JP3414427B2 - 基板搬送装置及び基板検査装置 - Google Patents

基板搬送装置及び基板検査装置

Info

Publication number
JP3414427B2
JP3414427B2 JP1390493A JP1390493A JP3414427B2 JP 3414427 B2 JP3414427 B2 JP 3414427B2 JP 1390493 A JP1390493 A JP 1390493A JP 1390493 A JP1390493 A JP 1390493A JP 3414427 B2 JP3414427 B2 JP 3414427B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
substrate
stage
moving
transfer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP1390493A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06229934A (ja
Inventor
新一 土坂
尚士 神津
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optic Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optic Co Ltd filed Critical Olympus Optic Co Ltd
Priority to JP1390493A priority Critical patent/JP3414427B2/ja
Publication of JPH06229934A publication Critical patent/JPH06229934A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3414427B2 publication Critical patent/JP3414427B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、ウェハ又は液
晶ガラス板等の基板を搬送するための基板搬送装置及び
上記基板を検査するための基板検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の装置として、例えば、I
CやLCD(液晶ディスプレイ)製造工程中で、ウェハ
やガラス基板上に施された薄膜やパターンの顕微鏡検査
又は顕微鏡を利用した測光解析や画像処理あるいはプロ
ーブを用いて薄膜の比抵抗やパターン配線間の導通状態
を検査する装置が知られている。
【0003】これら装置には、図9に示すように、ガラ
ス基板(図示しない)の表面を観察する測定装置2(図
には、顕微鏡を示す)と、固定カセット台4上に設けら
れたカセット6内に所定間隔で収容されているガラス基
板を適宜取り出して顕微鏡2に自動的に受け渡す搬送ア
ーム8を備えた搬送装置10と、が組み合わされて構成
されているものが多い(以下、従来例1と称する)。
【0004】この場合、搬送アーム8は、図中紙面に対
して上下、回転あるいは一軸水平移動可能に構成されて
おり、固定カセット台4上に位置決め固定されたカセッ
ト6からガラス基板を取り出して、顕微鏡2のX−Yス
テージ12上に移送する。移送後、搬送アーム8は、ガ
ラス基板の検査中、X−Yステージ12の移動に支障を
来たさない位置に停止している。検査終了後、搬送アー
ム8は、再び、X−Yステージ12方向に移動し、ガラ
ス基板の真下に侵入する。この後、搬送アーム8が上方
に移動することによって、ガラス基板は、搬送アーム8
によってX−Yステージ12上に持ち上げられ、結果、
搬送アーム8上に移される。次に、搬送アーム8は、X
−Yステージ12から離間して、カセット6方向に回転
及び前進し、ガラス基板をカセット6内に挿入する。ガ
ラス基板挿入後、搬送アーム8は、下方に下がる。この
結果、ガラス基板は、カセット6内の基板受け部(図示
しない)上に載置収容される。この後、搬送アーム8
は、一旦、カセット6から離間し、次に取り出すべきガ
ラス基板の高さまで上昇した後、再び、カセット6内に
侵入する。そして、次のガラス基板を基板受け部から持
ち上げて、カセット6から取り出し、顕微鏡2のX−Y
ステージ12方向に移送する。このような工程を順次繰
り返してガラス基板の自動搬送及び検査が行われること
になる。
【0005】このような搬送装置を使用する利点は、い
かなる装置にも簡単に取り付けられる装置として一般に
市販される点と、カセット6内のガラス基板載置ピッチ
やX−Yステージ12での載置位置等を任意に設定可能
であるという点と、図10に示すように、カセットが3
か所に配置可能となる点にある。
【0006】また、図12及び図13に示すように、顕
微鏡2のX−Yステージ12のうち、Yステージ12b
(図13参照)上に摺動自在に載置されたXステージ1
2a上に搬送アーム8(詳しくは、図15参照)を併設
し、かかる搬送アーム8が、図中上下方向に駆動するカ
セット6(図13参照)から取り出されたガラス基板1
4(図13参照)を受取可能に構成された装置が知られ
ている(以下、従来例2と称する)。
【0007】このような装置において、カセット6内に
収容されたガラス基板14は、図中矢印S方向に移動可
能に構成された取出アーム16によって適宜取出され、
リフタ18上に位置付けられる。このとき、リフタ18
が図中H方向に上昇して、取出アーム16の中抜部16
aを介してガラス基板14を上方に持ち上げる。ガラス
基板14が取出アーム16に対して所定の高さに位置付
けられたとき、リフタ18の上昇動作が停止する。この
とき、Xステージ12aから搬送アーム8が、ガラス基
板14の真下まで延出する。このとき、リフタ18が下
降することによって、ガラス基板14は、搬送アーム8
上に受け渡されることになる。かかる一連の動作は、図
14に示された装置を図12に示された装置に隣接配置
することによって達成される。
【0008】なお、図14に示された装置において、カ
セット6は、装置本体20の後方に配置されており、ま
た、取出アーム16は、装置本体34の前方に配置され
ている。また、装置本体20の両側には、取り出アーム
16によって取り出されるべきガラス基板14のずれ防
止用の基板位置決め部材22が設けられている。この基
板位置決め部材22によって、ガラス基板14は、その
