JP2010188730A - Photocatalyst layer transfer body - Google Patents

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JP2010188730A JP2010043974A JP2010043974A JP2010188730A JP 2010188730 A JP2010188730 A JP 2010188730A JP 2010043974 A JP2010043974 A JP 2010043974A JP 2010043974 A JP2010043974 A JP 2010043974A JP 2010188730 A JP2010188730 A JP 2010188730A
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Sunao Shimomura
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocatalyst transfer body of a novel constitution which can protect a photocatalyst layer, especially the surface, from optical degradation, impacts or wear and so forth in a period from the time of manufacture until the time of use. <P>SOLUTION: This photocatalyst layer transfer body 1 is equipped with the photocatalyst layer 3 on a releasable film or sheet 2. At least on the front surface side of the photocatalyst layer 3, a layer 4 having a function capable of protecting the surface of the photocatalyst layer 3 is formed. Thus, the surface of the photocatalyst layer 3 can be protected from optical degradation, impacts or wear and so forth in the period from the time of manufacture until the time of use. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、光触媒層を転写するのに用いる光触媒層転写体に関する。   The present invention relates to a photocatalyst layer transfer body used for transferring a photocatalyst layer.

光触媒は、光の照射を受けると光触媒活性を発現して酸化作用を示し、有機物や空気汚染物質、更には細菌などを酸化分解する。また、その光反応に基づいて表面を高度に親水性化し、脱臭、防汚、抗菌、殺菌、有害物質除去、防曇作用などの様々な作用を発現する機能を発揮することも知られている。そのため、光触媒技術は、建物外壁、病院内壁、鏡、窓ガラス、衛生陶器、包丁、まな板など様々な分野で注目されている。   When photocatalyst is irradiated with light, it exhibits photocatalytic activity and exhibits an oxidizing action, and oxidizes and decomposes organic substances, air pollutants, and bacteria. It is also known to make the surface highly hydrophilic based on the photoreaction and to exhibit various functions such as deodorization, antifouling, antibacterial, sterilization, harmful substance removal, and antifogging action. . For this reason, photocatalytic technology has attracted attention in various fields such as building outer walls, hospital inner walls, mirrors, window glass, sanitary ware, kitchen knives, and cutting boards.

このような光触媒機能を有する物質としては、二酸化チタン、酸化亜鉛等の金属酸化物のほか、CdSのような金属硫化物、CdSeのような金属カルコゲナイドなどが知られている。中でも二酸化チタンは、安全性の高さや、酸、塩基及び有機溶媒に侵されない化学的安定性等の点から特に利用価値が高い光触媒物質として評価されている。   As such a substance having a photocatalytic function, in addition to metal oxides such as titanium dioxide and zinc oxide, metal sulfides such as CdS, metal chalcogenides such as CdSe, and the like are known. Among these, titanium dioxide is evaluated as a photocatalytic substance having a particularly high utility value from the viewpoints of high safety and chemical stability that is not affected by acids, bases, and organic solvents.

二酸化チタンを例にとって光触媒メカニズムについて説明すると、二酸化チタン等の光触媒物質は光半導体としての特性を持ち、バンドギャップエネルギー(二酸化チタンのバンドギャップは3.2eV)に相当する紫外線(ルチル型:λ<400nm、アナターゼ型:λ<380nm)の照射を受けると、価電子帯の電子が励起されて電子(e−)と正孔(h+)の2つのキャリアを生成する。一般の物質ではこの両者はすぐに再結合してしまうが、二酸化チタンの場合には、これら電子及び正孔がしばらく生き残り、生き残った正孔が触媒表面にある吸着水を酸化し、酸化力の高いヒドロキシラジカル(・OH)を生成する。そして、この・OHの酸化力が、例えば有機物を構成する分子中のC−C、C−H、C−N、C−O、O−H、N−H等のエネルギーよりはるかに強いためにこれらの結合を切断して分解する。このように、光照射によって発生した電子(e−)と正孔(h+)による酸化還元力が様々な光触媒作用の起因となっていると考えられる。   The photocatalytic mechanism will be described taking titanium dioxide as an example. A photocatalytic substance such as titanium dioxide has characteristics as a photo semiconductor, and ultraviolet rays corresponding to band gap energy (band gap of titanium dioxide is 3.2 eV) (rutile type: λ < When irradiated with 400 nm, anatase type: λ <380 nm, electrons in the valence band are excited to generate two carriers of electrons (e−) and holes (h +). In a general substance, both of these recombine quickly, but in the case of titanium dioxide, these electrons and holes survive for a while, and the surviving holes oxidize the adsorbed water on the catalyst surface, resulting in an oxidizing power. Generates high hydroxyl radical (.OH). And because the oxidizing power of this OH is much stronger than the energy of, for example, C—C, C—H, C—N, C—O, O—H, N—H, etc. in the molecules constituting the organic matter. These bonds are broken and broken down. Thus, it is considered that the redox power by the electrons (e−) and holes (h +) generated by light irradiation is responsible for various photocatalytic actions.

ところで、光触媒を基材表面に定着させる方法の一つとして、転写法による方法が知られている。例えば特許文献1は、離型性フィルム乃至シートに光触媒粒子を含むコート液を塗布して乾燥した後、その上に接着層を施してなる光触媒転写体を開示している。このような光触媒転写体によれば、接着層にて基材に転写して積層することにより、簡単かつ低廉なコストで光触媒層付き基材を得ることができる。   By the way, as one of the methods for fixing the photocatalyst to the substrate surface, a method using a transfer method is known. For example, Patent Document 1 discloses a photocatalyst transfer body obtained by applying a coating liquid containing photocatalyst particles to a releasable film or sheet and drying it, and then applying an adhesive layer thereon. According to such a photocatalyst transfer body, a base material with a photocatalyst layer can be obtained simply and inexpensively by transferring and laminating to a base material with an adhesive layer.

特開2002−316380号公報JP 2002-316380 A

本発明は、上記の如き光触媒転写体を更に改良し、製造後使用に至るまでの間に光触媒層、特にその表面を光劣化や衝撃、磨耗などから保護することができる新たな構成の光触媒転写体を提供せんとするものである。   The present invention further improves the photocatalyst transfer body as described above, and a photocatalyst transfer having a new configuration capable of protecting the photocatalyst layer, in particular, the surface thereof from photodegradation, impact, wear, etc. before use after production. It is intended to provide a body.

本発明は、離型性フィルム乃至シート上に光触媒層を備えた光触媒層転写体であって、光触媒層の少なくとも表面側に、光触媒層保護機能、即ち、光劣化や衝撃、磨耗などから光触媒層表面を保護し得る機能を備えた層を形成することにより、製造後使用に至るまでの間に光触媒層の表面を光劣化や衝撃、磨耗などから保護することができる光触媒層保護機能付き光触媒層転写体を提案するものである。   The present invention relates to a photocatalyst layer transfer body provided with a photocatalyst layer on a releasable film or sheet, and at least on the surface side of the photocatalyst layer, a photocatalyst layer protection function, that is, a photocatalyst layer due to photodegradation, impact, wear, etc. A photocatalyst layer with a photocatalyst layer protection function that can protect the surface of the photocatalyst layer from photodegradation, impact, and abrasion by forming a layer with a function capable of protecting the surface before use after production A transfer body is proposed.

本発明の光触媒層転写体の一の態様としては、離型性フィルム乃至シートが、光触媒が反応し得る波長領域の光を80%以上遮蔽し得る光遮蔽機能を備えた光触媒層転写体である。
離型性フィルム乃至シートがこのような光遮蔽機能を備えていれば、光触媒層転写体を製造後使用するまでの間に光触媒層が光を受けて分解・劣化するのを防ぐことができ、長期間好適に活性を保った状態を保持することができる。
As one aspect of the photocatalyst layer transfer body of the present invention, the release film or sheet is a photocatalyst layer transfer body having a light shielding function capable of shielding 80% or more of light in a wavelength region where the photocatalyst can react. .
If the releasable film or sheet has such a light shielding function, the photocatalyst layer can be prevented from being decomposed and deteriorated by receiving light before the photocatalyst layer transfer body is manufactured and used, A state where the activity is suitably maintained for a long time can be maintained.

このような構成の光触媒層転写体としては、例えば離型性フィルム乃至シートの基材(「離型性フィルム乃至シート基材」という)が紫外線吸収剤を含有し、離型性フィルム乃至シート基材自体が光遮蔽機能を発揮する構成とすることも、又、離型性フィルム乃至シート基材の片面又は両面に、紫外線吸収剤を含有して光遮蔽機能を発揮する紫外線遮蔽層を備えた構成とすることもできる。又、離型性フィルム乃至シート自体を、紙、アルミニウム箔、ルチル型二酸化チタン系顔料を含有した着色合成樹脂フィルム乃至シートのいずれかから構成したり、前記2以上を積層したりして構成することもできる。   As the photocatalyst layer transfer body having such a configuration, for example, a release film or sheet substrate (referred to as “release film or sheet substrate”) contains an ultraviolet absorber, and the release film or sheet base is used. The material itself may be configured to exhibit a light shielding function, or may be equipped with an ultraviolet shielding layer that exhibits a light shielding function by containing an ultraviolet absorber on one or both sides of a releasable film or sheet substrate. It can also be configured. Further, the releasable film or sheet itself may be composed of any one of paper, aluminum foil, a colored synthetic resin film or sheet containing a rutile-type titanium dioxide pigment, or the two or more layers may be laminated. You can also.

