JP3414717B2 - And a manufacturing method thereof electromagnetically transparent metallized film transfer material - Google Patents

And a manufacturing method thereof electromagnetically transparent metallized film transfer material

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JP3414717B2 JP2000397027A JP2000397027A JP3414717B2 JP 3414717 B2 JP3414717 B2 JP 3414717B2 JP 2000397027 A JP2000397027 A JP 2000397027A JP 2000397027 A JP2000397027 A JP 2000397027A JP 3414717 B2 JP3414717 B2 JP 3414717B2
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太一郎 中山
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株式会社ニッカテクノ
親和産業株式会社
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【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、高輝度の電磁波透過性金属蒸着膜転写材とその製造方法に関し、詳しくは、例えば、高周波照射を受けても、放電や熱収縮、燃焼等を引き起こすことがなく、食品包装材やそれに貼付するラベル紙、印刷紙等に高輝度で電磁波透過性の金属蒸着膜を転写するために好適な電磁波透過性金属蒸着膜転写材とそのような電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] [Technical Field of the Invention The present invention includes a high intensity electromagnetic permeable metal deposited film transfer material relates manufacturing method thereof, particularly, for example, be subjected to microwave irradiation, discharge or thermal contraction, without causing burning or the like, labels to affix food packaging and thereto suitable electromagnetic waves in order to transfer the electromagnetic permeability of the vapor-deposited metal film at a high luminance in the printing paper or the like permeable metal deposited film transfer material and a method of manufacturing such an electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material. 【0002】 【従来の技術】従来から、絶縁性金属蒸着膜転写材として、島の大きさを200Å〜1μmとすると共に、島相互の間隔を100〜5000Åとした島状構造を有する金属蒸着膜をスズ、鉛、亜鉛、ビスマス、アンチモン等の金属から形成してなる絶縁層を有するものが知られている。 2. Description of the Related Art Conventionally, as the insulating metal vapor deposition film transfer material, with the 200Å~1μm the size of the island, metallized film having the island structure apart islands mutually and 100~5000Å tin, and lead, zinc, bismuth, those having an insulating layer obtained by forming a metal antimony known. しかし、このような金属蒸着膜は、その厚みが3 However, such metal deposited film has a thickness of 3
00Å以上(光線透過率にして10%以下)程度になると、島が連続して一体となり、上記島状構造とした本来の目的である絶縁性を失なって、良導電性を示すに至ることとなる。 Becomes (10% or less in the light transmittance) degree or higher Å, come together island continuously, the insulating which is the original purpose was the island structure is lost, can lead to showing a good conductivity to become. 【0003】また、上述したような従来の絶縁性金属蒸着膜を有するラベルを貼着した食品包装材は、高感度異物検出機による検査においても、金属異物が混入しているとして誤認されることもある。 [0003] Food packaging materials that attaching a label having a conventional insulating metal vapor deposited film as described above, even in investigations on sensitive foreign object detector, the metal foreign matter is misidentified as contaminating there is also. 更に、そのような食品包装材を電子レンジによる調理やウェルダー箔押転写加工に際して、マイクロ波のような高周波を照射すると、 Furthermore, when cooking or welder foil 押転 copy processing such food packaging by microwave is irradiated with high-frequency, such as microwave,
放電や熱収縮、場合によっては、燃焼さえも生じる重大な問題がある。 Discharge or thermal contraction, in some cases, there are significant problems arising even combustion. 【0004】他方、上記絶縁性金属蒸着膜の厚みが20 [0004] On the other hand, the thickness of the insulating metal vapor deposited film 20
0Å以下(光線透過率にして15%以上)程度に薄いときは、美麗な金属光沢をもたず、黒ずんだ色感があり、 0Å less (15% or more in the light transmittance) when thin extent, no beautiful metallic luster, there is a color sense of dark,
外観が悪い問題がある。 Appearance is a bad problem. 【0005】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の絶縁性金属蒸着膜転写材における上述したような問題を解決するためになされたものであって、十分な絶縁性を有し、従って、電磁波透過性を有すると共に、美麗で高輝度の金属光沢を有し、耐膜性強度の高い金属蒸着膜を与えることができる電磁波透過性金属蒸着膜転写材とその製造方法を提供することを目的とする。 [0005] [SUMMARY OF THE INVENTION The present invention, which has been made to solve the problems described above in conventional insulating metal vapor deposition film transfer material has a sufficient insulating property , therefore, which has an electromagnetic wave permeability, beautiful in having a metallic luster of high brightness, provide a manufacturing method thereof 耐膜 of high strength metal evaporated film electromagnetically transparent metallized film transfer material which can give and an object thereof. 【0006】 【課題を解決するための手段】本発明によれば、基材上に離型剤層、内部保護用透明樹脂層、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜及び接着剤層をこの順序にて有し、上記酸化インジウムがIn 2x (式中、xは1.0 [0006] According to the present invention, in order to solve the problems], release agent layer on the substrate, the internal protective transparent resin layer, the indium / indium oxide composite deposited film and the adhesive layer in this order It has, in the indium oxide in 2 O x (wherein, x is 1.0
〜1.9の範囲の数である。 Is a number in the range of 1.9. )で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジウム/酸化インジウム重量比が95 Together represented by), indium / indium oxide weight ratio of the composite deposited film is 95
/5〜80/20の範囲にあることを特徴とする電磁波透過性金属蒸着膜転写材が提供される。 / Electromagnetically transparent metallized film transfer material which lies in the range of 5 to 80/20, is provided. 【0007】特に、本発明によれば、上記インジウム/ [0007] In particular, according to the present invention, the indium /
酸化インジウム複合蒸着膜が厚み250〜500Åを有することが好ましい。 Indium oxide composite deposited film preferably has a thickness 250~500A. 【0008】更に、本発明によれば、基材上に離型剤層と内部保護用透明樹脂層をこの順序で積層した後、この内部保護用透明樹脂層上に高周波励起プラズマ又は電子線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着法にてインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を積層し、次いで、この蒸着膜上に接着剤層を積層する電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法において、上記酸化インジウムがIn 2x (式中、xは1.0〜1.9の範囲の数である。)で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジウム/酸化インジウム重量比が95/5〜80/20の範囲にあることを特徴とする電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法が提供される。 Furthermore, according to the present invention, after laminating the release agent layer and the internal protective transparent resin layer in this order on a substrate, the high-frequency excited plasma or electron beam oxidized to the internal protective transparent resin layer the indium / indium oxide composite deposited film laminated with activated reactive evaporation method using an anode plasma and then, in the manufacturing method of the electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer member for laminating the adhesive layer on the deposited film, the (wherein, x is a. a number ranging from 1.0 to 1.9) indium oxide an in 2 O x with represented by indium / indium oxide weight ratio of the composite deposited film is 95 / 5-80 / production process of an electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material which lies in the range of 20 is provided. 【0009】 【発明の実施の形態】図1は、本発明による電磁波透過性金属蒸着膜転写材の好ましい一実施例を示し、基材1 [0009] Figure 1 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION show a preferred embodiment of an electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to the present invention, the substrate 1
上に離型剤層2、表面保護用透明樹脂層3、内部保護用透明樹脂層4、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜5、接着アンカー層6及び接着剤層7をこの順序にて有し、これらの層のうち、表面保護用透明樹脂層3と接着アンカー層6は、必要に応じて設けられているものである。 A release agent layer 2 on the surface protective transparent resin layer 3 has an internal protective transparent resin layer 4, an indium / indium oxide composite deposited film 5, the adhesive anchor layer 6 and adhesive layer 7 in this order, of these layers, the adhesive anchor layer 6 and the surface protective transparent resin layer 3 is provided as necessary. 後述するように、これらの層のうち、表面保護用透明樹脂層3、内部保護用透明樹脂層4、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜5、接着アンカー層6及び接着剤層7からなる積層体が接着剤にて被転写体に転写される転写層8である。 As described below, of these layers, surface protective transparent resin layer 3, the internal protective transparent resin layer 4, an indium / indium oxide composite deposited film 5, made of adhesive anchor layer 6 and adhesive layer 7 laminated body a transfer layer 8 is transferred onto a transfer member with an adhesive. 【0010】上記基材は、通常、透明乃至半透明の合成樹脂フィルムからなり、この合成樹脂としては、限定されるものではないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルサルファイド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレン等を挙げることができる。 [0010] The substrate is generally made of a synthetic resin film of transparent or translucent, as the synthetic resin, but are not limited to, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene Na phthalate, polyphenylene sulfide, polyether sulfide, polyimide, polycarbonate, polypropylene, polyethylene, polystyrene and the like. しかし、必要に応じて、基材は、生分解性フィルムやセロハンや紙からなるものであってもよい。 However, if desired, the substrate may be made of a biodegradable film or cellophane or paper. また、基材は、必要に応じて、ヘアーライン、スピン加工、コーティングマット加工等、凹凸加工を施されていてもよい。 The substrate is optionally hairline, spin finish, coating matted like, may be subjected to uneven working. 上記基材は、 The base material,
2種以上のものが積層されていてもよい。 Two or more ones may be laminated. 【0011】本発明による金属蒸着膜転写材においては、このような基材上に離型剤層を有する。 [0011] In the metal evaporated film transfer material according to the invention has a release agent layer on such substrates. この離型剤層も、特に限定されるものではなく、例えば、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ロジン樹脂、アクリル樹脂、α−オレフィン−エチレン共重合体樹脂、エチレン−アクリル共重合体樹脂等の樹脂類、ポリエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス等の合成ワックス類、パラフィンワックス、変性モンタンワックス、部分ケン化エステルワックス、酸化ワックス、カルナバワックス等のワックス類のほか、脂肪酸エステル類や種々の界面活性剤からなるものである。 The release agent layer is also not particularly limited, for example, silicone resin, modified silicone resin, fluorine resin, rosin resin, acrylic resin, alpha-olefin - ethylene copolymer resin, ethylene - acrylic copolymer resins such as a resin, polyethylene wax, synthetic waxes such as oxidized polyethylene wax, paraffin wax, modified montan wax, partially saponified ester waxes, oxidized waxes, other waxes such as carnauba wax, fatty acid esters and various surfactants it is made of the active agent. これらの樹脂やワックスは、必要に応じて、2種以上が併用される。 These resins and wax, if necessary, two or more kinds are used in combination. 【0012】このような樹脂やワックスを適宜の有機溶剤に溶解して溶液とし、これを上記基材上に適宜の塗工手段にて塗布、乾燥すれば、基材上に離型剤層を形成することができる。 [0012] Such a resin or wax dissolved in a solution in an appropriate organic solvent, which is applied at appropriate coating means on the base material, if drying, a release agent layer on the substrate and it can be formed. 離型剤層の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、0.01〜0.5μmの範囲である。 The thickness of the release agent layer is not particularly limited, but is usually in a range of 0.01 to 0.5 [mu] m.
上記塗工手段としては、例えば、グラビアコーター、グラビアリバースコーター、リバースロールコーター、マイヤーバーコーター、パイプドクターリバースコーター、オフセットグラビアコーター、スリットリバースコーター等を挙げることができる。 As the coating means, for example, it may be mentioned gravure coater, gravure reverse coater, reverse roll coater, a Mayer bar coater, pipe doctor reverse coater, offset gravure coater, a slit reverse coater or the like. 【0013】この離型剤層は、本発明による金属蒸着膜転写材を用いて、被転写体に転写層を転写する際に、基材を転写層から容易に剥離することができるように設けられている。 [0013] The release agent layer, using a metal deposition film transfer material according to the present invention, when transferring the transfer layer to a transfer member, provided so that it can be easily separated from the transfer layer of the substrate It is. 【0014】この離型剤層上には、好ましくは、表面保護用透明樹脂層が設けられている。 [0014] The release agent layer is preferably a transparent resin layer is provided for surface protection. この表面保護用透明樹脂層は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂又はこれらの混合物からなる透明乃至半透明の合成樹脂層である。 The surface protective transparent resin layer is a thermosetting resin, a thermoplastic resin or synthetic resin layer of transparent or translucent mixtures thereof. しかし、必要に応じて、表面保護用透明樹脂層は、活性エネルギー線硬化型樹脂を含んでいてもよい。 However, if necessary, a surface protective transparent resin layer may contain an active energy ray curable resin. 【0015】上記熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、メラミン−エポキシ共重合樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、メラミン−アクリル共縮合樹脂等のアミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、石油系樹脂、ロジン樹脂、クロロプレンゴム、塩化ゴム、環化ゴム等のゴム系樹脂、繊維素誘導体樹脂、フェノール系樹脂、塩素化ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル− [0015] Examples of the thermosetting resin and thermoplastic resin, for example, melamine resins, urea resins, melamine - epoxy copolymer resin, a melamine - urea co-condensation resin, melamine - amino resins such as an acrylic co-condensation resins, polyurethane resins , acrylic resins, petroleum resins, rosin resin, chloroprene rubber, chlorinated rubber, rubber-based resin such as cyclized rubber, cellulose derivative resins, phenolic resins, chlorinated polypropylene, ethylene - vinyl acetate copolymer resin, vinyl chloride -
酢酸ビニル共重合体樹脂、キシレン樹脂、ポリエステル樹脂等を挙げることができる。 Vinyl acetate copolymer resin, xylene resin, and polyester resin. 【0016】従って、用いる樹脂によっては、必要に応じて、適量の硬化剤が用いられる。 [0016] Thus, depending on the resin used, if desired, a suitable amount of curing agent is used. このような硬化剤としては、例えば、リン酸やリン酸エステル(アミノ樹脂の硬化剤)やイソシアネート(ウレタン樹脂の硬化剤) Examples of the curing agent, for example, phosphoric acid or phosphoric acid ester (amino resin curing agent) and an isocyanate (urethane resin curing agent)
等を挙げることができる。 And the like can be given. 但し、これらに限定されるものではない。 However, the invention is not limited thereto. 【0017】本発明によれば、表面保護用透明樹脂層は、好ましくは、熱硬化性樹脂10〜90重量%、好ましくは、20〜70重量%と熱可塑性樹脂90〜10重量%、好ましくは、80〜30重量%との混合物100 According to the present invention, a surface protective transparent resin layer is preferably 10 to 90 wt% thermosetting resin, preferably 20 to 70 wt% and the thermoplastic resin 90 to 10 wt%, preferably , mixture 100 of 80 to 30 wt%
重量部に対して、ジメチルポリシロキサンを骨格とする変性シリコーン樹脂1〜10重量部を含有し、必要に応じて、前述したような活性エネルギー線硬化型樹脂5〜 Relative parts by weight, dimethylpolysiloxane containing from 1 to 10 parts by weight modified silicone resin as a skeleton, optionally, radiation-curable resin 5 as described above
