JP4541810B2 - Method for producing photocatalyst layer transfer body - Google Patents

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Description

本発明は、光触媒を含有する光触媒層を備えた光触媒層転写体並びにこのような光触媒層転写体を積層して得られる光触媒付き基材に関する。 The present invention relates to a photocatalyst layer transfer body provided with a photocatalyst layer containing a photocatalyst and a substrate with a photocatalyst obtained by laminating such photocatalyst layer transfer bodies.

光触媒は、光の照射を受けると光触媒活性を発現して酸化作用を示し、有機物や空気汚染物質、更には細菌などを酸化分解する。また、その光反応に基づいて表面を高度に親水性化し、脱臭、防汚、抗菌、殺菌、有害物質除去、防曇作用などの様々な作用を発現する機能を発揮する。そのため、光触媒技術は、建物外壁、病院内壁、鏡、窓ガラス、衛生陶器、包丁、まな板など様々な分野で利用されている。   When photocatalyst is irradiated with light, it exhibits photocatalytic activity and exhibits an oxidizing action, and oxidizes and decomposes organic substances, air pollutants, and bacteria. In addition, the surface is made highly hydrophilic based on the photoreaction, and exhibits various functions such as deodorization, antifouling, antibacterial, sterilization, harmful substance removal, and antifogging. For this reason, photocatalytic technology is used in various fields such as building outer walls, hospital inner walls, mirrors, window glass, sanitary ware, kitchen knives, and cutting boards.

このような光触媒機能を有する物質としては、二酸化チタン、酸化亜鉛等の金属酸化物のほか、CdSのような金属硫化物、CdSeのような金属カルコゲナイドなどが知られている。中でも二酸化チタンは、安全性の高さや、酸、塩基及び有機溶媒に侵されない化学的安定性等の点から特に利用価値が高い光触媒物質として評価されている。   As such a substance having a photocatalytic function, in addition to metal oxides such as titanium dioxide and zinc oxide, metal sulfides such as CdS, metal chalcogenides such as CdSe, and the like are known. Among these, titanium dioxide is evaluated as a photocatalytic substance having a particularly high utility value from the viewpoints of high safety and chemical stability that is not affected by acids, bases, and organic solvents.

二酸化チタンを例にとって光触媒メカニズムについて説明すると、二酸化チタン等の光触媒物質は光半導体としての特性を持ち、バンドギャップエネルギー(二酸化チタンのバンドギャップは3.2eV)に相当する紫外線(ルチル型:λ<400nm、アナターゼ型:λ<380nm)の照射を受けると、価電子帯の電子が励起されて電子(e−)と正孔(h+)の2つのキャリアを生成する。一般の物質ではこの両者はすぐに再結合してしまうが、二酸化チタンの場合には、これら電子及び正孔がしばらく生き残り、生き残った正孔が触媒表面にある吸着水を酸化し、酸化力の高いヒドロキシラジカル(・OH)を生成する。そして、この・OHの酸化力が、例えば有機物を構成する分子中のC−C、C−H、C−N、C−O、O−H、N−H等のエネルギーよりはるかに強いためにこれらの結合を切断して分解する。このように、光照射によって発生した電子(e−)と正孔(h+)による酸化還元力が様々な光触媒作用の起因となっているものと考えられる。   The photocatalytic mechanism will be described taking titanium dioxide as an example. A photocatalytic substance such as titanium dioxide has characteristics as a photo semiconductor, and ultraviolet rays corresponding to band gap energy (band gap of titanium dioxide is 3.2 eV) (rutile type: λ < When irradiated with 400 nm, anatase type: λ <380 nm, electrons in the valence band are excited to generate two carriers of electrons (e−) and holes (h +). In a general substance, both of these recombine quickly, but in the case of titanium dioxide, these electrons and holes survive for a while, and the surviving holes oxidize the adsorbed water on the catalyst surface, resulting in an oxidizing power. Generates high hydroxyl radical (.OH). And because the oxidizing power of this OH is much stronger than the energy of, for example, C—C, C—H, C—N, C—O, O—H, N—H, etc. in the molecules constituting the organic matter. These bonds are broken and broken down. Thus, it is considered that the redox power due to electrons (e−) and holes (h +) generated by light irradiation is responsible for various photocatalytic actions.

光触媒を基材表面に定着させる方法の一つとして、転写法による方法が知られている。例えば離型性フィルム乃至シートに光触媒粒子を含むコート液を塗布して乾燥させた後、その上に接着剤層を施し、離型性フィルム乃至シート上に光触媒層及び接着剤層を順次積層してなる光触媒層転写体(転写法に用いるシート)が開示されている。このような光触媒層転写体によれば、接着剤層にて基材に転写し積層することにより、簡単かつ低廉なコストで光触媒層を基材に定着することができる。   As one of the methods for fixing the photocatalyst to the substrate surface, a transfer method is known. For example, after applying a coating liquid containing photocatalyst particles to a release film or sheet and drying, an adhesive layer is applied thereon, and a photocatalyst layer and an adhesive layer are sequentially laminated on the release film or sheet. The photocatalyst layer transfer body (sheet used for the transfer method) is disclosed. According to such a photocatalyst layer transfer body, a photocatalyst layer can be fixed to a base material simply and inexpensively by transferring and laminating to a base material with an adhesive layer.

このような光触媒層付き基材においては、転写する基材の種類によっては光触媒の作用によって基材が劣化することが指摘されていた。そこで、光触媒の作用から基材を保護するため、例えば接着剤層を、接着性と保護機能を兼ね備えた珪素系接着剤から形成したり、特許文献1に開示されるように、ベースフィルム上に光触媒層、無機系保護層及び接着剤層を順次積層して転写フィルムを形成したりするなどの提案が為されている。   In such a base material with a photocatalyst layer, it has been pointed out that the base material deteriorates due to the action of the photocatalyst depending on the type of base material to be transferred. Therefore, in order to protect the substrate from the action of the photocatalyst, for example, the adhesive layer is formed from a silicon-based adhesive having both adhesiveness and a protective function, or as disclosed in Patent Document 1, on the base film. Proposals have been made to form a transfer film by sequentially laminating a photocatalyst layer, an inorganic protective layer, and an adhesive layer.

特開2001−260587号公報JP 2001-260587 A

ところで、光触媒層と接着剤層との間に無機系保護層が介在する場合、接着剤層と無機系保護層の界面或いは無機系保護層と接着剤層の界面における密着力が低下するという課題があった。また、上記特許文献1に係る発明に関しては、各界面における密着力を高める工夫は為されているものの、接着剤層が有機系接着剤からなるものであるため、無機系保護層と接着剤層の界面における密着力が不十分となるという課題を抱えていた。   By the way, when an inorganic protective layer is interposed between the photocatalyst layer and the adhesive layer, there is a problem in that the adhesion force at the interface between the adhesive layer and the inorganic protective layer or the interface between the inorganic protective layer and the adhesive layer is reduced. was there. In addition, regarding the invention according to the above-mentioned Patent Document 1, although an effort has been made to increase the adhesion at each interface, since the adhesive layer is made of an organic adhesive, the inorganic protective layer and the adhesive layer There was a problem that the adhesion at the interface of the film becomes insufficient.

そこで本発明は、光触媒層、保護層(プライマー層)及び接着剤層を順次積層してなる構成を備えた光触媒層転写体において、各界面における密着力が十分に高く、それでいて容易に製造することができる光触媒層転写体を提供せんとするものである。   Accordingly, the present invention provides a photocatalyst layer transfer body having a structure in which a photocatalyst layer, a protective layer (primer layer), and an adhesive layer are sequentially laminated, and has a sufficiently high adhesion at each interface, yet can be easily manufactured. It is an object of the present invention to provide a photocatalyst layer transfer body capable of producing

本発明は、剥離性フィルム上に、光触媒とSi−O結合を備えた成分とを含有するコート液を塗布し、その上に、アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートと溶媒とを含有するコート液を塗布することにより、剥離性フィルム上に、光触媒層、プライマー層を順次形成すると共に、光触媒層を構成する成分のSi−O結合と、プライマー層を構成するアクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートのSi又はTiとをシロキサン結合させ架橋させることを特徴とする光触媒層転写体の製造方法を提案する。
In the present invention, a coating liquid containing a photocatalyst and a component having a Si—O bond is applied onto a peelable film, and a coating liquid containing acrylic modified silicone or acrylic modified titanate and a solvent is formed thereon. By coating, a photocatalyst layer and a primer layer are sequentially formed on the peelable film, and a Si-O bond of a component constituting the photocatalyst layer and an acrylic modified silicone or acrylic modified titanate Si constituting the primer layer Suggest manufacturing method of the photocatalyst layer transfer member for causing the Ti is a siloxane bond crosslinked.