本発明の光触媒層転写体の他の一の態様としては、離型性フィルム乃至シート基材の片面又は両面に金属蒸着層を備えた光触媒層転写体である。
離型性フィルム乃至シート基材の片面又は両面に金属蒸着層を形成することによって、光触媒層表面を特に衝撃や磨耗などから保護することができる。
Another aspect of the photocatalyst layer transfer body of the present invention is a photocatalyst layer transfer body provided with a metal vapor deposition layer on one or both sides of a release film or sheet base material.
By forming a metal vapor deposition layer on one side or both sides of a releasable film or sheet substrate, the surface of the photocatalyst layer can be particularly protected from impact and abrasion.

このような構成の光触媒層転写体としては、例えば離型性フィルム乃至シート基材の片面又は両面に、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、タングステン(W)、錫(Sn)のいずれかの金属、或いはこれら二種類以上の組合わせからなる合金を主成分とする金属蒸着層を形成するのが好ましい。   As the photocatalyst layer transfer body having such a structure, for example, any one of aluminum (Al), chromium (Cr), tungsten (W), and tin (Sn) is provided on one or both sides of a release film or sheet base material. It is preferable to form a metal vapor deposition layer whose main component is a metal or an alloy composed of a combination of two or more of these.

本発明の光触媒層転写体は、離型性フィルム乃至シートが表側になるように、成形前或いは成形済の樹脂基材に積層することにより「光触媒層付き基材」とすることができる。そして、このような「光触媒層付き基材」も、離型性フィルム乃至シートを剥すまでは光劣化や衝撃及び磨耗から光触媒層表面を保護することができ、光触媒層表面の活性を長期間保持することができる。   The photocatalyst layer transfer body of the present invention can be made into a “substrate with a photocatalyst layer” by laminating on a resin substrate before molding or after molding so that the release film or sheet is on the front side. Such a “substrate with a photocatalyst layer” can also protect the surface of the photocatalyst layer from photodegradation, impact and abrasion until the release film or sheet is peeled off, and maintains the activity of the surface of the photocatalyst layer for a long time. can do.

なお、本発明における「離型性フィルム乃至シート」は、離型性を備えたフィルム状乃至シート状のものであればよく、その厚さを特に限定するものではない。
また、「離型性フィルム乃至シート上に光触媒層を備えた光触媒層転写体」は、離型性フィルム乃至シートと光触媒層との間に他の層が介在してなる構成を有する光触媒層転写体も、又、光触媒層上に更に他の層を備えた構成を有する光触媒層転写体も包含する。例えば、光触媒層の片側又は両側に光触媒作用を遮蔽する基材保護層を備えた構成であってもよい。基材保護層は必ずしも備える必要はないが、光触媒層を転写する基材が樹脂の場合、光触媒作用によって樹脂基材が劣化し易いから、基材と光触媒層との間に基材保護層が介在して光触媒の光触媒作用から樹脂基材を保護し得る構成とするのが望ましい。
The “release film or sheet” in the present invention is not particularly limited as long as it is a film or sheet having releasability.
The “photocatalyst layer transfer body having a photocatalyst layer on a releasable film or sheet” is a photocatalyst layer transfer having a structure in which another layer is interposed between the releasable film or sheet and the photocatalyst layer. The photocatalyst layer transfer body which has a structure provided with another layer on the photocatalyst layer is also included. For example, the structure provided with the base-material protective layer which shields a photocatalytic action on the one side or both sides of a photocatalyst layer may be sufficient. The base material protective layer is not necessarily provided. However, when the base material to which the photocatalyst layer is transferred is a resin, the resin base material is easily deteriorated by the photocatalytic action, and therefore the base material protective layer is provided between the base material and the photocatalyst layer. It is desirable that the resin substrate be protected from the photocatalytic action of the photocatalyst.

本発明における数値範囲の上限値及び下限値は、本発明が特定する数値範囲から外れる場合であっても、当該数値範囲内と同様の作用効果を備えている限り本発明の均等範囲に含まる意を包含する。   The upper limit value and the lower limit value of the numerical range in the present invention are included in the equivalent range of the present invention as long as they have the same effects as those in the numerical range even if they are outside the numerical range specified by the present invention. Includes meaning.

本発明の光触媒転写体の構成例を説明するために模式的に示した断面図である。It is sectional drawing typically shown in order to demonstrate the structural example of the photocatalyst transfer body of this invention. (A)(B)それぞれ、図1に示した光触媒転写体の一構成例を模式的に示した断面図である。(A) and (B) are cross-sectional views schematically showing a configuration example of the photocatalyst transfer member shown in FIG. 図1に示した光触媒転写体を基材に積層して得られる本発明の光触媒層付透明基材の構成例を説明するために模式的に示した断面図である。It is sectional drawing typically shown in order to demonstrate the structural example of the transparent base material with a photocatalyst layer of this invention obtained by laminating | stacking the photocatalyst transfer body shown in FIG. 1 on a base material.

次に、実施形態に基づいて本発明を説明する。
但し、以下に説明する実施形態は本発明の実施形態の一例であって、本発明の範囲が以下の実施形態に制限されるものではない。
Next, this invention is demonstrated based on embodiment.
However, the embodiment described below is an example of the embodiment of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following embodiment.

(紫外線遮蔽機能付き光触媒層転写体)
本発明の一態様に係る紫外線遮蔽機能付き光触媒層転写体1は、例えば図1に示すように、紫外線遮蔽機能を備えた離型性フィルム乃至シート2上に光触媒層3を形成し、更にその光触媒層3上に基材保護層4を形成し、更にその基材保護層4上に接着層5を形成するように構成することができる。
このような構成の光触媒層転写体1であれば、離型性フィルム乃至シート2を剥すまで紫外線の影響から光触媒層3を保護することができる。
なお、離型性フィルム乃至シート2及び光触媒層3の種類、用途によっては基材保護層4及び接着層5は必ずしも必要ではない。例えば、基材保護層4を介して基材に積層可能である時は接着層5を設ける必要は必ずしもない。
(Photocatalyst layer transfer body with UV shielding function)
The photocatalyst layer transfer body 1 with an ultraviolet shielding function according to one embodiment of the present invention is formed by forming a photocatalytic layer 3 on a release film or sheet 2 having an ultraviolet shielding function, as shown in FIG. The substrate protective layer 4 can be formed on the photocatalyst layer 3, and the adhesive layer 5 can be formed on the substrate protective layer 4.
With the photocatalyst layer transfer body 1 having such a configuration, the photocatalyst layer 3 can be protected from the influence of ultraviolet rays until the release film or sheet 2 is peeled off.
The base material protective layer 4 and the adhesive layer 5 are not necessarily required depending on the types and applications of the releasable film or sheet 2 and the photocatalyst layer 3. For example, it is not always necessary to provide the adhesive layer 5 when it can be laminated on the substrate via the substrate protective layer 4.

離型性フィルム乃至シート2の光遮蔽機能は、光触媒が反応し得る波長領域の光を80%以上、特に85〜95%を遮蔽し得るのが好ましい。
例えば波長365nmの紫外線を照射する試験をした時にその80%以上、好ましくは85〜95%、特に90〜95%を遮蔽し得るか否かを指標として離型性フィルム乃至シート2を形成するのがよい。波長365nmの紫外線を十分に遮蔽することができれば350〜400nmの紫外線も十分に遮蔽することができる。
アナターゼ型二酸化チタンが光触媒の主成分である場合には、350〜400nmの領域の紫外線を80%以上遮蔽できるか否かを指標として形成するのがよい。
但し、様々な種類の光触媒に対応できるように、200〜400nm波長領域の光を80%以上遮蔽できるか否かを指標として形成するのもよい。
The light shielding function of the releasable film or sheet 2 is preferably capable of shielding 80% or more, particularly 85 to 95%, of light in a wavelength region where the photocatalyst can react.
For example, when a test for irradiating ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm is performed, a release film or sheet 2 is formed using as an index whether or not 80% or more, preferably 85 to 95%, particularly 90 to 95%, can be shielded. Is good. If ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm can be sufficiently shielded, ultraviolet rays having a wavelength of 350 to 400 nm can be sufficiently shielded.
When anatase-type titanium dioxide is the main component of the photocatalyst, it may be formed using as an index whether or not it is possible to block 80% or more of ultraviolet rays in the 350 to 400 nm region.
However, it may be formed using as an index whether or not light in the wavelength region of 200 to 400 nm can be shielded by 80% or more so as to cope with various types of photocatalysts.

例えば図1に示すように、紫外線遮蔽機能を備えた離型性フィルム乃至シート2上に、光触媒コート液を塗布して乾燥させて光触媒層3を形成し、当該光触媒層3上に基材保護層4を形成し、更にその基材保護層4上に接着層5を形成することにより作製することができる。   For example, as shown in FIG. 1, a photocatalyst coating liquid is applied to a release film or sheet 2 having an ultraviolet shielding function and dried to form a photocatalyst layer 3, and a substrate is protected on the photocatalyst layer 3. It can be produced by forming the layer 4 and further forming the adhesive layer 5 on the base material protective layer 4.

