JP3426722B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子収納用パッ
ケージ内部に半導体素子を収容して成る半導体装置に関
するものである。 【0002】 【従来技術】従来、コンピュータやICカード等の情報
処理装置に使用される半導体装置は、通常、酸化アルミ
ニウム質焼結体等の電気絶縁セラミックスから成り、そ
の上面中央部に半導体素子を搭載する搭載部を有する絶
縁基体と、ASTM Fー15(FeーNiーCo合
金)や42アロイ(FeーNi合金)等の金属から成
り、その一端が前記絶縁基体の上面外周部に結晶化ガラ
スから成る固定用ガラスで固定された外部リード端子
と、酸化アルミニウム質焼結体等の電気絶縁セラミック
スから成り、その下面外周部に非晶質ガラスから成る封
止用ガラスが被着された蓋体とから構成される半導体素
子収納用パッケージと半導体素子とを準備し、前記半導
体素子収納用パッケージの絶縁基体の半導体素子搭載部
に半導体素子をロウ材、ガラス、樹脂等の接着剤を介し
て搭載固定するとともに該半導体素子の電極を外部リー
ド端子にボンディングワイヤを介して電気的に接続し、
しかる後、前記絶縁基体上面に蓋体を載置させるととも
に蓋体の下面に予め被着させておいた封止用ガラスを溶
融させ、絶縁基体と蓋体とを内側に半導体素子を気密に
収容し、且つ間に外部リード端子を挟むようにして接合
することによって製作される。 【0003】尚、前記半導体装置では、一般に半導体素
子収納用パッケージの絶縁基体及び蓋体が同一形状を成
し、且つそれぞれの厚みが0.5〜1.0mmとなって
いることから半導体装置全体の厚みは1.4〜2.4m
m程度となっている。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近時、
コンピュータやICカード等の情報処理装置は、その薄
型化が急速に進んでおり、これに使用される半導体装置
も半導体素子収納用パッケージの絶縁基体及び蓋体の厚
みを例えば0.3mm以下に薄くすることによって全体
の厚みを1.0mm以下とすることが望まれている。 【0005】しかしながら、半導体素子収納用パッケー
ジの絶縁基体及び蓋体の厚みをそれぞれ0.3mm以下
の薄いものとした場合、絶縁基体及び蓋体の長さが通
常、約35mm以上と長いため剛性が弱いものとなり、
このため絶縁基体や蓋体に曲げや圧迫等の外力が印加さ
れると、絶縁基体は半導体素子が搭載固定されていて剛
性が補強されており大きく撓むことはないものの、蓋体
は、剛性を補強し得るものが何もないため大きく撓み、
その結果、蓋体にクラックが発生して内側に半導体素子
を気密に収容することが不可となり半導体素子を長期間
にわたり、正常、且つ安定に作動させることができない
という欠点を有していた。 【0006】そこで前記蓋体の外形寸法を絶縁基体の外
形寸法に対し小さくし、蓋体の剛性を上げ、蓋体を撓み
にくくすることによって蓋体にクラックが発生するのを
防止することが考えられる。 【0007】しかしながら、蓋体の外形寸法を絶縁基体
の外形寸法より小さいものとした場合、外部リード端子
の絶縁基体と蓋体による挟み込み面積が狭いものとなっ
て外部リード端子の絶縁基体上面への固定強度が弱いも
のとなり、外部リード端子に外力が印加されると外部リ
ード端子が固定用ガラスから剥離するとともに固定用ガ
ラスにクラックを発生させ、その結果、従来と同様、内
側に半導体素子を気密に収容することが不可となり、半
導体素子を長期間にわたり正常、且つ安定に作動させる
ことができないという欠点を誘発した。 【0008】 【発明の目的】本発明は、上記欠点に鑑み案出されたも
ので、その目的は内側に半導体素子を気密に収容し、半
導体素子を長期間にわたり正常、且つ安定に作動させる
ことができる薄型の半導体装置を提供することにある。 【0009】 【課題を解決するための手段】本発明は、上面中央部に
半導体素子が搭載され、上面外周部に複数の外部リード
端子が固定用ガラスで固定された絶縁基体と、セラミッ