載置位置が整合された状態で取出アーム16に受け取ら
れる。取出アーム16によって取り出されたガラス基板
14は、上述したようにリフタ18を介して搬送アーム
8に受け渡されることになる。
【0009】図15には、搬送アーム8の構成が概略的
に示されており、かかる搬送アーム8の形状は、顕微鏡
2(図12参照)によるガラス基板14の透過観察のた
めに、中抜きの凹字形で構成され、且つ、ガラス基板1
4を安定して保持するように、夫々のアーム部8a,8
b間の間隔は、ガラス基板14の幅よりも大きく構成さ
れている。
【0010】これらアーム部8a,8bには、夫々、ワ
ークホルダと称する保持機構24が設けられており、ガ
ラス基板14は、これら保持機構24によって搬送アー
ム8上に吸着保持される。
【0011】なお、搬送アーム8が凹字形で構成されて
いるのは、図13に示すようにリフタ18に載せられた
ガラス基板14を取りに行く際に、リフタ18との干渉
を防止するためである。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
1の装置は、搬送装置を設けている関係上、装置全体の
構成が大きくなり、全体として高価なものになってしま
うという弊害がある。特に、図11に示すように、ガラ
ス基板の搬送に要する時間(タクトタイム)を短縮する
ために顕微鏡12の左右に搬送装置を配置させた場合に
は、上述した弊害が著しくなる。
【0013】また、従来例2の装置に適用された搬送ア
ーム8は、その剛性以外に大きな支障は存在しないが、
アーム部8a,8b間の幅がガラス基板14よりも大き
いことは、搬送アーム8を直接カセット6内に挿入して
ガラス基板14を取り出したりあるいは再び収納したり
できないことを意味する。なぜなら、カセット6の基板
挿入口16a(図13参照)は、ガラス基板14の幅よ
りも4〜6mm程度大きく構成されているだけで且つ基
板受け部(図2において符号32aで示す)は、カセッ
ト内方向に10mm程度突出して構成されているからで
ある。
【0014】このため、ガラス基板14より大きな幅を
有する搬送アーム8をXステージ12a上に設けた場合
には、顕微鏡2を備えた装置(図12参照)に隣接して
図14に示した装置を配置させる必要がある。この結
果、従来例2の装置にも、装置全体の構成が大きくな
り、全体として高価なものになってしまうという弊害が
ある。
【0015】更に、図15に示すように、従来例2の装
置には、X−Yステージ12をコンパクト化する場合、
搬送アーム8のローラガイド(図示しない)とXステー
ジ12aのレール12cとの噛み合いの長さ(L)が短
くなり、結果、ガラス基板14を搭載したときの搬送ア
ーム8の剛性が極度に悪化するという欠点がある。例え
ば、対物倍率×100でガラス基板14を観察すると
き、搬送アーム8の振動により観察が困難又は不能にな
ってしまう。なぜなら、搬送アーム8をXステージ12
a上に引き込めても、上述した噛み合いの長さは変わら
ないからである。かかる弊害を除去する方法としては、
適当なロック機構(図示しない)によって搬送アーム8
をXステージ12a上に固定させる方法もある。しか
し、観察部分を移動させる度毎にロック機構を解除しな
ければならず、手間がかかると共に観察に要する時間も
かかる。
【0016】ところで、ウェハを観察する場合、透過観
察は不要となるため、搬送アーム8は、凹字形に構成さ
せる必要はなく、凸字形に構成することが可能となる。
この結果、搬送アーム8をカセット6内に直接挿入して
ウェハを取り出すことができるため、図14に示すよう
な装置は不要となる。しかし、剛性の問題は依然として
残る。特に、ウェハ用のカセット6は、そのウェハ収容
ピッチは6〜8mmであるため、搬送アーム8の板厚
は、2mm程度が好ましいことになるが、このような板
厚では、その剛性は更に悪化することとなる。
【0017】また、ウェハ検査の際には、いわゆる“オ
リフラ合せ”作業が必要となるが、従来例2の装置のよ
うに、搬送アーム8をそのまま基板載置台として適用し
ている場合には、オリフラ合せのためのウェハ回転機構
(図示しない)を併設することができない。このため、
X−Yステージ12の外にウェハ回転機構を増設するこ
ととなり、ウェハは、X−Yステージ外でオリフラが合
された後、搬送アーム8に載せられることになる。この
結果、図14に示すような装置の代わりにウェハ回転機
構が設けられただけで、何等、装置のコンパクト化は達
成されないことになる。
【0018】本発明は、このような弊害及び欠点を解決
するためになされ、その目的は、検査基板を短時間で確
実に移送することができる低価格且つコンパクトな基板
搬送装置及び基板検査装置を適用することにある。
【0019】
【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために、本発明に従った基板搬送装置は:基板載置面を
有しており、直線移動可能なXステージと;Xステージ
の直線移動範囲の一方の側に配置されていて、複数枚の
基板を上下方向に相互に離間させて収納しており、上下
方向に昇降可能なカセットと;そして、カセット中の所
望の基板をカセット中とXステージの基板載置面との間
で上下方向及びXステージの直線移動方向に移動させる
基板搬送手段と;を備えており、前記基板搬送手段は、
カセット内とカセット隣接位置との間で所望基板を載置
して直線移動する手段と、カセット隣接位置に配置され
前記所望基板を載置して上下動する手段と、を含むもの
でありカセット内での前記直線移動する手段へのカセッ
ト内に載置された所望基板の受け渡しは、Xステージが
カセットから離れた位置に配置されている間における、
カセットの上動又は下動、所望基板の直下への前記直線
移動する手段の移動、及びそれに続くカセットの下動に
より行なわれ、カセット隣接位置での前記上下動する手
段への前記直線移動する手段に載置された所望基板の受
け渡しは、Xステージがカセットから離れた位置に配置
されている間における、カセット中から前記カセット隣
接位置への前記直線移動する手段の移動、及びそれに続
く前記上下動する手段の上動により行なわれ、また、カ
セット隣接位置でのXステージの基板載置面への前記上
下動する手段に載置された所望基板の受け渡しは、カセ
ットから離れた位置からカセット隣接位置にXステージ
が移動し、前記上下動する手段が下動することで行なわ
れる、ことを特徴としている。上述した目的を達成する
ために、本発明に従ったもう1つの基板搬送装置は:基