離型性フィルム乃至シート2に紫外線遮蔽機能を持たせるためには、離型性フィルム乃至シート基材2Aに紫外線吸収剤を含有させて離型性フィルム乃至シート基材自体に紫外線遮蔽機能を付与するようにしてもよいし、又、図2(A)(B)に示すように、離型性フィルム乃至シート基材2Aの上下片面又は両面に紫外線遮蔽層2Bを形成するようにしてもよい。
又、離型性フィルム乃至シート2を、紙、アルミニウム箔、ルチル型二酸化チタン系顔料を含有した着色合成樹脂フィルム乃至シートのいずれかから形成するか、或いはこれら2以上を積層して形成することもできる。
In order to provide the release film or sheet 2 with an ultraviolet shielding function, the release film or sheet substrate 2A contains an ultraviolet absorber to provide the release film or sheet substrate with the ultraviolet shielding function. Moreover, as shown to FIG. 2 (A) (B), you may make it form the ultraviolet-ray shielding layer 2B in the upper and lower single side | surface or both surfaces of a mold release film thru | or the sheet | seat base material 2A. .
Further, the releasable film or sheet 2 is formed from any one of paper, aluminum foil, a colored synthetic resin film or sheet containing a rutile type titanium dioxide pigment, or two or more of these are laminated. You can also.

離型性フィルム乃至シート基材2Aとしては、ポリエチレンテレフタレート、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレンその他の合成樹脂からなる単層或いは複数層からなるフィルム乃至シートを好適に用いることができ、この基材2Aに紫外線遮蔽機能を持たせるためには、前記合成樹脂に紫外線吸収剤を混練して溶融押出するなどすればよい。なお、基材2Aには紙類やアルミニウム箔、ルチル型二酸化チタン系顔料を含有した着色合成樹脂フィルム乃至シートのいずれか或いはこれら2以上を用いてもよい。必要に応じて、適宜表面処理を施してもよい。例えば、光触媒層との剥離性を向上させるため、コロナ処理、シリコーン、フッ素その他の離型剤による表面処理を施してもよい。   As the releasable film or sheet substrate 2A, a film or sheet consisting of a single layer or a plurality of layers made of polyethylene terephthalate, vinyl chloride resin, acrylic resin, polycarbonate, polyimide, polyethylene, polypropylene or other synthetic resin is preferably used. In order to give this base material 2A an ultraviolet shielding function, the synthetic resin may be kneaded with an ultraviolet absorbent and melt extruded. The base material 2A may be paper, aluminum foil, a colored synthetic resin film or sheet containing a rutile-type titanium dioxide pigment, or two or more of these. If necessary, surface treatment may be appropriately performed. For example, in order to improve the releasability from the photocatalyst layer, a surface treatment with a corona treatment, silicone, fluorine or other release agent may be performed.

紫外線遮蔽層2Bを形成する方法としては、紫外線吸収剤を樹脂に加えてコート液を調整し、これを塗布するようにしてもよいし、或いは、紫外線吸収剤を含有するフィルムを形成し、これを積層するようにしてもよいし、或いは、紫外線吸収剤を直接定着させるようにしてもよい。なお、紫外線遮蔽層2Bとして紙類やアルミニウム箔、ルチル型二酸化チタン系顔料を含有した着色合成樹脂フィルム乃至シートを積層することもできる。ルチル型二酸化チタン系顔料を含有した着色合成樹脂フィルム乃至シートを利用すれば、適宜色に着色した離型性フィルム乃至シート2とすることができる。   As a method of forming the ultraviolet shielding layer 2B, an ultraviolet absorbent may be added to the resin to adjust the coating liquid and applied, or a film containing the ultraviolet absorbent may be formed, May be laminated, or the ultraviolet absorber may be directly fixed. Note that a colored synthetic resin film or sheet containing paper, aluminum foil, or a rutile-type titanium dioxide pigment may be laminated as the ultraviolet shielding layer 2B. If a colored synthetic resin film or sheet containing a rutile-type titanium dioxide pigment is used, a release film or sheet 2 that is appropriately colored can be obtained.

上記の紫外線吸収剤としては、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉛、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化パナジウム、2,2´−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4,4´−ジメトキシベンゾフェノン、2,2´,4,4´−テトラヒドロキシベンゾフェノン、5−クロロ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、フェニルサリシレ−ト、1−(2´−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾ−ル等を挙げることができるが、中でも二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉛、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化パナジウムなどの無機系紫外線吸収剤が好適に利用でき、しかもこれらであれば金属蒸着させることができる。
これら紫外線吸収剤は、樹脂に対して0.1〜10重量%配合するのが好ましい。
Examples of the ultraviolet absorber include titanium dioxide, zinc oxide, cerium oxide, lead oxide, iron oxide, antimony oxide, panadium oxide, 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 5-chloro-2-hydroxybenzophenone, phenyl salicylate, 1- (2'-hydroxy- 5-methylphenyl) benzotriazole and the like, among which inorganic ultraviolet absorbers such as titanium dioxide, zinc oxide, cerium oxide, lead oxide, iron oxide, antimony oxide, and panadium oxide can be suitably used, In addition, metal deposition can be performed with these.
These ultraviolet absorbers are preferably blended in an amount of 0.1 to 10% by weight based on the resin.

次に、光触媒層3について説明する。
光触媒層3は、光触媒粒子を含むコート液を塗布して乾燥することにより形成することができる。光触媒粒子を構成する光触媒としては、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化鉛、酸化第二鉄、三酸化二ビスマス、三酸化タングステン、チタン酸ストロンチウム等の金属酸化物が挙げることができる。これらにFe、Co、Ni、Cu、Zn、Ru、Rh、Pd、Ag、Pt、Au等の金属を付加してもよい。中でも、二酸化チタンが、無害で化学的に安定しておりかつ安価であるため好ましい。二酸化チタンとしては、アナターゼ型二酸化チタン、ルチル型二酸化チタン、ブルックライト型二酸化チタンのいずれも使用できるが、光触媒反応の高活性なアナターゼ型二酸化チタンを主成分とするものが好ましい。
Next, the photocatalyst layer 3 will be described.
The photocatalyst layer 3 can be formed by applying and drying a coating liquid containing photocatalyst particles. Examples of the photocatalyst constituting the photocatalyst particles include metal oxides such as titanium dioxide, zinc oxide, tin oxide, lead oxide, ferric oxide, dibismuth trioxide, tungsten trioxide, and strontium titanate. You may add metals, such as Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ru, Rh, Pd, Ag, Pt, Au, to these. Among these, titanium dioxide is preferable because it is harmless, chemically stable, and inexpensive. As titanium dioxide, any of anatase-type titanium dioxide, rutile-type titanium dioxide, and Brooklight-type titanium dioxide can be used, but those mainly composed of anatase-type titanium dioxide having high photocatalytic reaction activity are preferred.

光触媒粒子の粒径は、特に限定するものではないが、動的散乱測定法による平均粒径が3〜100nm、特に3〜30nmの範囲内であるのが好ましい。この範囲であれば、光触媒層の透明性を確保でき、かつ光触媒活性を高活性に保持することができる。
また、二酸化チタンの比表面積は、100℃乾燥後で50m2 /g以上である必要がある。これ以上であれば大きな触媒効果を期待することができる。
The particle diameter of the photocatalyst particles is not particularly limited, but the average particle diameter determined by the dynamic scattering measurement method is preferably 3 to 100 nm, particularly preferably 3 to 30 nm. If it is this range, the transparency of a photocatalyst layer can be ensured and photocatalytic activity can be kept highly active.
Further, the specific surface area of titanium dioxide needs to be 50 m 2 / g or more after drying at 100 ° C. If it is more than this, a large catalytic effect can be expected.

光触媒層3は上述のように、光触媒を含む光触媒コート液を塗布することにより形成することができる。
この際、光触媒コート液は、有機溶媒及び水を含む溶媒と、光触媒粒子とを混合して調製することができる。
As described above, the photocatalyst layer 3 can be formed by applying a photocatalyst coating solution containing a photocatalyst.
At this time, the photocatalyst coating liquid can be prepared by mixing a solvent containing an organic solvent and water and photocatalyst particles.