光触媒とSi−O結合を備えた成分とを含有する組成物からなる光触媒層上に、アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートを含有する組成物からなるコート液を塗布すると、プライマー層内のアクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートにおけるSi又はTiが光触媒層内の光触媒に引き付けられ、当該Si又はTiが光触媒層側を向くように当該アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートが配向し、当該Si又はTiと光触媒層内のSi−O結合とはシロキサン結合(Si−O−Si)を形成して架橋するため、光触媒層とプライマー層とは強固に結合することとなる。また同時に、アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートの有機基が基材或いは接着剤層側を向くため、アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートと基材或いは接着剤層、特に有機系基材或いは有機系接着剤層との親和性が高まり、プライマー層と基材或いは接着剤層との接着力も十分に高まることになる。 When a coating liquid made of a composition containing acrylic modified silicone or acrylic modified titanate is applied onto a photocatalyst layer made of a composition containing a photocatalyst and a component having a Si-O bond, the acrylic modified silicone in the primer layer Alternatively, Si or Ti in the acrylic modified titanate is attracted to the photocatalyst in the photocatalyst layer, the acrylic modified silicone or acrylic modified titanate is oriented so that the Si or Ti faces the photocatalyst layer side, and the Si or Ti and the photocatalyst layer are inside. Since the Si—O bond forms a siloxane bond (Si—O—Si) and crosslinks, the photocatalyst layer and the primer layer are firmly bonded. At the same time, since the organic group of the acrylic modified silicone or acrylic modified titanate faces the substrate or adhesive layer side, the acrylic modified silicone or acrylic modified titanate and the substrate or adhesive layer, particularly the organic substrate or organic adhesive. The affinity with the layer is increased, and the adhesive force between the primer layer and the base material or the adhesive layer is sufficiently increased.

本発明の光触媒層転写体は、例えば各種基材に転写(積層)することで、基材上に光触媒層を備えた光触媒付き基材を形成することができ、各種用途に用いることができる。
よって、本発明はまた、上記剥離性フィルム上に、上記光触媒層、上記プライマー層、有機系基材を順次積層してなる構成を備えた光触媒付き基材、或いは、上記剥離性フィルム上に、上記光触媒層、上記プライマー層、有機系接着剤からなる有機系接着剤層、基材(好ましくは有機系基材)を順次積層してなる構成を備えた光触媒層転写体をも提案するものである。
The photocatalyst layer transfer body of the present invention can form a base material with a photocatalyst provided with a photocatalyst layer on a base material, for example, by transferring (laminating) to various base materials, and can be used for various applications.
Therefore, the present invention also provides a photocatalyst layer, a primer layer, and a substrate with a photocatalyst having a structure obtained by sequentially laminating an organic base material on the peelable film, or the peelable film. The present invention also proposes a photocatalyst layer transfer body having a structure in which the photocatalyst layer, the primer layer, an organic adhesive layer composed of an organic adhesive, and a base material (preferably an organic base material) are sequentially laminated. is there.

なお、本発明において主成分と表現する趣旨は、その成分の機能を妨げない範囲で他の成分が含有していてもよいという意を包含するものであり、好ましくは全組成の50質量%以上、特に70質量%以上、中でも特に90質量%以上を占める成分を示す。   In addition, the meaning expressed as the main component in the present invention includes the meaning that other components may be contained within a range not impeding the function of the component, and preferably 50% by mass or more of the total composition. In particular, a component occupying 70% by mass or more, particularly 90% by mass or more is shown.

発明を実施するための形態BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

次に、実施形態に基づいて本発明を説明する。
但し、以下に説明する実施形態は本発明の実施形態の一例であって、本発明の範囲が以下の実施形態に制限されるものではない。
Next, this invention is demonstrated based on embodiment.
However, the embodiment described below is an example of the embodiment of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following embodiment.

〔光触媒層転写体1〕
本発明の一態様に係る光触媒層転写体1は、例えば図1に示すように、離型性フィルム乃至シート2上に光触媒層3、プライマー層4を順次積層して構成することができる。
[Photocatalyst layer transfer body 1]
The photocatalyst layer transfer body 1 according to one embodiment of the present invention can be configured by sequentially laminating a photocatalyst layer 3 and a primer layer 4 on a releasable film or sheet 2, for example, as shown in FIG.

〔離型性フィルム乃至シート2〕
離型性フィルム乃至シート2は、ベースフィルムとして適宜厚さを備え、離型性を備えたフィルム状乃至シート状のものであればよく、その材質、構成及び厚さを特に限定するものではない。
離型性フィルム乃至シート2の基材としては、ポリエチレンテレフタレート、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレンその他の合成樹脂からなる単層或いは複数層からなるフィルム乃至シートを好適に用いることができ、紙類を用いることもできる。
必要に応じて、基材表面に適宜表面処理を施してもよい。例えば、光触媒層3との剥離性を向上させるため、コロナ処理、或いはシリコーン、フッ素その他の離型剤による表面処理を施してもよい。
[Releasable film or sheet 2]
The releasable film or sheet 2 has an appropriate thickness as a base film, and may be a film or sheet having releasability, and the material, configuration and thickness thereof are not particularly limited. .
As the substrate of the releasable film or sheet 2, a film or sheet composed of a single layer or a plurality of layers composed of polyethylene terephthalate, vinyl chloride resin, acrylic resin, polycarbonate, polyimide, polyethylene, polypropylene or other synthetic resin is suitable. It is also possible to use papers.
If necessary, the surface of the base material may be appropriately subjected to a surface treatment. For example, in order to improve the peelability from the photocatalyst layer 3, a corona treatment or a surface treatment with a release agent such as silicone, fluorine, or the like may be performed.