クスから成る蓋体とを内側に半導体素子を収容し、且つ
間に外部リード端子を挟むようにして、溶融温度が前記
固定用ガラスの溶融結晶化温度よりも低い封止用ガラス
を介して接合して成る半導体装置であって、前記絶縁基
体の長さをL1、蓋体の長さをL2、蓋体の厚みをTとし
たとき下記各式を満足するとともに蓋体の側面と絶縁基
体上面外周部に固定された、溶融温度が前記固定用ガラ
スの溶融結晶化温度よりも低い固定用ガラスとの間に形
成される空間に外部リード端子の一部を被覆するガラス
部材を充填させたことを特徴とするものである。 【0010】L1 ≧L22 ≦30(mm) 0.3(mm)≧T≧0.009L 【0011】 【作用】本発明の半導体装置は半導体素子収納用パッケ
ージの蓋体の長さを30mm以下とし蓋体の剛性を強く
したことから、蓋体を0.3mm以下に薄くしても外力
印加により撓んでクラックを発生することはなく、その
結果、半導体装置を薄型として、且つ内側に収容する半
導体素子を長期間にわたり、正常に作動させることがで
きる。 【0012】また、蓋体の長さを絶縁基体の長さより短
くし、蓋体の側面と絶縁基体上面外周部に固定された固
定用ガラスとの間に形成される空間に外部リード端子の
一部を被覆する、溶融温度が前記固定用ガラスの溶融結
晶化温度よりも低いガラス部材を充填させたことから、
外部リード端子の固定強度が補強され、その結果、外部
リード端子に外力が印加されても外部リード端子が固定
用ガラスにクラックを発生しつつ剥離することはなく、
これによっても内側に収容する半導体素子の気密が完全
となり、半導体素子を長期間にわたり、正常、且つ安定
に作動させることができる。 【0013】 【実施例】次に本発明を添付図面に基づき詳細に説明す
る。 【0014】図1は本発明の半導体装置の一実施例を示
し、1は絶縁基体、2は蓋体、3は半導体素子である。 【0015】前記絶縁基体1は、その上面略中央部に半
導体素子3が搭載される搭載部1aを有し、該搭載部1
aには半導体素子3がガラス、樹脂、ロウ材等の接着剤
を介して接着固定されている。 【0016】前記絶縁基体1は酸化アルミニウム質焼結
体、窒化アルミニウム質焼結体、炭化珪素質焼結体等の
電気絶縁材料から成り、例えば酸化アルミニウム質焼結
体から成る場合には、アルミナ(Al 3)、シリ
カ(SiO2 )、マグネシア(MgO)、カルシア(C
aO)等に適当な有機溶剤、溶媒を添加混合して調整し
たセラミック原料粉末を所定形状のプレス型内に充填さ
せるとともに一定圧力を印加して成形し、しかる後、前
記成形品を約1500℃の温度で焼成することによって
製作される。 【0017】尚、前記絶縁基体1は半導体素子搭載部1
aに半導体素子3が接着固定され、半導体素子3によっ
て剛性が補強されているためICカード等に実装するに
あたり半導体装置の厚みを1.0mm以下とするために
その厚みを0.3mm以下の薄いものになしても外力印
加により撓みを発生することはなく、同時に撓みに起因
するクラックや割れの発生もない。 【0018】また前記絶縁基体1はその上面で半導体素
子搭載部1a周辺に外部リード端子5の一端が結晶化ガ
ラス等から成る固定用ガラス6を介して固定されてい
る。 【0019】前記外部リード端子5は半導体素子3を外
部電気回路に電気的に接続する作用を為し、外部リード
端子5の絶縁基体1上面に固定した一端側には半導体素
子3の電極がボンディングワイヤ7を介して接続され、
また他端側は外部電気回路に接続される。 【0020】前記外部リード端子5は42アロイ(Fe
ーNi合金)やASTM Fー15(FeーNiーCo
合金)等の金属材料から成り、例えば42アロイ等のイ
ンゴット(塊)を圧延加工法や打抜き加工法、従来周知
の金属加工法で所定の板状に成形することによって製作
される。 【0021】また前記外部リード端子5の一端を絶縁基
体1の上面に固定する固定用ガラス6としては、例え
ば、酸化鉛61.0重量%、酸化亜鉛9.3重量%、酸
化ジルコニウム9.2重量%、シリカ8.4重量%、酸
