JP3427412B2 - 弗素化ポリシロキサン類およびその製造方法 - Google Patents
弗素化ポリシロキサン類およびその製造方法Info
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- Silicon Polymers (AREA)
Description
サン類およびその製造方法に関する。
などにより油状、ゴム状、樹脂状と幅広い性状を示す。
その特徴である有機溶媒可溶性、酸化安定性、耐熱性、
耐寒性、耐候性などを利用して、接着剤分野、電気・電
子材料分野、塗料分野など多岐の工業分野で使用されて
いる。
リシロキサン類を開発すべく鋭意研究の結果、一般式
(4)の構造を有するポリマーは新規ポリマーであり、
弗素を含有しないポリシロキサンと比較して、比誘電率
が低いことを見出し、この知見に基づいて本発明を完成
するに到った。
般式(4)
は1または2、yは0、1または2を示す。n=1〜1
0,000、m=0〜10,000の整数を示す。)の
構造を有し、ポリマー中の弗素含有量が0.1〜30重
量%であることを特徴とする弗素化ポリシロキサン類が
提供される。
記載の新規なポリマーである。式中Rは水素原子または
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基など
の低級アルキル基を示す。
は例えば、一般式(5)で表される弗素化シラン化合物
を、または前記弗素化シラン化合物と一般式(6)で表
されるシラン化合物との混合物を有機溶媒で希釈し、水
の存在下に加水分解縮合させる方法が挙げられる。
キル基を示す。)
素原子または低級アルキル基を示す。)A1 はメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基などの低級
アルキル基を、A2 は同様のアルキル基または水素原子
を示す。
素化シラン化合物1モルに対し、一般式(6)で表され
シラン化合物が通常0.1〜99モル、好ましくは0.
5〜20モルの範囲で用いられる。
れる。ケトン類としてはアセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトンなどが、エーテル類として
はジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコ
ールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなど
が例示される。
る。水の使用量は、通常、弗素化シラン化合物及びシラ
ン化合物の加水分解可能な官能基1モルに対して1〜1
00モル、好ましくは1〜20モルの範囲である。
ましくは10〜60℃、0.5〜10時間で行われる。
含有量は0.1〜30重量%、好ましくは1.0〜30
重量%である。
子量(ゲルパーミェーションクロマトグラフィーにより
標準ポリスチレンに換算して求めた分子量)は1,00
0〜1,000,000、好ましくは2,000〜10
0,000である。
キサン類は比誘電率が低いので、電気・電子材料分野に
おける用途が期待できる。
に説明する。なお、実施例及び比較例中の部及び%は特
に断りのないかぎり重量基準である。
ン5.3グラムとメチルイソブチルケトン80ミリリッ
トルとを入れ、窒素気流下に−50℃に冷却した。攪拌
下に水3.1グラムを10分かけて滴下した。次に、室
温下で3時間攪拌を続けた。反応液に硫酸マグネシウム
を加え過剰の水を除去したところ、弗素化ポリシロキサ
ンが得られた。ポリマーの重量平均分子量(ゲルパーミ
ェーションクロマトグラフィーにより標準ポリスチレン
に換算して求めた分子量)は9,000であった。
す。IR(KBr):3400cm-1に−OHの吸収、
1100cm-1にSi−O−Siの吸収、950cm-1
にSi−Fの吸収が観察された。
l3 ):−150.7ppmに−O−Si−Fに帰属す
るシグナルが観察された。
ころF0.95Si1.00O1.52(理論値F1.00Si1.00O
1.50)であった。
した酸化膜について10KHzの容量・電圧特性から求
めた比誘電率は3.7であった。
として同様に分解縮合させて得たポリシロキサンについ
て比誘電率を求めたところ4.0であった。
ン1.8グラム、メチルトリエトキシシラン1.8グラ
ム及びメチルイソブチルケトン40ミリリットルとを入
れ、窒素気流下に−50℃に冷却した。攪拌下に水1.
1グラムを5分かけて滴下した。次に、室温下で3時間
攪拌を続けた。
を除去したところ、弗素化ポリシロキサンが得られた。
ポリマーの重量平均分子量(ゲルパーミェーションクロ
マトグラフィーにより標準ポリスチレンに換算して求め
た分子量)は29,100であった。
す。IR(KBr):3400cm-1に−OHの吸収、
2960及び1280cm-1に−Si−CH3 の吸収、
1100及び910cm-1にSi−O−Siの吸収が観
察された。
l3 ):−131.5ppmに−O−SiF−O−Si
CH3 −O−に帰属するシグナルが観察された。
ころF0.48Si1.00O1.54(理論値F0.50Si1.00O
1.50)であった。
した酸化膜について10KHzの容量・電圧特性から求
めた比誘電率は3.6であった。
ン2.8グラム、テトラトリエトキシシラン2.8グラ
ム及びメチルイソブチルケトン80ミリリットルとを入
れ、窒素気流下に−50℃に冷却した。攪拌下に水3.
6グラムを5分かけて滴下した。次に、室温下で3時間
攪拌を続けた。
を除去したところ、弗素化ポリシロキサンが得られた。
ポリマーの重量平均分子量(ゲルパーミェーションクロ
マトグラフィーにより標準ポリスチレンに換算して求め
た分子量)は30,000であった。
す。IR(KBr):3400cm-1に−OHの吸収、
1100及び910cm-1にSi−O−Siの吸収が観
察された。
l3 ):−150.7ppmに−O−SiFに帰属する
シグナルが観察された。
ころF0.52Si1.00O1.62(理論値F0.50Si1.00O
1.75)であった。
した酸化膜について10KHzの容量・電圧特性から求
めた比誘電率は3.6であった。
Claims (5)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、Rは水素原子または炭素数1〜3の低級アルキ
ル基を示す。xは1または2、yは0、1または2を示
す。n=15〜10,000、m=0〜10,000の
整数を示す。)の構造を有し、ポリマー中の弗素含有量
が0.1〜30重量%であることを特徴とする弗素化ポ
リシロキサン類。 - 【請求項2】 一般式(2)で表される弗素化シラン
化合物を加水分解縮合させてできる請求項1記載の弗素
化ポリシロキサン類。 【化2】 (式中、xは前述と同様のものを示す。A1 は炭素数1
〜3の低級アルキル基を示す。) - 【請求項3】 前記一般式(2)で表される弗素化シ
ラン化合物と一般式(3)で表されるシラン化合物との
混合物を加水分解縮合させてできる請求項1記載の弗素
化ポリシロキサン類。 【化3】 (式中、R及びyは前述と同様のものを示す。A2 は水
素原子または炭素数1〜3の低級アルキル基を示す。) - 【請求項4】 前記一般式(2)で表される弗素化シ
ラン化合物を有機溶媒で希釈し、水の存在下に加水分解
縮合させる工程を有してなる、 前記一般式(1)で表される弗素化ポリシロキサン類の
製造方法。 - 【請求項5】 前記一般式(2)で表される弗素化シ
ラン化合物と前記一般式(3)で表されるシラン化合物
との混合物を有機溶媒で希釈し、水の存在下に加水分解
縮合させる工程を有してなる、 前記一般式(1)で表される弗素化ポリシロキサン類の
製造方法。
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