なお、この離型性フィルム乃至シート2に、光遮蔽機能を付与し、製造後使用するまでの間、光触媒層3が光を受けて分解・劣化するのを防ぐようにすることもできる。
離型性フィルム乃至シート2に紫外線遮蔽機能を持たせるためには、紫外線吸収剤を樹脂に混練して離型性フィルム乃至シート基材を形成して離型性フィルム乃至シート基材自体に紫外線遮蔽機能を付与するようにしてもよいし、また、離型性フィルム乃至シート基材の上下片面又は両面に紫外線遮蔽層を形成するようにしてもよい。この際、紫外線遮蔽層は、例えば紫外線吸収剤を樹脂に加えてコート液を調整し、これを塗布するようにしてもよいし、或いは、紫外線吸収剤を含有するフィルムを形成し、これを積層するようにしてもよいし、或いは、紫外線吸収剤を直接定着させるようにしてもよい。
離型性フィルム乃至シート2に付与する光遮蔽機能は、光触媒が反応し得る波長領域の光を80%以上、特に85〜95%を遮蔽し得るのが好ましい。例えば波長365nmの紫外線を照射する試験をした時にその80%以上、好ましくは85〜95%、特に90〜95%を遮蔽し得るか否かを指標として離型性フィルム乃至シート2を形成するのがよい。波長365nmの紫外線を十分に遮蔽することができれば350〜400nmの紫外線も十分に遮蔽することができる。アナターゼ型二酸化チタンが光触媒の主成分である場合には、350〜400nmの領域の紫外線を80%以上遮蔽できるか否かを指標として形成するのがよい。但し、様々な種類の光触媒に対応できるように、200〜400nm波長領域の光を80%以上遮蔽できるか否かを指標として形成するのもよい。
離型性フィルム乃至シート基材或いは紫外線遮蔽層に混入させる紫外線吸収剤としては、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉛、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化パナジウム、2,2´−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4,4´−ジメトキシベンゾフェノン、2,2´,4,4´−テトラヒドロキシベンゾフェノン、5−クロロ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、フェニルサリシレ−ト、1−(2´−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾ−ル等を挙げることができるが、中でも二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉛、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化パナジウムなどの無機系紫外線吸収剤が好適に利用でき、しかもこれらであれば金属蒸着させることができる。紫外線吸収剤は、樹脂に対して0.1〜10質量%配合するのが好ましい。
The release film or sheet 2 can be provided with a light shielding function to prevent the photocatalyst layer 3 from being decomposed and deteriorated by receiving light until it is used after production.
In order to give the release film or sheet 2 an ultraviolet shielding function, an ultraviolet absorber is kneaded with a resin to form a release film or sheet base material, and then the release film or sheet base material itself has ultraviolet rays. You may make it provide a shielding function, and you may make it form a ultraviolet-ray shielding layer in the upper and lower one surface or both surfaces of a mold release film thru | or a sheet | seat base material. At this time, the ultraviolet shielding layer may be prepared by, for example, adding a UV absorbent to the resin to adjust the coating liquid and applying the coating liquid, or forming a film containing the UV absorbent and laminating it. Alternatively, the ultraviolet absorber may be directly fixed.
The light shielding function imparted to the releasable film or sheet 2 is preferably capable of shielding 80% or more, particularly 85 to 95%, of light in the wavelength region where the photocatalyst can react. For example, when a test for irradiating ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm is performed, a release film or sheet 2 is formed using as an index whether or not 80% or more, preferably 85 to 95%, particularly 90 to 95%, can be shielded. Is good. If ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm can be sufficiently shielded, ultraviolet rays having a wavelength of 350 to 400 nm can be sufficiently shielded. When anatase-type titanium dioxide is the main component of the photocatalyst, it may be formed using as an index whether or not it is possible to block 80% or more of ultraviolet rays in the 350 to 400 nm region. However, it may be formed using as an index whether or not light in the wavelength region of 200 to 400 nm can be shielded by 80% or more so as to cope with various types of photocatalysts.
Examples of the ultraviolet absorber to be mixed in the release film or sheet base material or the ultraviolet shielding layer include titanium dioxide, zinc oxide, cerium oxide, lead oxide, iron oxide, antimony oxide, panadium oxide, and 2,2′-dihydroxy-4. -Methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 5-chloro-2-hydroxybenzophenone , Phenyl salicylate, 1- (2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, etc., among which titanium dioxide, zinc oxide, cerium oxide, lead oxide, iron oxide, antimony oxide, panadium oxide Inorganic UV absorbers such as It can be metallized, if any. The ultraviolet absorber is preferably blended in an amount of 0.1 to 10% by mass with respect to the resin.

また、離型性フィルム乃至シート2の片面又は両面に金属蒸着層を形成し、光触媒層表面を衝撃や磨耗などから保護するようにすることもできる。
この際の金属蒸着層の主成分は、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、タングステン(W)、錫(Sn)などのいずれか或いはこれらの二種類以上の組合わせからなる金属を蒸着させて形成するのが好ましい。
金属蒸着層の厚さは5nm以上、特に10〜100nmとするのが好ましい。
Moreover, a metal vapor-deposited layer can be formed on one or both sides of the releasable film or sheet 2 to protect the surface of the photocatalyst layer from impacts and wear.
The main component of the metal deposition layer at this time is to deposit a metal composed of any one of aluminum (Al), chromium (Cr), tungsten (W), tin (Sn), etc., or a combination of two or more of these. Preferably formed.
The thickness of the metal vapor deposition layer is preferably 5 nm or more, particularly 10 to 100 nm.

〔光触媒層3〕
光触媒層3は、光触媒粒子とSi−O結合を備えた成分とを含む組成物から形成されていればよく、例えば光触媒粒子とSi−O結合を備えた成分とを含むコート液を、離型性フィルム乃至シート2の表面に塗布し乾燥させることにより形成することができる。
[Photocatalyst layer 3]
The photocatalyst layer 3 should just be formed from the composition containing the component provided with the photocatalyst particle and the Si-O bond, for example, the coating liquid containing the photocatalyst particle and the component provided with the Si-O bond is released. It can form by apply | coating to the surface of an adhesive film thru | or sheet 2, and making it dry.

光触媒としては、例えば二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化鉛、酸化第二鉄、三酸化二ビスマス、三酸化タングステン、チタン酸ストロンチウム等の金属酸化物を挙げることができる。これらにFe、Co、Ni、Cu、Zn、Ru、Rh、Pd、Ag、Pt、Au等の金属を付加してもよい。中でも、二酸化チタンが、無害で化学的に安定しておりかつ安価であるため好ましい。二酸化チタンとしては、アナターゼ型二酸化チタン、ルチル型二酸化チタン、ブルックライト型二酸化チタンのいずれも使用できるが、光触媒反応の高活性なアナターゼ型二酸化チタンを主成分とするものが好ましい。
光触媒粒子の粒径は、特に限定するものではないが、動的散乱測定法による平均粒径が10〜800nm、特に100〜500nmの範囲内であるのが好ましい。
Examples of the photocatalyst include metal oxides such as titanium dioxide, zinc oxide, tin oxide, lead oxide, ferric oxide, dibismuth trioxide, tungsten trioxide, and strontium titanate. You may add metals, such as Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ru, Rh, Pd, Ag, Pt, Au, to these. Among these, titanium dioxide is preferable because it is harmless, chemically stable, and inexpensive. As titanium dioxide, any of anatase-type titanium dioxide, rutile-type titanium dioxide, and Brooklight-type titanium dioxide can be used, but those mainly composed of anatase-type titanium dioxide having high photocatalytic reaction activity are preferred.
The particle diameter of the photocatalyst particles is not particularly limited, but the average particle diameter determined by the dynamic scattering measurement method is preferably in the range of 10 to 800 nm, particularly 100 to 500 nm.

Si−O結合を備えた成分としては、例えばアルコキシシラン、中でもテトラアルコキシシラン、その中でもテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランを好ましく用いることができる。アルコキシシランは、光触媒粒子の密着性を高め、光触媒による膜の強度を向上させるバインダー機能も備えている。但し、テトラアルコキシシランを用いる場合、そのアルキル基がブチル基以上に大きくなると、光触媒との親和性が低くなり、テトラアルコキシシランのSi−O結合とプライマー層を構成するアクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートのSi又はTiとがシロキサン結合をうまく形成せず架橋しないため、ブチル基より炭素数の小さなアルキル基を備えたテトラアルコキシシランを用いる必要がある。   As a component provided with a Si—O bond, for example, alkoxysilane, particularly tetraalkoxysilane, among which tetramethoxysilane or tetraethoxysilane can be preferably used. Alkoxysilane also has a binder function that improves the adhesion of the photocatalyst particles and improves the strength of the film by the photocatalyst. However, when tetraalkoxysilane is used, if the alkyl group becomes larger than the butyl group, the affinity with the photocatalyst decreases, and the Si-O bond of tetraalkoxysilane and the acrylic modified silicone or acrylic modified titanate constituting the primer layer. Therefore, it is necessary to use a tetraalkoxysilane having an alkyl group having a carbon number smaller than that of a butyl group.

光触媒層3は上述のように、光触媒粒子とSi−O結合を備えた成分とを含む光触媒コート液を塗布することにより形成することができるが、この際、光触媒コート液は、例えば有機溶媒、水、Si−O結合を備えた成分及び光触媒粒子を混合して調製することができる。 As described above, the photocatalyst layer 3 can be formed by applying a photocatalyst coating liquid containing photocatalyst particles and a component having a Si—O bond. In this case, the photocatalyst coating liquid is, for example, an organic solvent, It can be prepared by mixing water, a component having a Si—O bond, and photocatalyst particles.

