるからである。不活性ガス、一酸化炭素、二酸化炭素
は、単独で用いても混合して用いても良い。このため
に、除塵した後の還元炉排ガスを利用できる。
や一酸化炭素や二酸化炭素を使用するのは、コンデンサ
ー本体内の還元炉排ガス中のＣＯ濃度が２０〜４５％と
高く、かつ排ガス温度は４００〜７００℃と低温である
ため、Ｏ2 が混入するとＣＯ爆発を引き起こす危険性が
あるからである。不活性ガス、一酸化炭素、二酸化炭素
は、単独で用いても混合して用いても良い。このため
に、除塵した後の還元炉排ガスを利用できる。
【００２０】熔体鉛浴の表層に堆積したダストをコンデ
ンサー内に分散し、かつその滞留を防止するために必要
とされる不活性ガスの吹き込み量は、整流板の開口部の
大きさ、不活性ガスの吹き込む深さ及びコンデンサード
ロスの堆積量に応じて異なる。しかし、生産規模のスプ
ラッシュコンデンサーでは、５Ｎｍ3 ／Ｈ以上の吹き込
みガス量にすれば本発明の目的は達成できる。また、こ
のガス吹き込み操作は、整流板開口部の閉塞時のみに実
施するよりも、熔体鉛を循環させている間において断続
的もしくは連続的に実施する方が望ましい。コンデンサ
ードロス発生の初期の段階に整流板への付着を防止する
のが、本発明の方法の基本だからである。
ンサー内に分散し、かつその滞留を防止するために必要
とされる不活性ガスの吹き込み量は、整流板の開口部の
大きさ、不活性ガスの吹き込む深さ及びコンデンサード
ロスの堆積量に応じて異なる。しかし、生産規模のスプ
ラッシュコンデンサーでは、５Ｎｍ3 ／Ｈ以上の吹き込
みガス量にすれば本発明の目的は達成できる。また、こ
のガス吹き込み操作は、整流板開口部の閉塞時のみに実
施するよりも、熔体鉛を循環させている間において断続
的もしくは連続的に実施する方が望ましい。コンデンサ
ードロス発生の初期の段階に整流板への付着を防止する
のが、本発明の方法の基本だからである。
【００２１】
【実施例】次に本発明の実施例について図１〜図５に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【００２２】図２は、本発明の実施例に係る鉛スプラッ
シュコンデンサーの構成を示した概略平面図である。こ
の鉛スプラッシュコンデンサーは、コンデンサー本体７
と、冷却樋８と、フラックス炉９と、分離炉１０と、加
熱炉１１と、リターン炉１２とから構成されている。コ
ンデンサー本体７と冷却樋８との間で熔体鉛が循環する
ようになっている。
シュコンデンサーの構成を示した概略平面図である。こ
の鉛スプラッシュコンデンサーは、コンデンサー本体７
と、冷却樋８と、フラックス炉９と、分離炉１０と、加
熱炉１１と、リターン炉１２とから構成されている。コ
ンデンサー本体７と冷却樋８との間で熔体鉛が循環する
ようになっている。
【００２３】コンデンサー本体７は、一端が還元炉１７
の出口１に結合され、他端に煙道２が設けられている。
コンデンサー本体７の中央部３に鉛スプラッシュロータ
ー４を３個設けてある。還元炉排ガスの流れに沿って、
各鉛スプラッシュローター４の下流側にそれぞれ整流板
１３を設置した。
の出口１に結合され、他端に煙道２が設けられている。
コンデンサー本体７の中央部３に鉛スプラッシュロータ
ー４を３個設けてある。還元炉排ガスの流れに沿って、
各鉛スプラッシュローター４の下流側にそれぞれ整流板
１３を設置した。
【００２４】図３は、鉛スプラッシュコンデンサー本体
７内の鉛スプラッシュローター４と整流板１３（１３
ａ、１３ｂ、１３ｃで示す）との位置を示した平断面図
である。
７内の鉛スプラッシュローター４と整流板１３（１３
ａ、１３ｂ、１３ｃで示す）との位置を示した平断面図
である。
【００２５】整流板１３ａ、１３ｃは、同型状であっ
て、Ｂ−Ｂ矢視図において、図５に示すように、コンデ
ンサー本体７の横断面で中央に設置する。整流板１３ｂ
は、Ａ−Ａ矢視図において、図４に示すように、コンデ
ンサー本体７の両側壁に接して設置する。図４では、整
流板１３ｂ同士の間に開口部が形成され、図５では、整
流板１３ａとコンデンサー本体７の側壁との間に開口部
が形成されている。▽は、熔体鉛１５のレベルを示す。
て、Ｂ−Ｂ矢視図において、図５に示すように、コンデ
ンサー本体７の横断面で中央に設置する。整流板１３ｂ
は、Ａ−Ａ矢視図において、図４に示すように、コンデ
ンサー本体７の両側壁に接して設置する。図４では、整
流板１３ｂ同士の間に開口部が形成され、図５では、整
流板１３ａとコンデンサー本体７の側壁との間に開口部
が形成されている。▽は、熔体鉛１５のレベルを示す。
【００２６】コンデンサー本体７は、長さ５ｍ、幅１
ｍ、高さ０．５８ｍの内寸法を持ち、熔体鉛保有量は、
１２．６ｔである。
ｍ、高さ０．５８ｍの内寸法を持ち、熔体鉛保有量は、
１２．６ｔである。
【００２７】図１は、本発明の実施例に係る鉛スプラッ
シュコンデンサー本体７の中央縦断面部分図であり、熔
体鉛中に窒素を吹き込むランス１４の設置位置を示す図