10重量部を含有することができる。 It may contain 10 parts by weight. 上記変性シリコーン樹脂としては、例えば、アクリル変性シリコーン樹脂(本発明においては、アクリル変性シリコーン樹脂はメタアクリル変性シリコーン樹脂を含むものとする。)、 As the modified silicone resins, for example, acrylic-modified silicone resin (in the present invention, acryl-modified silicone resin is intended to include methacrylic-modified silicone resin.),
ポリエーテル変性シリコーン樹脂又はアミノ変性シリコーン樹脂が好ましく用いられる。 Polyether-modified silicone resin or amino-modified silicone resin is preferably used. 【0018】上記活性エネルギー線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線等のような活性エネルギー線の照射によって、重合して、硬化物を与える樹脂組成物をいい、通常、活性エネルギー線の照射によってラジカル重合する活性基(特に、アクリロイル基やメタクリロイル基)を有するオリゴマー又はプレポリマーと、通常、上記活性基を有するモノマーとからなる。 [0018] The above radiation-curable resin by irradiation of ultraviolet rays or active energy rays such as electron beams, polymerized, refers to a resin composition which gives a cured product, usually by irradiation of an active energy ray radical polymerization active group (particularly, an acryloyl group or a methacryloyl group) consisting of an oligomer or prepolymer having a generally a monomer having an active group. 活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物とは、上述したように、活性エネルギー線硬化型樹脂に活性エネルギー線を照射して形成された硬化物である。 The cured product of the active energy ray-curable resin, as described above, a cured product formed by irradiating an active energy ray in the active energy ray curable resin. 【0019】上記活性エネルギー線の照射によって硬化するオリゴマー又はプレポリマーとしては、例えば、紫外線活性基としてアクリロイル基やメタアクリロイル基を有するオリゴマーやプレポリマーを挙げることができる。 Examples of the oligomers or prepolymers cured by irradiation of the active energy ray, for example, a oligomer or prepolymer having an acryloyl group or a methacryloyl group as the ultraviolet active group. 具体例としては、例えば、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ポリウレタンアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート、 Specific examples include polyester acrylates, epoxy acrylates, polyurethane acrylates, polyol acrylates, melamine acrylate,
ポリエステルメタクリレート、エポキシメタクリレート、ポリウレタンメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等を挙げることができる。 Polyester methacrylate, epoxy methacrylate, polyurethane methacrylate, polyol methacrylate, and melamine methacrylate. また、モノマーとしては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート等のような多官能性(メタ)アクリレートや、必要に応じて、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチルのような単官能性アクリレートも用いられる。 As the monomer, for example, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, multifunctional, such as pentaerythritol trimethacrylate (meth) acrylate and, optionally, methyl acrylate, monofunctional acrylate such as methyl methacrylate may also be used. 【0020】このような活性エネルギー線硬化型樹脂は、通常、増感剤、重合開始剤、安定剤、充填剤等を含んでおり、更に、希釈剤として、上述したような単官能又は多官能(メタ)アクリレートと溶媒とを含む液状組成物として、市販されており、本発明においては、そのような市販品を好適に用いることができる。 [0020] Such radiation-curable resin is usually sensitizer, a polymerization initiator, a stabilizer includes a filler, etc., further, as a diluent, a monofunctional or polyfunctional, such as described above as a liquid composition comprising a (meth) acrylate and a solvent, it is commercially available, in the present invention, it is possible to use such commercially available products suitably. 【0021】上記アクリル変性シリコーン樹脂も、分子末端に(メタ)アクリロイル基を有し、加熱によって硬化して、強靱な被膜を形成する。 [0021] The acrylic-modified silicone resin also has the molecular end of (meth) acryloyl group, and cured by heating to form a tough coating. アクリル変性シリコーン樹脂も、市販品を用いることができる。 Acryl modified silicone resins, commercially available products can be used. 【0022】このような表面保護用透明樹脂層は、上述したような熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との混合物と上記変性シリコーン樹脂とを、必要に応じて、上記活性エネルギー線硬化型樹脂等を適宜の有機溶媒に溶解して溶液とし、これを離型剤層上に塗布し、加熱、乾燥させることによって形成することができる。 [0022] Such a surface protective transparent resin layer, a mixture with the modified silicone resin of a thermosetting resin and a thermoplastic resin as described above, if necessary, the active energy ray curable resin was the dissolved in an appropriate organic solvent solution, coating it to the release agent layer, heating can be formed by drying. 表面保護用透明樹脂層の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、 The thickness of the surface protective transparent resin layer is not particularly limited, but usually,
0.1〜1μmの範囲である。 It is in the range of 0.1~1μm. 【0023】このように、本発明による転写材が変性シリコーン樹脂、好ましくは、アクリル変性又はアミノ変性シリコーン樹脂を含む表面保護用透明樹脂層を有するとき、このような転写材は、上記変性シリコーン樹脂の硬化に由来して、耐摩耗性や耐擦過性を有する強靱な表面を有する。 [0023] Thus, the transfer material is a modified silicone resin according to the present invention, preferably, when it has a surface protective transparent resin layer containing an acrylic-modified or amino-modified silicone resins, such transfer material, the modified silicone resin derived from the curing of, with a tough surface having abrasion resistance and scratch resistance. 【0024】更に、このように、本発明による転写材が変性シリコーン樹脂と、必要に応じて、活性エネルギー線硬化型樹脂を含む表面保護用透明樹脂層を有するときは、このような転写材を用いて被転写体に転写層を転写した後、その転写層の表面に活性エネルギー硬化型インキにて堅牢な印刷層を形成することができる。 Furthermore, in this manner, the transfer material is a modified silicone resin according to the present invention, if necessary, when having a surface protective transparent resin layer containing an active energy ray curable resin, such transfer material after transferring the transferred layer onto a transfer member with, it is possible to form a robust print layer in the active energy curable ink on the surface of the transfer layer. 【0025】即ち、図2に示すように、本発明による転写材を用いて転写層8を被転写体9に転写すれば、転写層8は、被転写体9上に接着剤層7、接着アンカー層6、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜5、内部保護用透明樹脂層4及び表面保護用透明樹脂層3がこの順序にて積層されてなる積層体である。 [0025] That is, as shown in FIG. 2, when transferring the transfer layer 8 using a transfer material according to the present invention to a transfer member 9, the transfer layer 8, the adhesive layer 7 on the transferred object 9, the adhesive anchor layer 6, indium / indium oxide composite deposited film 5, the internal protective transparent resin layer 4 and the surface protective transparent resin layer 3 is a laminate formed by stacking in this order. 【0026】ここに、活性エネルギー線硬化型インキは、インキ中に前述したような活性エネルギー線硬化型樹脂を含むので、例えば、紫外線硬化型オフセットインキや紫外線硬化型シルクスクリーンインキ等を用いて転写層の表面(即ち、表面保護用透明樹脂層の表面)に印刷を行なう際に、転写層の表面が上記活性エネルギー線硬化型インキとの親和性にすぐれると共に、印刷後に活性エネルギー線を照射すれば、活性エネルギー線硬化型インキと共に、表面保護用透明樹脂層中の活性エネルギー線硬化型樹脂も硬化するので、印刷層が表面保護用透明樹脂層と一体化し、かくして、形成される印刷層P [0026] Here, the transfer active energy ray-curable ink, because it contains an active energy ray-curable resin as described above in the ink, for example, by using the ultraviolet ray curable offset inks and UV-curable silk screen ink, etc. the surface of the layer (i.e., the surface of the surface protective transparent resin layer) when performing printing on the irradiation surface of the transfer layer is excellent in affinity with the active energy beam-curable ink, an active energy ray after printing if, together with the active energy beam-curable ink, since the active energy ray-curable resin of the surface protective transparent resin layer is also cured, the printed layer is integrated with the surface protective transparent resin layer, thus printing layer formed P
は、耐摩耗性、耐擦過傷性、耐溶剤性、耐薬品性、爪による耐引っ掻き傷性等にすぐれ、非常に堅牢である。 The wear resistance, abrasion resistance, solvent resistance, chemical resistance, excellent resistance to scratch and the like by nails, it is very robust. 【0027】本発明による転写材は、上記表面保護用透明樹脂層上に内部保護用透明樹脂層を有する。 The transfer material according to the invention has an internal protective transparent resin layer on the surface protective transparent resin layer. この内部保護用透明樹脂層は、透明乃至半透明の合成樹脂層からなり、着色されていてもよい。 The internal protective transparent resin layer is transparent or made of a synthetic resin layer in a semi-transparent, may be colored. 【0028】このような内部保護用透明樹脂層は、前述したような熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂のみからなるものでもよく、熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との混合物からなるものでもよく、また、前述したような活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物のみからなるものでもよく、更に、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物と熱硬化性若しくは熱可塑性樹脂との混合物からなるものでもよい。 [0028] Such internal protective transparent resin layer may be made of a mixture of may consist of only a thermoplastic resin or a thermosetting resin as described above, a thermosetting resin and a thermoplastic resin, also, it may consist of only the cured product of the active energy ray-curable resin as described above, may also consist of a mixture of active cured product of the radiation-curable resin and a thermosetting or thermoplastic resin. 【0029】このような樹脂を適宜の有機溶媒に溶解して溶液とし、これを前記表面保護用透明樹脂層上に塗布し、塗膜を形成することによって、内部保護用透明樹脂層を形成することができる。 [0029] dissolved in a solution of such a resin in an appropriate organic solvent, which was applied to the surface protective transparent resin layer, by forming a coating film, to form an internal protective transparent resin layer be able to. この塗膜化に際して、用いる樹脂が熱硬化性樹脂を含むときは、必要に応じて、樹脂を硬化剤の存在下に加熱、硬化させる。 In this film coating, when the resin used comprises a thermosetting resin, if necessary, heating the resin in the presence of a curing agent and cured. 【0030】内部保護用透明樹脂層が無色透明であれば、本発明による転写材を用いて被転写体に転写層を転写したとき、転写層は、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜の基づく銀色の金属光沢を有し、内部保護用透明樹脂層が着色透明であれば、銀色のインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を背景とした有彩色の金属光沢を有する。 [0030] If the internal protective transparent resin layer is colorless and transparent, when transferring the transfer layer to a transfer body using a transfer material according to the present invention, the transfer layer, the silver based of indium / indium oxide composite deposited film has a metallic luster, if internal protective transparent resin layer is colored transparent and has a metallic luster chromatic against the backdrop of silver indium / indium oxide composite deposited film. 例えば、内部保護用透明樹脂層が黄色、青色又は赤色透明であれば、転写層は、それぞれ金色、青色又は赤色の鮮やかな金属光沢を有する。 For example, yellow inner protective transparent resin layer, if blue or red transparent, transfer layer each have gold, a brilliant metallic luster blue or red. 【0031】本発明による電磁波透過性金属蒸着膜転写材は、上記内部保護用透明樹脂層上にインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を有し、ここに、上記酸化インジウムはIn 2x (式中、xは1.0〜1.9の範囲の数である。)で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジウム/酸化インジウム重量比は95/5〜80/20の範囲にある。 The electromagnetically transparent metallized film transfer material according to the invention has an indium / indium oxide composite deposited film to the internal protective transparent resin layer, wherein the said indium oxide In 2 O x (wherein , x is together represented by a.) a number in the range from 1.0 to 1.9, indium / indium oxide weight ratio of the composite deposited film is in the range of 95 / 5-80 / 20. 【0032】このようなインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を形成する手段は、特に限定されるものではなく、例えば、電子線加熱式蒸着法、高周波誘導加熱式、 The means for forming such indium / indium oxide composite deposited film is not particularly limited, for example, electron beam heating vapor deposition, high frequency induction heating,
電気抵抗加熱式蒸着法、イオンプレーティング、スパッタリング蒸着法、活性化反応性蒸着法等によることができ、好ましくは、連続巻取式蒸着装置を用いて前記内部保護用透明樹脂層上に形成される。 Electrical resistance heating evaporation, ion plating, sputtering deposition method, it is possible by activated reactive evaporation method, or the like, preferably, are using a continuous roll-to-roll vapor deposition apparatus formed in said inner protective transparent resin layer that. 【0033】上述した種々の手段のなかでも、活性化反応性蒸着法は、本発明によるインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を形成するための好ましい方法の一つである。 [0033] Among the various means described above, activated reactive evaporation method is one of the preferred methods for forming the indium / indium oxide composite deposited film according to the present invention. 特に、本発明によれば、インジウムを蒸発させつつ、これを高周波励起プラズマ又は電子線酸化陽極プラズマ中に導いて酸素にてインジウムを酸化し、かくして、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を形成させる活性化反応性蒸着法によるのが好ましい。 In particular, according to the present invention, while evaporating indium, which high-frequency excited plasma or led to the electron beam oxidation anode plasma oxidizing indium in oxygen, thus forming an indium / indium oxide composite deposited film activity preferably by reaction with deposition. 【0034】以下にこれらの方法のうち、先ず、高周波励起プラズマを用いる活性化反応性蒸着法を図3を参照しながら説明する。 [0034] Among these methods below, it will first be described with reference to FIG. 3 the activated reactive evaporation method using a high-frequency excited plasma. 【0035】前述したように、基材上に離型剤層と内部保護用透明樹脂層をこの順序で積層してなる蒸着用基材11(巻取りロール)を原反とし、この蒸着用基材を活性化反応性蒸着装置12内の上室13に設けた巻出し側14にセットし、冷却ロール15を経て、巻取り側16 [0035] As described above, deposition substrate 11 formed by laminating a release agent layer and the internal protective transparent resin layer in this order on a substrate (winding roll) the raw city, the deposition group set the unwinding side 14 having a timber in the upper chamber 13 of the activated reactive evaporation apparatus 12, via the cooling roll 15, take-up side 16
につなぎ、隔壁17にて隔てた上室と下室18との間に差圧があるように、真空ポンプを用いて装置の上室を到達真空度10 -4 〜10 The tie, so, the ultimate vacuum 10-4 to the upper chamber of the device using a vacuum pump is the pressure difference between the upper chamber and the lower chamber 18 that are separated by partition walls 17 -3 Torr、好ましくは、5×1 -3 Torr, preferably, 5 × 1
-3 〜3×10 -3 Torrまで排気すると共に、下室側を到達真空度10 -5 〜10 -4 Torr、好ましくは、1 0 -3 with evacuated to to 3 × 10 -3 Torr, the ultimate vacuum 10 -5 to 10 -4 Torr to lower chamber side, preferably, 1