板載置面を有しており、直線移動可能なXステージと;
Xステージの直線移動範囲の一方の側に配置されてい
て、複数枚の基板を上下方向に相互に離間させて収納し
ており、上下方向に昇降可能なカセットと;そして、カ
セット中の所望の基板をカセット中とXステージの基板
載置面との間で上下方向及びXステージの直線移動方向
に移動させる基板搬送手段と;を備えており、前記基板
搬送手段は、Xステージに設けられカセットに対し直線
方向に移動可能な搬送アームと、搬送アーム上に設けら
れXステージの基板載置面よりも低い下降位置とXステ
ージの基板載置面よりも高い上昇位置との間で昇降自在
な載置台と、を含んでおり、カセット内での前記載置台
へのカセット内に載置された所望基板の受け渡しは、カ
セットから離間した位置からカセット隣接位置へのXス
テージの移動、所望基板の直下への前記下降位置の載置
台を伴なった前記搬送アームの移動及びそれに続く前記
載置台の上昇位置への移動により行なわれ、カセット隣
接位置での前記載置台からXステージの基板載置面への
所望基板の受け渡しは、カセット内からカセット隣接位
置への前記搬送アームの移動に続く前記載置台の下動に
より行なわれる、ことを特徴としている。
【0020】上述した目的を達成するために、本発明に
従った基板検査装置は:基板載置面を有しており、直線
移動可能なXステージと;Xステージの直線移動範囲の
一方の側に配置されていて、複数枚の基板を上下方向に
相互に離間させて収納しており、上下方向に昇降可能な
カセットと;カセット中の所望の基板をカセット中とX
ステージの基板載置面との間で上下方向及びXステージ
の直線移動方向に移動させる基板搬送手段と;そして、
Xステージの基板載置面上に載置された所望の基板を光
学的に検査測定する測定ヘッドを有した測定装置と;を
備えており、前記基板搬送手段は、カセット内とカセッ
ト隣接位置との間で所望基板を載置して直線移動する手
段と、カセット隣接位置に配置され前記所望基板を載置
して上下動する手段と、を含むものでありカセット内で
の前記直線移動する手段へのカセット内に載置された所
望基板の受け渡しは、Xステージがカセットから離れた
位置に配置されている間における、カセットの上動又は
下動、所望基板の直下への前記直線移動する手段の移
動、及びそれに続くカセットの下動により行なわれ、カ
セット隣接位置での前記上下動する手段への前記直線移
動する手段に載置された所望基板の受け渡しは、Xステ
ージがカセットから離れた位置に配置されている間にお
ける、カセット中から前記カセット隣接位置への前記直
線移動する手段の移動、及びそれに続く前記上下動する
手段の上動により行なわれ、また、カセット隣接位置で
のXステージの基板載置面への前記上下動する手段に載
置された所望基板の受け渡しは、カセットから離れた位
置からカセット隣接位置にXステージが移動し、前記上
下動する手段が下動することで行なわれる、ことを特徴
としている。上述した目的を達成するために、本発明に
従ったもう1つの基板検査装置は:基板載置面を有して
おり、直線移動可能なXステージと;Xステージの直線
移動範囲の一方の側に配置されていて、複数枚の基板を
上下方向に相互に離間させて収納しており、上下方向に
昇降可能なカセットと;カセット中の所望の基板をカセ
ット中とXステージの基板載置面との間で上下方向及び
Xステージの直線移動方向に移動させる基板搬送手段
と;そして、Xステージの基板載置面上に載置された所
望の基板を光学的に検査測定する測定ヘッドを有した測
定装置と;を備えており、前記基板搬送手段は、Xステ
ージに設けられカセットに対し直線方向に移動可能な搬
送アームと、搬送アーム上に設けられXステージの基板
載置面よりも低い下降位置とXステージの基板載置面よ
りも高い上昇位置との間で昇降自在な載置台と、を含ん
でおり、カセット内での前記載置台へのカセット内に載
置された所望基板の受け渡しは、カセットから離間した
位置からカセット隣接位置へのXステージの移動、所望
基板の直下への前記下降位置の載置台を伴なった前記搬
送アームの移動及びそれに続く前記載置台の上昇位置へ
の移動により行なわれ、カセット隣接位置での前記載置
台からXステージの基板載置面への所望基板の受け渡し
は、カセット内からカセット隣接位置への前記搬送アー
ムの移動に続く前記載置台の下動により行なわれる、こ
とを特徴としている。
【0021】
【0022】
【実施例】以下、本発明の第1の実施例に係る基板搬送
装置付き基板検査装置について、図1ないし図3を参照
して説明する。
【0023】図1ないし図3に示すように、本実施例の
基板搬送装置付き基板検査装置は、装置本体26を備え
ており、この装置本体26には、ウェハ又は液晶ガラス
板等の基板28を検査するための測定装置30が設けら
れている。また、この測定装置30に対して図中X方向
に昇降装置32が隣設されている。
【0024】昇降装置32には、複数枚の基板28を所
定間隔で図中Z方向に積層させて収容したカセット34
が装着されており、昇降装置32を図中Z方向に上下動
させることによって、カセット34を所定量だけ図中Z
方向に昇降可能に構成されている。
【0025】カセット34の内壁には、図中Z方向に一
定の間隔で且つ互いに対向して突設された複数の基板受
け部34aが形成されており、複数枚の基板28は、夫
々、その両縁部が対向配置された一対の基板受け部34
aによって支持された状態でカセット34内に収納され
ている(図2及び図3参照)。
【0026】測定装置30は、基板28に対する光学的
測定を行うための測定ヘッドとして顕微鏡36(図1及
び図3参照)と、基板28を載置して所定方向に移動可
能に構成されたX−Yステージ38とを備えている。
【0027】顕微鏡36には、三眼鏡筒36aが適用さ
れている。従って、観察者は、対物レンズ36bによっ
て拡大された像を三眼鏡筒36aを介して観察すること
で、基板表面の観察を行うことが可能となる。
【0028】X−Yステージ38は、Xステージ38a
及びYステージ38bを備えており、Yステージ38b
は、本体基台部26a上に図中Y方向に延出された一対
のYレール40上に移動可能に載置され、Xステージ3
8aは、Yステージ38b上に図中X方向に延出された
一対のXレール42上に移動可能に載置されている。
【0029】具体的には、Yステージ38bは、その裏
面に構成されたYレール受け部44を介して一対のYレ
ール40上に載置されている。また、Xステージ38a