光触媒は、粉末状態で混合することも可能であるが、次に説明するようにスラリー状或いはゾル状に調製して混合するのが好ましい。
光触媒は、沈降性の少ないスラリーやゾルの状態に調製して添加・混合するのが好ましい。必要な物性が満たされていれば市販の二酸化チタンスラリーやゾルを利用してもよい。
また、粒子の凝集による粒子径の変化および沈降を防ぐために分散安定剤を共存させるのが好ましい。これらの分散安定剤は、粒子の調製時から共存させることもできるし、光触媒コート液を調製する際に添加してもよい。
分散安定剤としては、各種の薬剤が使用できるが、二酸化チタンは中性付近では凝集しやすいので、酸性又はアルカリ性の分散安定剤が好ましい。酸性の分散安定剤としては、硝酸、塩酸等の鉱酸、カルボン酸、オキシカルボン酸、ポリカルボン酸などの有機酸などが挙げられる。アルカリ性の分散安定剤としては、カルボン酸、ポリカルボン酸類のアルカリ金属塩やアンモニア、1〜4級のアミン類及びそれらにヒドロキシ基を付加したアルカノールアミン類から選ばれた一種類以上の化合物が好例として挙げられる。特に、有機酸を利用すると、後述する有機溶媒との混和性が良好である上、pHが極端に低くならずかつ製造時に使用する設備を腐食し難いので好ましい。有機酸としては、酢酸、シュウ酸、グリコール酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸などが好ましく利用でき、これらの中から選ばれた一種類以上の酸で分散安定化させることができる。
The photocatalyst can be mixed in a powder state, but it is preferable to prepare and mix in a slurry form or a sol form as described below.
The photocatalyst is preferably prepared in a slurry or sol state with less sedimentation and added and mixed. Commercially available titanium dioxide slurry or sol may be used as long as necessary physical properties are satisfied.
Further, it is preferable that a dispersion stabilizer is allowed to coexist in order to prevent a change in particle diameter due to particle aggregation and sedimentation. These dispersion stabilizers can coexist from the time of preparing the particles, or may be added when preparing the photocatalyst coating liquid.
As the dispersion stabilizer, various chemicals can be used. However, since titanium dioxide tends to aggregate near neutrality, an acidic or alkaline dispersion stabilizer is preferable. Examples of the acidic dispersion stabilizer include mineral acids such as nitric acid and hydrochloric acid, and organic acids such as carboxylic acid, oxycarboxylic acid and polycarboxylic acid. Examples of the alkaline dispersion stabilizer include one or more compounds selected from carboxylic acids, alkali metal salts of polycarboxylic acids and ammonia, primary to quaternary amines, and alkanolamines having a hydroxy group added thereto. As mentioned. In particular, the use of an organic acid is preferable because it has good miscibility with the organic solvent described later, and the pH does not become extremely low and the equipment used during production is hardly corroded. As the organic acid, acetic acid, oxalic acid, glycolic acid, lactic acid, tartaric acid, malic acid, citric acid and the like can be preferably used, and the dispersion can be stabilized with one or more kinds of acids selected from these.

有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等の一価低級アルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等の多価アルコール類、及びそれらのエステルであるセルソルブ、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、イソブタノール、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン等を好適に使用できる。一価低級アルコール、中でもイソプロピルアルコール及びエタノールを用いるのが好ましい。   Examples of the organic solvent include monohydric lower alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and isopropyl alcohol, polyhydric alcohols such as ethylene glycol and propylene glycol, and their esters, cellsolve, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, isobutanol, Methyl ethyl ketone, toluene, xylene and the like can be suitably used. Monovalent lower alcohols, particularly isopropyl alcohol and ethanol are preferably used.

有機溶媒及び水を含む溶媒には、適宜、シランカップリング剤等の無機バインダーを含ませるのが好ましい。無機バインダーは、光触媒粒子の密着を高め、光触媒による膜の強度を向上させる。   It is preferable that an organic binder and a solvent containing water contain an inorganic binder such as a silane coupling agent as appropriate. The inorganic binder improves the adhesion of the photocatalyst particles and improves the strength of the film by the photocatalyst.

無機バインダーとしては、シリカ化合物を用いるのが好ましい。
シリカ化合物としては、4、3、2官能のアルコキシシラン、およびこれらアルコキシシラン類の縮合物、加水分解物、シリコーンワニス等が使用できる。3、2官能のアルコキシシランは、一般的にはシランカップリング剤と呼ばれることも多いが、本発明ではシリコン1分子に1つ以上のアルコキシ基が結合している化合物をアルコキシシランと称する。具体的に例示すると、4官能アルコキシシランとしてはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、3官能のアルコキシシランとしてはメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、グリシドプロポキシトリメトキシシラン、グリシロプロピルメチルジエトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、2官能のアルコキシシランとしてはジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどが挙げられる。
縮合物としては、エチルシリケート40、エチルシリケート48、メチルシリケート51等の4官能アルコキシシランの縮合物が挙げられるが、これらに限定するものではない。
加水分解物としては、アルコキシシラン類を有機溶媒と水及び触媒を使用して加水分解させたものが使用できる。これらのシリカ化合物の内、特にテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、エチルシリケート40、エチルシリケート48、メチルシリケート51及びそれらの加水分解生成物であるアルコール性シリカゾルは膜を強固に固定でき、かつ比較的安価であることから特に好適である。かかるアルコール性シリカゾルの製造方法は、特に限定されることはなく、光触媒コート液内でアルコキシシランの加水分解反応を行ってもよいし、アルコキシシランを加水分解又は部分加水分解し、既にアルコール性シリカゾルとなったものを光触媒コート液に添加してもよい。
無機バインダーの混合に際しては、バインダー液と水系の二酸化チタン分散液とを混和、安定化させるために溶媒を用いるのが好ましい。
溶媒の種類としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどの一価低級アルコール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどの多価アルコール類及びそれらのエステルであるセルソルブなどが好溶媒として利用できる。
無機バインダーは、光触媒コート液に予め混合して貯蔵しておいてもよいが、バインダー成分が通常の保存方法で劣化する場合は、使用直前に二酸化チタン含有光触媒コート液と混合し使用することもできる。
A silica compound is preferably used as the inorganic binder.
As the silica compound, 4, 3, and bifunctional alkoxysilanes, and condensates, hydrolysates, silicone varnishes, and the like of these alkoxysilanes can be used. The trifunctional or bifunctional alkoxysilane is generally often referred to as a silane coupling agent, but in the present invention, a compound in which one or more alkoxy groups are bonded to one silicon molecule is referred to as an alkoxysilane. Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane as tetrafunctional alkoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane as trifunctional alkoxysilane. , Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, glycidpropoxytrimethoxysilane, glyciropropylmethyldiethoxysilane, aminopropyltriethoxysilane, aminoethylaminopropyltrimethoxysilane, mercaptopropyltri Methoxysilane and bifunctional alkoxysilane include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, Such as diethoxymethylsilane silane.
Examples of the condensate include condensates of tetrafunctional alkoxysilanes such as ethyl silicate 40, ethyl silicate 48, and methyl silicate 51, but are not limited thereto.
As a hydrolyzate, what hydrolyzed the alkoxysilane using the organic solvent, water, and the catalyst can be used. Among these silica compounds, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, ethyl silicate 40, ethyl silicate 48, methyl silicate 51, and alcoholic silica sol as a hydrolysis product thereof can fix the film firmly and relatively It is particularly suitable because it is inexpensive. The method for producing such an alcoholic silica sol is not particularly limited, and the alkoxysilane may be hydrolyzed in the photocatalyst coating liquid, or the alkoxysilane is hydrolyzed or partially hydrolyzed, and the alcoholic silica sol has already been produced. The resulting product may be added to the photocatalyst coating solution.
In mixing the inorganic binder, it is preferable to use a solvent in order to mix and stabilize the binder liquid and the aqueous titanium dioxide dispersion.
As the type of solvent, monohydric lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, polyhydric alcohols such as ethylene glycol and propylene glycol, and cellosolve which is an ester thereof can be used as good solvents.
The inorganic binder may be premixed and stored in the photocatalyst coating solution, but if the binder component is deteriorated by a normal storage method, it may be mixed with the titanium dioxide-containing photocatalyst coating solution immediately before use. it can.

光触媒粒子を含むコート液の組成に関しては、光触媒粒子を固形分濃度で0.2〜20重量%、特に5〜10重量%を含有するのが好ましい。5%以上であれば塗布後の光触媒の効果が大きく、汚れ防止といった効果を充分に発揮する。10%を超えなければ外観が白くなる(透明でなくなる)ことがなく、温度を高くしても光触媒が脱落しない。また、粘度が高くなり過ぎることもない。
無機バインダー(シリカ化合物)は、塗料中に0.04〜40重量%、特に1〜2重量%を含有するのが好ましく、光触媒に対してはその10重量%以上25重量%未満となるように含有するのが好ましい。バインダーは、多過ぎると光触媒コート液の安定性を阻害するだけでなく、二酸化チタンの表面を覆ってしまい触媒効果を大幅に低下させる。
具体的には、平均粒径3〜100nmの二酸化チタン粒子を0.2〜20重量%含有し、かつシリカ化合物をSiO2として1〜3重量%含有する光触媒コート液が好ましい。
なお、溶媒の量は光触媒コート液全体に対して50〜90重量%で調整可能である。
Regarding the composition of the coating liquid containing photocatalyst particles, it is preferable that the photocatalyst particles contain 0.2 to 20% by weight, particularly 5 to 10% by weight, in terms of solid concentration. If it is 5% or more, the effect of the photocatalyst after coating is great, and the effect of preventing contamination is sufficiently exhibited. If it does not exceed 10%, the appearance does not become white (not transparent), and the photocatalyst does not fall off even when the temperature is raised. Also, the viscosity does not become too high.
The inorganic binder (silica compound) is preferably contained in the paint in an amount of 0.04 to 40% by weight, particularly 1 to 2% by weight, and is 10% by weight or more and less than 25% by weight with respect to the photocatalyst. It is preferable to contain. When the binder is too much, not only the stability of the photocatalyst coating liquid is inhibited, but also the surface of titanium dioxide is covered and the catalytic effect is greatly reduced.
Specifically, a photocatalyst coating liquid containing 0.2 to 20% by weight of titanium dioxide particles having an average particle diameter of 3 to 100 nm and containing 1 to 3% by weight of a silica compound as SiO 2 is preferable.
In addition, the quantity of a solvent can be adjusted with 50 to 90 weight% with respect to the whole photocatalyst coating liquid.