×10 -4 〜1.5×10 -4 Torrまで排気して、上室と下室をそれぞれ真空槽に形成する。 And evacuated to × 10 -4 ~1.5 × 10 -4 Torr , the upper chamber and the lower chamber respectively formed in the vacuum chamber. 【0036】上記隔壁は、冷却ロールの下部に沿ってスリット19を有し、このスリットによって上室と下室は連通していて、冷却ロールはその下部がスリットに案内されるように下室に位置している。 [0036] The partition wall has a slit 19 along the bottom of the cooling roll, the upper chamber and the lower chamber by the slits in communication with the cooling roll in the lower chamber so that the lower portion is guided into the slit positioned. 【0037】次いで、下室真空槽に設けた高周波誘導加熱用コイル20(例えば、周波数10KHz)で蒸発源坩堝21中の金属インジウムを徐々に加熱し、金属インジウムの蒸発温度である2100〜2200℃程度に達したとき、上記蒸着用基材を上記巻出し側から適宜の温度(例えば、−5℃から5℃の範囲)に冷却した冷却ロールに沿わせながら、上記巻取り側に巻取り、ここで、 [0037] Then, high-frequency induction heating coil 20 provided in the lower chamber vacuum chamber (e.g., a frequency 10 KHz) is gradually heated metal indium in the evaporation source crucible 21 with a vaporization temperature of the metal indium 2100-2,200 ° C. upon reaching a degree appropriate temperature the deposition substrate from the unwinding side (e.g., a range of 5 ° C. from -5 ° C.) while along the cooling roll cooled to winding on the take-up side, here,
蒸着用基材が冷却ロール上を走行する間、冷却ロールに沿って延びる前記スリットを通して下室に案内し、下方に蒸発源坩堝を臨むように下室中に蒸着用基材をインジウム蒸気流V中に露出させて、蒸着用基材の内部保護用透明樹脂層上にインジウムを蒸着させる。 While deposition substrate travels on a cooling roll to guide the lower chamber through the slit extending along the cooling roll, indium vapor stream V of the deposition substrate in the lower chamber so as to face the evaporation source crucible downward It is exposed during the depositing indium on the internal protective transparent resin layer of the deposition substrate. 【0038】このように、蒸着用基材を巻出し側から巻取り側に一定の速度で走行させながら、蒸着用基材上にインジウムを蒸着させ、かくして得られた蒸着フィルムを巻取り側に巻取るまでに、この蒸着フィルムの光透過率を、蒸着用基材を基準フィルムとし、その光透過率を100%とする相対値として、連続して光透過率計22 [0038] Thus, while traveling at a constant speed in the take-up the deposition substrate from the unwinding side, indium is vapor deposition on a deposition substrate, thus obtained deposited film winding side of the by winding, the light transmittance of the deposition film, the deposition substrate as a reference film, the light transmittance as a relative value to 100%, the light transmittance meter continuously 22
にて測定すると共に、蒸着フィルムの蒸着膜の膜厚を膜厚測定器23にて連続して測定しながら、250〜50 With measured at, while continuously measuring the thickness of the deposited film deposited film with a thickness measuring device 23, 250-50
0Åの範囲で一定の膜厚(例えば、400Å)を有するインジウム蒸着膜が形成されるように、前記高周波誘導加熱用コイルの出力を調整し、インジウムの蒸発速度を制御する。 Thickness constant in the range of 0 Å (e.g., 400 Å) as an indium deposited film is formed with, by adjusting the output of the high-frequency induction heating coil, and controls the rate of evaporation of indium. 【0039】装置内において、前記蒸発源坩堝の上部に高周波励起プラズマ生成用コイル極24が取付けられており、更に、その上部にはアルゴンガスのシャワー口2 [0039] In the apparatus, the evaporation source on top of the crucible is mounted a high-frequency excited plasma generating coil electrode 24, furthermore, the shower outlet 2 at its upper argon gas
5と酸素ガスのシャワー口26が取付けられており、これらの上方で蒸着用基材が冷却ロールを走行しつつ、下室中に露出されている。 5 and has a shower outlet 26 of the oxygen gas is attached, deposition substrate while traveling cooling roll at these upper, is exposed in the lower chamber. 【0040】そこで、上述したように、蒸着用基材上に一定の厚みのインジウム蒸着膜が形成されるようになったとき、高周波励起マッチングボックス33を介して高周波発振器34(例えば、出力1KW、周波数13.56 [0040] Therefore, as described above, when the indium deposited film of uniform thickness on the deposition substrate was to be formed, a high frequency oscillator 34 via the high-frequency excitation matching box 33 (e.g., output 1 KW, frequency 13.56
MHz)にて上記高周波励起プラズマ生成用コイルに高周波電圧を印加しながら、その反射波が20〜30Wの範囲でマッチングがとれるように設定し、下室中にマスフローコントローラ(図示せず)を経てアルゴンガスを一定の割合(例えば、0.1L/分)で上記シャワー口から導入すると共に、酸素ガスをマスフローコントローラ(図示せず)を経て一定の割合(例えば、0.2L/分) While a high frequency voltage is applied to the high-frequency excited plasma generator coil at MHz), the reflected wave is set so that matching is taken in the range of 20~30W, through a mass flow controller (not shown) in the lower chamber argon gas constant ratio (for example, 0.1 L / min) is introduced from the shower outlet, a certain percentage of the oxygen gas through a mass flow controller (not shown) (e.g., 0.2 L / min)
で上記シャワー口から導入して、前記蒸発源坩堝の上方にてプラズマを生成させ、このプラズマ中で酸素を活性酸素イオンとし、インジウム蒸気をイオン化して、これらの間で反応(インジウムの酸化反応)を起こさせ、かくして、生成した酸化インジウムをインジウムと共に蒸着用基材上に蒸着させて、本発明によるインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を蒸着用基材上に形成した蒸着フィルム27を得ることができる。 In introduced from the shower outlet, wherein the evaporation source to generate plasma at above the crucible, the oxygen in the plasma during the active oxygen ions, indium vapor is ionized, reaction between these (indium oxidation reactions ) to cause a, thus, the resulting indium oxide by depositing on the deposition substrate with indium, to obtain a deposition film 27 of indium / indium oxide composite deposited film according to the present invention was formed on the deposition substrate it can. 【0041】本発明によれば、上述したように、蒸着フィルムの蒸着膜の厚みを膜厚測定器を用いて測定しながら、これを適当な範囲に調節すると共に、光透過率計を用いて、上記蒸着膜の光透過率が基準フィルム(蒸着用基材)の光透過率(100%)に対して所定の範囲にあるように、上記酸素ガスの導入量を調節して、プラズマ中のインジウムの酸化反応を制御することによって、酸化インジウムがIn 2x (式中、xは1.0〜1.9の範囲の数である。)で表わされると共に、インジウム/酸化インジウム重量比が95/5〜80/20の範囲にあるインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィルムを得ることができる。 According to the present invention, as described above, while the thickness of the deposited film deposited film was measured using a film thickness measuring instrument, as well as adjusted in an appropriate range, with a light transmittance meter as in a predetermined range with respect to light transmission (100%) of the reference light transmittance film of the vapor deposition film (vapor deposition base material), by adjusting the introduction amount of the oxygen gas, in the plasma by controlling the oxidation reaction of indium, (wherein, x is a. a number ranging from 1.0 to 1.9) indium oxide an in 2 O x with represented by indium / indium oxide weight ratio it is possible to obtain a deposition film with indium / indium oxide composite deposited film in the range of 95 / 5-80 / 20. 【0042】即ち、本発明によれば、このように、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィルムを走行させながら、上述したようにして、その蒸着膜の光透過率と膜厚を連続的に測定し、膜厚が所定の範囲にあることを確認しながら、酸素の導入量を制御して、 [0042] That is, according to the present invention, thus, while traveling vapor deposited film having an indium / indium oxide composite deposited film, as described above, continuous light transmittance and the film thickness of the deposition film measured, while the film thickness to confirm that in a predetermined range, by controlling the amount of oxygen introduced to,
一定の酸素分圧下に、蒸着膜に基準フィルムに対して所定の範囲の光透過率を有せしめることによって、インジウムに対して所定の割合で酸化インジウムを生成させ、 A constant oxygen partial pressure, by allowed to have a light transmittance of a predetermined range with respect to the reference film deposited film, an indium oxide is produced at a predetermined ratio with respect to indium,
かくして、目的とするインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜、即ち、酸化インジウムがIn 2x (式中、x Thus, indium / indium oxide composite deposited film of interest, i.e., in the indium oxide In 2 O x (wherein, x
は1.0〜1.9の範囲の数である。 Is a number in the range of 1.0 to 1.9. )で表わされると共に、インジウム/酸化インジウム重量比が95/5〜8 Together represented by), indium / indium oxide weight ratio of 95 / 5-8
0/20の範囲にあるインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を形成させることができる。 The indium / indium oxide composite deposited film in the range of 0/20 can be formed. 【0043】より詳細には、予め、蒸着用基材上に一定の厚み(250〜500Åの範囲の間で種々の厚み、例えば、400Åの厚み)のインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を形成して蒸着フィルムとし、この蒸着膜について、インジウムと酸素の量と共に、インジウムと酸化インジウムの割合、即ち、酸化インジウム(In 2 [0043] More specifically, in advance, (various thicknesses between the range of 250~500A, for example, a thickness of 400 Å) constant thickness on the deposition substrate to form an indium / indium oxide composite deposited film and deposited film, this deposited film, with the amount of indium and oxygen, the proportion of indium oxide and indium, i.e., indium oxide (in 2 O
x )におけるx値とインジウム/酸化インジウム重量比を、例えば、ESCA(X線光電子分析)スペクトロメーターを用いて求めると共に、この蒸着膜について、基準フィルム(蒸着用基材)の光透過率を100%とする相対的な光透過率を求めておき、その間の関係を求めておけば、その関係に基づいて、酸素ガスの導入量を調節して、インジウムの酸化反応を適宜に制御することによって、蒸着用基材上に所定の厚みと所定のx値を有するインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を形成させることができる。 The x values and the indium / indium oxide weight ratio in x), for example, with determined using ESCA (X-ray photoelectron spectroscopy) spectrometer, this deposited film, the light transmittance of the reference film (deposition substrate) 100 % to to previously obtain the relative light transmittance, if seeking therebetween relationship, based on the relationship, by adjusting the introduced amount of oxygen gas, by appropriately controlling the oxidation reaction of indium , it is possible to form the indium / indium oxide composite deposited film having a predetermined x values ​​and a predetermined thickness on the deposition substrate. 【0044】上記光透過率計としては、例えば、赤外発光ダイオード(発光波長910nm)から蒸着フィルムに投光し、基準フィルムの光透過率を100%として、 [0044] As the light transmittance meter, for example, is projected to the deposition film from the infrared light emitting diode (emission wavelength 910 nm), the light transmittance of the reference film as 100%,
蒸着膜の光透過率を相対値として測定するものを用いることができる。 It can be used to measure the light transmittance of the deposition film as a relative value. 【0045】このようにして、本発明によれば、膜厚2 [0045] Thus, according to the present invention, the thickness 2
50〜500Å、好ましくは、300〜450Åの厚みを有し、酸化インジウムがIn 2x (式中、xは1.0 50-500, preferably has a thickness of 300~450A, indium oxide In 2 O x (wherein, x 1.0
〜1.9の範囲の数である。 Is a number in the range of 1.9. )で表わされると共に、インジウム/酸化インジウム重量比が95/5〜80/20 Together represented by), indium / indium oxide weight ratio of 95 / 5-80 / 20
の範囲にあるインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を蒸着用基材上に形成させることができる。 The indium / indium oxide composite deposited film in the range of can be formed on the deposition substrate. 【0046】本発明によれば、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜のインジウム/酸化インジウム重量比が80/20よりも小さいとき、又は、酸化インジウム(In According to [0046] the present invention, when the indium / indium oxide weight ratio of indium / indium oxide composite deposited film is less than 80/20, or indium oxide (In 2x )のx値が1.9よりも大きいときは、蒸着膜が導電性を有するようになって、電磁波透過性が悪くなる。 When 2 x value of O x) is greater than 1.9, so the deposited film is conductive, electromagnetic wave permeability is deteriorated. 特に、本発明によれば、複合蒸着膜中の酸化インジウム(In 2X )は、そのx値が1.0≦x≦1.5の範囲にあるのが好ましい。 In particular, according to the present invention, indium oxide in the composite deposited film (In 2 O X), the x value is preferably in the range of 1.0 ≦ x ≦ 1.5. 他方、酸化インジウム(In On the other hand, indium oxide (In
2X )のx値が1.0よりも小さいときは、複合蒸着膜の強度が小さく、耐摩耗性、耐擦傷性、耐擦過性等が十分でない。 When the x value of 2 O X) is less than 1.0, the strength of the composite deposited film is small, the abrasion resistance, scratch resistance, scratch resistance, etc. are not sufficient. 即ち、本発明によれば、酸化インジウムがI That is, according to the present invention, the indium oxide is I
2x (式中、xは1.0〜1.9の範囲の数である。) n 2 O x (wherein, x is a number in the range of 1.0 to 1.9.)
で表わされると共に、インジウム/酸化インジウム重量比が95/5〜80/20の範囲にあるインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を形成させることによって、絶縁性(即ち、電磁波透過性)と耐膜性強度を兼ね備えた複合蒸着膜を得ることができる。 In conjunction represented by indium / indium oxide weight ratio to form an indium / indium oxide composite deposited film in the range of 95 / 5-80 / 20, an insulating (i.e., electromagnetic wave permeability) and 耐膜 resistance strength it is possible to obtain a composite deposited film combines. 【0047】次に、電子線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着法を図4を参照しながら説明する。 Next, it will be described with reference to FIG. 4 the activated reactive evaporation method using an electron beam oxidation anode plasma. 図4 Figure 4
において、図3と同じ部材には同じ参照番号を付してある。 In, the same members as in FIG. 3 are denoted by the same reference numbers. 【0048】この方法は、プラズマを生成させる手段として、前記高周波励起プラズマに代えて、電子線酸化陽極プラズマを用いる点において相違するのみである。 [0048] This process, as a means for generating a plasma, instead of the high-frequency excited plasma, it only differs in that an electron beam oxidation anode plasma. 従って、前述したと同様に、下室18に設けた高周波誘導加熱用コイル20(例えば、周波数10KHz)で蒸発源坩堝21中の金属インジウムをその蒸発温度に加熱し、蒸着用基材11を巻出し側14から巻取り側16に一定の速度で走行させながら、蒸着用基材上にインジウムを蒸着させる。 Therefore, in the same manner as described above, high-frequency induction heating coil 20 provided in the lower chamber 18 (e.g., a frequency 10 KHz) heating the metal indium in the evaporation source crucible 21 to the evaporation temperature, up the deposition substrate 11 while running the belt out of the constant from the side 14 to the take-up 16 speed, depositing indium onto a deposition substrate. かくして得られた蒸着フィルムを巻取り側に巻取るまでに、前述したように、蒸着膜の光透過率を光透過率計22にて連続して測定すると共に、蒸着膜の膜厚を膜厚測定器23にて連続して測定しながら、 The thus obtained deposited film before winding on the wind-up side, the film thickness as described above, the light transmittance of the deposited film while continuously measuring at light transmittance meter 22, the thickness of the deposited film while continuously measured by the measuring device 23,
250〜500Åの範囲で一定の膜厚(例えば、400 Constant thickness in the range of 250~500A (e.g., 400
Å)を有するインジウム蒸着膜が形成されるように、前記高周波誘導加熱用コイルの出力を調整し、インジウムの蒸発速度を制御する。 As the indium deposited film is formed to have a Å), it adjusts the output of the high-frequency induction heating coil, and controls the rate of evaporation of indium. 【0049】電子線酸化陽極プラズマを生成させるために、装置12内において、射線が上記蒸発源の上方(空間放電プラズマ領域又は空間放電プラズマ流D)を横切るようにホロカソード式電子線プラズマ照射銃(HCD [0049] In order to generate an electron beam oxidation anode plasma, in the apparatus 12, the ray is the evaporation source of the upper (spatial discharge plasma region or space plasma stream D) hollow cathode type electron beam plasma irradiation gun across the ( HCD