は、その裏面に構成されたXレール受け部46を介して
一対のXレール42上に載置されている。
【0030】なお、Xステージ38aは、透過観察用に
中抜きが施され、その表面には、基板位置決め用の位置
決め部材38cが設けられている。また、Xステージ3
8aのカセット34側の部分には、基板28を載置させ
た後にXステージ38aから後述する載置台60bのみ
を引き抜くための逃げ溝38dが形成されている。
【0031】更に、本体基台部26a上には、上記一対
のYレール40の外側に、このYレール40と平行で且
つ一端にYモータ48が接続されたYボールネジ50が
延出されている。このYボールネジ50には、一端が上
記Yステージ38bに固定されたYナット部材52が螺
合されている。
【0032】Yモータ48を正逆駆動させると、これに
同期してYボールネジ50が正逆方向に回転する。この
回転に伴ってYナット部材52がYボールネジ50に沿
って図中X方向に前後する。この結果、Yステージ38
bは、図中Y方向に前後移動される。
【0033】また、Yステージ38bには、上記一対の
Xレール42の外側に、このXレール42と平行で且つ
一端にXモータ54が接続されたXボールネジ56が延
出されている。このXボールネジ56には、一端が上記
Xステージ38aに固定されたXナット部材58が螺合
されている。
【0034】Xモータ54を正逆駆動させると、これに
同期してXボールネジ56が正逆方向に回転する。この
回転に伴ってXナット部材58がXボールネジ56に沿
って図中X方向に前後する。この結果、Xステージ38
aは、図中X方向に前後移動される。
【0035】また、本実施例に適用された測定装置30
には、カセット34から適当な基板28を取り出してX
ステージ38a上に載せたり、Xステージ38a上に載
置されている基板28をカセット34内に収納させる搬
出搬入手段60(詳しくは、図2参照)が設けられてい
る。なお、図2には、説明の都合上、顕微鏡36と装置
本体26の一部が除去されている。
【0036】図2に示すように、この搬出搬入手段60
は、カセット34から適当な基板28を取出可能で且つ
カセット34内に基板28を収納可能に構成された凹字
形搬送アーム60aと、この搬送アームから基板28を
受け取ってXステージ38a上に載置可能で且つXステ
ージ38a上に載置されている基板28を搬送アーム6
0aに載換可能に構成された凸字形載換台60bとを備
えている。
【0037】これら搬送アーム60aと載置台60bと
は、その凹字形面と凸字形面とを互いに対向させて図中
X方向に且つXステージ38aの移動に干渉しない位置
に整列配置されている。また、搬送アーム60aはXス
テージ38a側に、そして、載置台60bはカセット3
4側に、夫々位置付けられた状態でYステージ38b上
に設けられている。
【0038】Yステージ38b上には、その両縁部に図
中X方向に延出した一対の搬送ガイド62が設けられて
おり、搬送アーム60aは、その裏面に構成された搬送
レール受け部64を介して一対の搬送ガイド62上に移
動可能に載置されている。
【0039】また、Yステージ38b上には、一対の搬
送ガイド62の図中X方向の両延出端部分に、夫々、プ
ーリ66が設けられている。これらプーリ66間には、
無端状ベルト68が掛け渡されており、プーリ66の回
転に伴ってベルト68が走行可能に構成されている。こ
のベルト68の一部は、搬送レール受け部64に接続さ
れており、また、一方のプーリ66には、アームモータ
70が接続されている。
【0040】アームモータ70を正逆駆動させると、こ
れに同期してプーリ66が正逆方向に回転する。この回
転に伴ってベルト68は、その走行方向が反転する。こ
の結果、搬送アーム60aは、ベルト68の走行方向に
従って図中X方向に移動される。
【0041】なお、搬送アーム60aには、3か所に基
板吸着保持用の吸着穴72が形成されており、これら吸
着穴72を介して基板28は、搬送アーム60a上に確
実に吸着保持される。
【0042】また、Yステージ38bのカセット34側
の端部には、載置台60bを図中Z方向に昇降させるシ
リンダ74と、載置台60bを図中Z方向に案内する一
対の載置台ガイド76とが設けられている。この結果、
載置台60bは、シリンダ74の駆動によって、載置台
ガイド76に沿って図中Z方向に昇降される。
【0043】なお、載置台60bには、3か所に基板吸
着保持用の吸着穴78が形成されており、載置台60b
の昇降動作中、基板28は、これら吸着穴78を介して
確実に、載置台60b上に吸着保持される。次に、本実
施例の基板搬送装置付き基板検査装置の動作について説
明する。
【0044】まず、昇降装置32が作動して、カセット
34を搬送アーム60aがカセット34内に挿入可能な
基板28間の略中間位置(具体的には、搬送アーム60
aが検査対象となる基板28の真下に挿入可能な位置)
に位置付ける。
【0045】このとき、アームモータ70が作動し、初
期位置に配された搬送アーム60aを図中X方向に延出
移動させて、この搬送アーム60aをカセット34内に
挿入させる。なお、搬送アーム60aは、その基板当接
部80が基板28の端面と整合する位置までカセット3
4内に挿入される。
【0046】次に、昇降装置32を介してカセット34
を基板28の収納ピッチ分だけ下降させる。この結果、
検査対象となるべき基板28は、基板受け部34aから
搬送アーム60a上に移し換えられた状態となる。この
結果、基板28は、カセット34から取り出し可能状態
に維持される。
【0047】このとき、制御回路(図示しない)から指
令が発せられ、吸着穴72の吸着動作が開始する。この
結果、基板28は、吸着穴72を介して搬送アーム60
a上に吸着保持される。
【0048】この後、アームモータ70が作動して、搬
送アーム60aをカセット34から離間する方向に移動
させ、初期位置に位置付ける。このとき、吸着動作は、
解除される。
【0049】次に、シリンダ74が作動して、載置台6
0bを一対の載置台ガイド76に沿って図中Z方向に上
昇させる。この結果、搬送アーム60a上に載置されて
いる基板28は、載置台60bによって押し上げられ、
載置台60b上に載せ換えられる。
【0050】このとき、制御回路(図示しない)から指
令が発せられ、吸着穴78の吸着動作が開始する。この
結果、基板28は、吸着穴78を介して載置台60b上
に吸着保持される。載置台60bがXステージ38aよ
りも図中Z方向に高い位置に位置付けられた際、シリン
ダ74の作動は停止される。