光触媒コート液の粘度を上げるために、更に水溶性高分子などの増粘剤等を添加してもよい。増粘剤としては多糖類やポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシドなどが例示できる。   In order to increase the viscosity of the photocatalyst coating liquid, a thickener such as a water-soluble polymer may be further added. Examples of the thickener include polysaccharides, polyvinyl alcohol, and polyethylene oxide.

光触媒粒子を含むコート液を塗布する手段は、特に限定するものではない。例えば、グラビアコート、スプレーコート、デイップコート等、各種の塗布方法を選択することができるが、中でもグラビアロールコーターを用いて塗布するのが好ましい。離型性フィルム乃至シートへの光触媒層の形成は、上記コート液を塗布し、加熱乾燥して行うのがよい。
加熱乾燥は、加熱温度80〜180℃で行うのが好ましい。さらには、乾燥熱風風速10〜30m/秒、乾燥時間20〜180秒の条件で行うのがよい。
The means for applying the coating liquid containing photocatalyst particles is not particularly limited. For example, various coating methods such as gravure coating, spray coating, dip coating, and the like can be selected, but it is preferable to apply using a gravure roll coater. The formation of the photocatalyst layer on the releasable film or sheet is preferably carried out by applying the coating liquid and heating and drying.
Heat drying is preferably performed at a heating temperature of 80 to 180 ° C. Furthermore, it is good to carry out on the conditions of drying hot air wind speed 10-30 m / sec and drying time 20-180 seconds.

光触媒コート液のコート膜厚、即ち光触媒層の厚さは、厚い方が触媒効果をより一層高めることができるが、3μmを超えると膜厚の増加と触媒効果の増加が比例しなくなるのでこれ以上の膜厚は一般的に不経済となる。また膜厚が厚いとひび割れの原因にもなる。よって、光触媒層の厚さは、乾燥前のWET状態で1〜10g/m2 、乾燥後の被膜の厚さで0.05〜3μm、特に0.08〜0.5μmが好ましい。0.05〜3μmであれば、光触媒反応の活性が高く、密着強度・表面硬度も好ましく被膜の剥がれを防止できる。
光触媒粒子を含むコート液の塗布は、一回のみならず、複数回行ってもよい。光触媒層は、異なる平均粒径の光触媒粒子により構成された複数層で構成してもよい。
The coating film thickness of the photocatalyst coating solution, that is, the thickness of the photocatalyst layer, can further increase the catalytic effect, but if it exceeds 3 μm, the increase in the film thickness is not proportional to the increase in the catalytic effect. The film thickness is generally uneconomical. Moreover, if the film thickness is thick, it may cause cracks. Therefore, the thickness of the photocatalyst layer is preferably 1 to 10 g / m @ 2 in the WET state before drying, and 0.05 to 3 .mu.m, particularly 0.08 to 0.5 .mu.m, in terms of the thickness of the coating after drying. If it is 0.05-3 micrometers, the activity of a photocatalytic reaction is high, adhesive strength and surface hardness are preferable, and it can prevent peeling of a film.
The coating liquid containing the photocatalyst particles may be applied not only once but a plurality of times. You may comprise a photocatalyst layer by the multiple layer comprised by the photocatalyst particle of a different average particle diameter.

また、光触媒層3の乾燥が完了した後、所要時間エージングを行うのが好ましい。これにより、コーティングされた被膜の剥離強度を向上させることができる。エージングは30〜60℃で30時間以上エージングを行うのが好ましい。   Moreover, it is preferable to perform aging for the required time after the drying of the photocatalyst layer 3 is completed. Thereby, the peeling strength of the coated film can be improved. Aging is preferably performed at 30 to 60 ° C. for 30 hours or more.

次に、基材保護層4について説明する。
基材保護層4は、無機酸化物粒子、シリコーン樹脂、シリコーン樹脂の前駆体、或いは、シリカ前駆体などから形成することができる。中でも、アクリルシリコン樹脂、アクリル変性シリコン樹脂、アルコキシランのいずれか或いはこれらの2種類以上の組み合わせからなる成分を主成分として形成するのが好ましい。
基材保護層4を形成する手段としては、光触媒粒子を含むコート液を離型性フィルム乃至シートに塗布する手段と同様、特に限定されるものではない。例えば、グラビアコート、スプレーコート、デイップコート等、各種の塗布方法を選択し得る。グラビアロールコーターを用いるのが好ましい。基材保護層を光触媒層上に積層した後加熱乾燥させればよい。
このようにして基材保護層4は形成すれば、光触媒性層2との濡れ性を改善できると共に、光触媒作用によって基材(被転写体)の表面が侵されるのを保護することができる。
Next, the base material protective layer 4 will be described.
The base material protective layer 4 can be formed from inorganic oxide particles, a silicone resin, a silicone resin precursor, or a silica precursor. Among these, it is preferable that the main component is an acrylic silicon resin, an acrylic-modified silicone resin, an alkoxy run, or a component composed of a combination of two or more thereof.
The means for forming the base material protective layer 4 is not particularly limited, as is the case with the means for applying a coating liquid containing photocatalyst particles to a release film or sheet. For example, various coating methods such as gravure coating, spray coating, and dip coating can be selected. It is preferable to use a gravure roll coater. What is necessary is just to heat-dry after laminating | stacking a base material protective layer on a photocatalyst layer.
If the base material protective layer 4 is formed in this way, the wettability with the photocatalytic layer 2 can be improved, and the surface of the base material (transfer object) can be protected from being affected by the photocatalytic action.

次に、接着層5について説明する。
接着層5は、これが積層される基材(被転写体)の材質を考慮して、適宜選択するのが好ましい。例えば、基材が合成樹脂材で構成される場合、接着層は、アクリル樹脂、アクリル変性シリコン樹脂化合物又はシリコン変性アクリル樹脂化合物を主要成分として含むものが好ましい。多木化学社製 商品名:タイノックプライマーA(固形分としてシリコン変性樹脂20%、コロイダルシリカ30%に溶媒としてエタノール20%、2-プロパノール20%、純水10%を配合したもの)等を好ましく用いることができる。
接着層の厚さは特に限定されるものではないが、0.2μm以上とするのが好ましい。なお、接着層(接着剤)内に、光触媒粒子を含有させてもよい。
Next, the adhesive layer 5 will be described.
The adhesive layer 5 is preferably selected as appropriate in consideration of the material of the base material (transfer object) on which it is laminated. For example, when the base material is composed of a synthetic resin material, the adhesive layer preferably contains an acrylic resin, an acrylic-modified silicone resin compound or a silicon-modified acrylic resin compound as a main component. Taki Chemical Co., Ltd. Product name: Tynock Primer A (containing 20% silicon-modified resin as solids, 30% colloidal silica, 20% ethanol, 20% 2-propanol, 10% pure water) It can be preferably used.
The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 0.2 μm or more. Photocatalyst particles may be contained in the adhesive layer (adhesive).

接着層5を施す手段は、光触媒粒子を含むコート液を離型性フィルム乃至シートに塗布する手段と同様、特に限定されるものではない。例えば、グラビアコート、スプレーコート、デイップコート等、各種の塗布方法を選択することができる。グラビアロールコーターを用いるのが好ましい。接着層5を基材保護層4上に施し、加熱乾燥することにより光触媒転写体1が得られる。
なお、転写体をホットメルトする場合も想定できるから、接着層は必ずしも必要でない。
The means for applying the adhesive layer 5 is not particularly limited, as is the case with the means for applying a coating liquid containing photocatalyst particles to a release film or sheet. For example, various coating methods such as gravure coating, spray coating, and dip coating can be selected. It is preferable to use a gravure roll coater. The photocatalyst transfer body 1 is obtained by applying the adhesive layer 5 on the base material protective layer 4 and drying by heating.
In addition, since the case where a transfer body is hot-melted can also be assumed, an adhesive layer is not necessarily required.

(光触媒層付き基材)
上記のようにして得られた光触媒転写体1は、図3に示すように、接着層5を介して基材11に積層することにより光触媒層付き基材10を形成することができる。
かかる構成を備えた光触媒層付き基材10は、使用する時に、離型性フィルム乃至シート2を剥がして光触媒層3を露出させることにより光触媒作用を発揮させることができるが、離型性フィルム乃至シート2を剥すまでは光触媒層3表面を光の影響、例えば光を受けて酸化分解することなどから保護することができる。
(Base material with photocatalyst layer)
As shown in FIG. 3, the photocatalyst transfer body 1 obtained as described above can be laminated on the base material 11 via the adhesive layer 5 to form the base material 10 with the photocatalyst layer.
The substrate 10 with a photocatalyst layer having such a structure can exhibit a photocatalytic action by peeling the release film or sheet 2 and exposing the photocatalyst layer 3 when used. Until the sheet 2 is peeled off, the surface of the photocatalyst layer 3 can be protected from the influence of light, for example, oxidative decomposition by receiving light.