化ホウ素8.8重量%を含有する結晶化ガラスが好適に
使用される。 【0022】前記固定用ガラス6による絶縁基体1への
外部リード端子5の固定は、まず結晶化ガラスとなるガ
ラス粉末に適当な有機バインダー、溶剤を添加混合して
ガラスペーストを得、次にこのガラスペーストを絶縁基
体1の上面外周部に従来周知のスクリーン印刷法等を採
用することによって印刷塗布し、最後に絶縁基体1の上
面に印刷塗布されたガラスペースト上に外部リード端子
5の一端を載置させるとともにこれを約500℃の温度
で加熱し、ガラスペーストを溶融結晶化させることによ
って行われる。 【0023】更に前記外部リード端子5及び半導体素子
3が固定された絶縁基体1の上面には内側に半導体素子
3を収容し、且つ間に外部リード端子5を挟むようにし
てセラミックスから成る蓋体2が封止用ガラス8を介し
て接合されている。 【0024】前記蓋体2は例えば酸化アルミニウム質焼
結体等の電気絶縁セラミックスから成り、絶縁基体1と
同様の方法、即ち、アルミナ(Al2 3)、シリカ
(SiO2 )、マグネシア(MgO)、カルシア(Ca
O)等に適当な有機溶剤、溶媒を添加混合して調整した
セラミック原料粉末を所定形状のプレス型内に充填させ
るとともに一定圧力を印加して成形し、しかる後、前記
成形品を約1500℃の温度で焼成することによって製
作される。 【0025】前記蓋体2はまたその長さを30mm以下
とすることによって剛性が補強されており、これによっ
てICカード等に実装するにあたり半導体装置の厚みを
1.0mm以下とするために厚みを0.3mm以下の薄
いものになしても外力印加による撓みはほとんどな発生
することがなく該撓みに起因して蓋体2にクラックや割
れ等を発生することもない。従って、絶縁基体1と蓋体
2の内側に収容される半導体素子3はその気密が完全と
なり、半導体素子3を長期間にわたり、正常、且つ安定
に作動させることができる。 【0026】尚、前記蓋体2はその厚さTが長さL2
対し、T≦0.009L2となると蓋体2の剛性が弱く
なり、外力印加によって大きく撓むとともにクラックや
割れが発生してしまう。またT≧0.3(mm)となる
と半導体装置の全体厚みが厚くなりICカード等に実装
できなくなる。従って、前記蓋体2はその厚みTが長さ
2に対して0.3(mm)≧T≧0.009L2の範囲
に特定される。を長期間にわたり正常に作動させること
が可能となる。 【0027】また前記蓋体2を絶縁基体1に接合させる
封止用ガラス8としては、例えば、酸化鉛75重量%、
酸化チタン9.0重量%、酸化ホウ素7.5重量%及び
酸化亜鉛2.0重量%を含有する非晶質ガラスが好適に
使用される。 【0028】前記封止用ガラス8による蓋体2の絶縁基
体1への接合は、まず前記組成のガラス粉末に適当な有
機バインダー、溶剤を添加混合してガラスペーストを
得、次にこのガラスペーストを蓋体2の下面外周部に従
来周知のスクリーン印刷法等を採用することによって印
刷塗布し、最後に、蓋体2を絶縁基体1上に印刷塗布し
たガラスペーストが絶縁基体1側となるようにして載置
させるとともにこれを約420℃の温度で加熱し、ガラ
スペーストを溶融させることによって行われる。更に前
記蓋体2はその長さL2 を絶縁基体1の長さL1 より短
くし(L1 >L2 )、蓋体2の側面と絶縁基体1の上面
外周部に固定された固定用ガラス6との間に形成される
空間に外部リード端子5の一部を被覆するガラス部材9
が充填されている。 【0029】前記ガラス部材9は固定用ガラス6によっ
て絶縁基体1上に固定されている外部リード端子5の固
定強度を補強する作用を為し、これによって外部リード
端子5は絶縁基体1上に強固に固定され、外力が印加さ
れても外部リード端子5は固定用ガラス6にクラックを
発生させつつ剥離することはない。従って、絶縁基体1
と蓋体2との内側に収容されている半導体素子3は固定
用ガラス6にクラックの発生がないことから気密が完全
となり、半導体素子3を長期間にわたり、正常、且つ安