【0051】次に、Xモータ54が作動して、Xステー
ジ38aを図中X方向即ち載置台60bの下側に挿入さ
れる方向に移動させ、そして、Xステージ38aを、そ
の位置決め部材38cが基板28の側端に整合する位置
で停止させる。
【0052】このとき、シリンダ74が作動して、載置
台60bを図中Z方向に、この載置台60bの下面が上
記逃げ溝38d内に位置付けられるまで下降させる。こ
の結果、基板28は、上記位置決め部材38cによって
位置決めされた状態でXステージ38a上に載置され
る。
【0053】この後、Xモータ54が作動して、Xステ
ージ38aを載置台60bから離間する方向に移動させ
ると同時に、アームモータ70も作動して、搬送アーム
60aをカセット34方向に移動させる。この結果、コ
ンデンサ82から発光された光は、中抜きXステージ3
8aを介して基板28裏面を照明可能となる。
【0054】この状態において、観察者は、X−Yステ
ージ38を操作しつつ、顕微鏡36の対物レンズ36b
によって導光される基板28の象を三眼鏡筒36aを介
して観察することで、基板28の検査を行うことができ
る。検査終了後、シリンダ74を介して載置台60bを
逃げ溝38dに整合する位置まで上昇させ停止させる。
このとき、Xモータ54を介してXステージ38aを載
置台60b方向に移動させて、載置台60bを逃げ溝3
8d内に挿入させる。この後、シリンダ74を介して載
置台60bを若干上昇させ、基板28を載置台60b上
に載せ換える。
【0055】このとき、制御回路(図示しない)から指
令が発せられ、吸着穴78の吸着動作が開始する。この
結果、基板28は、吸着穴78を介して載置台60b上
に吸着保持される。次に、Xモータ54を介してXステ
ージ38aを載置台60bから離間する方向に移動させ
る。この結果、基板28は、載置台60b上に載置され
る。
【0056】この状態で、シリンダ74を介して載置台
60bを図中Z方向に下降させ、搬送アーム60aより
も下方に位置付ける。この結果、基板28は、搬送アー
ム60a上に載り換えられる。
【0057】このとき、制御回路(図示しない)から指
令が発せられ、吸着穴72の吸着動作が開始する。この
結果、基板28は、吸着穴72を介して搬送アーム60
a上に吸着保持される。次に、昇降装置32が作動し
て、基板28の収納可能位置にカセット34を位置付け
る。この後、アームモータ70を介して搬送アーム60
aをカセット34方向に移動させ、基板28をカセット
34内に位置付ける。
【0058】吸着動作を停止させた後、昇降装置32を
介してカセット34を図中Z方向に若干上昇させる。こ
の結果、基板28は、その両縁部が一対の基板受け部3
4aによって支持された状態でカセット34内に収納さ
れる。
【0059】このように本実施例の装置には、カセット
34から適当な基板28を取り出してXステージ38a
上に載せたり、Xステージ38a上に載置されている基
板28をカセット34内に収納させる搬出搬入手段60
が設けられているため、従来の装置のように別途搬送装
置を必要とすることもなく、基板28を短時間で確実に
移送することができる低価格且つコンパクトな基板搬送
装置付き基板検査装置を提供することができる。
【0060】次に、本発明の第2の実施例に係る基板搬
送装置付き基板検査装置について、図4を参照して説明
する。なお、本実施例の説明に際し、第1の実施例と同
一の構成には同一符号を付してその説明を省略する。本
実施例の基板搬送装置付き基板検査装置は、透過観察を
必要としない場合に適合され、顕微鏡検査以外にも、レ
ーザーリペア装置や電気測定装置等に対して好適であ
る。また、図4には、説明の簡略化のために所定の駆動
系は図示しないが、基本構成及び動作は、第1の実施例
の装置と同様であるため、特徴部分のみを示す。
【0061】図4に示すように、本実施例に適用された
搬出搬入手段60は、Xステージ38a上に図中X方向
に延出した一対の搬送ガイド62に沿って移動可能に構
成された四角形状の搬送アーム60aと、この搬送アー
ム60a上に設けられ且つカセット34方向に延出した
長四角形状の載置台60bとを備えている。
【0062】搬送アーム60aと載置台60bは、その
両側に一対づつ設けられたパンタグラフ88によって接
続されており、これらパンタグラフ88を図中Z方向に
回動させることによって、載置台60bが搬送アーム6
0aに対して図中Z方向に旋回昇降可能に構成されてい
る。
【0063】また、搬送アーム60aと載置台60bと
は互いに一対のばね84によって接続されており、これ
らばね84によって載置台60bは、常時、上記パンタ
グラフ88を介して旋回上昇させる方向に引っ張られて
いる。
【0064】また、載置台60bは、搬送アーム60a
の端部に設けられたスピンドル86によって、ばね84
の付勢力に抗してカセット34方向に押圧されている。
このため、その初期状態においては、載置台60bは、
その裏面が搬送アーム60aの表面に接触した状態に維
持されている。このような搬出搬入手段60の両外側に
は、Xステージ38a上に、図中X方向に延出して構成
された一対の載置板90が設けられている。
【0065】これら載置板90上には、夫々、図中X方
向に延出した基板落込み凹部90aが形成されている。
このため、基板28は、その両縁部がこれら基板落込み
凹部90aによって図中Y方向へのずれが規制された状
態で載置板90上に載置される。次に、本実施例の基板
搬送装置付き基板検査装置の主要構成部分のみの動作に
ついて簡単に説明する。まず、カセット34を昇降させ
て基板28相互の間に載置台60bが挿入可能な位置に
位置決めする。
【0066】次に、初期位置に配された搬送アーム60
aを一対の搬送ガイド62に沿ってカセット34方向に
移動させて、載置台60bをカセット34内に挿入させ
る。載置台60bの基板当接部92が基板28の端部に
整合したとき、搬送アーム60aの移動を停止させる。
【0067】このとき、スピンドル86の押圧状態を解
除させて、載置台60bを搬送アーム60aに対して図
中Z方向に旋回上昇させる。この結果、基板28は、載
置台60b上に載せ換えられる。このとき、吸着穴78
を介して吸着動作が開始され、基板28を載置台60b
上に吸着保持させる。そして、載置台60bは、上限位
置(載置板90の上部よりも上側の位置)まで旋回上昇
したとき、その上昇動作が停止される。この後、搬送ア
ーム60aをカセット34から離間する方向に初期位置