基材11としては、上記の光触媒転写体を積層可能なものであれば任意に採用することができるが、合成樹脂のフィルムないしシートが特に好適である。
また、基材11の厚さに制限はない。合成樹脂としては、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレンその他の合成樹脂の単層或いは複数層からなるものが好適に用いられる。紙やアルミニウム等の金属層を含む複合材であってもよい。
As the substrate 11, any film can be used as long as the photocatalyst transfer body can be laminated, but a film or sheet of a synthetic resin is particularly suitable.
Moreover, there is no restriction | limiting in the thickness of the base material 11. FIG. As the synthetic resin, those composed of a single layer or a plurality of layers of polycarbonate, polyethylene terephthalate, vinyl chloride resin, acrylic resin, polyimide, polyethylene, polypropylene and other synthetic resins are preferably used. It may be a composite material including a metal layer such as paper or aluminum.

ここで、光触媒層付き基材10の製造方法の具体的一例を説明する。
光触媒転写体1を供給ロールから繰り出し、プレスロールを介してキャストロール(冷却ロール)へ導く一方、基材11となる合成樹脂を、押出機を経てダイから溶融押し出す。そして、押出ラミネーション法によって、光触媒転写体1の接着層5と基材11とを積層させれば光触媒層付き基材10を得ることができる。
Here, the specific example of the manufacturing method of the base material 10 with a photocatalyst layer is demonstrated.
The photocatalyst transfer body 1 is fed out from a supply roll and guided to a cast roll (cooling roll) through a press roll, while a synthetic resin to be a base material 11 is melt-extruded from a die through an extruder. And if the contact bonding layer 5 and the base material 11 of the photocatalyst transfer body 1 are laminated | stacked by the extrusion lamination method, the base material 10 with a photocatalyst layer can be obtained.

なお、押出ラミネーション法による場合、基材11として結晶性高分子材料(結晶性樹脂)を用いる際には、基材11となる合成樹脂の結晶化温度以上となる温度で行うのが好ましい。非晶性樹脂の場合は融点でラミネートするのが好ましい。例えば、基材としてポリエチレンテレフタレートを用いる場合、約180℃でラミネーションする必要がある。   In the case of using the extrusion lamination method, when a crystalline polymer material (crystalline resin) is used as the base material 11, it is preferably performed at a temperature equal to or higher than the crystallization temperature of the synthetic resin used as the base material 11. In the case of an amorphous resin, it is preferable to laminate at the melting point. For example, when polyethylene terephthalate is used as the substrate, it is necessary to perform lamination at about 180 ° C.

再加熱(熱)ラミネーション法によっても製造することができる。例えば光触媒転写体1を供給ロールからキャストロール(冷却ロール)へ導く一方、基材11となる合成樹脂を、押出機を経てダイから溶融押し出し、そして、キャストロール(冷却ロール)を経て一旦フィルムないしシート状の基材11を形成してロールを介した後、ヒータにより再加熱して基材の温度を上昇させ、熱ラミネーション法によって光触媒転写体の接着層5と基材11とを積層すれば光触媒層付き基材10を得ることができる。
再加熱ラミネーション法による場合、基材11として結晶性高分子材料を用いる際には、基材11となる合成樹脂の結晶化温度以上となる温度で行うのが好ましい。結晶性樹脂の場合、結晶化開始〜融解までブロードであり、この範囲すべてを融点としているので、このような結晶化温度の範囲内でラミネーションすることができる。非晶性樹脂の場合、融点がシャープであるので、その融点でのみラミネーションすることができる。
It can also be produced by a reheating (thermal) lamination method. For example, while the photocatalyst transfer body 1 is guided from the supply roll to the cast roll (cooling roll), the synthetic resin to be the base material 11 is melt-extruded from the die through the extruder, and then temporarily passed through the cast roll (cooling roll). After the sheet-like base material 11 is formed and passed through a roll, it is reheated by a heater to raise the temperature of the base material, and the photocatalyst transfer adhesive layer 5 and the base material 11 are laminated by a thermal lamination method. The base material 10 with a photocatalyst layer can be obtained.
In the case of using the reheating lamination method, when a crystalline polymer material is used as the substrate 11, it is preferably performed at a temperature that is equal to or higher than the crystallization temperature of the synthetic resin that will be the substrate 11. In the case of a crystalline resin, it is broad from the start of crystallization to melting, and all of this range is the melting point, so that lamination can be performed within such a range of crystallization temperature. In the case of an amorphous resin, the melting point is sharp, so that lamination can be performed only at the melting point.

基材11、すなわち光触媒層転写体1を積層する対象物は、目的や用途に応じて、シート、フィルムの他、棒状体、筒状体、箱状体、ボトル体、各種積層体その他の形状の成形品等を対象とすることができ、紙やアルミニウム等の金属層を含む複合材であってもよい
。用途的にも、建築用資材(特に室内装飾資材など)、オフィス用具資材、農業用資材、包装用資材、漁業用資材、その他の各種産業用資材などに利用可能である。例えばテラス、バルコニー、カーポートなどの屋根や側壁材など、室外で使用される外装材等として特に有効である。
The substrate 11, that is, the object on which the photocatalyst layer transfer body 1 is laminated is a sheet, a film, a rod-like body, a cylindrical body, a box-like body, a bottle body, various laminated bodies and other shapes depending on the purpose and application. A composite material including a metal layer such as paper or aluminum may be used. In terms of usage, it can be used for building materials (particularly interior decoration materials), office equipment materials, agricultural materials, packaging materials, fishery materials, and other various industrial materials. For example, it is particularly effective as an exterior material used outdoors such as a roof or a side wall material such as a terrace, a balcony, and a carport.

(金属蒸着層付き光触媒層転写体)
上記紫外線遮蔽機能付き光触媒層転写体における紫外線遮蔽層を形成する代わりに、金属蒸着層を形成することにより、金属蒸着層付き光触媒層転写体を形成することができる。
金属蒸着層を形成すれば、衝撃や磨耗から光触媒層を保護することができる。
(Photocatalyst layer transfer body with metal deposition layer)
Instead of forming an ultraviolet shielding layer in the photocatalyst layer transfer body with an ultraviolet shielding function, a photocatalyst layer transfer body with a metal vapor deposition layer can be formed by forming a metal vapor deposition layer.
If a metal vapor deposition layer is formed, a photocatalyst layer can be protected from an impact and abrasion.

金属蒸着層の主成分は、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、タングステン(W)、錫(Sn)などのいずれか或いはこれらの二種類以上の組合わせからなる金属を蒸着させて形成するのが好ましい。
金属蒸着層の厚さは5nm以上、特に10〜100nmとするのが好ましい。
The main component of the metal vapor-deposited layer is formed by vapor-depositing a metal composed of aluminum (Al), chromium (Cr), tungsten (W), tin (Sn), or a combination of two or more of these. Is preferred.
The thickness of the metal vapor deposition layer is preferably 5 nm or more, particularly 10 to 100 nm.

このような光触媒転写体も、上記の紫外線遮蔽機能付き光触媒層転写体と同様に基材に転写でき、光触媒層付き基材を形成することができる。そして、その光触媒層付き基材は、目的や用途に応じて、シート状、フィルム状、板状の他、棒状体、筒状体、箱状体、ボトル体、各種積層体その他各種形状に成形することができる。   Such a photocatalyst transfer body can also be transferred to a substrate in the same manner as the photocatalyst layer transfer body with an ultraviolet shielding function, and a substrate with a photocatalyst layer can be formed. And the base material with a photocatalyst layer is formed into a rod-like body, a cylindrical body, a box-like body, a bottle body, various laminates and other various shapes in addition to a sheet shape, a film shape, and a plate shape according to the purpose and application. can do.

また、用途的には、建築用資材(特に室内装飾資材など)、オフィス用具資材、農業用資材、包装用資材、漁業用資材、その他の各種産業用資材などに利用可能である。例えばテラス、バルコニー、カーポートなどの屋根や側壁材など、室外で使用される外装材等として特に有効である。   In terms of usage, it can be used for building materials (particularly interior decoration materials), office equipment materials, agricultural materials, packaging materials, fishery materials, and other various industrial materials. For example, it is particularly effective as an exterior material used outdoors such as a roof, a side wall material such as a terrace, a balcony, and a carport.

なお、本発明の光触媒層転写体、すなわち紫外線遮蔽機能付き光触媒層転写体及び金属蒸着層付き光触媒層転写体はいずれも、他の機能を有する層、例えばシリカ等の無機粒子を蒸着されてなるハードコート層、硫黄系化合物や銅系化合物等の赤外線吸収剤を含有する赤外線遮蔽層などの層を更に備えたものであってもよい。   The photocatalyst layer transfer body of the present invention, that is, the photocatalyst layer transfer body with an ultraviolet shielding function and the photocatalyst layer transfer body with a metal vapor deposition layer are both deposited with layers having other functions, for example, inorganic particles such as silica. It may further include a hard coat layer, a layer such as an infrared shielding layer containing an infrared absorber such as a sulfur compound and a copper compound.

以下に本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。なお、特に断らない限り%は全て重量%を示す。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, all percentages are by weight.