光触媒コート液を調製する際、光触媒は、粉末状態で混合することも可能であるが、次に説明するようにスラリー状或いはゾル状に調製して混合することもできる。
すなわち、光触媒を沈降性の少ないスラリーやゾルの状態に調製して添加・混合することができる。必要な物性が満たされていれば市販の二酸化チタンスラリーやゾルを利用してもよい。
また、粒子の凝集による粒子径の変化および沈降を防ぐために分散安定剤を共存させるのが好ましい。これらの分散安定剤は、粒子の調製時から共存させることもできるし、光触媒コート液を調製する際に添加してもよい。
分散安定剤としては、各種の薬剤が使用できるが、二酸化チタンは中性付近では凝集しやすいので、酸性又はアルカリ性の分散安定剤が好ましい。酸性の分散安定剤としては、硝酸、塩酸等の鉱酸、カルボン酸、オキシカルボン酸、ポリカルボン酸などの有機酸などが挙げられる。アルカリ性の分散安定剤としては、カルボン酸、ポリカルボン酸類のアルカリ金属塩やアンモニア、1〜4級のアミン類及びそれらにヒドロキシ基を付加したアルカノールアミン類から選ばれた一種類以上の化合物が好例として挙げられる。特に、有機酸を利用すると、後述する有機溶媒との混和性が良好である上、pHが極端に低くならずかつ製造時に使用する設備を腐食し難いので好ましい。有機酸としては、酢酸、シュウ酸、グリコール酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸などが好ましく利用でき、これらの中から選ばれた一種類以上の酸で分散安定化させることができる。
When preparing the photocatalyst coating liquid, the photocatalyst can be mixed in a powder state, but can also be prepared and mixed in a slurry or sol form as described below.
That is, the photocatalyst can be prepared in a slurry or sol state with less sedimentation and added and mixed. Commercially available titanium dioxide slurry or sol may be used as long as necessary physical properties are satisfied.
Further, it is preferable that a dispersion stabilizer is allowed to coexist in order to prevent a change in particle diameter due to particle aggregation and sedimentation. These dispersion stabilizers can coexist from the time of preparing the particles, or may be added when preparing the photocatalyst coating liquid.
As the dispersion stabilizer, various chemicals can be used. However, since titanium dioxide tends to aggregate near neutrality, an acidic or alkaline dispersion stabilizer is preferable. Examples of the acidic dispersion stabilizer include mineral acids such as nitric acid and hydrochloric acid, and organic acids such as carboxylic acid, oxycarboxylic acid and polycarboxylic acid. Examples of the alkaline dispersion stabilizer include one or more compounds selected from carboxylic acids, alkali metal salts of polycarboxylic acids and ammonia, primary to quaternary amines, and alkanolamines having a hydroxy group added thereto. As mentioned. In particular, the use of an organic acid is preferable because it has good miscibility with the organic solvent described later, and the pH does not become extremely low and the equipment used during production is hardly corroded. As the organic acid, acetic acid, oxalic acid, glycolic acid, lactic acid, tartaric acid, malic acid, citric acid and the like can be preferably used, and the dispersion can be stabilized with one or more kinds of acids selected from these.

有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等の一価低級アルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等の多価アルコール類、及びそれらのエステルであるセルソルブ、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、イソブタノール、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン等を好適に使用できる。一価低級アルコール、中でもイソプロピルアルコール及びエタノールを用いるのが好ましい。 Examples of the organic solvent include monohydric lower alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and isopropyl alcohol, polyhydric alcohols such as ethylene glycol and propylene glycol, and their esters, cellsolve, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, isobutanol, Methyl ethyl ketone, toluene, xylene and the like can be suitably used. Monovalent lower alcohols, particularly isopropyl alcohol and ethanol are preferably used.

光触媒粒子を含むコート液の組成は、特に限定するものではないが、光触媒粒子を固形分濃度で5〜20質量%、特に5〜10質量%を含有するのが好ましい。5%未満では塗布後の光触媒の効果が小さく、汚れ防止といった効果が期待しにくい。20%を超えるとコート液の安定性が低下しポットライフが低くなる。また、Si−O結合を備えた成分は、コート液中に0.04〜40質量%、特に1〜2質量%を含有するのが好ましく、光触媒に対して10質量%以上25質量%未満となるように含有するのが好ましい。   The composition of the coating liquid containing the photocatalyst particles is not particularly limited, but the photocatalyst particles preferably contain 5 to 20% by mass, particularly 5 to 10% by mass in terms of solid content. If it is less than 5%, the effect of the photocatalyst after coating is small, and it is difficult to expect the effect of preventing contamination. If it exceeds 20%, the stability of the coating solution is lowered and the pot life is lowered. Moreover, it is preferable that the component provided with the Si-O bond contains 0.04 to 40% by mass, particularly 1 to 2% by mass in the coating liquid, and is 10% by mass or more and less than 25% by mass with respect to the photocatalyst. It is preferable to contain.

光触媒粒子を含むコート液を塗布する手段は、特に限定するものではない。例えば、グラビアコート、スプレーコート、デイップコート等、各種の塗布方法を選択することができ、中でもグラビアロールコーターを用いて塗布するのが好ましい。離型性フィルム乃至シートへの光触媒層の形成は、上記コート液を塗布し、加熱乾燥して行うのがよい。
加熱乾燥は、加熱温度80〜150℃で行うのが好ましい。さらには、乾燥熱風風速10〜30m/秒、乾燥時間20〜180秒の条件で行うのがよい。
The means for applying the coating liquid containing photocatalyst particles is not particularly limited. For example, various coating methods such as gravure coating, spray coating, dip coating and the like can be selected, and it is preferable to apply using a gravure roll coater. The formation of the photocatalyst layer on the releasable film or sheet is preferably carried out by applying the coating liquid and heating and drying.
Heat drying is preferably performed at a heating temperature of 80 to 150 ° C. Furthermore, it is good to carry out on the conditions of drying hot air wind speed 10-30 m / sec and drying time 20-180 seconds.

光触媒コート液のコート膜厚、即ち光触媒層の厚さは、乾燥前のWET状態で5〜50g/m2 、乾燥後の被膜の厚さで0.1〜1μmとするのが好ましい。これ以下の厚さでは光触媒反応の活性が低く、逆にこれ以上の厚さでは密着強度・表面硬度が低下し、被膜が剥がれ易くなる。
なお、光触媒粒子を含むコート液の塗布は、一回のみならず、複数回行ってもよい。光触媒層は、異なる平均粒径の光触媒粒子により構成された複数層で構成してもよい。
The coating film thickness of the photocatalyst coating solution, that is, the thickness of the photocatalyst layer is preferably 5 to 50 g / m 2 in the WET state before drying, and 0.1 to 1 μm in terms of the thickness of the coating film after drying. If the thickness is less than this, the activity of the photocatalytic reaction is low. On the other hand, if the thickness is more than this, the adhesion strength and the surface hardness are lowered, and the coating is easily peeled off.
In addition, you may perform the application | coating of the coating liquid containing a photocatalyst particle not only once but multiple times. You may comprise a photocatalyst layer by the multiple layer comprised by the photocatalyst particle of a different average particle diameter.

また、光触媒層3の乾燥が完了した後、所要時間エージングするようにしてもよい。これにより、コーティングされた被膜の剥離強度を向上させることができる。エージングは30〜60℃で30時間以上エージングを行うのが好ましい。   Further, after the drying of the photocatalyst layer 3 is completed, it may be aged for a required time. Thereby, the peeling strength of the coated film can be improved. Aging is preferably performed at 30 to 60 ° C. for 30 hours or more.

〔プライマー層4〕
プライマー層4は、光触媒の作用を遮断し基材側に光触媒作用を影響させないようにする機能を備えた層であり、アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートを含有する組成物をから形成され、アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートを含有するコート液を、上記光触媒層3上に塗布し乾燥させることにより形成することができる。
[Primer layer 4]
The primer layer 4 is a layer having a function of blocking the action of the photocatalyst so as not to affect the photocatalytic action on the substrate side. The primer layer 4 is formed from a composition containing acrylic modified silicone or acrylic modified titanate, and is acrylic modified. The coating liquid containing silicone or acrylic modified titanate can be formed by applying on the photocatalyst layer 3 and drying.

アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートを含有する組成物含むコート液は、特にその組成を限定するものではないが、例えばアクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートと有機溶媒とから調製することができ、その際のアクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートの濃度は適宜調製すればよい。
また、コロイダルシリカなどの分散剤、その他の添加剤を添加することも可能である。
The coating liquid containing the composition containing acrylic modified silicone or acrylic modified titanate is not particularly limited in composition, but can be prepared from, for example, acrylic modified silicone or acrylic modified titanate and an organic solvent. What is necessary is just to prepare the density | concentration of an acrylic modified silicone or an acrylic modified titanate suitably.
It is also possible to add a dispersant such as colloidal silica and other additives.

プライマー層4を形成する手段としては、光触媒粒子を含むコート液を離型性フィルム乃至シートに塗布する手段と同様、特に限定されるものではない。例えば、グラビアコート、スプレーコート、デイップコート等、各種の塗布方法を選択し得る。グラビアロールコーターを用いるのが好ましい。プライマー層を光触媒層上に積層した後加熱乾燥させればよい。
なお、光触媒粒子を含むコート液の塗布は、一回のみならず、複数回行ってもよいが、プライマー層は1回のみのコートが好適である。
The means for forming the primer layer 4 is not particularly limited, as is the case with the means for applying a coating liquid containing photocatalyst particles to a release film or sheet. For example, various coating methods such as gravure coating, spray coating, and dip coating can be selected. It is preferable to use a gravure roll coater. What is necessary is just to heat-dry after laminating | stacking a primer layer on a photocatalyst layer.
The coating liquid containing the photocatalyst particles may be applied not only once but a plurality of times, but the primer layer is preferably coated only once.

アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートを含有する組成物含むコート液を、上記光触媒層3上に塗布すると、その乾燥過程(固化過程)で、アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートの有するSi又はTiが、光触媒層3内の光触媒に引きつけられ、そのSi又はTiが光触媒層3側を向くように自然に当該アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートが配向するようになり、当該Si又はTiと光触媒層内のSi−O結合とがシロキサン結合(Si−O−Si)を形成して架橋するようになる。そのため、光触媒層3とプライマー層4とは強固に結合することになる。 When a coating liquid containing a composition containing acrylic-modified silicone or acrylic-modified titanate is applied onto the photocatalyst layer 3, Si or Ti of the acrylic-modified silicone or acrylic-modified titanate is a photocatalyst in the drying process (solidification process). The acryl-modified silicone or acryl-modified titanate is naturally oriented so that the Si or Ti is attracted to the photocatalyst in the layer 3 and the Si or Ti faces the photocatalyst layer 3 side. The O bond forms a siloxane bond (Si—O—Si) and crosslinks. Therefore, the photocatalyst layer 3 and the primer layer 4 are firmly bonded.

プライマー層4の厚さは、乾燥前のWET状態で1〜50g/m2、乾燥後の厚さで0.1μm以上、特に0.2μm〜10μmとするのが好ましい。0.1μmより薄いと、アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートの配向が十分に促進されず、プライマー層4においてSi又はTi側と有機基側とが十分に分離しなくなり、光触媒層3とプライマー層4との密着性、プライマー層4と基材又は接着剤層との密着性が十分に得られなくなる。 The thickness of the primer layer 4 is preferably 1 to 50 g / m 2 in the WET state before drying, 0.1 μm or more, and particularly preferably 0.2 μm to 10 μm in thickness after drying. If it is thinner than 0.1 μm, the orientation of the acrylic modified silicone or acrylic modified titanate is not sufficiently promoted, and in the primer layer 4, the Si or Ti side and the organic group side are not sufficiently separated, and the photocatalyst layer 3 and the primer layer 4. Adhesion between the primer layer 4 and the base material or adhesive layer cannot be sufficiently obtained.

〔接着剤層5〕
本発明の一態様に係る光触媒層転写体1は、図3に示すように、上記プライマー層4の上にさらに接着剤層5を形成して構成することもできる。
例えば、光触媒層転写体1を積層(転写)する対象物である基材が、金属やガラス材など無機系材料、或いは、合成樹脂であっても100℃以下の低温で積層(転写)することが求められる場合、プライマー層4のみでは接着力が十分でない場合があるため、このような用途に用いる場合には特に接着剤層5を形成し、接着剤層5を介して基材に積層(転写)し得るように構成するのが好ましい。
[Adhesive layer 5]
As shown in FIG. 3, the photocatalyst layer transfer body 1 according to an aspect of the present invention can be configured by further forming an adhesive layer 5 on the primer layer 4.
For example, even if the base material, which is an object on which the photocatalyst layer transfer body 1 is laminated (transferred), is an inorganic material such as a metal or glass material, or a synthetic resin, it is laminated (transferred) at a low temperature of 100 ° C. or less. If the primer layer 4 is required, the adhesive strength may not be sufficient with the primer layer 4 alone. Therefore, when used in such applications, the adhesive layer 5 is formed and laminated on the substrate via the adhesive layer 5 ( It is preferable that the image forming apparatus can be transferred).

接着剤層5は、プライマー層4の組成及びこれが積層される基材(被転写体)の材質を考慮して、有機系接着剤の中から適宜選択して使用するのが好ましい。例えば、基材が合成樹脂材で構成される場合、接着剤層は、アクリル樹脂、アクリル変性シリコン樹脂化合物又はシリコン変性アクリル樹脂化合物を主要成分として含むものが好ましく、プライマー層4の主成分がアクリル変性シリコン樹脂化合物の場合にはアクリル樹脂を選択するのが特に好ましい。具体的には、アクリル系樹脂を有機溶媒に溶解させしてコート液としたものを塗布して接着剤層5を形成するのが好ましい。 The adhesive layer 5 is preferably selected from organic adhesives in consideration of the composition of the primer layer 4 and the material of the base material (transfer object) on which the primer layer 4 is laminated. For example, when the base material is composed of a synthetic resin material, the adhesive layer preferably contains an acrylic resin, an acrylic-modified silicone resin compound or a silicon-modified acrylic resin compound as a main component, and the primer layer 4 is mainly composed of acrylic. In the case of a modified silicone resin compound, it is particularly preferable to select an acrylic resin. Specifically, it is preferable to form the adhesive layer 5 by applying a coating solution obtained by dissolving an acrylic resin in an organic solvent.

接着剤層5を施す手段は、光触媒粒子を含むコート液を離型性フィルム乃至シートに塗布する手段と同様、特に限定されるものではない。例えば、グラビアコート、スプレーコート、デイップコート等、各種の塗布方法を選択し得る。グラビアロールコーターを用いるのが好ましい。
なお、転写体をホットメルトする場合も想定できるから、接着剤層は必ずしも必要でない。
The means for applying the adhesive layer 5 is not particularly limited, as is the case with the means for applying a coating liquid containing photocatalyst particles to a release film or sheet. For example, various coating methods such as gravure coating, spray coating, and dip coating can be selected. It is preferable to use a gravure roll coater.
In addition, since the case where a transfer body is hot-melted can also be assumed, an adhesive layer is not necessarily required.

接着剤層13の厚さは特に限定されるものではないが、0.1μm以上、特に0.2μm〜10μmであるのが好ましい。 The thickness of the adhesive layer 13 is not particularly limited, but is preferably 0.1 μm or more, particularly preferably 0.2 μm to 10 μm.

〔光触媒層付き基材10〕
本発明の光触媒層転写体1は、図2に示すように、プライマー層4又は接着剤層5を介して基材11に積層することにより光触媒層付き基材10を形成することができる。
かかる構成を備えた光触媒層付き基材10は、使用する時に、離型性フィルム乃至シート2を剥がして光触媒層3を露出させることにより光触媒作用を発揮させることができる。
[Substrate with photocatalyst layer 10]
As shown in FIG. 2, the photocatalyst layer transfer body 1 of the present invention can form a base material 10 with a photocatalyst layer by laminating the base material 11 via a primer layer 4 or an adhesive layer 5.
When using the base material 10 with a photocatalyst layer having such a configuration, the photocatalytic action can be exhibited by peeling the release film or sheet 2 and exposing the photocatalyst layer 3.