電子銃、出力電圧30KW/台)のカソード電極31が設けられており、これらのカソード電極に対向して、装置内の反対側にHCD電子銃のアノード電極32が設けられている。 An electron gun, a cathode electrode 31 is provided in the output voltage 30KW / units), in opposition to those of the cathode electrode, an anode electrode 32 of the HCD gun is provided on the opposite side of the device. また、ホロカソード式電子線プラズマ照射銃のカソード電極にはアルゴンガスを下室中に導入するためのシャワー口25が設けられていると共に、上記蒸発源坩堝の上部には酸素ガスのシャワー口26が取付けられており、その上方で蒸着用基材が冷却ロールを走行しつつ、下室中に露出されている。 Further, with the cathode of the hollow cathode type electron beam plasma irradiation gun are shower outlet 25 is provided for introducing argon gas into the lower chamber, the upper part of the evaporation source crucible shower outlet 26 of the oxygen gas mounted, deposition substrate while traveling cooling roll at its upper, it is exposed in the lower chamber. 【0050】そこで、上述したように、基材上に一定の厚みのインジウム蒸着膜が形成されるようになったとき、電源35から上記電子銃に電圧と電流を印加すると共に、一定の割合(例えば、0.1L/分)でシャワー口からアルゴンガスを導入し、他方、酸素シャワー口から酸素ガスを一定の割合(例えば、0.2L/分)で導入して、電子銃の上記カソード電極とアノード電極との間の空間で空間放電プラズマ領域Dを生成させ、この空間放電プラズマ領域中で酸素を活性酸素イオンとし、インジウム蒸気をイオン化して、これらの間で反応(インジウムの酸化反応)を起こさせ、かくして、生成した酸化インジウムをインジウムと共に蒸着用基材上に蒸着させて、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を形成させる。 [0050] Therefore, as described above, when the indium deposited film of uniform thickness on the substrate is adapted to be formed, to apply a voltage and current to the electron gun from the power source 35, a certain percentage ( for example, argon gas is introduced from the shower outlet at 0.1 L / min), while the proportion of oxygen shower outlet of the oxygen gas constant (e.g., by introducing at 0.2 L / min), the cathode electrode of the electron gun to produce a spatial discharge plasma region D in the space between the anode electrode and the oxygen in the spatial discharge plasma region and active oxygen ions, indium vapor is ionized, reaction between these (oxidation of indium) I was awakened, thus, the resulting indium oxide by depositing on the deposition substrate with indium to form an indium / indium oxide composite deposited film. 【0051】この後、高周波励起プラズマを用いる活性化反応性蒸着法におけると同様に、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィルムを光透過率計に導き、基準フィルムに対する蒸着膜の光透過率を測定すると共に、蒸着膜の膜厚を膜厚測定器にて測定し、蒸着膜の光透過率が所定の値になるように下室中への酸素導入量を制御し、かくして、膜厚250〜500Å、好ましくは、300〜450Åの厚みを有し、酸化インジウムがIn 2x (式中、xは1.0〜1.9の範囲の数である。)で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジウム/酸化インジウム重量比が95/5〜80/20の範囲にあるインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を得ることができる。 [0051] After this, as in the activated reactive evaporation method using a high-frequency excited plasma, the deposited film having indium / indium oxide composite deposited film guided to the light transmittance meter, the light transmittance of the deposited film to the reference film while measuring the thickness of the deposited film was measured by a film thickness measuring device, the light transmittance of the deposited film by controlling the amount of oxygen introduced into the lower chamber to a predetermined value, thus, the film thickness 250~500A, together preferably have a thickness of 300~450A, indium oxide (in the formula, x is a number in the range of 1.0~1.9.) in 2 O x represented by the above it can be indium / indium oxide weight ratio of the composite deposited film obtained indium / indium oxide composite deposited film in the range of 95 / 5-80 / 20. 【0052】このようなインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜は、インジウム蒸着膜の非導電性テトラゴナル(正方晶、tetragonal)構造と酸化インジウムのキュービック(立方晶、cubic) 構造との複合晶であって、膜厚を大きくしても、高い絶縁性と耐膜性強度とを有しており、しかも、美麗で高輝度の金属光沢を保持している。 [0052] Such indium / indium oxide composite deposited film, nonconductive tetragonal (tetragonal, tetragonal) of indium deposited film structure and indium oxide of the cubic (cubic, cubic) a composite crystal of the structure, even by increasing the thickness, has a high insulating property and 耐膜 resistance strength, yet retain the metallic luster of high luminance at a beautiful. 従って、本発明による転写材からの転写層は、30 Therefore, the transfer layer from the transfer material according to the present invention, 30
0MHzから300GHzにわたるマイクロ波又は高周波に対して透過性を有する。 Permeable to microwave or radio frequency over 300GHz from 0 MHz. 【0053】更に、本発明による電磁波透過性金属蒸着膜転写材は、好ましくは、上記複合蒸着膜上に接着アンカー層を有する。 [0053] Further, the electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to the invention preferably has an adhesive anchor layer on the composite deposited film. この接着アンカー層は、この上の接着剤層と前記複合蒸着膜との層間剥離を防止し、また、接着剤層中の酸やアルカリ成分や、或いは被転写体から接着剤層を透過した酸やアルカリ成分を前記複合蒸着膜から遮断すると共に、複合蒸着膜が柔軟であるところ、本発明による転写材の製造時の巻取や、また転写材から転写層を被転写体に転写する際に傷が付かないように、複合蒸着膜を保護する役割を担っている。 The adhesive anchor layer prevents the delamination of the composite deposited film and the adhesive layer on this, also, or acid or alkali component in the adhesive layer, or the transmitted acid adhesive layer from the transfer-receiving member together to block or alkali component from the composite deposited film, where the composite deposited film is flexible, the present invention winding and at the time of manufacture of the transfer material by, also the transfer layer from the transfer material at the time of transferring to a transfer member so as not to scratch, have a role to protect the composite deposited film. この接着アンカー層は、前述した熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂又はこれらの混合物からなり、厚み0.1〜1μm程度の合成樹脂層からなる。 The adhesive anchor layer is a thermosetting resin as described above, consists of a thermoplastic resin or a mixture thereof, a synthetic resin layer having a thickness of about 0.1 to 1 [mu] m. 【0054】この接着アンカー層も、前述したような熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂又はこれらの混合物を適宜の有機溶媒に溶解させて溶液とし、これを上記複合蒸着膜上に塗布し、乾燥又は硬化させることによって形成することができる。 [0054] The adhesive anchor layer is also a thermosetting resin as described above, to dissolve the thermoplastic resin or a mixture thereof in a suitable organic solvent as a solution, which was coated on the composite deposited film, dried or it can be formed by curing. 【0055】本発明による電磁波透過性金属蒸着膜転写材は、上記接着アンカー層の上に接着剤層を有する。 [0055] electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to the invention has an adhesive layer on the adhesive anchor layer. この接着剤層における接着剤は、感熱接着剤でもよく、また、感圧接着剤でもよく、転写材の使用方法や目的に応じて適宜に選ばれる。 Adhesive in the adhesive layer may be a heat-sensitive adhesive agent and may be a pressure sensitive adhesive is selected appropriately in accordance with usage and the purpose of the transfer material. これらの感熱又は感圧接着剤としては、例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、 These heat-sensitive or pressure-sensitive adhesives, e.g., vinyl chloride - vinyl acetate copolymer resin,
エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、酢酸ビニル樹脂、 Ethylene - vinyl acetate copolymer resin, vinyl acetate resin,
ポリビニルブチラール樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、セルロース系樹脂、石油樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ロジン及びハードレジンとその種々の誘導体や変性物、ゴム系樹脂、アクリル−アクリロニトリル共重合樹脂、アクリル−スチレン共重合体樹脂、アクリル−スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、エチレン−イソブチルアクリレート共重合体樹脂等が単独で、又は2種以上を組合わせて適宜に用いられる。 Polyvinyl butyral resin, chlorinated polypropylene resins, acrylic resins, polyester resins, polyamide resins, epoxy resins, phenol resins, cellulose resins, petroleum resins, thermoplastic polyurethane resins, rosins and hard resin and its various derivatives and modified products, rubber-based resins, acryl - acrylonitrile copolymer resin, acryl - styrene copolymer resin, acryl - styrene - butadiene copolymer resins, ethylene - isobutyl acrylate copolymer resin and the like alone, or two or more appropriately used in combination with. 【0056】このような接着剤は、必要に応じて、溶媒や、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、酸化亜鉛、カオリン、シリカゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、タルク等の無機微粒子からなる充填剤や架橋アクリル樹脂からなる真球状微粒子、架橋ポリスチレン樹脂からなる真球状微粒子、架橋シリコーン樹脂からなる真球状微粒子、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物からなる球状微粒子、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物からなる球状微粒子、ベンゾグアナミン−メラミン− [0056] Such adhesive may optionally solvent and silica, alumina, aluminum hydroxide, zinc oxide, kaolin, silica gel, calcium carbonate, titanium oxide, composed of an inorganic particulate filler or a crosslinking such as talc spherical fine particles comprising an acrylic resin, spherical fine particles composed of crosslinked polystyrene resin, spherical particles consisting of crosslinked silicone resin, benzoguanamine - spherical fine particles comprising formaldehyde condensates, melamine - spherical fine particles, benzoguanamine consisting formaldehyde condensate - melamine -
ホルムアルデヒド縮合物からなる球状微粒子等の有機微粒子からなる充填剤等、適宜の添加剤を含有していてもよい。 Fillers such as consisting of organic fine spherical fine particles composed of a formaldehyde condensation product, may contain an appropriate additive. 【0057】このような接着剤層は、上記接着アンカー層上に上記樹脂の溶液や溶融物を常法にて塗布し、乾燥することによって形成することができる。 [0057] Such adhesive layer may be formed by the solution or melt of the resin in the adhesive anchor layer is applied by a conventional method, and dried. 接着剤層の厚さは、特に限定されるものではないが、通常、0.5〜5 The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but usually, 0.5 to 5
μmの範囲が適当である。 Range of μm is appropriate. 【0058】接着剤層が多少とも、粘着性を帯びている感圧接着剤層であるときのように、必要に応じて、この接着剤層上にシリコーン樹脂を塗布した剥離フィルム(リリースフィルム)を貼合してもよく、また、コーンスターチ等の微粒子デンプンや、酸化チタン、シリカゲル等の超微粒子顔料等を散布してもよい。 [0058] with the adhesive layer is less, as the case is a pressure sensitive adhesive layer that bears the adhesive, if necessary, a release film coated with a silicone resin in the adhesive layer (release film) may stuck to, also, and particulate starch corn starch, titanium oxide, may be sprayed ultrafine particles pigment such as silica gel. 【0059】 【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、 [0059] EXAMPLES The present invention will be described by the following examples,
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではない。 The present invention is not limited by these examples. 以下において、部を重量部を示す。 In the following, the parts by weight of parts. 【0060】実施例1 (離型剤層の形成)酸化ポリエチレンワックス2.5部、 [0060] Example 1 (Formation of the release agent layer) oxidized polyethylene wax, 2.5 parts of
変性モンタンワックス2.5部、α−オレフィン−エチレン共重合体樹脂3部及びロジン樹脂5部をトルエン65 Modified montan wax 2.5 parts, alpha-olefin - 3 parts of ethylene copolymer resin and a rosin resin 5 parts Toluene 65
部、キシレン10部及びメチルエチルケトン75部からなる混合溶媒に加え、十分に混和し、これを基材である幅670mm、厚さ12μmの透明なポリエチレンテレフタレートフィルムの片面上にグラビアコーターを用いて塗布し、120〜130℃の範囲の温度で乾燥して、 Parts, was added to a mixed solvent consisting of 10 parts of xylene and 75 parts of methyl ethyl ketone, mixed thoroughly, this width 670mm as a substrate, was applied using a gravure coater on one surface of a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 12μm , and dried at a temperature in the range of 120 to 130 ° C.,
厚さ0.3μmの離型剤層を形成した。 To form a release agent layer having a thickness of 0.3 [mu] m. 【0061】(表面保護用透明樹脂層の形成)次に、熱硬化性樹脂として、メラミン−アクリル共縮合樹脂20 Next (Formation of surface protective transparent resin layer), as the thermosetting resin, a melamine - acrylic co-condensation resin 20
部、ウレタン樹脂20部、イソシアネート樹脂(ウレタン樹脂硬化剤、武田薬品工業(株)製タケネートA− Parts, 20 parts of a urethane resin, an isocyanate resin (urethane resin curing agent, manufactured by Takeda Chemical Industries, Ltd., Takenate A-
5)10部、アクリル変性シリコーン樹脂5部、ポリエーテル変性シリコーン樹脂5部、p−トルエンスルホン酸(アミノ樹脂の硬化剤)1部、熱可塑性樹脂として、 5) 10 parts, 5 parts of acrylic modified silicone resin, 5 parts of polyether-modified silicone resin, 1 part p- toluenesulfonic acid (amino resin curing agent) as the thermoplastic resin,
アクリル樹脂(三菱レーヨン(株)製ダイヤナールBR Acrylic resin (Mitsubishi Rayon Co., Ltd. DIANAL BR
−85)60部、環化ゴム20部、及び紫外線硬化型プレポリマーとして、ポリウレタンメタクリレート8部をトルエン110部、メチルエチルケトン600部、メチルイソブチルケトン70部及びシクロヘキサノン40部からなる混合溶媒に加え、十分に混和して、表面保護用透明樹脂層のための樹脂溶液を調製した。 -85) 60 parts, 20 parts cyclized rubber, and as a UV-curable prepolymer, adding 8 parts Polyurethane methacrylate 110 parts Toluene 600 parts of methyl ethyl ketone, a mixed solvent consisting of 70 parts of cyclohexanone 40 parts of methyl isobutyl ketone, sufficient by mixing in, to prepare a resin solution for surface protective transparent resin layer. これを上記離型剤層の上にグラビアコーターを用いて塗布し、160 This was coated using a gravure coater onto the release agent layer, 160
〜170℃の温度で焼き付け、硬化させて、厚さ1.0μ Baking at a temperature of to 170 ° C., and cured, the thickness 1.0μ
mの表面保護用透明樹脂層を形成した。 To form a surface protective transparent resin layer of m. 【0062】(内部保護用透明樹脂層の形成)熱硬化性樹脂として、メラミン樹脂(50%溶液)30部、アクリル−メラミン共重合体樹脂10部、メラミン−尿素共縮合樹脂(50%溶液)10部、p−トルエンスルホン酸(アミノ樹脂の硬化剤)6部、イソシアネート樹脂(ウレタン樹脂硬化剤、武田薬品工業(株)製タケネートA−5)5部、熱可塑性樹脂として、ロジン変性マレイン酸樹脂(不揮発物100%)50部、ケトン樹脂(不揮発物100%)32部、ニトロセルロースRS1 [0062] As (internal protection for the formation of the transparent resin layer) thermosetting resin, a melamine resin (50% solution) 30 parts, acrylic - 10 parts of melamine copolymer resins, melamine - urea co-condensation resin (50% solution) 10 parts, p- toluenesulfonic acid (amino resin curing agent) 6 parts of isocyanate resin (urethane resin curing agent, Takenate a-5 manufactured by Takeda Chemical Industries, Ltd.), 5 parts of a thermoplastic resin, rosin-modified maleic acid resin (non-volatile matter of 100%) 50 parts, ketone resin (non-volatile matter of 100%) 32 parts nitrocellulose RS1
/4(不揮発物100%)1部を染料オラゾールオレンジG(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)1部とバリファーストイエロー4120(オリエント化学工業(株)製)1部と共に、メチルエチルケトン500部、 / 4 (nonvolatile matter 100%) 1 part (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc.) dye Orazol Orange G (manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.) 1 part Valifast Yellow 4120 with 1 part of 500 parts of methyl ethyl ketone,
メチルイソブチルケトン20部、びイソプロピルアルコール20部及びシクロヘキサノン40部からなる混合溶媒に加え、十分に混練混和した。 20 parts of methyl isobutyl ketone were added to a mixed solvent consisting of 20 parts of cyclohexanone 40 parts fine isopropyl alcohol, and sufficiently kneaded admixture. これを上記表面保護用透明樹脂層上にグラビアコーターにて塗布し、160〜 This was applied by a gravure coater on the surface protective transparent resin layer, 160 to
170℃の温度で焼き付け、硬化させて、厚さ1.0μm Baking at a temperature of 170 ° C., to cure, thickness 1.0μm