(実施例1)
ポリエチレンテレフタレートに紫外線吸収剤(酸化亜鉛)を5重量部含むように加えて混合し、溶融押出して剥離性フィルム及至シートとしてのPETフィルム(厚さ12μm)を形成し、このPETフィルムの片面に、平均粒子径17〜25nmのアナターゼ型2酸化チタンを含むコート液(多木化学社製CZP−MP4)をグラビアコートによってWET1g/m2塗布し、110℃で2分間乾燥させた。さらにその上に、接着層(多木化学社製タイノックプライマーA)を同じくグラビアコートによってWET1g/m2塗布し、110℃で2分間乾燥させて光触媒層転写体を作製した。
自記分光光度計を用いて、上記剥離性フィルム及至シートの波長365nm及び波長200〜400nmでの紫外線透過率を測定したところ、波長365nmの紫外線透過率は8%、波長200〜400nmの紫外線透過率は20%であった。
Example 1
Polyethylene terephthalate is added to and mixed with 5 parts by weight of an ultraviolet absorber (zinc oxide), melt-extruded to form a peelable film and a PET film (thickness 12 μm) as a sheet, on one side of this PET film, A coating solution containing anatase-type titanium dioxide having an average particle size of 17 to 25 nm (CZP-MP4 manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) was applied with 1 g / m 2 of WET by gravure coating and dried at 110 ° C. for 2 minutes. Further, an adhesive layer (Tynok Primer A, manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) was coated with WET 1 g / m 2 by gravure coating and dried at 110 ° C. for 2 minutes to prepare a photocatalyst layer transfer body.
When the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm and a wavelength of 200 to 400 nm of the peelable film and the sheet was measured using a self-recording spectrophotometer, the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm was 8%, and the ultraviolet transmittance at a wavelength of 200 to 400 nm. Was 20%.

(実施例2)
剥離性フィルム及至シート基材としてのPETフィルム(東レ製:ルミラーAL60,三菱化学ポリエステルフィルムAM25)の片面に厚さ10μmのアルミニウム蒸着層を設けて剥離性フィルム及至シートを形成し、該アルミニウム蒸着層上に、平均粒子径17〜25nmのアナターゼ型2酸化チタンを含むコート液(多木化学社製CZP−MP4)をグラビアコートによってWET1g/m2塗布し、110℃で2分間乾燥させた。さらにその上に、接着層(多木化学社製タイノックプライマーA)を同じくグラビアコートによってWET1g/m2塗布し、110℃で2分間乾燥させて光触媒層転写体を作製した。
自記分光光度計を用いて、上記剥離性フィルム及至シートの波長365nm及び波長200〜400nmでの紫外線透過率を測定したところ、波長365nmの紫外線透過率は0%、波長200〜400nmの紫外線透過率は0%であった。
(Example 2)
A peelable film and a sheet are formed by providing a 10 μm thick aluminum vapor deposition layer on one side of a PET film (Toray: Lumirror AL60, Mitsubishi Chemical Polyester Film AM25) as a peelable film and a sheet base material. On top of this, a coating solution (CZP-MP4, manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) containing anatase-type titanium dioxide having an average particle size of 17 to 25 nm was applied by gravure coating and dried at 110 ° C. for 2 minutes. Further thereon, an adhesive layer (Tynok Primer A manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) was coated with WET 1 g / m 2 by gravure coating, and dried at 110 ° C. for 2 minutes to prepare a photocatalyst layer transfer body.
When the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm and a wavelength of 200 to 400 nm of the peelable film and the sheet was measured using a self-recording spectrophotometer, the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm was 0%, and the ultraviolet transmittance at a wavelength of 200 to 400 nm. Was 0%.

(実施例3)
剥離性フィルム及至シート基材としてのPETフィルム(東レ製:ルミラーAL60,三菱化学ポリエステルフィルムAM25)の片面に厚さ0.1μmのアルミニウム蒸着層を設けて剥離性フィルム及至シートを形成し、該アルミニウム蒸着層上に、平均粒子径17〜25nmのアナターゼ型2酸化チタンを含むコート液(多木化学社製CZP−MP4)をグラビアコートによってWET1g/m2塗布し、110℃で2分間乾燥させた。さらにその上に、接着層(多木化学社製タイノックプライマーA)を同じくグラビアコートによってWET1g/m2塗布し、110℃で2分間乾燥させて光触媒層転写体を作製した。
自記分光光度計を用いて、上記剥離性フィルム及至シートの波長365nm及び波長200〜400nmでの紫外線透過率を測定したところ、波長365nmの紫外線透過率は0%、波長200〜400nmの紫外線透過率は0%であった。
(Example 3)
A peelable film and a sheet are formed by providing a 0.1 μm thick aluminum vapor deposition layer on one side of a PET film (Toray: Lumirror AL60, Mitsubishi Chemical Polyester Film AM25) as a peelable film and a sheet substrate. On the vapor-deposited layer, WET 1 g / m 2 was applied by gravure coating with a coating liquid (CZP-MP4 manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) containing anatase-type titanium dioxide having an average particle size of 17 to 25 nm, and dried at 110 ° C. for 2 minutes. Further thereon, an adhesive layer (Tynok Primer A manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) was coated with WET 1 g / m 2 by gravure coating, and dried at 110 ° C. for 2 minutes to prepare a photocatalyst layer transfer body.
When the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm and a wavelength of 200 to 400 nm of the peelable film and the sheet was measured using a self-recording spectrophotometer, the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm was 0%, and the ultraviolet transmittance at a wavelength of 200 to 400 nm. Was 0%.

(実施例4)
離型性フィルム乃至シートとしての紙(三菱製紙社製「ノンウーブン」)の片面に、粒径17〜25nmのアナターゼ型二酸化チタンを含むコート液(多木化学社製CZP−221:アナタ−ゼ型二酸化チタンゾル80g、テトラエトキシシラン70g、エタノール150g、2−プロパノール150g、純水550g)をグラビアコートによってWET5g/m2塗布し、110℃で2分間乾燥させた。さらにその上に、接着層(多木化学社製タイノックプライマーA)を同じくグラビアコートによってWET5g/m2塗布し、110℃で2分間乾燥させて光触媒層転写体を作製した。
光触媒層転写体をポリカーボネート板の結晶化温度(<約150℃)以上の約180℃、50kg/cm2の圧力で押出しラミネーション法によって接着層を介して光触媒転写体をポリカーボネート板に加熱押圧し、光触媒付き基材を作製した。光触媒付き基材の光触媒層の厚さは約0.2μm、接着層の厚さは0.2μmであった。
自記分光光度計を用いて、上記剥離性フィルム及至シートの波長365nm及び波長200〜400nmでの紫外線透過率を測定したところ、波長365nmの紫外線透過率は5%、波長200〜400nmの紫外線透過率は10%であった。
Example 4
A coating solution (CZP-221: Anatase type, manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) containing anatase-type titanium dioxide having a particle size of 17 to 25 nm on one side of a releasable film or paper (“Non-Woven” manufactured by Mitsubishi Paper Industries). Titanium dioxide sol 80 g, tetraethoxysilane 70 g, ethanol 150 g, 2-propanol 150 g, and pure water 550 g) were applied by gravure coating with WET 5 g / m 2 and dried at 110 ° C. for 2 minutes. Further thereon, an adhesive layer (Tynok Primer A, manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) was coated with WET 5 g / m 2 by gravure coating and dried at 110 ° C. for 2 minutes to prepare a photocatalyst layer transfer body.
The photocatalyst layer transfer material is heated and pressed onto the polycarbonate plate through an adhesive layer by an extrusion lamination method at a pressure of 50 kg / cm 2 at about 180 ° C. above the crystallization temperature (<150 ° C.) of the polycarbonate plate. An attached substrate was produced. The thickness of the photocatalyst layer of the substrate with a photocatalyst was about 0.2 μm, and the thickness of the adhesive layer was 0.2 μm.
When the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm and a wavelength of 200 to 400 nm of the peelable film and the sheet was measured using a self-recording spectrophotometer, the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm was 5%, and the ultraviolet transmittance at a wavelength of 200 to 400 nm. Was 10%.

(実施例5)
離型性フィルム乃至シートとしてアルミニウム箔(日本製箔株式会社製「PACAL21」)を用いて上記実施例3と同様に光触媒層付き基材を作製した。
自記分光光度計を用いて、上記剥離性フィルム及至シートの波長365nm及び波長200〜400nmでの紫外線透過率を測定したところ、波長365nmの紫外線透過率は0%、波長200〜400nmの紫外線透過率は0%であった。
(Example 5)
The base material with a photocatalyst layer was produced similarly to the said Example 3 using aluminum foil (Nippon Foil Co., Ltd. "PACAL21") as a mold release film thru | or sheet | seat.
When the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm and a wavelength of 200 to 400 nm of the peelable film and the sheet was measured using a self-recording spectrophotometer, the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm was 0%, and the ultraviolet transmittance at a wavelength of 200 to 400 nm. Was 0%.

(比較例1)
離型性フィルム乃至シートとしてのPETフィルム(日東電工V420)の片面に、粒径17〜25nmのアナターゼ型二酸化チタンを含むコート液(多木化学社製CZP−221)をグラビアコートによってWET5g/m2塗布し、110℃で2分間乾燥させた。さらにその上に、接着層(多木化学社製タイノックプライマーA)を同じくグラビアコートによってWET5g/m2塗布し、110℃で2分間乾燥させて光触媒層転写体を作製した。
自記分光光度計を用いて、上記剥離性フィルム及至シートの波長365nm及び波長200〜400nmでの紫外線透過率を測定したところ、波長365nmの紫外線透過率は85%、波長200〜400nmの紫外線透過率は85%であった。
(Comparative Example 1)
One side of a releasable film or a PET film (Nitto Denko V420) as a sheet is coated with a coating solution containing anatase-type titanium dioxide having a particle size of 17 to 25 nm (CZP-221 manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) by gravure coating. It was applied and dried at 110 ° C. for 2 minutes. Further thereon, an adhesive layer (Tynok Primer A, manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) was coated with WET 5 g / m 2 by gravure coating and dried at 110 ° C. for 2 minutes to prepare a photocatalyst layer transfer body.
When the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm and a wavelength of 200 to 400 nm of the peelable film and the sheet was measured using a self-recording spectrophotometer, the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm was 85%, and the ultraviolet transmittance at a wavelength of 200 to 400 nm. Was 85%.