まで移動させる。このとき、スピンドル86をカセット
34方向に突出させる。この結果、載置台60bは、ば
ね84の付勢力に抗して旋回下降される。この下降動作
中に、載置台60b上に吸着保持されている基板28
は、その両縁部が基板落込み凹部90aに当接される。
このとき、吸着動作を解除させることによって、基板2
8は、その両縁部が基板落込み凹部90aに支持された
状態で載置板90上に載置される。この後、スピンドル
86は更に突出し続け、載置台60bを搬送アーム60
a上に旋回下降させる。この後、X−Yステージ38を
操作することによって、基板28の検査が行われる。検
査終了後、基板28をカセット34内に収納させる際
は、上記取り出し動作の逆手順の動作が行われる。
【0068】本実施例の装置では、基板28の載せ換え
動作が簡単で且つタクトタイムの短縮を達成することが
可能となる。他の効果は、上述した第1の実施例と同様
であるため、その説明は省略する。なお、本発明は、上
述した実施例の構成に限定されることはなく、例えば、
図7に示すように、2つのカセット34を配置させるこ
とも可能である。
【0069】基板28の大きさをY方向で300mm、
X方向で400mmとする。ストロークはX=400m
m、Y=300mmである。仮に、X−Yステージ38
の大きさを駆動系の取付けや全体の剛性を考慮してX=
500mm、Y=400mmとすると、ステージ38を
またぐ搬送アーム60aの開きは、Yの場合、 L=(ストローク)×2+(ステージの大きさ)−(ス
トローク) となり、例では、L=300×2+400−300=7
00となる。
【0070】そこで、2つ並べて適用するカセット34
の間隔を150mmとする。この150には、カセット
34内の基板を整列させるスピンドルや基板の有無検知
センサやカセット34をクランプするユニットが含まれ
る。
【0071】このときのLは、700に150を加えた
もので、装置全体をそれ程大きくすることなく且つ搬送
装置を2つ必要とすることなく簡単に2つのカセット3
4を備えた基板搬送装置付き基板検査装置を提供するこ
とができる。
【0072】また、本発明の変形例としては、特に、第
1の実施例の基板搬送装置付き基板検査装置において、
図5に示すように、Xステージ38aの両側に夫々搬出
搬入手段60を設けて構成することが可能となる。
【0073】このように構成することによって、基板搬
送装置付き基板検査装置(図3参照)の図中X及びY方
向に基板28を適当に移動させることが可能となる。即
ち、搬送アーム60aが夫々搬出と搬入を受け持つた
め、更にタクトタイムを短縮化させることができる。ま
た、本変形例では、図8に示すように、四方に夫々カセ
ット34を配置した基板搬送装置付き基板検査装置を提
供することが可能となる。
【0074】なお、本変形例の装置において、ウェハ観
察を行う場合には、図6に示すように、Xステージ38
a上にオリフラ合せ用の回転台94が必要である。かか
る場合、搬送アーム60a上にパンタグラフ88を介し
て旋回昇降可能に構成された載置台60bは、中抜き構
造に形成させる必要がある。
【0075】基板28を載置した載置台60bを一旦旋
回下降させることによって、ベルト96を介してモータ
98に接続された回転台94上に配された基板28は、
ここでオリフラ合わせが行われた後、再び、旋回上昇さ
れた載置台60b上に載り換えられ、検査工程へ移され
ることになる。
【0076】
【発明の効果】本発明は、カセットから適当な基板を取
り出してステージ上に載せたり、ステージ上に載置され
ている基板をカセット内に収納させる搬出搬入手段を備
えているため、従来の装置のように別途搬送装置を必要
とすることもなく、基板を短時間で確実に移送すること
ができる低価格且つコンパクトな基板搬送装置付き基板
検査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は、本発明の第1の実施例に係る基板搬
送装置付き基板検査装置の上面図、(b)は、その側面
図。
【図2】図1の装置に適用された搬出搬入手段の部分を
拡大して示す斜視図。
【図3】図1の装置の主要構成を概略的に示す斜視図。
【図4】本発明の第2の実施例に係る基板搬送装置付き
基板検査装置の搬出搬入手段の部分を拡大して示す斜視
図。
【図5】図2に示す部分の変形例を示す斜視図。
【図6】オリフラ合せ用の回転台が適用された場合の搬
出搬入手段の変形例を示す斜視図。
【図7】本発明の装置に2つのカセットを配置させた場
合の上面図。
【図8】図5の装置に4つのカセットを配置させた場合
の上面図。
【図9】従来の基板検査装置の上面図。
【図10】3つのカセットが配置された従来の装置の上
面図。
【図11】2つのカセットが配置された基板検査装置の
上面図。
【図12】従来の基板検査装置の斜視図。
【図13】従来の装置において、カセットから基板を取
り出す工程を示す図。
【図14】図12の装置に隣設配置された搬送装置の斜
視図。
【図15】図12の装置に適用された搬送アームの拡大
斜視図。
【符号の説明】
28 基板 30 測定装置 34 カセット 36 顕微鏡(測定ヘッド) 38 X−Yステージ 38a Xステージ 38b Yステージ 60 搬出搬入手段(基板搬送手段) 60a 搬送アーム 60b 載置台 94 回転台
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 21/88 G01B 11/30 G01N 21/01 H01L 21/68 H01L 21/66

Claims (13)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板載置面を有しており、直線移動可能
    なXステージと; Xステージの直線移動範囲の一方の側に配置されてい
    て、複数枚の基板を上下方向に相互に離間させて収納し
    ており、上下方向に昇降可能なカセットと;そして、 カセット中の所望の基板をカセット中とXステージの基
    板載置面との間で上下方向及びXステージの直線移動方
    向に移動させる基板搬送手段と; を備えており、 前記基板搬送手段は、カセット内とカセット隣接位置と
    の間で所望基板を載置して直線移動する手段と、カセッ
    ト隣接位置に配置され前記所望基板を載置して上下動す
    る手段と、を含むものであり カセット内での前記直線移動する手段へのカセット内に
    載置された所望基板の受け渡しは、Xステージがカセッ