定に作動させることができる。 【0030】前記ガラス部材9は例えば蓋体2を絶縁基
体1上に接合させる封止用ガラス8と同様の非晶質ガラ
ス、即ち、酸化鉛75重量%、酸化チタン9.0重量
%、酸化ホウ素7.5重量%及び酸化亜鉛2.0重量%
を含有する非晶質ガラスが好適に使用される。 【0031】また前記ガラス部材9の蓋体2側面及び絶
縁基体1の上面外周部への被着は、例えば封止用ガラス
8を形成する際に使用したガラスペーストを蓋体2側面
と絶縁基体1の上面外周部に位置する固定用ガラス6と
の間に形成される空間に塗布し、しかる後、これを約4
20℃の温度に加熱し、ガラスペーストを溶融させるこ
とによって、或いは蓋体2を絶縁基体1の上面に封止用
ガラス8を介して接合させるに先だち、絶縁基体1上の
蓋体2の側面が当接する領域に前記ガラスペーストを予
め過分に印刷塗布しておくことによって行われる。 【0032】かくして本発明の半導体装置は絶縁基体1
及び蓋体2の剛性が補強され、撓み難くなっているため
絶縁基体1及び蓋体2の厚みを0.3mm以下として全
体の厚みを1.0mm以下の薄型になすことができ、こ
れによってICカード等への実装も可能となる。 【0033】尚、本発明は上述の実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲であれば種
々の変更は可能であり、上述の実施例では、絶縁基体1
に外部リード端子5を固定する固定用ガラス6として結
晶化ガラスを使用したが、非晶質ガラスを使用してもよ
い。 【0034】 【発明の効果】本発明の半導体装置によれば、半導体素
子収納用パッケージの蓋体の長さを30mm以下とし蓋
体の剛性を強くしたことから、蓋体を0.3mm以下に
薄くしても外力印加により撓んでクラックを発生するこ
とはなく、その結果、半導体装置を薄型として、且つ内
側に収容する半導体素子を長期間にわたり、正常に作動
させることができる。 【0035】また、蓋体の長さを絶縁基体の長さより短
くし、蓋体の側面と絶縁基体上面外周部に固定された固
定用ガラスとの間に形成される空間に外部リード端子の
一部を被覆する、溶融温度が前記固定用ガラスの溶融結
晶化温度よりも低いガラス部材を充填させたことから、
外部リード端子の固定強度が補強され、その結果、外部
リード端子に外力が印加されても外部リード端子が固定
用ガラスにクラックを発生しつつ剥離することはなく、
これによっても内側に収容する半導体素子の気密が完全
となり、半導体素子を長期間にわたり、正常、且つ安定
に作動させることができる。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の半導体装置の一実施例を示す断面図で
ある。 【符号の説明】 1・・・絶縁基体 2・・・蓋体 3・・・半導体素子 5・・・外部リード端子 6・・・固定用ガラス 8・・・封止用ガラス 9・・・ガラス部材

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】上面中央部に半導体素子が搭載され、上面
    外周部に複数の外部リード端子が固定用ガラスで固定さ
    れた絶縁基体と、セラミックスから成る蓋体とを内側に
    半導体素子を収容し、且つ間に外部リード端子を挟むよ
    うにして、溶融温度が前記固定用ガラスの溶融結晶化温
    度よりも低い封止用ガラスを介して接合して成る半導体
    装置であって、前記絶縁基体の長さをL1、蓋体の長さ
    をL2、蓋体の厚みをTとしたとき下記各式を満足する
    とともに蓋体の側面と絶縁基体上面外周部に固定された
    固定用ガラスとの間に形成される空間に外部リード端子
    の一部を被覆する、溶融温度が前記固定用ガラスの溶融
    結晶化温度よりも低いガラス部材を充填させたことを特
    徴とする半導体装置。 L1≧L22≦30(mm) 0.3(mm)≧T≧0.009L2
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