の黄色の内部保護用透明樹脂層を形成した。 Of the formation of the internal protective transparent resin layer of yellow. 【0063】(インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜の形成)前述したような高周波励起プラズマを用いる活性化反応性蒸着装置において、上述したようにして、離型剤、表面保護用透明樹脂層及び内部保護用透明樹脂層を形成したポリエチレンテレフタレートフィルムからなる蒸着用基材を巻出し側にセットし、巻取り側につないだ。 [0063] (Formation of indium / indium oxide composite deposited film) In activated reactive evaporation apparatus using a high-frequency excited plasma as described above, in the manner described above, the release agent, the transparent resin layer for surface protection and internal protection the deposition substrate made of a polyethylene terephthalate film to form a use transparent resin layer was set in the unwinding side was connected to the take-up side. 真空ポンプを用いて装置の上室を到達真空度5×1 Reach the upper chamber of the device using a vacuum pump vacuum 5 × 1
-3 〜3×10 -3 Torrまで排気すると共に、下室側を到達真空度1×10 -4 〜1.5×10 -4 Torrまで排気した。 0 -3 with evacuated to to 3 × 10 -3 Torr, was evacuated lower chamber side to ultimate vacuum of 1 × 10 -4 ~1.5 × 10 -4 Torr. 【0064】そこで、先ず、下室の高周波誘導加熱用コイル(周波数10KHz)を備えた蒸発源坩堝内の金属インジウムを徐々に加熱し、2100〜2200℃程度まで達せしめて、金属インジウムが蒸発するのを確認した後、上記蒸着用基材を−5℃から5℃の間の範囲に冷却した冷却ロールを経て、120m/分の速度で走行させ、巻取り側に巻取りながら、蒸着用基材上に金属インジウムを蒸着させた。 [0064] Therefore, first, gradually heating the metal indium evaporation source crucible having a high-frequency induction heating coil of the lower chamber (frequency 10 KHz), and allowed to reach up to about 2,100-2,200 ° C., metallic indium is evaporated after confirming that the, through the cooling roll cooled to a range between 5 ° C. the deposition substrate from -5 ° C., was run at 120 m / min, while taking up the take-up side, the deposition group the metallic indium was deposited on wood. かくして得られた蒸着フィルムを膜厚測定装置(日本真空(株)製ファダム式膜厚測定装置、ハロゲン球波長565nm、50〜1000Åの膜厚の測定が可能である。)に導いて、蒸着膜厚を測定して、蒸着膜厚が350〜370Åとなるように、上記蒸発源坩堝の高周波誘導加熱用コイルの出力、即ち、金属インジウムの蒸発速度を調整した。 The thus obtained deposited film thickness measuring apparatus (Nippon Vacuum Co. Fadamu film thickness measuring apparatus, a halogen bulb wavelength 565 nm, it is possible to measure the film thickness of 50~1000A.) To lead, deposited film the thickness was measured, deposition thickness so that the 350~370A, the output of the high-frequency induction heating coil of the evaporation source crucible, i.e., to adjust the evaporation rate of the metal indium. 【0065】次に、上記蒸発源の上方に設けた高周波励起プラズマ生成用電極コイルに高周波発振器(出力2K Next, the high-frequency oscillator (output 2K to a high-frequency excited plasma generation electrodes coils provided above the evaporation source
W、周波数13.56MHz)からマッチングボックスを経て高周波電圧を印加すると共に、その反射波が20〜 W, applies a high-frequency voltage via a matching box from the frequency 13.56 MHz), the reflected wave 20
30Wの範囲でマッチングがとれるように設定し、この高周波励起プラズマ生成用電極コイルの上方に設けたプラズマ生成用アルゴンガス導入管からアルゴンガスを一定の割合(0.1L/分)で導入し、同様に、この高周波励起プラズマ生成用電極コイルの上方に設けた反応性ガスである酸素ガスの導入管から酸素を一定の割合(例えば、0.2L/分)で導入し、プラズマを生成させると共に、このプラズマ中で酸素とインジウム蒸気をイオン化して、これらの間で反応させて、インジウムに対して所定量の酸化インジウムを生成させ、これらを上記蒸着用基材上にインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜として蒸着させた。 Set the matching can take a range of 30 W, and introducing the high-frequency excited plasma argon gas from the plasma generating argon gas inlet tube provided above the generating electrode coil at a constant rate (0.1 L / min), Similarly, the high-frequency excited oxygen a certain percentage from the inlet tube of the oxygen gas is a reactive gas which is provided above the plasma generating electrode coil (e.g., 0.2 L / min) was introduced to produce a plasma ionizes the oxygen and indium vapor in the plasma, are reacted in between them to produce a predetermined amount of indium oxide with respect to indium, indium / indium oxide composite deposited them on the deposition substrate It was deposited as a film. 【0066】このようにして得られたインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィルムは、これを光透過率計(東洋電子(株)製、赤外発光ダイオード(発光波長910nm))に導き、波長910nmの光に対して、蒸着用基材(基準フィルム)の光透過率を1 [0066] deposited film having the above-obtained indium / indium oxide composite deposited film guides this light transmittance meter (Toyo Electronic Co., infrared light emitting diode (emission wavelength 910 nm)), the for light having a wavelength of 910 nm, deposition substrate the light transmittance of (reference film) 1
00%としたときの光透過率を測定し、この光透過率が11〜12%となるように前記酸素ガスシャワー口からの下室中への酸素導入量を調節することによって、酸化インジウム(In 2x )のx値が1.0〜1.3の範囲にあると共に、インジウム/酸化インジウム重量比が95 The light transmittance when formed into a 100% as measured by the light transmittance adjusting the amount of oxygen introduced into the lower chamber in the said oxygen gas shower outlet so that 11 to 12%, indium oxide ( with x values of an in 2 O x) is in the range of 1.0 to 1.3, indium / indium oxide weight ratio of 95
/5〜93/7の範囲にあるインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を形成するようにインジウムの酸化反応を制御した。 It was controlled oxidation of indium to form an indium / indium oxide composite deposited film in the range of / 5-93 / 7. 【0067】このようにして、最終的に、酸素の導入量を0.15L/分として、酸素分圧を一定に保持しながら、膜厚350〜370Å、上記光透過率計による波長910nmの光透過率11〜12%のインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を蒸着用基材上に連続的に形成し、蒸着フィルムを得て、これを巻取り側に巻き取った。 [0067] Thus, finally, the introduction amount of oxygen as 0.15 L / min, while maintaining the oxygen partial pressure constant thickness 350~370A, light having a wavelength of 910nm by the light transmittance meter the transmittance of 11 to 12% of indium / indium oxide composite deposited film continuously formed on a deposition substrate, to obtain a deposited film, was wound up to the winding side. 【0068】このようにして得た複合蒸着膜について、 [0068] For the thus obtained composite deposited film,
ESCA(X線光電子分析)スペクトロメーター((株)島津製作所製、ESCA−3400)を用いて分析した結果、酸化インジウムのx値(In 2xにおけるxの値)が1.0〜1.3の範囲にあり、インジウム/ ESCA (X-ray photoelectron spectroscopy) spectrometer (manufactured by Shimadzu Corporation, ESCA-3400) was analyzed using, x values of the indium oxide (the value of x in an In 2 O x) is 1.0 to 1. located on the third of the range, indium /
酸化インジウム重量比が95/5〜93/7の範囲にあることを確認した。 Indium oxide weight ratio was confirmed to be in the range of 95 / 5-93 / 7. 【0069】(接着アンカー層の形成)次に、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂25部、アクリル樹脂20 [0069] (Formation of adhesive anchor layer) Next, vinyl chloride - 25 parts of vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin 20
部及びセルロースアセテートブチレート樹脂(CAB) Parts and cellulose acetate butyrate resin (CAB)
5部を酢酸エチル150部、メチルエチルケトン100 Ethyl acetate 150 parts and 5 parts of methyl ethyl ketone 100
部及びトルエン50部からなる混合溶媒に加え、十分に混和した。 Added to a mixed solvent consisting of parts and 50 parts of toluene were thoroughly mixed. これをグラビアコーターにて上記複合蒸着膜上に塗布し、130〜150℃の温度で乾燥して、膜厚 This was applied on the composite deposited film by gravure coater, and dried at a temperature of 130 to 150 ° C., the film thickness
0.5μmの接着アンカー層を形成した。 To form an adhesive anchor layer of 0.5 [mu] m. 【0070】(接着剤層の形成)塩素化ポリプロピレン樹脂(不揮発分30%溶液)100部、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂(不揮発分30%溶液)100部、 [0070] Chlorinated polypropylene resin (nonvolatile content of 30% solution) 100 parts (Formation of adhesive layer), an ethylene - vinyl acetate copolymer resin (nonvolatile content of 30% solution) 100 parts,
エチルセルローズ(不揮発分100%)10部、ロジン変性マレイン酸樹脂(不揮発分100%)30部、充填剤シリカゲル(日本アエロジル(株)製200)5部、 Ethylcellulose (nonvolatile content 100%) 10 parts of a rosin-modified maleic acid resin (nonvolatile content: 100%), 30 parts of filler of silica gel (200 manufactured by Nippon Aerosil Co.) 5 parts,
ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物球状微粒子((株)日本触媒製エポスターMS)10部をトルエン250部、酢酸エチル300部、酢酸メチル200部、 Benzoguanamine - formaldehyde condensate spherical fine particles (Co. manufactured by Nippon Shokubai Co. Epostar MS) 250 parts Toluene 10 parts, 300 parts of ethyl acetate, 200 parts of methyl acetate,
メチルエチルケトン150部及びメタノール50部からなる混合溶媒に加えて十分に混和し、これをリバースコーターにて上記接着アンカー層上に塗布し、120〜1 In addition to the mixed solvent of 150 parts of methyl ethyl ketone and 50 parts of methanol was thoroughly mixed, which was applied by a reverse coater to the adhesive anchor layer, 120-1
50℃の温度で乾燥して、膜厚2.5μmの接着剤層を形成し、かくして、本発明による電磁波透過性金属蒸着膜転写材を得た。 And dried at a temperature of 50 ° C., to form an adhesive layer having a thickness of 2.5 [mu] m, thus, to obtain an electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to the present invention. 【0071】(転写層の形成)このようにして得た電磁波透過性金属蒸着膜転写材を用いて、食品包装用ラベル紙の表面に連続熱転写を行なって(熱刻印温度130 [0071] (Formation of transfer layer) Using the thus electromagnetically transparent metallized film transfer material obtained, the surface of the food packaging labels by performing continuous thermal transfer (hot embossing temperature 130
℃、刻印圧力10トン/インチ(熱板プレート面積10 ° C., stamped pressure of 10 ton / inch (hot plate plate area 10
00mm×700mm角)、熱転写枚数1枚/秒)、美麗で高輝度を有する3号金色の金属光沢を有する転写層を得た。 300 mm × 700 mm square), the thermal transfer sheets 1 images / second), it was beautiful obtained in a transfer layer having a No. 3 golden metallic luster with a high brightness. 【0072】この転写層の表面の光沢度を日本電色工業(株)製グロスメーターVGS−SENSORを用いて、JIS Z 8741に従って測定したところ(入射角度45度)、960.50であった。 [0072] The gloss of the surface of the transfer layer using a Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. Gloss meter VGS-SENSOR, was measured in accordance with JIS Z 8741 (incident angle 45 degrees), it was 960.50. 【0073】(絵柄模様層の形成)次に、この転写層の表面に紫外線硬化型オフセットインキ又はシルクスクリーンインキを用いてそれぞれ絵柄模様を印刷し、紫外線硬化させて、紫外線硬化型インキによる印刷絵柄模様層を形成した。 [0073] (Formation of the picture pattern layers) Next, each using the ultraviolet ray curable offset ink or silk-screen ink was printed picture pattern on the surface of the transfer layer, by ultraviolet curing, printing picture by UV curable ink to form a pattern layer. 【0074】(転写層表面の印刷層の摩擦堅牢度の評価)このようにして形成した絵柄模様層の摩擦堅牢度を染色物摩擦堅牢度試験機にて調べた結果、布帛付500 [0074] (transfer layer Evaluation of fastness to rubbing of the printed layer on the surface) results friction fastness picture pattern layer formed in this way was examined by dyeing rubbing fastness tester, with the fabric 500
g、200回の摩擦に耐え、かくして、耐摩耗性や耐摩擦傷性、更に、爪による引っ掻き、擦過試験にも耐え、 g, withstand 200 rubs, thus, the abrasion resistance and wear abrasion resistance, further, scratching by nails, withstand abrasion test,
しかも、耐溶剤性と耐薬品性にもすぐれていることが確認された。 Moreover, it has been confirmed that also excellent solvent resistance and chemical resistance. 【0075】(転写層の電磁波透過性の評価)このように表面に紫外線硬化型インキによる印刷層を有する転写層を電子レンジ内に置き、これにマイクロ波を照射したところ、放電、熱収縮、燃焼等の不都合を生じなかった。 [0075] (electromagnetic wave permeability Evaluation of the transfer layer) thus placing the transfer layer having a print layer with ultraviolet curable ink to the surface in a microwave oven, this was irradiated with microwaves, discharge, thermal contraction, It did not result in a disadvantage such as combustion. また、高感度異物検出機(ニッカ電測(株)製Y− Further, highly sensitive foreign object detector (Nikka intensity measurement Co. Y-
1500)による検査においても、異物金属の混入として誤認検知されることがなかった。 Also in investigations on 1500), never be mistaken detected as incorporation of the foreign metal. 更に、前記転写材を用いて、塩化ビニル樹脂製レザー基材面に高周波ウェルダー機で転写層を転写したが、この際にも、転写層に放電や熱収縮等の不都合は起こらなかった。 Furthermore, by using the transfer material has been transferred to the transfer layer in a high frequency welder machine leather substrate surface made of a vinyl chloride resin, in this case, problems such as discharge or thermal contraction in the transfer layer did not occur. 【0076】(その他のインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜の製造)蒸着用基材上への前記インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜の製造において、当初のインジウム蒸着膜の厚みを350〜370Åとし、次に、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜の光透過率を14〜 [0076] In the production of the indium / indium oxide composite deposited film to (other manufacturing indium / indium oxide composite deposited film) deposition substrate on the thickness of the original indium deposited film and 350~370A, then , 14 the light transmittance of the indium / indium oxide composite deposited film
15%とすることによって、酸化インジウムのx値(I By a 15%, x value of the indium oxide (I
2xにおけるxの値)が1.0〜1.5の範囲にあり、 The value of x in n 2 O x) is in the range of 1.0 to 1.5,
インジウム/酸化インジウム重量比が90/10〜87 Indium / indium oxide weight ratio of 90 / 10-87
/13の範囲にあるインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を得ることができた。 / 13 could be obtained indium / indium oxide composite deposited film in the range of. 【0077】また、当初のインジウム蒸着膜の厚みを4 [0077] In addition, the thickness of the original indium deposition film 4
50〜500Åとし、次に、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜の光透過率を18〜20%とすることによって、酸化インジウムのx値(In 2xにおけるxの値)が1.0〜1.9の範囲にあり、インジウム/酸化インジウム重量比が83/17〜80/20の範囲にあるインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を得ることができた。 And 50-500, then indium / by light transmittance of indium oxide composite deposited film and 18-20%, x value of the indium oxide (the value of x in an In 2 O x) is 1.0 to 1 in the range of .9, indium / indium oxide weight ratio could be obtained indium / indium oxide composite deposited film in the range of 83 / 17-80 / 20. 【0078】実施例2 (離型剤層の形成)変性シリコーン樹脂2部、ポリエチレンワックス2部、酸化ポリエチレンワックス5部、エチレン−アクリル共重合体樹脂5部、アクリル樹脂2部をトルエン80部、キシレン20部及びメチルエチルケトン100部からなる混合溶媒に加え、十分に混和し、 [0078] Example 2 (Formation of the release agent layer) modified silicone resin 2 parts, 2 parts of polyethylene wax, oxidized polyethylene wax, 5 parts of ethylene - 5 parts of acrylic copolymer resin, 80 parts of toluene 2 parts of acrylic resin, added to a mixed solvent consisting of 20 parts of methyl ethyl ketone and 100 parts of xylene, mixed thoroughly,
これを基材である幅670mm、厚さ12μmの透明なポリエチレンテレフタレートフィルムの片面上にグラビアコーターを用いて塗布し、130〜150℃の範囲の温度で乾燥して、厚さ0.5μmの離型剤層を形成した。 This is a substrate width 670 mm, was coated using a gravure coater on one surface of a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 [mu] m, and dried at a temperature in the range of 130 to 150 ° C., a thickness of 0.5μm away to form a mold agent layer. 【0079】(表面保護用透明樹脂層の形成)次に、熱硬化性樹脂として、メラミン−アクリル共縮合樹脂20 [0079] Next (Formation of surface protective transparent resin layer), as the thermosetting resin, a melamine - acrylic co-condensation resin 20
部、メラミン−尿素共縮合樹脂20部、ウレタン樹脂1 Parts, melamine - 20 parts of urea co-condensation resin, urethane resin 1