である。ランス１４は、内径１０ｍｍのＳＵＳ製パイプ
で形成され、その挿入位置は、閉塞の最も激しい上流に
位置する整流板１３ａの近傍で、熔体鉛浴１５の深さ５
０ｍｍの位置にランス先端を設置した。
シュコンデンサー本体７の中央縦断面部分図であり、熔
体鉛中に窒素を吹き込むランス１４の設置位置を示す図
である。ランス１４は、内径１０ｍｍのＳＵＳ製パイプ
で形成され、その挿入位置は、閉塞の最も激しい上流に
位置する整流板１３ａの近傍で、熔体鉛浴１５の深さ５
０ｍｍの位置にランス先端を設置した。
【００２８】以上の装置を用い、表１の条件に従い、亜
鉛蒸気を含有した還元炉排ガスから亜鉛を熔融亜鉛とし
て回収する操業を実施した。熔体鉛の循環量は８６．６
ｔ／ｈであった。
鉛蒸気を含有した還元炉排ガスから亜鉛を熔融亜鉛とし
て回収する操業を実施した。熔体鉛の循環量は８６．６
ｔ／ｈであった。
【００２９】
【表１】
【００３０】還元炉排ガスは、還元炉１７の出口１から
鉛スプラッシュコンデンサー本体７に入る。コンデンサ
ー本体７に設けられた鉛スプラッシュローター４により
熔体鉛１５と還元炉排ガスは接触し、還元炉排ガス中の
亜鉛蒸気は熔体鉛１５中に熔解する。
鉛スプラッシュコンデンサー本体７に入る。コンデンサ
ー本体７に設けられた鉛スプラッシュローター４により
熔体鉛１５と還元炉排ガスは接触し、還元炉排ガス中の
亜鉛蒸気は熔体鉛１５中に熔解する。
【００３１】還元炉排ガスと熔体鉛１５の接触をよくす
るため、図３〜図４に示すように、整流板１３ａ、１３
ｂ、１３ｃを設置してある。
るため、図３〜図４に示すように、整流板１３ａ、１３
ｂ、１３ｃを設置してある。
【００３２】前述のように、整流板１３ａ、１３ｂ、１
３ｃにコンデンサードロスが堆積するのを防止するた
め、図１に示すランス１４より、１Ｋｇ／ｃｍ2 の圧力
で１０Ｎｍ3 ／Ｈの割合で窒素ガスを吹き込んだ。な
お、この際、熔体鉛１５の層の深さは２００ｍｍであっ
た。
３ｃにコンデンサードロスが堆積するのを防止するた
め、図１に示すランス１４より、１Ｋｇ／ｃｍ2 の圧力
で１０Ｎｍ3 ／Ｈの割合で窒素ガスを吹き込んだ。な
お、この際、熔体鉛１５の層の深さは２００ｍｍであっ
た。
【００３３】操業開始後、コンデンサー本体７の上流と
下流の熔体鉛１５中の整流板１３ａの前後のレベルの差
は、２ｍｍ程度であり、ほとんどないといえる。コンデ
ンサー本体７からの一酸化炭素の漏れもなく順調に操業
を継続できた。６０時間後、点検のために操業を停止
し、コンデンサー本体７の内部を点検したが、整流板１
３ａの開口部には少量のコンデンサードロスの付着物が
認められたものの、開口部は十分に確保されていること
が確認できた。
下流の熔体鉛１５中の整流板１３ａの前後のレベルの差
は、２ｍｍ程度であり、ほとんどないといえる。コンデ
ンサー本体７からの一酸化炭素の漏れもなく順調に操業
を継続できた。６０時間後、点検のために操業を停止
し、コンデンサー本体７の内部を点検したが、整流板１
３ａの開口部には少量のコンデンサードロスの付着物が
認められたものの、開口部は十分に確保されていること
が確認できた。
【００３４】
【比較例】実施例と同じ装置を用い、窒素ガスの吹き込
みを中止し、表１に示した条件で操業を行った。
みを中止し、表１に示した条件で操業を行った。
【００３５】操業開始後３６時間で整流板１３ａの前後
で約３０ｍｍの熔体鉛１５のレベルに差が生じ、４３時
間後にはサンプ５からコンデンサー本体７内部のガスが
漏れだし、操業の継続が困難となり操業を停止した。そ
の後、コンデンサー本体７の内部を点検観察した。その
状況を図６に模式的に平断面図で示した。コンデンサー
ドロスによる整流板１３ａ開口部の閉塞状況が激しく、
片側は（図面で下側）完全に熔体鉛の流路を塞いでい
た。
で約３０ｍｍの熔体鉛１５のレベルに差が生じ、４３時
間後にはサンプ５からコンデンサー本体７内部のガスが
漏れだし、操業の継続が困難となり操業を停止した。そ
の後、コンデンサー本体７の内部を点検観察した。その
状況を図６に模式的に平断面図で示した。コンデンサー
ドロスによる整流板１３ａ開口部の閉塞状況が激しく、
片側は（図面で下側）完全に熔体鉛の流路を塞いでい
た。
【００３６】図７は、図６のＣ−Ｃ矢視図で、整流板１
３ａにおけるコンデンサードロスの堆積状況を表す。
３ａにおけるコンデンサードロスの堆積状況を表す。
【００３７】
【発明の効果】本発明の方法によれば、コンデンサー本
体内の熔体鉛表面に堆積するダストなどを容易に熔体鉛
と共にサンプに排出できるため、整流板における開口部
をコンデンサードロスが閉塞するのを防止することがで
きる。従って、鉛スプラッシュコンデンサーの操業が安
定して、効率よく実施できる。
体内の熔体鉛表面に堆積するダストなどを容易に熔体鉛
と共にサンプに排出できるため、整流板における開口部
をコンデンサードロスが閉塞するのを防止することがで