基材11、すなわち光触媒層転写体1を積層する対象物は、目的や用途に応じて、シート、フィルムの他、棒状体、筒状体、箱状体、ボトル体、各種積層体その他の形状の成形品等を対象とすることができ、この際、基材の厚さに制限がないことが特徴でもある。
ただし、材質的には有機系材料、例えば合成樹脂などが好適である。例えばポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレンその他の合成樹脂の単層あるいは複数層からなるものが好適に用いられる。
紙を含む複合材であってもよいが、アルミニウム、鉄等の金属やガラスなどの材料からなるものは、接着力の点でプライマー層4と直接積層するのは好ましくない。これら非有機系の基材の場合には、接着剤層5を介して積層するのが好ましく、そうすれば基材として好適に用いることができる。
また、合成樹脂であっても100℃程度の低温で接合することが求められる場合には、接着剤層5を介さずプライマー層4と直接接合することは困難であるので、この場合にも接着剤層5を介して積層するのが好ましい。
The substrate 11, that is, the object on which the photocatalyst layer transfer body 1 is laminated is a sheet, a film, a rod-like body, a cylindrical body, a box-like body, a bottle body, various laminated bodies and other shapes depending on the purpose and application. It is also a feature that there is no limitation on the thickness of the base material.
However, organic materials such as synthetic resins are suitable for the material. For example, those composed of a single layer or a plurality of layers of polycarbonate, polyethylene terephthalate, vinyl chloride resin, acrylic resin, polyimide, polyethylene, polypropylene and other synthetic resins are preferably used.
Although a composite material including paper may be used, it is not preferable that a material made of a metal such as aluminum or iron or a material such as glass is directly laminated with the primer layer 4 in terms of adhesive strength. In the case of these non-organic base materials, it is preferable to laminate them through the adhesive layer 5, so that they can be suitably used as the base material.
In addition, even when a synthetic resin is required to be bonded at a low temperature of about 100 ° C., it is difficult to directly bond to the primer layer 4 without using the adhesive layer 5. It is preferable to laminate via the agent layer 5.

ここで、光触媒層付き基材10の製造方法の具体的一例を説明する。
光触媒層転写体1を供給ロールから繰り出し、プレスロールを介してキャストロール(冷却ロール)へ導く一方、基材11となる合成樹脂を、押出機を経てダイから溶融押し出す。そして、押出ラミネーション法によって、光触媒層転写体1のプライマー層4又は接着剤層5と基材11とを積層させれば光触媒層付き基材10を得ることができる。
Here, the specific example of the manufacturing method of the base material 10 with a photocatalyst layer is demonstrated.
The photocatalyst layer transfer body 1 is fed out from the supply roll and guided to the cast roll (cooling roll) through the press roll, while the synthetic resin to be the base material 11 is melt-extruded from the die through the extruder. And if the primer layer 4 or the adhesive bond layer 5 of the photocatalyst layer transfer body 1 and the base material 11 are laminated | stacked by the extrusion lamination method, the base material 10 with a photocatalyst layer can be obtained.

なお、押出ラミネーション法による場合、基材11として結晶性高分子材料(結晶性樹脂)を用いる際には、基材11となる合成樹脂の結晶化温度以上となる温度で行うのが好ましい。非晶性樹脂の場合は融点でラミネートするのが好ましい。例えば、基材としてポリカーボネートを用いる場合、約165℃でラミネーションする必要がある。
プライマー層4の主成分をアクリル変性シリコン樹脂化合物とし、接着剤層5の主成分をアクリル樹脂とすることにより、100℃以上180℃以下の温度で転写させることができる特徴を備えている。
In the case of using the extrusion lamination method, when a crystalline polymer material (crystalline resin) is used as the base material 11, it is preferably performed at a temperature equal to or higher than the crystallization temperature of the synthetic resin used as the base material 11. In the case of an amorphous resin, it is preferable to laminate at the melting point. For example, when polycarbonate is used as the substrate, it is necessary to perform lamination at about 165 ° C.
By using an acrylic-modified silicone resin compound as the main component of the primer layer 4 and an acrylic resin as the main component of the adhesive layer 5, it is possible to transfer at a temperature of 100 ° C. or higher and 180 ° C. or lower.

再加熱(熱)ラミネーション法によっても製造することができる。例えば光触媒層転写体1を供給ロールからキャストロール(冷却ロール)へ導く一方、基材11となる合成樹脂を、押出機を経てダイから溶融押し出し、そして、キャストロール(冷却ロール)を経て一旦フィルムないしシート状の基材11を形成してロールを介した後、ヒータにより再加熱して基材の温度を上昇させ、熱ラミネーション法によって光触媒層転写体のプライマー層4又は接着剤層5と基材11とを積層すれば光触媒層付き基材10を得ることができる。
再加熱ラミネーション法による場合、基材11として結晶性高分子材料を用いる際には、基材11となる合成樹脂の結晶化温度以上となる温度で行うのが好ましい。結晶性樹脂の場合、結晶化開始〜融解までブロードであり、この範囲すべてを融点としているので、このような結晶化温度の範囲内でラミネーションすることができる。非晶性樹脂の場合、融点がシャープであるので、その融点でのみラミネーションすることができる。
It can also be produced by a reheating (thermal) lamination method. For example, while the photocatalyst layer transfer body 1 is guided from the supply roll to the cast roll (cooling roll), the synthetic resin to be the base material 11 is melt-extruded from the die through the extruder, and then temporarily passed through the cast roll (cooling roll). Or after forming the sheet-like base material 11 and passing through a roll, it is reheated by a heater to raise the temperature of the base material, and the primer layer 4 or the adhesive layer 5 of the photocatalyst layer transfer body and the base are heated by a thermal lamination method. If the material 11 is laminated | stacked, the base material 10 with a photocatalyst layer can be obtained.
In the case of using the reheating lamination method, when a crystalline polymer material is used as the substrate 11, it is preferably performed at a temperature that is equal to or higher than the crystallization temperature of the synthetic resin that will be the substrate 11. In the case of a crystalline resin, it is broad from the start of crystallization to melting, and all of this range is the melting point, so that lamination can be performed within such a range of crystallization temperature. In the case of an amorphous resin, the melting point is sharp, so that lamination can be performed only at the melting point.

また、本発明の光触媒層付き基材は、そのままの形態でも鋼板その他の金属板等の表面に被覆して使用することができる。
その用途は、建築用資材(特に室内装飾資材など)、オフィス用具資材、農業用資材、包装用資材、漁業用資材、その他の各種産業用資材などに利用可能であり、例えばテラス、バルコニー、カーポートなどの屋根や側壁材など、室外で使用される外装材等として特に有効である。
Moreover, the base material with a photocatalyst layer of this invention can coat | cover and use the surfaces, such as a steel plate and other metal plates, with the form as it is.
It can be used for building materials (particularly interior decoration materials), office equipment materials, agricultural materials, packaging materials, fishery materials, and other various industrial materials such as terraces, balconies, cars, etc. It is particularly effective as an exterior material used outdoors such as a roof such as a port or a side wall material.

以上、本発明の実施の形態の例について説明してきたが、本発明は上記説明したものに限定されず、本発明の要旨の範囲で適宜変更、付加等して実施し得るものである。具体的には、本発明の光触媒層転写体においては、他の機能を有する層、例えばシリカ等の無機粒子を蒸着されてなるハードコート層、硫黄系化合物や銅系化合物等の赤外線吸収剤を含有する赤外線遮蔽層などの層を更に備えたものであってもよい。
また、本発明における数値範囲の上限値及び下限値は、本発明が特定する数値範囲から外れる場合であっても、当該数値範囲内と同様の作用効果を備えている限り本発明の均等範囲に含める意を包含するものである。
As mentioned above, although the example of embodiment of this invention was demonstrated, this invention is not limited to what was demonstrated above, In the range of the summary of this invention, it can change and add suitably. Specifically, in the photocatalyst layer transfer body of the present invention, a layer having other functions, for example, a hard coat layer on which inorganic particles such as silica are deposited, an infrared absorber such as a sulfur compound or a copper compound is provided. It may further include a layer such as an infrared shielding layer.
In addition, even if the upper limit and lower limit of the numerical range in the present invention are outside the numerical range specified by the present invention, as long as the same effects as those in the numerical range are provided, they are within the equivalent range of the present invention. Including intention to include.