0部、イソシアネート樹脂(ウレタン樹脂硬化剤、武田薬品工業(株)製タケネートA−5)10部、アクリル変性シリコーン樹脂10部、アミノ変性シリコーン樹脂10部、ポリエーテル変性シリコーン樹脂5部、p−トルエンスルホン酸(アミノ樹脂の硬化剤)1部、熱可塑性樹脂として、アクリル樹脂(三菱レーヨン(株)製ダイヤナールBR−80)50部、石油樹脂(ヤスハラケミカル(株)製YSポリスター2130)30部、ロジン変性マレイン酸樹脂(日立化成ポリマー(株)製テスポール1154)40部、及び紫外線硬化型プレポリマーとして、ポリウレタン−メタクリレート13部をトルエン110部、メチルエチルケトン600部、メチルイソブチルケトン70部及びシクロヘキサノン40部からなる混合溶媒に加 0 parts of an isocyanate resin (urethane resin curing agent, Takenate A-5 manufactured by Takeda Chemical Industries, Ltd.) 10 parts, 10 parts of acrylic modified silicone resin, 10 parts of amino-modified silicone resins, polyether-modified silicone resin 5 parts, p- 1 part (curing agent amino resin) toluenesulfonic acid, as the thermoplastic resin, an acrylic resin (Mitsubishi rayon Co., Ltd. DIANAL BR-80) 50 parts of petroleum resin (Yasuhara Chemical Co., Ltd. YS Polyster 2130) 30 parts , 40 parts of a rosin-modified maleic acid resin (TESPOL 1154 manufactured by Hitachi Kasei polymer Co.), and a UV-curable prepolymer, polyurethane - 110 parts toluene methacrylate 13 parts methyl ethyl ketone 600 parts, 70 parts and cyclohexanone methyl isobutyl ketone 40 in a mixed solvent consisting of part pressurized 、十分に混和して、表面保護用透明樹脂層のための樹脂溶液を調製した。 , Sufficiently mixed to prepare a resin solution for surface protective transparent resin layer. これを上記離型剤層の上にグラビアコーターを用いて塗布し、160〜1 This was coated using a gravure coater onto the release agent layer, 160-1
70℃の温度で焼き付け、硬化させて、厚さ1.0μmの表面保護用透明樹脂層を形成した。 Baking at a temperature of 70 ° C., to cure, to form a surface protective transparent resin layer having a thickness of 1.0 .mu.m. 【0080】(内部保護用透明樹脂層の形成)熱硬化性樹脂として、メラミン樹脂(50%溶液)50部、ウレタン樹脂20部、イソシアネート樹脂(日本ポリウレタン工業(株)製コロネートHL、ウレタン樹脂の硬化剤)20部、リン酸モノブチル(アミノ樹脂の硬化剤) [0080] As (internal protection for the formation of the transparent resin layer) thermosetting resin, a melamine resin (50% solution) 50 parts, 20 parts of a urethane resin, an isocyanate resin (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. Coronate HL, urethane resin curing agent) 20 parts of monobutyl phosphate (amino resin curing agent)
7部、熱可塑性樹脂として、ロジン変性マレイン酸樹脂(不揮発分100%)70部、アクリル樹脂(東亜合成(株)製S−1005)20部、ニトロセルロース(R 7 parts, as the thermoplastic resin, rosin-modified maleic acid resin (nonvolatile content 100%) 70 parts of an acrylic resin (Toagosei Co., Ltd. S-1005) 20 parts Nitrocellulose (R
S1/4)5部をメチルエチルケトン500部、メチルイソブチルケトン80部、イソプロピルアルコール10 S1 / 4) Methyl ethyl ketone 500 parts and 5 parts, 80 parts of methyl isobutyl ketone, isopropyl alcohol 10
0部及びシクロヘキサノン50部からなる混合溶媒に加え、十分に混練、混和し、これを上記表面保護用透明樹脂層上にグラビアコーターにて塗布し、160〜170 In addition to 0 parts of a mixed solvent consisting of 50 parts of cyclohexanone, well kneaded, mixed with, which was applied by gravure coater on the surface protective transparent resin layer, 160 to 170
℃の温度で焼き付け、硬化させて、厚さ1.0μmの内部保護用透明樹脂層を形成した。 ℃ baked at a temperature and cured to form an inner protective transparent resin layer having a thickness of 1.0 .mu.m. 【0081】(インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜の形成)前述したような電子線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着装置において、上述したようにして、離型剤、表面保護用透明樹脂層及び内部保護用透明樹脂層を形成したポリエチレンテレフタレートフィルムからなる蒸着用基材を巻出し側にセットし、巻取り側につないだ。 [0081] In activated reactive evaporation apparatus using an (indium / formation of the indium oxide composite deposited film) electron beam oxidation anode plasma as described above, in the manner described above, the release agent, the transparent resin layer for surface protection and the deposition substrate made of a polyethylene terephthalate film to form a internal protective transparent resin layer was set in the unwinding side was connected to the take-up side. 真空ポンプを用いて装置の上室を到達真空度5×10 -3 〜3×10 -3 Torrまで排気すると共に、 While evacuating the upper chamber of the device to the ultimate vacuum of 5 × 10 -3 ~3 × 10 -3 Torr using a vacuum pump,
下室側を到達真空度1×10 -4 〜1.5×10 -4 Torr The lower chamber side ultimate vacuum 1 × 10 -4 ~1.5 × 10 -4 Torr
まで排気した。 It was evacuated to. 【0082】そこで、先ず、下室の高周波誘導加熱装置(周波数10KHz)を備えた蒸発源坩堝内の金属インジウムを徐々に加熱し、2100〜2200℃程度まで達せしめて、金属インジウムが蒸発するのを確認した後、上記蒸着用基材を−5℃から5℃の間の範囲に冷却した冷却ロールを経て、120m/分の速度で走行させながら、巻取り側に巻取って、基材上に金属インジウムを蒸着させた。 [0082] Therefore, first, gradually heating the metal indium evaporation source crucible having a high-frequency induction heating device of the lower chamber (frequency 10 KHz), and allowed to reach up to about 2100-2,200 ° C., the metallic indium is evaporated after confirming, through a cooling roll cooled to a range between 5 ° C. the deposition substrate from -5 ° C., while running the belt 120 m / min, and wound on the winding side, on a base material the metallic indium was deposited. このインジウム蒸着フィルムの蒸着膜厚を前記膜厚測定装置で測定して、蒸着膜厚が400Åとなるように、上記蒸発源坩堝の高周波誘導加熱装置の出力、即ち、金属インジウムの蒸発速度を調整した。 The deposition thickness of the indium deposited film was measured by the thickness measuring device, as deposited film thickness of 400 Å, the output of the high frequency induction heating device of the evaporation source crucible, i.e., adjusting the evaporation rate of the metal indium did. 【0083】次に、射線が上記蒸発源の上方を横切るように設けたホロカソード式電子線プラズマ照射銃(HC Next, hollow cathode type electron beam plasma irradiation gun ray is provided so as to cross above the evaporation source (HC
D電子銃、出力電圧30KW/台)のカソード電極3台から反対側のHCD電子銃のアノード電極に向けて電子線を照射すると共に、上記HCD電子銃のカソード電極の内部からアルゴンガスを一定の割合(0.1L/分)で導入し、同時に、前記蒸発源の上方に設けた酸素ガスシャワー口から酸素ガスを一定の割合(例えば、0.2L/ D an electron gun, the electron beam irradiation toward the anode electrode of the HCD gun opposite from three cathode electrode of the output voltage 30KW / stand), inside the constant argon gas of the cathode electrode of the HCD gun proportion introduced in (0.1 L / min), at the same time, the ratio of oxygen gas shower outlet provided above the oxygen gas constant of the evaporation source (e.g., 0.2 L /
分)で導入して、HCD電子銃のカソード電極からアノード電極の間の空間に放電プラズマを生成させ、この空間放電プラズマ領域中で酸素とインジウム蒸気をイオン化して、これらの間で反応させて、インジウムに対して所定量の酸化インジウムを生成させ、これらを上記蒸着用基材上にインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜として蒸着させた。 Introducing min), thereby generating a discharge plasma in a space between the HCD gun cathode electrode from the anode electrode of the oxygen and indium vapor in the spatial discharge plasma region is ionized and reacted between these , to produce a predetermined amount of indium oxide with respect to indium these were deposited as indium / indium oxide composite deposited film on the deposition substrate. 【0084】このようにして得られたインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィルムは、これを前記光透過率計に導き、蒸着膜の波長910nmの光透過率を測定し、この光透過率が14〜15%となるように前記酸素ガスシャワーからの下室中への酸素導入量を調節することによって、酸化インジウム(In 2x )のx値が1.0〜1.5の範囲にあると共に、インジウム/酸化インジウム重量比が90/10〜87/13の範囲にあるインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を形成するようにインジウムの酸化反応を制御した。 [0084] deposited film having the above-obtained indium / indium oxide composite deposited film leads it to the light transmittance meter, to measure the light transmittance of wavelength 910nm of the deposited film, the light transmittance range but by adjusting the amount of oxygen introduced into the lower chamber in the said oxygen gas shower so that 14 to 15%, x value of indium oxide (in 2 O x) is 1.0 to 1.5 together in, indium / indium oxide weight ratio was controlled oxidation reaction of indium to form an indium / indium oxide composite deposited film in the range of 90 / 10-87 / 13. 【0085】このようにして、最終的に、酸素の導入量を0.2L/分として、酸素分圧を一定に保持しながら、 [0085] In this way, finally, the introduction amount of oxygen as 0.2 L / min, while maintaining the oxygen partial pressure constant,
膜厚が380〜400Å、上記光透過率計による波長9 Wavelength thickness 380~400A, by the light transmittance meter 9
10nmの光透過率が14〜15%のインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を蒸着用基材上に連続的に形成し、蒸着フィルムを得て、これを巻取り側に巻き取った。 Light transmittance of 10nm is continuously formed on the deposition substrate 14 to 15% indium / indium oxide composite deposited film, to obtain a deposited film, it was wound up to the winding side. 【0086】このようにして得た複合蒸着膜について、 [0086] For the thus obtained composite deposited film,
ESCA(X線光電子分析)スペクトロメーター((株)島津製作所製、ESCA−3400)を用いて分析した結果、酸化インジウムのx値(In 2xにおけるxの値)が1.0〜1.5の範囲にあり、インジウム/ ESCA (X-ray photoelectron spectroscopy) spectrometer (manufactured by Shimadzu Corporation, ESCA-3400) was analyzed using, x values of the indium oxide (the value of x in an In 2 O x) is 1.0 to 1. is in the range of 5, indium /
酸化インジウム重量比が90/10〜87/13の範囲にあることを確認した。 Indium oxide weight ratio was confirmed to be in the range of 90 / 10-87 / 13. 【0087】(転写層の特性)上記転写材からの銀色の転写層の表面の光沢度を日本電色工業(株)製グロスメーターVGS−SENSORを用いて、JIS Z 8 [0087] Using the glossiness of the surface of the silver transfer layer Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. Gloss meter VGS-SENSOR from (transfer layer properties) the transfer material, JIS Z 8
741に従って測定したところ(入射角度45度)、9 Was measured in accordance with 741 (incident angle 45 degrees), 9
61.50であった。 It was 61.50. 【0088】(接着アンカー層と接着剤層の形成)更に、上記複合蒸着膜上に、前記実施例1と同様にして、 [0088] (adhesive anchor layer and the formation of the adhesive layer) Further, on the composite deposited film, in the same manner as in Example 1,
接着アンカー層と接着剤層とを積層して、本発明による電磁波透過性金属蒸着膜転写材を得た。 Laminated with the adhesive anchor layer and the adhesive layer to obtain an electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to the present invention. 【0089】(絵柄模様層の形成)次に、この転写層の表面に紫外線硬化型のオフセットインキ又はシルクスクリーンインキを用いてそれぞれ絵柄模様状を印刷し、紫外線硬化させて、紫外線硬化型インキによる印刷絵柄模様層を形成した。 [0089] (Formation of the picture pattern layers) Next, each print a picture pattern shape using an offset ink or silk screen ink of an ultraviolet curing type surface of the transfer layer, by ultraviolet curing, by UV curable ink to form a printed picture pattern layer. 【0090】(印刷転写材の表面の摩擦堅牢度の評価) [0090] (Evaluation of friction fastness of the surface of the printing transfer material)
このようにして形成した絵柄模様層の摩擦堅牢度を染色物摩擦堅牢度試験機にて調べた結果、布帛付500g、 Thus friction fastness picture pattern layer formed by the results of examination by dyeing friction fastness tester with fabric 500 g,
200回の摩擦に耐え、かくして、耐摩耗性や耐摩擦傷性、更に、爪による引っ掻き、擦過試験にも耐え、しかも、耐溶剤性と耐薬品性にもすぐれていることが確認された。 Withstand 200 rubs, thus, abrasion resistant and wear abrasion, furthermore, scratching by nails, withstand abrasion test, moreover, it was confirmed that excellent in solvent resistance and chemical resistance. 【0091】(電磁波透過性の評価)このように表面に紫外線硬化型インキによる印刷面を有する転写材を電子レンジ内に置き、これにマイクロ波を照射したところ、 [0091] (electromagnetic wave permeability rating) thus placing the transfer material having a printing surface by UV curable ink on the surface in the microwave oven was irradiated with microwaves thereto,
放電、熱収縮、燃焼等の不都合を生じなかった。 Discharge, heat shrinkage, caused no inconvenience such as combustion. また、 Also,
高感度異物検出機による検査においても、異物金属の混入として誤認検知されることがなかった。 Also in investigations on sensitive foreign object detector, it never is mistaken detected as incorporation of the foreign metal. 更に、塩化ビニル樹脂製レザー基材面に転写材から高周波ウェルダー機で転写層を転写したが、この際に、放電や熱収縮等の不都合は起こらなかった。 Furthermore, although the transfer of the transfer layer in a high-frequency welder machine from the transfer material leather substrate surface made of a vinyl chloride resin, when this, problems such as discharge or thermal shrinkage did not occur. 【0092】実施例3 (離型剤層の形成)酸化ワックス(PAD522)3.0 [0092] Example 3 (Formation of the release agent layer) oxidized wax (PAD522) 3.0
部、部分ケン化エステルワックス3.0部、α−オレフィン−エチレン共重合体樹脂3部及びロジン樹脂5部をトルエン70部、キシレン10部及びメチルエチルケトン80部からなる混合溶媒に加え、十分に混和し、これを基材である幅670mm、厚さ12μmの透明なポリエチレンテレフタレートフイルムの片面上にグラビアコーターを用いて塗布し、120〜130℃の範囲の温度で乾燥して、厚さ0.6μmの離型剤層を形成した。 Parts, partially saponified ester wax 3.0 parts alpha-olefin - ethylene copolymer resin 3 parts of rosin resin 5 parts was added to a mixed solvent consisting of 70 parts, 10 parts of xylene and methyl ethyl ketone 80 parts Toluene, mixed thoroughly and, width 670mm which is the substrate, was applied using a gravure coater on one surface of a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 [mu] m, and dried at a temperature in the range of 120 to 130 ° C., thickness 0.6μm to form a release agent layer. 【0093】(表面保護用透明樹脂層の形成)次に、熱硬化性樹脂として、メラミン−尿素共縮合樹脂20部、 [0093] (Formation of surface protective transparent resin layer) Next, as the thermosetting resin, a melamine - 20 parts of urea co-condensation resin,
ウレタン樹脂20部、イソシアネート樹脂(ウレタン樹脂硬化剤、日本ポリウレタン工業(株)製コロネートL)10部、アクリル変性シリコーン樹脂5部、ポリエーテル変性シリコーン樹脂5部、p−トルエンスルホン酸(アミノ樹脂の硬化剤)1部、熱可塑性樹脂として、 20 parts of a urethane resin, an isocyanate resin (urethane resin curing agent, Nippon Polyurethane Kogyo Co., Coronate L) 10 parts, 5 parts of acrylic modified silicone resin, 5 parts of polyether-modified silicone resins, p- toluenesulfonic acid (amino resins curing agent), 1 part of a thermoplastic resin,
アクリル樹脂(三菱レーヨン(株)製ダイヤナールBR Acrylic resin (Mitsubishi Rayon Co., Ltd. DIANAL BR
−85)60部、環化ゴム20部、及び紫外線硬化型プレボリマーとして、メラミン−アクリレート8部を、トルエン110部、メチルエチルケトン600部、メチルイソブチルケトン70部及びシクロヘキサノン40部からなる混合溶媒に加え、十分に混和して、表面保護用透明樹脂層のための樹脂溶液を調製した。 -85) 60 parts, 20 parts cyclized rubber, and as UV-curable Pureborima, melamine - 8 parts acrylate, 110 parts of toluene, methyl ethyl ketone 600 parts, was added to a mixed solvent consisting of 70 parts of cyclohexanone 40 parts of methyl isobutyl ketone, sufficiently mixed to prepare a resin solution for surface protective transparent resin layer. これを上記離型剤層の上にグラビアコーターを用いて塗布し、160〜 This was coated using a gravure coater onto the release agent layer, 160 to
170℃の温度で焼き付け、硬化させて、厚さ1.0μm Baking at a temperature of 170 ° C., to cure, thickness 1.0μm
の表面保護用透明樹脂層を形成した。 To form a surface protective transparent resin layer. 【0094】(内部保護用透明樹脂層の形成)熱硬化性樹脂として、メラミン樹脂(50%溶液)40部、メラミン−尿素共縮合樹脂(50%溶液)10部、p−トルエンスルホン酸(アミノ樹脂の硬化剤)6部、イソシアネート樹脂(ウレタン樹脂架橋剤、武田薬品工業(株) [0094] As (internal protection for the formation of the transparent resin layer) thermosetting resin, a melamine resin (50% solution) 40 parts of melamine - urea co-condensation resin (50% solution) 10 parts, p- toluenesulfonic acid (amino curing agent) 6 parts of resin, isocyanate resin (urethane resin crosslinking agent, Takeda Chemical Industries, Ltd.