    トから離れた位置に配置されている間における、カセッ
    トの上動又は下動、所望基板の直下への前記直線移動す
    る手段の移動、及びそれに続くカセットの下動により行
    なわれ、 カセット隣接位置での前記上下動する手段への前記直線
    移動する手段に載置された所望基板の受け渡しは、Xス
    テージがカセットから離れた位置に配置されている間に
    おける、カセット中から前記カセット隣接位置への前記
    直線移動する手段の移動、及びそれに続く前記上下動す
    る手段の上動により行なわれ、 また、カセット隣接位置でのXステージの基板載置面へ
    の前記上下動する手段に載置された所望基板の受け渡し
    は、カセットから離れた位置からカセット隣接位置にX
    ステージが移動し、前記上下動する手段が下動すること
    で行なわれる、 ことを特徴とする基板搬送装置。
  2. 【請求項2】 前記基板搬送手段において、カセット内
    とカセット隣接位置との間で所望基板を載置して直線移
    動する手段は搬送アームであり、カセット隣接位置に配
    置され所望基板を載置して上下動する手段は載置台であ
    る、 ことを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。
  3. 【請求項3】 Xステージの直線移動範囲の他方の側に
    もう1つのカセットが配置されているとともに、前記基
    板搬送手段と同じもう1つの基板搬送手段を備えてお
    り、 前記一方の側のカセット内の所望基板が、前記基板搬送
    手段、Xステージの基板載置面、そして前記もう1つの
    基板搬送手段を経て前記他方の側のもう1つのカセット
    内の所望の位置に収容される、 ことを特徴とする請求項1又は2に記載の基板搬送装
    置。
  4. 【請求項4】 前記Xステージ及び前記基板搬送手段を
    支持しており、前記Xステージ及び前記基板搬送手段と
    ともに前記Xステージの直線移動方向及び上下方向に対
    し直交する方向に直線移動可能なYステージをさらに備
    えている、 ことを特徴とする請求項1又は2に記載の基板搬送装
    置。
  5. 【請求項5】 前記一方の側のカセットからYステージ
    の直線移動方向に離れた複数の位置に前記一方の側のカ
    セットと同じカセットが配置されている、 ことを特徴とする請求項4に記載の基板搬送装置。
  6. 【請求項6】 Xステージの直線移動範囲の他方の側に
    もう1つのカセットが配置されているとともに、前記基
    板搬送手段と同じもう1つの基板搬送手段を備えてお
    り、 前記一方の側のカセット内の所望基板が、前記基板搬送
    手段、Xステージの基板載置面、そして前記もう1つの
    基板搬送手段を経て前記他方の側のもう1つのカセット
    内の所望の位置に収容される、 ことを特徴とする請求項4に記載の基板搬送装置。
  7. 【請求項7】 前記一方の側のカセットからYステージ
    の直線移動方向に離れた複数の位置に前記一方の側のカ
    セットと同じカセットが配置されており、 前記他方の側のカセットからYステージの直線移動方向
    に離れた複数の位置に前記他方の側のカセットと同じカ
    セットが配置されている、 ことを特徴とする請求項6に記載の基板搬送装置。
  8. 【請求項8】 基板載置面を有しており、直線移動可能
    なXステージと; Xステージの直線移動範囲の一方の側に配置されてい
    て、複数枚の基板を上下方向に相互に離間させて収納し
    ており、上下方向に昇降可能なカセットと;そして、 カセット中の所望の基板をカセット中とXステージの基
    板載置面との間で上下方向及びXステージの直線移動方
    向に移動させる基板搬送手段と; を備えており、 前記基板搬送手段は、Xステージに設けられカセットに
    対し直線方向に移動可能な搬送アームと、搬送アーム上
    に設けられXステージの基板載置面よりも低い下降位置
    とXステージの基板載置面よりも高い上昇位置との間で
    昇降自在な載置台と、を含んでおり、 カセット内での前記載置台へのカセット内に載置された
    所望基板の受け渡しは、カセットから離間した位置から
    カセット隣接位置へのXステージの移動、所望基板の直
    下への前記下降位置の載置台を伴なった前記搬送アーム
    の移動及びそれに続く前記載置台の上昇位置への移動に
    より行なわれ、 カセット隣接位置での前記載置台からXステージの基板
    載置面への所望基板の受け渡しは、カセット内からカセ
    ット隣接位置への前記搬送アームの移動に続く前記載置
    台の下動により行なわれる、 ことを特徴とする基板搬送装置。
  9. 【請求項9】 Xステージを支持しており、Xステージ
    とともにXステージの直線移動方向及び上下方向に対し
    直交する方向に直線移動可能なYステージをさらに備え
    ている、 ことを特徴とする請求項8に記載の基板搬送装置。
  10. 【請求項10】 前記一方の側のカセットからYステー
    ジの直線移動方向に離れた複数の位置に前記一方の側の
    カセットと同じカセットが配置されている、 ことを特徴とする請求項9に記載の基板搬送装置。
  11. 【請求項11】 基板は円形状のウエハ基板であり、X
    ステージには基板載置面上のウエハ基板を回転させる回
    転台が設けられている、 ことを特徴とする請求項8乃至10のいずれか1項に記
    載の基板搬送装置。
  12. 【請求項12】 基板載置面を有しており、直線移動可
    能なXステージと; Xステージの直線移動範囲の一方の側に配置されてい
    て、複数枚の基板を上下方向に相互に離間させて収納し
    ており、上下方向に昇降可能なカセットと; カセット中の所望の基板をカセット中とXステージの基
    板載置面との間で上下方向及びXステージの直線移動方
    向に移動させる基板搬送手段と;そして、 Xステージの基板載置面上に載置された所望の基板を光
    学的に検査測定する測定ヘッドを有した測定装置と; を備えており、 前記基板搬送手段は、カセット内とカセット隣接位置と
    の間で所望基板を載置して直線移動する手段と、カセッ
    ト隣接位置に配置され前記所望基板を載置して上下動す
    る手段と、を含むものであり カセット内での前記直線移動する手段へのカセット内に