以下に本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。なお、特に断らない限り%は全て質量%を示す。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples. In addition, unless otherwise indicated, all% shows the mass%.

(実施例1)
剥離性保護フィルムとしてのPET(ポリエチレンテレフタレート;三菱化学ポリエステルフィルム製H100C12)フィルムの片面に、粒径100〜300nmのアナターゼ型二酸化チタン8質量部と、テトラエトキシシラン2質量部と、水40質量部と、エタノール50質量部とからなるコート液をグラビアコートによって5g/m2塗布し、135℃で2分間乾燥させて光触媒層を形成した。
Example 1
On one side of a PET (polyethylene terephthalate; H100C12 manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film) film as a peelable protective film, 8 parts by mass of anatase-type titanium dioxide having a particle size of 100 to 300 nm, 2 parts by mass of tetraethoxysilane, and 40 parts by mass of water Then, 5 g / m 2 of a coating liquid consisting of 50 parts by mass of ethanol was applied by gravure coating and dried at 135 ° C. for 2 minutes to form a photocatalyst layer.

次に、上記光触媒層の上に、下記プライマーコート液Aをグラビアコートによって5g/m2塗布し、135℃で2分間乾燥させてプライマー層を形成した。さらにその上に、アクリル樹脂をメチルエチルケトン(MEK)に固形分濃度にて25%となる濃度にて溶解して調整したコート液を8g/m2塗布して135℃で2分間乾燥させて接着剤層を形成して光触媒転写体を得た。 Next, 5 g / m 2 of the following primer coating liquid A was applied on the photocatalyst layer by gravure coating, and dried at 135 ° C. for 2 minutes to form a primer layer. Furthermore, a coating solution prepared by dissolving an acrylic resin in methyl ethyl ketone (MEK) at a solid content concentration of 25% is applied, and 8 g / m 2 is applied and dried at 135 ° C. for 2 minutes. A layer was formed to obtain a photocatalyst transfer body.

プライマーコート液A:固形分としてアクリル変性シリコーン樹脂5質量部、溶媒としてイソブチルアルコール40質量部、2−プロパノール40質量部及びメチルエチルケトン(MEK)15質量部を配合して懸濁させたコート液。   Primer coating liquid A: A coating liquid in which 5 parts by mass of an acrylic-modified silicone resin as a solid content and 40 parts by mass of isobutyl alcohol, 40 parts by mass of 2-propanol and 15 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK) as a solvent are mixed and suspended.

(実施例2)
実施例1のアクリル変性シリコーン樹脂の代わりに、アクリル変性チタネート樹脂を配合してなるプライマーコート液を用いて、実施例1同様に光触媒転写体を形成した。
(Example 2)
A photocatalyst transfer body was formed in the same manner as in Example 1 by using a primer coating solution containing an acrylic modified titanate resin instead of the acrylic modified silicone resin of Example 1.

(比較例1)
実施例1同様に、剥離性保護フィルムとしてのPET(ポリエチレンテレフタレート;三菱化学ポリエステルフィルム製H100C12)フィルムの片面に、粒径100〜300nmのアナターゼ型二酸化チタン8質量部と、テトラエトキシシラン2質量部と、水40質量部と、エタノール50質量部からなるコート液をグラビアコートによって5g/m2塗布し、135℃で2分間乾燥させて光触媒層を形成した。
(Comparative Example 1)
Similarly to Example 1, 8 parts by mass of anatase-type titanium dioxide having a particle diameter of 100 to 300 nm and 2 parts by mass of tetraethoxysilane are formed on one side of a PET (polyethylene terephthalate; H100C12 manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film) as a peelable protective film. Then, 5 g / m 2 of a coating solution composed of 40 parts by mass of water and 50 parts by mass of ethanol was applied by gravure coating and dried at 135 ° C. for 2 minutes to form a photocatalyst layer.

次に、上記光触媒層の上に、下記プライマーコート液Bをグラビアコートによって5g/m2塗布し、残りの点は実施例1同様に光触媒転写体を形成した。 Next, on the photocatalyst layer, the following primer coating solution B 5 g / m 2 coated by gravure coating, the remaining points were formed in the same manner as in Example 1 photocatalyst transcript.

プライマーコート液B:固形分としてシリコン樹脂5質量部、溶媒としてイソブチルアルコール40質量部、2−プロパノール40質量部及びメチルエチルケトン(MEK)15質量部を配合して懸濁させたコート液。   Primer coating liquid B: A coating liquid in which 5 parts by mass of a silicon resin as a solid content, 40 parts by mass of isobutyl alcohol, 40 parts by mass of 2-propanol, and 15 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK) as a solvent are mixed and suspended.

(比較例2)
剥離性保護フィルムとしてのPET(ポリエチレンテレフタレート;三菱化学ポリエステルフィルム製H100C12)フィルムの片面に、粒径100〜300nmのアナターゼ型二酸化チタン8質量部と、テトラブトキシシラン2質量部と、水40質量部と、エタノール50質量部からなるコート液をグラビアコートによって5g/m2塗布し、135℃で2分間乾燥させて光触媒層を形成した。
次に、上記光触媒層の上に、上記プライマーコート液Aを用いて実施例1同様に光触媒転写体を形成した。
(Comparative Example 2)
On one side of a PET (polyethylene terephthalate; H100C12 manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film) film as a peelable protective film, 8 parts by mass of anatase-type titanium dioxide having a particle size of 100 to 300 nm, 2 parts by mass of tetrabutoxysilane, and 40 parts by mass of water Then, 5 g / m 2 of a coating liquid consisting of 50 parts by mass of ethanol was applied by gravure coating and dried at 135 ° C. for 2 minutes to form a photocatalyst layer.
Next, a photocatalyst transfer body was formed on the photocatalyst layer in the same manner as in Example 1 using the primer coat liquid A.

<転写結果>
実施例1−2及び比較例1−2で形成して得られた光触媒転写体を、ポリカーボネート(PC)板の結晶化温度(約150℃)以上の180℃で50kg/cm2の圧力で押出し、ラミネーション法によって接着剤層を介してPC板に光触媒転写体を加熱押圧して積層(転写)し、光触媒付き基材の形成を試みた。
<Transfer result>
The photocatalyst transfer bodies obtained in Example 1-2 and Comparative Example 1-2 were extruded at a pressure of 50 kg / cm 2 at 180 ° C., which is higher than the crystallization temperature (about 150 ° C.) of the polycarbonate (PC) plate. Then, a photocatalyst transfer body was heated and pressed on a PC plate through an adhesive layer by a lamination method and laminated (transferred) to try to form a substrate with a photocatalyst.

この結果、実施例1−2及び比較例1で得られた光触媒転写体を用いて、光触媒層の膜厚が約0.3μm、プライマー層の膜厚が約0.6μm、接着剤層の膜厚が約2μmの光触媒付き基材が得られた。
しかし、比較例2で得られた光触媒転写体は、プライマー層と光触媒層との界面において剥離が生じ、転写することができなかった。
As a result, using the photocatalyst transfer bodies obtained in Example 1-2 and Comparative Example 1, the film thickness of the photocatalyst layer was about 0.3 μm, the film thickness of the primer layer was about 0.6 μm, and the film of the adhesive layer A substrate with a photocatalyst having a thickness of about 2 μm was obtained.
However, the photocatalyst transfer body obtained in Comparative Example 2 was peeled off at the interface between the primer layer and the photocatalyst layer, and could not be transferred.