製タケネートA−5)10部、熱可塑性樹脂として、ロジン変性マレイン酸樹脂(不揮発分100%)50部、 Ltd. Takenate A-5) 10 parts of a thermoplastic resin, rosin-modified maleic acid resin (nonvolatile content 100%) 50 parts,
ケトン樹脂(不揮発分100%)45部、ニトロセルロースRS1/4(不揮発分100%)2部を染料オレオゾールファーストレッドGL(田岡化学工業(株)製) Ketone resin (nonvolatile content 100%) 45 parts Nitrocellulose RS1 / 4 (nonvolatile content: 100%) (manufactured by Taoka Chemical Co.) 2 parts of the dye Oleosol Fast Red GL
2.5部とオレゾールファーストピンクFB(田岡化学工業(株)製)1.0部と共に、メチルエチルケトン500 (Manufactured by Taoka Chemical Co., Ltd.) 2.5 parts and I Orres first pink FB together with 1.0 parts of methyl ethyl ketone 500
部、メチルイソブチルケトン40部及びシクロヘキサノン40部からなる混合溶媒に加え、十分に混練混和した。 Parts, was added to a mixed solvent consisting of 40 parts of cyclohexanone 40 parts of methyl isobutyl ketone was sufficiently kneaded admixture. これを上記表面保護用透明樹脂層上にグラビアコーターにて塗布し、160〜170℃の温度で焼き付け、 This was applied by a gravure coater on the surface protective transparent resin layer, and baked at a temperature of 160 to 170 ° C.,
硬化させて、厚さ1.0μmの赤色の内部保護用透明樹脂層を形成した。 Cured, to form an inner protective transparent resin layer of red thickness 1.0 .mu.m. 【0095】(インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜の形成)前述したような高周波励起プラズマを用いる活性化反応性蒸着装置において、上述したようにして、離型剤、表面保護用透明樹脂層及び内部保護用透明樹脂層を形成したポリエチレンテレフタレートフイルムからなる蒸着用基材を巻出し側にセットし、巻取り側につないだ。 [0095] In activated reactive evaporation apparatus using a high-frequency excited plasma as (indium / oxide formation of indium composite deposited film) described above, in the manner described above, the release agent, the transparent resin layer for surface protection and internal protection the deposition substrate made of a polyethylene terephthalate film was formed a use transparent resin layer was set in the unwinding side was connected to the take-up side. 真空ポンプを用いて装置の上室を到達真空度5×1 Reach the upper chamber of the device using a vacuum pump vacuum 5 × 1
-3 〜3×10 -3 Torrまで排気すると共に、下室側を到達真空度1×10 -4 〜1.5×10 -4 Torrまで排気した。 0 -3 with evacuated to to 3 × 10 -3 Torr, was evacuated lower chamber side to ultimate vacuum of 1 × 10 -4 ~1.5 × 10 -4 Torr. 【0096】そこで、先ず、下室の高周波誘導加熱用コイル(周波数10KHz)を備えた蒸発源坩堝内の金属インジウムを徐々に加熱し、2100〜2200℃程度まで達せしめて、金属インジウムが蒸発するのを確認した後、上記蒸着用基材を−5℃から5℃の間の範囲に冷却した冷却ロールを経て、120m/分の速度で走行させ、巻取り側に巻取りながら、蒸着用基材上に金属インジウムを蒸着させた。 [0096] Therefore, first, gradually heating the metal indium evaporation source crucible having a high-frequency induction heating coil of the lower chamber (frequency 10 KHz), and allowed to reach up to about 2,100-2,200 ° C., metallic indium is evaporated after confirming that the, through the cooling roll cooled to a range between 5 ° C. the deposition substrate from -5 ° C., was run at 120 m / min, while taking up the take-up side, the deposition group the metallic indium was deposited on wood. かくして得られた蒸着フィルムを膜厚測定装置(日本真空(株)製ファダム式膜厚測定装置、ハロゲン球波長565nm、50〜1000Åの膜厚の測定が可能である。)に導いて、蒸着膜厚を測定して、蒸着膜厚が350〜370Åとなるように、上記蒸発源坩堝の高周波誘導加熱用コイルの出力、即ち、金属インジウムの蒸発速度を調整した。 The thus obtained deposited film thickness measuring apparatus (Nippon Vacuum Co. Fadamu film thickness measuring apparatus, a halogen bulb wavelength 565 nm, it is possible to measure the film thickness of 50~1000A.) To lead, deposited film the thickness was measured, deposition thickness so that the 350~370A, the output of the high-frequency induction heating coil of the evaporation source crucible, i.e., to adjust the evaporation rate of the metal indium. 【0097】次に、上記蒸発源の上方に設けた高周波励起プラズマ生成用電極コイルに高周波発振器(出力2K [0097] Next, the high-frequency oscillator (output 2K to a high-frequency excited plasma generation electrodes coils provided above the evaporation source
W、周波数13.56MHz)からマッチングボックスを経て高周波電圧を印加すると共に、その反射波が20〜 W, applies a high-frequency voltage via a matching box from the frequency 13.56 MHz), the reflected wave 20
30Wの範囲でマッチングがとれるように設定し、この高周波励起プラズマ生成用電極コイルの上方に設けたプラズマ生成用アルゴンガス導入管からアルゴンガスを一定の割合(0.1L/分)で導入し、同様に、この高周波励起プラズマ生成用電極コイルの上方に設けた反応性ガスである酸素ガスの導入管から酸素を一定の割合(例えば、0.35L/分)で導入し、プラズマを生成させると共に、このプラズマ中で酸素とインジウム蒸気をイオン化して、これらの間で反応させて、インジウムに対して所定量の酸化インジウムを生成させ、これらを上記蒸着用基材上にインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜として蒸着させた。 Set the matching can take a range of 30 W, and introducing the high-frequency excited plasma argon gas from the plasma generating argon gas inlet tube provided above the generating electrode coil at a constant rate (0.1 L / min), Similarly, the high-frequency excited oxygen a certain percentage from the inlet tube of the oxygen gas is a reactive gas which is provided above the plasma generating electrode coil (e.g., 0.35 L / min) was introduced to produce a plasma ionizes the oxygen and indium vapor in the plasma, are reacted in between them to produce a predetermined amount of indium oxide with respect to indium, indium / indium oxide composite deposited them on the deposition substrate It was deposited as a film. 【0098】このようにして得られたインジウム/酸化インジウム榎合蒸着膜を有する蒸着フィルムは、これを光透過率計(東洋電子(株)製、赤外発光ダイオード(発光波長910nm)に導き、波長910nmの光に対して、蒸着用基材(基準フィルム)の光透過率を10 [0098] deposited film having the above-obtained indium / indium oxide Enokigo deposited film guides this light transmittance meter (Toyo Electronic Co., Ltd., the infrared light emitting diode (emission wavelength 910 nm), for light having a wavelength of 910 nm, deposition substrate the light transmittance of (reference film) 10
0%としたときの光透過率を測定し、この光透過率が1 The light transmittance when the 0% was measured, the light transmittance of 1
8〜20%となるように前記酸素ガスシャワー口からの下室中への酸素導入量を調節することによって、蒸着用基材上のインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜の酸化インジウムのx値(In 2xにおけるxの値)を調節すると共に、上記複合蒸着膜におけるインジウム/酸化インジウム重量比が83/17〜80〜20の範囲にあるように制御した。 By adjusting the amount of oxygen introduced into the lower chamber in the said oxygen gas shower outlet so that 8 to 20%, x value of the indium oxide indium / indium oxide composite deposited film on a deposition substrate (In while adjusting the value) of x in 2 O x, indium / indium oxide weight ratio in the composite deposited film is controlled to be in the range of 83 / 17~80~20. 【0099】このようにして、最終的に、酸素の導入量を0.3L/分として、酸素分圧を一定に保持しながら、 [0099] In this way, finally, the introduction amount of oxygen as 0.3 L / min, while maintaining the oxygen partial pressure constant,
膜厚が450〜500Å、上記光透過率計による波長9 Wavelength thickness 450~500A, by the light transmittance meter 9
10nmの光透過率が18〜20%となるように、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を蒸着用基材に連続的に形成し、蒸着フィルムを得て、これを巻取り側に巻き取った。 So that the light transmittance of 10nm is from 18 to 20%, the indium / indium oxide composite deposited film continuously formed on the deposition substrate, to obtain a deposited film, was wound up to the winding side. 【0100】このようにして得た複合蒸着膜について、 [0100] The thus-obtained composite deposited film,
ESCA(X線光電子分析)スペクトロメーター((株)島津製作所製、ESCA−3400)を用いて分析した結果、酸化インジウムのx値(In 2xにおけるxの値)は1.0〜1.9の範囲にあり、インジウム/ ESCA (X-ray photoelectron spectroscopy) spectrometer (manufactured by Shimadzu Corporation, ESCA-3400) was analyzed using, x values of the indium oxide (the value of x in an In 2 O x) is 1.0 to 1. is in the range of 9, indium /
酸化インジウム重量比は83/17〜80〜20の範囲にあることを確認した。 Indium oxide weight ratio was confirmed to be in the range of 83 / 17~80~20. 【0101】(接着アンカー層の形成)次に、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂35部、アクリル樹脂20 [0102] (Formation of adhesive anchor layer) Next, vinyl chloride - 35 parts vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin 20
郎、ケトン樹脂10部及びセルロースアセテートプロピオネート樹脂(CAP)5部を酢酸エチル150部、メチルエチルケトン100部及びトルエン50部からなる混合溶媒に加え、十分に混和した。 Lang, ketone 10 parts resin and cellulose acetate propionate resin (CAP) 5 parts of ethyl acetate 150 parts, was added to a mixed solvent consisting of 100 parts of methyl ethyl ketone and 50 parts of toluene were thoroughly mixed. これをグラビアコーターにて上記複合蒸着膜上に塗布し、130〜150℃ This was applied on the composite deposited film by gravure coater, 130 to 150 ° C.