(比較例2)
ポリエチレンテレフタレートに紫外線吸収剤(酸化亜鉛)を0.05重量部含むように加えて混合し、溶融押出して剥離性フィルム及至シートとしてのPETフィルム(厚さ12μm)を形成し、このPETフィルムの片面に、平均粒子径17〜25nmのアナターゼ型2酸化チタンを含むコート液(多木化学社製CZP−MP4)をグラビアコートによってWET1g/m2塗布し、110℃で2分間乾燥させた。さらにその上に、接着層(多木化学社製タイノックプライマーA)を同じくグラビアコートによってWET1g/m2塗布し、110℃で2分間乾燥させて光触媒層転写体を作製した。
自記分光光度計を用いて、上記剥離性フィルム及至シートの波長365nm及び波長200〜400nmでの紫外線透過率を測定したところ、波長365nmの紫外線透過率は80%、波長200〜400nmの紫外線透過率は85%であった。
(Comparative Example 2)
Add and mix 0.05 parts by weight of UV absorber (zinc oxide) with polyethylene terephthalate and melt extrude to form a peelable film and a PET film (thickness 12 μm) as a sheet. One side of this PET film Then, a coating solution containing anatase-type titanium dioxide having an average particle diameter of 17 to 25 nm (CZP-MP4, manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) was applied with WET 1 g / m 2 by gravure coating and dried at 110 ° C. for 2 minutes. Further thereon, an adhesive layer (Tynok Primer A manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) was coated with WET 1 g / m 2 by gravure coating, and dried at 110 ° C. for 2 minutes to prepare a photocatalyst layer transfer body.
When the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm and a wavelength of 200 to 400 nm of the peelable film and the sheet was measured using a self-recording spectrophotometer, the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm was 80%, and the ultraviolet transmittance at a wavelength of 200 to 400 nm. Was 85%.

(比較例3)
離型性フィルム乃至シートとして透明ポリエチレンテレフタレートフィルム(三菱化学ポリエステルフィルム製H100C12A、厚さ12μm)を用いて実施例4と同様に光触媒層付き基材を作製した。
自記分光光度計を用いて、上記剥離性フィルム及至シートの波長365nm及び波長200〜400nmでの紫外線透過率を測定したところ、波長365nmの紫外線透過率は90%、波長200〜400nmの紫外線透過率は90%であった。
(Comparative Example 3)
A substrate with a photocatalyst layer was prepared in the same manner as in Example 4 using a transparent polyethylene terephthalate film (H100C12A manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film, thickness 12 μm) as a release film or sheet.
When the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm and a wavelength of 200 to 400 nm of the peelable film and the sheet was measured using a self-recording spectrophotometer, the ultraviolet transmittance at a wavelength of 365 nm was 90%, and the ultraviolet transmittance at a wavelength of 200 to 400 nm. Was 90%.

(膜強度試験)
JIS K 5400に準じて、上記実施例、比較例で作製した光触媒層転写体に1kg/cm2の加重をかけ、市販のプラスチック消しゴムによる反復スクラッチにより評価した。この際、200回のスクラッチで膜が消失していないものをAA、100〜200回のスクラッチで膜が消失したものをA、50〜100回で膜が消失したものをB、50回未満で膜が消失したものをCと評価した。その結果を表1に示す。
(Membrane strength test)
In accordance with JIS K 5400, the photocatalyst layer transfer bodies prepared in the above Examples and Comparative Examples were subjected to a weight of 1 kg / cm 2 and evaluated by repeated scratching with a commercially available plastic eraser. At this time, AA indicates that the film has not disappeared after 200 scratches, A indicates that the film disappears after 100 to 200 scratches, B indicates that the film disappears after 50 to 100 times, and less than 50 times. The film disappeared and was evaluated as C. The results are shown in Table 1.

Figure 2010188730
Figure 2010188730

(光触媒転写フィルムの耐候性試験)
実施例及び比較例で作製した光触媒層転写体を、サンシャインウェザーメーターにかけて促進試験を行った。その結果を表2に示す。
(Weather resistance test of photocatalyst transfer film)
The photocatalyst layer transfer bodies produced in the examples and comparative examples were subjected to an acceleration test by applying them to a sunshine weather meter. The results are shown in Table 2.

Figure 2010188730
Figure 2010188730

(光触媒層付き基材の紫外線照射試験)
実施例4、実施例5及び比較例3の光触媒層付き基材を用いて紫外線照射試験を行なった。本試験は、離型性フィルム乃至シート側から70mWのブラックライトを光源とする光を高さ50cmの位置から24時間照射(単位時間当りの紫外線照射強度:5mW/cm2・sec(屋外にて30日暴露した時と同等の総紫外線量に相当))した後、離型性フィルム乃至シートを剥離し、光触媒層を目視にて観察するものである。その結果を表3に示す。
(UV irradiation test of substrate with photocatalyst layer)
The ultraviolet irradiation test was performed using the base material with a photocatalyst layer of Example 4, Example 5, and Comparative Example 3. In this test, light having a light source of 70 mW black light as a light source from the releasable film or sheet side was irradiated for 24 hours from a position of 50 cm in height (ultraviolet irradiation intensity per unit time: 5 mW / cm 2 · sec (30 outdoors) Equivalent to the total amount of ultraviolet rays when exposed to the sun)), and then the release film or sheet is peeled off and the photocatalyst layer is visually observed. The results are shown in Table 3.

Figure 2010188730
Figure 2010188730

本発明の光触媒付き基材は、そのままの形態で、或いは、銅板その他の金属板等の表面に被覆して使用することができる。内外装建材、その他抗菌、脱臭、防汚等の効果を利用し得る各種の用途に用いることができ、その用途は特に限定されない。   The base material with a photocatalyst of the present invention can be used as it is or after being coated on the surface of a copper plate or other metal plate. It can be used for interior and exterior building materials, and various other applications that can utilize antibacterial, deodorizing, antifouling and other effects, and the applications are not particularly limited.

以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明は上記説明したものに限定されず、本発明の要旨の範囲で適宜変更、付加等して実施し得るものである。   The embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be implemented with appropriate modifications and additions within the scope of the gist of the present invention.

本発明によれば、簡単な構成により低コストで光触媒層を有する転写体が得られる。また、工程も複雑化せず、光触媒層の損傷を防ぐことが可能な光触媒付き基材が製造しやすくなる。コストを抑制し、品質の良好な光触媒層転写体並びに光触媒付き基材が提供される。   According to the present invention, a transfer body having a photocatalyst layer can be obtained at a low cost with a simple structure. In addition, the process is not complicated, and it becomes easy to produce a substrate with a photocatalyst that can prevent damage to the photocatalyst layer. A cost-effective photocatalyst layer transfer body and a substrate with a photocatalyst are provided.

1 光触媒転写体
2 離型性フィルム乃至シート
2A 離型性フィルム乃至シート基材
2B 紫外線遮蔽層
3 光触媒層
4 基材保護層
5 接着層
10 光触媒層付き基材
11 基材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Photocatalyst transfer body 2 Releaseable film thru | or sheet 2A Releaseable film thru | or sheet base material 2B Ultraviolet shielding layer 3 Photocatalyst layer 4 Base material protective layer 5 Adhesion layer 10 Base material 11 with a photocatalyst layer Base material

Claims (4)

離型性フィルム乃至シート上に光触媒層を備えた光触媒層転写体であって、
離型性フィルム乃至シートは、離型性フィルム乃至シート基材の片面又は両面に金属蒸着層を備えていることを特徴とする光触媒層転写体。
A photocatalyst layer transfer body provided with a photocatalyst layer on a releasable film or sheet,
The releasable film or sheet comprises a metal vapor-deposited layer on one side or both sides of a releasable film or sheet substrate.
光触媒層の片側又は両側に光触媒作用を遮蔽する基材保護層を備えた請求項1記載の光触媒層転写体。   The photocatalyst layer transfer body according to claim 1, further comprising a base material protective layer that shields the photocatalytic action on one side or both sides of the photocatalyst layer. 光触媒層転写体は、透明性を備え、基材に積層した際の透光性が550nmの光線透過率で80〜100%であることを特徴とする請求項1又は2記載の光触媒層転写体。   3. The photocatalyst layer transfer body according to claim 1, wherein the photocatalyst layer transfer body has transparency and has a light transmittance of 80 to 100% at a light transmittance of 550 nm when laminated on a substrate. . 請求項1〜3のいずれかに記載の光触媒層転写体を、離型性フィルム乃至シートが表側になるように樹脂基材に積層してなる構成を備えた光触媒層付き基材。   The base material with a photocatalyst layer provided with the structure formed by laminating | stacking the photocatalyst layer transfer body in any one of Claims 1-3 on a resin base material so that a release film or sheet | seat may become the front side.
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