<耐久性試験>
実施例1・2及び比較例1で得られた光触媒付き基材に対して、サンシャインウェザーメーターによる耐久性試験を行った。
その結果、比較例1で得られた光触媒付き基材は、サンシャインウェザー2000時間にてセロテープ剥離試験にて光触媒層の剥離が生じたのに対し、実施例1及び2で得られた光触媒付き基材では剥離は生じなかった。
なお、サンシャインウェザー2000時間は、実際の屋外に於ける5年に相当するので実使用環境下にて比較例1の耐久年数は5年相当であることを示唆する。
<Durability test>
The durability test using a sunshine weather meter was performed on the photocatalyst-equipped substrates obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1.
As a result, the substrate with the photocatalyst obtained in Comparative Example 1 showed that the photocatalyst layer was peeled off in the cello tape peeling test in 2000 hours of sunshine weather, whereas the base with the photocatalyst obtained in Examples 1 and 2 was used. No peeling occurred with the material.
In addition, since sunshine weather 2000 hours is equivalent to 5 years in actual outdoors, it is suggested that the durability of Comparative Example 1 is equivalent to 5 years in an actual use environment.

<Si又はTiの量測定>
実施例1・2、比較例1で得られた光触媒付き基材について、X線光電子分光法(ESCA:エスカ)を用いて、シート表面からそれぞれの深さにおけるSi又はTiの量を測定した。また、光触媒層とプライマー層との区別は、電子顕微鏡(SEM)観察によって行った。
<Measurement of amount of Si or Ti>
About the base material with a photocatalyst obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, the amount of Si or Ti at each depth from the sheet surface was measured using X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA). Further, the photocatalyst layer and the primer layer were distinguished by observation with an electron microscope (SEM).

この結果、実施例1・2で得られた光触媒付き基材に関しては、プライマー層内においては光触媒層との境界側にSi又はTiが顕著に多く確認され、光触媒層内においてはプライマー層との境界側にO元素が多く確認された。他方、比較例1で得られた光触媒付き基材に関しては、そのような傾向は確認されなかった。
これより、実施例1・2で得られた光触媒付き基材においては、プライマー層内において、アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートのSi又はTiは光触媒層側に配向し、光触媒層内においてはプライマー層側にO元素が配向していることが分った。
このことから、上記セロテープ剥離試験における実施例1・2で得られた光触媒付き基材剥離強度を考慮すると、実施例1・2で得られた光触媒付き基材においては、光触媒層を構成する成分のSi−O結合と、プライマー層を構成するアクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートのSi又はTiとがシロキサン結合を形成し架橋しているものと考えられる。
As a result, for the substrate with a photocatalyst obtained in Examples 1 and 2, a significant amount of Si or Ti was confirmed on the boundary side with the photocatalyst layer in the primer layer, and the primer layer in the photocatalyst layer was Many O elements were confirmed on the boundary side. On the other hand, such a tendency was not confirmed for the substrate with a photocatalyst obtained in Comparative Example 1.
From this, in the base material with a photocatalyst obtained in Examples 1 and 2, Si or Ti of acrylic modified silicone or acrylic modified titanate is oriented to the photocatalyst layer side in the primer layer, and the primer layer in the photocatalyst layer It was found that the O element was oriented on the side.
From this, in consideration of the substrate peel strength with the photocatalyst obtained in Examples 1 and 2 in the above-mentioned cello tape peel test, in the substrate with the photocatalyst obtained in Examples 1 and 2, the components constituting the photocatalyst layer It is considered that the Si—O bond of the above and the Si or Ti of the acrylic modified silicone or acrylic modified titanate constituting the primer layer form a siloxane bond and are crosslinked.

本発明の光触媒層転写体の構成例を説明するために模式的に示した断面図である。It is sectional drawing typically shown in order to demonstrate the structural example of the photocatalyst layer transfer body of this invention. 図1に示した光触媒層転写体を基材に積層して得られる本発明の光触媒層付透明基材の構成例を説明するために模式的に示した断面図である。It is sectional drawing typically shown in order to demonstrate the structural example of the transparent base material with a photocatalyst layer of this invention obtained by laminating | stacking the photocatalyst layer transfer body shown in FIG. 1 on a base material. 本発明の光触媒層転写体の他の構成例を説明するために模式的に示した断面図である。It is sectional drawing typically shown in order to demonstrate the other structural example of the photocatalyst layer transfer body of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 光触媒層転写体
2 離型性フィルム乃至シート
3 光触媒層
4 プライマー層
5 接着剤層
10 光触媒層付き基材
11 基材

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Photocatalyst layer transfer body 2 Releaseable film thru | or sheet 3 Photocatalyst layer 4 Primer layer 5 Adhesive layer 10 Base material 11 with a photocatalyst layer Base material

Claims (7)

剥離性フィルム上に、光触媒とSi−O結合を備えた成分とを含有するコート液を塗布し、その上に、アクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートと溶媒とを含有するコート液を塗布することにより、剥離性フィルム上に、光触媒層、プライマー層を順次形成すると共に、光触媒層を構成する成分のSi−O結合と、プライマー層を構成するアクリル変性シリコーン又はアクリル変性チタネートのSi又はTiとをシロキサン結合させ架橋させることを特徴とする光触媒層転写体の製造方法。 By applying a coating liquid containing a photocatalyst and a component having a Si-O bond on the peelable film, and applying a coating liquid containing acrylic modified silicone or acrylic modified titanate and a solvent thereon. In addition, a photocatalyst layer and a primer layer are sequentially formed on the peelable film, and Si—O bonds as components constituting the photocatalyst layer and Si or Ti of acrylic modified silicone or acrylic modified titanate constituting the primer layer are siloxane. manufacturing method of the photocatalyst layer transfer member for causing combined crosslinked. 光触媒層を構成するSi−O結合を備えた成分がアルコキシシランであることを特徴とする請求項1記載の光触媒層転写体の製造方法。 The method for producing a photocatalyst layer transfer body according to claim 1, wherein the component having Si-O bonds constituting the photocatalyst layer is alkoxysilane . 光触媒層を構成するSi−O結合を備えた成分がテトラエトキシシランであることを特徴とする請求項1記載の光触媒層転写体の製造方法。 The method for producing a photocatalyst layer transfer body according to claim 1, wherein the component having a Si-O bond constituting the photocatalyst layer is tetraethoxysilane . プライマー層の厚さは0.1μm以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光触媒層転写体の製造方法。 The method for producing a photocatalyst layer transfer body according to any one of claims 1 to 3, wherein the primer layer has a thickness of 0.1 µm or more . 前記プライマー層上に、さらに接着剤層を形成することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の光触媒層転写体の製造方法 The method for producing a photocatalyst layer transfer body according to any one of claims 1 to 4, wherein an adhesive layer is further formed on the primer layer . 請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法により得られた光触媒層転写体を、該光触媒層転写体のプライマー層を介して有機系基材に積層してなる構成を備えた光触媒層付基材。 Photocatalyst layer transfer body provided with the structure formed by laminating | stacking the photocatalyst layer transfer body obtained by the manufacturing method in any one of Claims 1-4 on an organic type base material through the primer layer of this photocatalyst layer transfer body Base material. 請求項5に記載の製造方法により得られた光触媒層転写体を、該光触媒層転写体の接着剤層を介して有機系基材に積層してなる構成を備えた光触媒層付基材。
Producing a photocatalyst layer transfer body obtained by the method, photocatalytic layer transfer member photocatalyst layer with a substrate having a structure formed by laminating the organic substrate through a contact Chakuzaiso of claim 5.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002192645A (en) * 2000-12-27 2002-07-10 Nikka Techno:Kk Electromagnetic wave transmissible metal-deposited film transfer material and its production method
JP2003236978A (en) * 2002-02-20 2003-08-26 Nihon Yamamura Glass Co Ltd Method for manufacturing transfer foil and molded article having photo-catalyst layer

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3087682B2 (en) * 1996-06-18 2000-09-11 東陶機器株式会社 Photocatalytic hydrophilic member

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002192645A (en) * 2000-12-27 2002-07-10 Nikka Techno:Kk Electromagnetic wave transmissible metal-deposited film transfer material and its production method
JP2003236978A (en) * 2002-02-20 2003-08-26 Nihon Yamamura Glass Co Ltd Method for manufacturing transfer foil and molded article having photo-catalyst layer

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