きる。従って、鉛スプラッシュコンデンサーの操業が安
定して、効率よく実施できる。
【図１】本発明の実施例で熔体鉛中に窒素を吹き込むラ
ンスの挿入位置を示した鉛スプラッシュコンデンサー本
体の中央縦断面部分図である。
ンスの挿入位置を示した鉛スプラッシュコンデンサー本
体の中央縦断面部分図である。
【図２】鉛スプラッシュコンデンサーの構成を示した概
略平面図である。
略平面図である。
【図３】鉛スプラッシュコンデンサーのコンデンサー本
体内の鉛スプラッシュローターと整流板との位置を示し
た平断面図である。
体内の鉛スプラッシュローターと整流板との位置を示し
た平断面図である。
【図４】図３のＡ−Ａ矢視図である。
【図５】図３のＢ−Ｂ矢視図である。
【図６】本発明に対する比較例の結果を示したものであ
り、コンデンサードロスによる整流板開口部の閉塞状況
を示した平断面図である。
り、コンデンサードロスによる整流板開口部の閉塞状況
を示した平断面図である。
【図７】図６のＣ−Ｃ矢視図である。
１ 還元炉出口
２ 排煙道
３ 中央部
４ 鉛スプラッシュローター
５ サンプ
６ 鉛ポンプ
７ コンデンサー本体
８ 冷却樋
９ フラッス炉
１０ 分離炉
１１ 加熱炉
１２ リターン炉
１３ａ、１３ｂ、１３ｃ 整流板
１４ Ｎ2 吹込みランス
１５ 熔体鉛
１６ 堰
１７ 還元炉
─────────────────────────────────────────────────────
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(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C22B 1/00 - 61/00
Claims (3)
- 【請求項１】 亜鉛蒸気を含有した還元炉排ガスから亜
鉛を熔融亜鉛として回収する鉛スプラッシュコンデンサ
ーにおいて、コンデンサー本体内に設けられた整流板の
近傍にある熔体鉛中に不活性ガス、一酸化炭素、二酸化
炭素の少なくとも一種を吹き込んで、コンデンサードロ
スを分散させることを特徴とする鉛スプラッシュコンデ
ンサーの操業方法。 - 【請求項２】 不活性ガス、一酸化炭素、二酸化炭素の
少なくとも一種を５Ｎｍ3 ／時以上の割合で断続的に吹
き込むことを特徴とする請求項１記載の鉛スプラッシュ
コンデンサーの操業方法。 - 【請求項３】 不活性ガス、一酸化炭素、二酸化炭素の
少なくとも一種を５Ｎｍ3 ／時以上の割合で連続的に吹
き込むことを特徴とする請求項１記載の鉛スプラッシュ
コンデンサーの操業方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24350193A JP3436397B2 (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 鉛スプラッシュコンデンサーの操業方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24350193A JP3436397B2 (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 鉛スプラッシュコンデンサーの操業方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0770661A JPH0770661A (ja) | 1995-03-14 |
| JP3436397B2 true JP3436397B2 (ja) | 2003-08-11 |
Family
ID=17104839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24350193A Expired - Fee Related JP3436397B2 (ja) | 1993-09-06 | 1993-09-06 | 鉛スプラッシュコンデンサーの操業方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3436397B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010007104A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-01-14 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ドロスの処理設備および処理方法 |
-
1993
- 1993-09-06 JP JP24350193A patent/JP3436397B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0770661A (ja) | 1995-03-14 |
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