の温度で乾燥して、膜厚0.8μmの接着アンカー層を形成した。 And dried at a temperature to form an adhesive anchor layer having a thickness of 0.8 [mu] m. 【0102】(接着剤層の形成)ポリビニルブチラール樹脂(不挿発分100%)40部、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂(不揮発分30%溶液)50部、塩化ビニリデン樹脂(不揮発分60%)30部、エチルセルロース(不揮発分100%)10部、フェノール樹脂(不揮発分100%)30部、充填材シリカゲル(日本アエロジル(株)製200)5部、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物球状微粒子((株)日本触媒製エポスターMS)10部をメタノール200部、酢酸エチル400部、酢酸メチル200部、メチルエチルケトン5 [0102] (Formation of adhesive layer) Polyvinyl butyral resin (not 挿発 content 100%) 40 parts of an ethylene - vinyl acetate copolymer resin (nonvolatile content of 30% solution) 50 parts of a vinylidene chloride resin (nonvolatile content 60% ) 30 parts of ethyl cellulose (non-volatile content 100%) 10 parts of a phenol resin (nonvolatile content: 100%), 30 parts of filler of silica gel (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. 200) 5 parts of benzoguanamine - formaldehyde condensate spherical fine particles ((Co. ) manufactured by Nippon Shokubai Epostar MS) 10 parts 200 parts of methanol, ethyl acetate 400 parts, 200 parts of methyl acetate, methyl ethyl ketone 5
0部及びメタノール200部からなる混合溶媒に加えて十分に混和し、これをリバースコーターにて上記接着アンカー層上に塗布し、120〜150℃の温度で乾燥して、膜厚2.0μmの接着剤層を形成し、かくして、本発明による電磁波透過性金属蒸着膜転写材を得た。 0 parts and added to a mixed solvent consisting of 200 parts of methanol were mixed thoroughly, which is applied to the adhesive anchor layer by a reverse coater, and dried at a temperature of 120 to 150 ° C., the film thickness 2.0μm the adhesive layer is formed, thus, to obtain an electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to the present invention. 【0103】(転写層の形成)このようにして得た電磁波透過性金属蒸着膜転写材を用いて、食品包装用ラベル紙の表面に連続熱転写を行なって(熱刻印温度130 [0103] (Formation of transfer layer) Using the thus electromagnetically transparent metallized film transfer material obtained, the surface of the food packaging labels by performing continuous thermal transfer (hot embossing temperature 130
℃、刻印圧力10トン/インチ(熱板プレート面積10 ° C., stamped pressure of 10 ton / inch (hot plate plate area 10
00mm×700mm角)、熱転写枚数1枚/秒)、美麗で高輝度を有する赤色の金属光沢を有する転写層を得た。 300 mm × 700 mm square), the thermal transfer sheets 1 images / second), to yield a transfer layer having a red metallic luster with a high luminance at a beautiful. 【0104】この転写層の表面の光沢度を日本電色工業(株)製グロスメーターVGS−SENSORを用いて、JIS Z 8741に従って測定したところ(入射角度45度)、961.30であった。 [0104] The gloss of the surface of the transfer layer using a Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. Gloss meter VGS-SENSOR, was measured in accordance with JIS Z 8741 (incident angle 45 degrees), it was 961.30. 【0105】(絵柄模様層の形成)次に、この転写層の表面に紫外線硬化型オフセットインキ又はシルクスクリーンインキを用いてそれぞれ絵柄模様を印刷し、紫外線硬化させて、紫外線硬化型インキによる印刷絵柄模様層を形成した。 [0105] (Formation of the picture pattern layers) Next, each using the ultraviolet ray curable offset ink or silk-screen ink was printed picture pattern on the surface of the transfer layer, by ultraviolet curing, printing picture by UV curable ink to form a pattern layer. 【0106】(転写層表面の印刷層の摩擦堅牢度の評価)このようにして形成した絵柄模様層の摩擦堅牢度を染色物摩擦堅牢度試験機にて調べた結果、布帛付500 [0106] (transfer layer Evaluation of fastness to rubbing of the printed layer on the surface) results friction fastness picture pattern layer formed in this way was examined by dyeing rubbing fastness tester, with the fabric 500
g、2 0 0回の摩擦に耐え、かくして、耐摩耗性や耐摩擦傷性、更に、爪による引っ掻き、擦過試験にも耐え、 g, withstand 2 0 0 rubs, thus, the abrasion resistance and wear abrasion resistance, further, scratching by nails, withstand abrasion test,
しかも、耐溶剤性と耐薬品性にもすぐれていることが確認された。 Moreover, it has been confirmed that also excellent solvent resistance and chemical resistance. 【0107】(転写層の電磁波透過性の評価)このように表面に紫外線硬化型インキによる印刷層を有する転写層を電子レンジ内に置き、これにマイクロ波を照射したところ、放電、熱収縮、燃焼等の不都合を生じなかった。 [0107] (electromagnetic wave permeability Evaluation of the transfer layer) thus placing the transfer layer having a print layer with ultraviolet curable ink to the surface in a microwave oven, this was irradiated with microwaves, discharge, thermal contraction, It did not result in a disadvantage such as combustion. また、高感度異物検出機(ニッカ電側(株)製Y− Moreover, made highly sensitive foreign object detector (Nikka conductive side (Ltd.) Y-
1500)による検査においても、異物金属の混入として誤認検知されることがなかった。 Also in investigations on 1500), never be mistaken detected as incorporation of the foreign metal. 更に、前記転写材を用いて、塩化ビニル樹脂製レザー基材面に高周波ウエルダー機で転写層を転写したが、この際にも、転写層に放電や熱収縮等の不都合は起こらなかった。 Furthermore, by using the transfer material has been transferred to the transfer layer in a high frequency welder machine leather substrate surface made of a vinyl chloride resin, in this case, problems such as discharge or thermal contraction in the transfer layer did not occur. 【0108】比較例1 (金属蒸着膜転写材の調製)実施例1において、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜に代えて、島状構造を有するように、スズからなる厚み330〜350Åの蒸着膜を形成した以外は、実施例1と同様にして、金色の金属蒸着膜を有する転写材を得た。 [0108] In Comparative Example 1 (Preparation of metal-deposited film transfer material) Example 1, in place of the indium / indium oxide composite deposited film, so as to have an island-like structure, the deposited film thickness 330~350Å consisting of tin except for forming, in the same manner as in example 1 to obtain a transfer material having a golden metal deposition film. 【0109】(転写層の形成)この転写材を用いて、実施例1と同様にして、食品包装用ラベル紙に熱転写を行なった。 [0109] Using the (transfer layer formation) the transfer material, in the same manner as in Example 1, it was subjected to thermal transfer to the food packaging labels. 転写層は、黒ずみ、斑の金色であり、美麗感はないものであった。 The transfer layer, darkening, is a golden plaque, were those not beautiful feeling. 【0110】(電磁波透過性の評価)次に、この食品包装用ラベル紙を電子レンジ内に置き、これにマイクロ波を2分間照射したところ、転写層は、1分間で放電が発生し、転写層の表面には絶縁破壊した微細な線状模様が多数発生した。 [0110] (electromagnetic wave permeability Evaluation) Next, placing the food packaging labels in a microwave oven, this was irradiated with microwave for 2 minutes, the transfer layer, a discharge is generated 1 minute, transfer the surface of the layer has occurred a number of fine linear pattern that dielectric breakdown. 【0111】 【発明の効果】以上のように、本発明による電磁波透過性金属蒸着膜転写材は、金属蒸着膜として、酸化インジウムがIn 2x (式中、xは1.0〜1.9の範囲の数である。)で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジウム/酸化インジウム重量比が95/5〜80/20の範囲にあるインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を有するので、高輝度を有し、美麗な金属光沢を有すると共に、十分な絶縁性(即ち、電磁波透過性)と耐膜性強度を有する転写層を与えることができる。 [0111] As described above, according to the present invention, the electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to the present invention, the metal evaporated film, in the indium oxide In 2 O x (wherein, x is 1.0 to 1. 9 is a number ranging together represented by.), an indium / indium oxide weight ratio of the composite deposited film having indium / indium oxide composite deposited film in the range of 95 / 5-80 / 20, a high intensity the a, which has a beautiful metallic luster, can provide sufficient insulating properties (i.e., electromagnetic wave permeability) and the transfer layer having 耐膜 property strength. 【0112】特に、本発明による転写材は、絶縁性が高いので、例えば、300MHzから300GHzにわたるマイクロ波に対して高い電磁波透過性を有し、このような高周波を照射しても、放電、熱収縮、燃焼等の不都合を起こさず、また、高感度異物検出機による検査においても、異物金属の混入として誤認検知されることがないので、例えば、食品用のラベル紙、包装紙、包装容器等の包装材に金属光沢を有する転写層を転写するために好適に用いることができる。 [0112] In particular, the transfer material according to the invention have a higher insulating property, for example, it has high electromagnetic permeability to microwaves over 300GHz from 300MHz, be irradiated with such a high frequency discharge, heat shrinkage, without causing inconvenience such as combustion, also in the inspection with high sensitivity foreign object detector, since it will not be mistaken detected as foreign material metal, for example, food labels paper, packaging paper, packaging containers, etc. It can be suitably used in order to transfer the transfer layer having a metallic luster to the packaging materials.

【図面の簡単な説明】 【図1】は、本発明による電磁波透過性金属蒸着膜転写材の好ましい一実施例を示す。 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS [Figure 1] shows a preferred embodiment of an electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to the present invention. 【図2】は、本発明による転写材を用いて被転写体に転写層を転写した後、その表面(表面保護用透明樹脂層) [2], using the transfer material according to the present invention after transferring the transfer layer to a transfer member, the surface (surface protective transparent resin layer)
上に活性エネルギー線硬化型印刷インキによる印刷層を形成した転写層を示す。 It shows the transfer layer forming the printing layer with an active energy ray-curable printing ink on top. 【図3】は、本発明による転写材を製造するための高周波励起プラズマを用いる活性化反応性蒸着装置を示す略図である。 [3] is a schematic diagram illustrating an activated reactive evaporation apparatus using a high-frequency excited plasma for producing a transfer material according to the present invention. 【図4】は、本発明による転写材を製造するための電子線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着装置を示す略図である。 [4] is a schematic diagram illustrating an activated reactive evaporation apparatus using an electron beam oxidation anode plasma to produce a transfer material according to the present invention. 【符号の説明】 1…基材2…離型剤層3…表面保護用透明樹脂層4…内部保護用透明樹脂層5…インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜6…接着アンカー層7…接着剤層8…転写層9…被転写体P…印刷層11…蒸着用基材12…高周波励起プラズマを用いる活性化反応性蒸着装置13…上室14…巻出し側15…冷却ロール16…巻取り側17…隔壁18…下室19…スリット20…高周波誘導加熱用コイル21…蒸発源坩堝22…光透過率計23…膜厚測定器24…高周波励起プラズマ生成用電極コイル25…アルゴンガスのシャワー口26…酸素ガスのシャワー口27…蒸着フィルム31…ホロカソード式電子線プラズマ照射銃カソード電極32…ホロカソード式電子銃アノード電極V…インジウム蒸気流D…空間放電プラズマ領域 [Reference Numerals] 1 ... substrate 2 ... release layer 3 ... the surface protective transparent resin layer 4 ... inner protective transparent resin layer 5 ... indium / indium oxide composite deposited film 6 ... adhesive anchor layer 7 ... adhesive layer 8 ... transfer layer 9 ... transfer object P ... printing layer 11 ... deposition substrate 12 ... high-frequency excited plasma activated reactive deposition apparatus using a 13 ... upper chamber 14 ... unwinding side 15 ... cooling rolls 16 ... take-up side 17 ... partition wall 18 ... lower chamber 19 ... slit 20 ... high-frequency induction heating coil 21 ... evaporation source crucible 22 ... light transmittance meter 23 ... film thickness measuring instrument 24 ... RF excitation plasma shower outlet of generating electrode coil 25 ... Ar gas 26 ... shower outlet 27 ... vapor deposited film 31 ... hollow cathode type electron beam plasma irradiation gun cathode electrode 32 ... hollow cathode type electron gun anode electrode V ... indium vapor stream D ... spatial discharge plasma region of the oxygen gas

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中山 洋一郎 京都市南区上鳥羽馬廻し5 株式会社ニ ッカテクノ内 (56)参考文献 特開 平7−80980(JP,A) 特開 平11−24081(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl. 7 ,DB名) B32B 1/00 - 35/00 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Yoichiro Nakayama Minami-ku, Kyoto Kamitobaumamawashi City 5 Corporation two in Kkatekuno (56) reference Patent flat 7-80980 (JP, a) JP flat 11-24081 (JP, a) (58) investigated the field (Int.Cl. 7, DB name) B32B 1/00 - 35/00

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】基材上に離型剤層、内部保護用透明樹脂層、インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜及び接着剤層をこの順序にて有し、上記酸化インジウムがIn 2 (57) Patent Claims 1. A release agent layer on the substrate, has an internal protective transparent resin layer, the indium / indium oxide composite deposited film and the adhesive layer in this order, the indium oxide In 2 O
    x (式中、xは1.0〜1.9の範囲の数である。)で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジウム/酸化インジウム重量比が95/5〜80/20の範囲にあることを特徴とする電磁波透過性金属蒸着膜転写材。 x (wherein, x is a. a number ranging from 1.0 to 1.9) with represented by, indium / indium oxide weight ratio of the composite deposited film is in the range of 95 / 5-80 / 20 electromagnetically transparent metallized film transfer material, characterized in that. 【請求項2】インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜が厚み250〜500Åを有する請求項1に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材。 Wherein the electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to claim 1, indium / indium oxide composite deposited film has a thickness 250~500A. 【請求項3】離型剤層と内部保護用透明樹脂層との間に変性シリコーン樹脂を含む表面保護用透明樹脂層を有する請求項1に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材。 3. A release agent layer and an electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to claim 1 having a surface protective transparent resin layer containing a modified silicone resin between the inner protective transparent resin layer. 【請求項4】インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜と接着剤層との間に接着アンカー層を有する請求項1に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材。 4. The electromagnetically transparent metallized film transfer material according to claim 1 having an adhesive anchor layer between the indium / indium oxide composite deposited film and the adhesive layer. 【請求項5】酸化インジウムがIn 2x (式中、xは 5. During indium oxide In 2 O x (wherein, x is
    1.0〜1.5の範囲の数である。 Is a number in the range of 1.0 to 1.5. )で表わされる請求項1 Claim 1 represented by)
    に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材。 Electromagnetically transparent metallized film transfer material according to. 【請求項6】変性シリコーン樹脂がジメチルポリシロキサン骨格を有するアクリル変性シリコーン樹脂、ポリエーテル変性シリコーン樹脂又はアミノ変性シリコーン樹脂である請求項3に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材。 6. Acrylic-modified silicone resin-modified silicone resin has a dimethylpolysiloxane skeleton, electromagnetically transparent metallized film transfer material according to claim 3 which is a polyether-modified silicone resin or amino-modified silicone resin. 【請求項7】基材上に離型剤層と内部保護用透明樹脂層をこの順序で積層した後、この内部保護用透明樹脂層上に高周波励起プラズマ又は電子線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着法にてインジウム/酸化インジウム複合蒸着膜を積層し、次いで、この蒸着膜上に接着剤層を積層する電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法において、上記酸化インジウムがIn 2x (式中、x 7. After laminating the release agent layer and the internal protective transparent resin layer on a substrate in this order, activation with high-frequency excitation plasma or electron beam oxidized anode plasma to the internal protective transparent resin layer the indium / indium oxide composite deposited film by reactive vapor deposition method are stacked, and then, in the manufacturing method of the electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer member for laminating the adhesive layer on the deposited film, the indium oxide in 2 O x (in the formula, x
    は1.0〜1.9の範囲の数である。 Is a number in the range of 1.0 to 1.9. )で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジウム/酸化インジウム重量比が95/5〜80/20の範囲にあることを特徴とする電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法。 Together represented by), the manufacturing method of the electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material indium / indium oxide weight ratio of the composite deposited film is characterized in that in the range of 95 / 5-80 / 20. 【請求項8】インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜が厚み250〜500Åを有する請求項7に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法。 8. The process for producing an electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to claim 7, indium / indium oxide composite deposited film has a thickness 250~500A. 【請求項9】離型剤層と内部保護用透明樹脂層との間に変性シリコーン樹脂を含む表面保護用透明樹脂層を積層する請求項7に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法。 Production of electromagnetically transparent metallized film transfer material according to claim 7 for laminating a surface protective transparent resin layer containing a modified silicone resin between 9. release agent layer and the internal protective transparent resin layer Method. 【請求項10】インジウム/酸化インジウム複合蒸着膜と接着剤層との間に接着アンカー層を積層する請求項7 10. The method of claim 7 for laminating an adhesive anchor layer between the indium / indium oxide composite deposited film and the adhesive layer
    に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法。 Method of manufacturing an electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to. 【請求項11】酸化インジウムがIn 2x (式中、x 11. During indium oxide In 2 O x (wherein, x
    は1.0〜1.5の範囲の数である。 Is a number in the range of 1.0 to 1.5. )で表わされる請求項7に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法。 Method of manufacturing an electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to claim 7 represented by). 【請求項12】変性シリコーン樹脂がジメチルポリシロキサン骨格を有するアクリル変性シリコーン樹脂、ポリエーテル変性シリコーン樹脂又はアミノ変性シリコーン樹脂である請求項9に記載の電磁波透過性金属蒸着膜転写材の製造方法。 12. modified silicone resins and acrylic-modified silicone resin having a dimethyl polysiloxane skeleton, method of manufacturing an electromagnetic wave-permeable metal deposited film transfer material according to claim 9, which is a polyether-modified silicone resin or amino-modified silicone resin.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010084733A1 (en) 2009-01-20 2010-07-29 信越ポリマー株式会社 Radio wave-transmitting decorative member and method for producing same
DE112008002496T5 (en) 2007-09-18 2010-10-21 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Radio waves-passing decorative element
US9493870B2 (en) 2009-03-17 2016-11-15 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Radio wave-transmitting decorative film and decorative member using same

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4541810B2 (en) * 2004-09-10 2010-09-08 三菱樹脂株式会社 Method for producing a photocatalyst layer transferring member
JP4914791B2 (en) * 2007-09-07 2012-04-11 月島機械株式会社 Vacuum deposition apparatus, a vacuum deposition method of the resin film, and a resin film
JP5350731B2 (en) * 2008-09-30 2013-11-27 日本写真印刷株式会社 Has a metal thin film on a part of the sheet surface, a transfer sheet, and a manufacturing method thereof having an acrylic anchor layer
JP5504720B2 (en) * 2009-07-14 2014-05-28 凸版印刷株式会社 The film-forming apparatus
JPWO2011152457A1 (en) * 2010-06-02 2013-08-01 ダイソー株式会社 Transfer material
DE102011016683A1 (en) * 2011-01-27 2012-08-02 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Radar Transparent coating
JP5536018B2 (en) * 2011-11-29 2014-07-02 月島機械株式会社 Vacuum film formation method of a vacuum deposition apparatus and the resin film

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112008002496T5 (en) 2007-09-18 2010-10-21 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Radio waves-passing decorative element
US9187820B2 (en) 2007-09-18 2015-11-17 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Radio wave transmitting decorative member
WO2010084733A1 (en) 2009-01-20 2010-07-29 信越ポリマー株式会社 Radio wave-transmitting decorative member and method for producing same
US9493870B2 (en) 2009-03-17 2016-11-15 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Radio wave-transmitting decorative film and decorative member using same

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