    載置された所望基板の受け渡しは、Xステージがカセッ
    トから離れた位置に配置されている間における、カセッ
    トの上動又は下動、所望基板の直下への前記直線移動す
    る手段の移動、及びそれに続くカセットの下動により行
    なわれ、 カセット隣接位置での前記上下動する手段への前記直線
    移動する手段に載置された所望基板の受け渡しは、Xス
    テージがカセットから離れた位置に配置されている間に
    おける、カセット中から前記カセット隣接位置への前記
    直線移動する手段の移動、及びそれに続く前記上下動す
    る手段の上動により行なわれ、 また、カセット隣接位置でのXステージの基板載置面へ
    の前記上下動する手段に載置された所望基板の受け渡し
    は、カセットから離れた位置からカセット隣接位置にX
    ステージが移動し、前記上下動する手段が下動すること
    で行なわれる、ことを特徴とする基板検査装置。
  13. 【請求項13】 基板載置面を有しており、直線移動可
    能なXステージと; Xステージの直線移動範囲の一方の側に配置されてい
    て、複数枚の基板を上下方向に相互に離間させて収納し
    ており、上下方向に昇降可能なカセットと; カセット中の所望の基板をカセット中とXステージの基
    板載置面との間で上下方向及びXステージの直線移動方
    向に移動させる基板搬送手段と;そして、 Xステージの基板載置面上に載置された所望の基板を光
    学的に検査測定する測定ヘッドを有した測定装置と; を備えており、 前記基板搬送手段は、Xステージに設けられカセットに
    対し直線方向に移動可能な搬送アームと、搬送アーム上
    に設けられXステージの基板載置面よりも低い下降位置
    とXステージの基板載置面よりも高い上昇位置との間で
    昇降自在な載置台と、を含んでおり、 カセット内での前記載置台へのカセット内に載置された
    所望基板の受け渡しは、カセットから離間した位置から
    カセット隣接位置へのXステージの移動、所望基板の直
    下への前記下降位置の載置台を伴なった前記搬送アーム
    の移動及びそれに続く前記載置台の上昇位置への移動に
    より行なわれ、 カセット隣接位置での前記載置台からXステージの基板
    載置面への所望基板の受け渡しは、カセット内からカセ
    ット隣接位置への前記搬送アームの移動に続く前記載置
    台の下動により行なわれる、 ことを特徴とする基板検査装置。
JP1390493A 1993-01-29 1993-01-29 基板搬送装置及び基板検査装置 Expired - Fee Related JP3414427B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1390493A JP3414427B2 (ja) 1993-01-29 1993-01-29 基板搬送装置及び基板検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1390493A JP3414427B2 (ja) 1993-01-29 1993-01-29 基板搬送装置及び基板検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06229934A JPH06229934A (ja) 1994-08-19
JP3414427B2 true JP3414427B2 (ja) 2003-06-09

Family

ID=11846167

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1390493A Expired - Fee Related JP3414427B2 (ja) 1993-01-29 1993-01-29 基板搬送装置及び基板検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3414427B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5001681B2 (ja) * 2007-03-12 2012-08-15 株式会社日本マイクロニクス インライン自動検査装置及びインライン自動検査システム

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06229934A (ja) 1994-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI452643B (zh) Inspection device and inspection method
US6486927B1 (en) Liquid crystal display test system
JPS6329410B2 (ja)
KR20030070360A (ko) 웨이퍼 후면 검사 장치 및 검사 방법
JP4166813B2 (ja) 検査装置及び検査方法
US4570058A (en) Method and apparatus for automatically handling and identifying semiconductor wafers
CN109727883B (zh) 用于检查显示单元的装置
JP4490066B2 (ja) 表示用パネルの検査装置
KR100273837B1 (ko) 웨이퍼링의공급장치
JP3571243B2 (ja) プロキシミティ露光方法及び装置
KR100993220B1 (ko) 노광장비용 카세트의 위치 정렬장치
US6811370B2 (en) Wafer handling robot having X-Y stage for wafer handling and positioning
JP3414427B2 (ja) 基板搬送装置及び基板検査装置
JP3958852B2 (ja) 被測定基板の検査装置
JP3365781B2 (ja) 基板外観検査装置
JPH08264619A (ja) 搬送装置及びこの搬送装置を有する検査装置
JP3791698B2 (ja) ウエハ検査装置
KR20050052350A (ko) 카세트대 및 웨이퍼검사장치
JPH0986655A (ja) 試料搬送装置
JP4849744B2 (ja) 表示用基板の検査装置
KR100693716B1 (ko) 검사장치
JP2547212Y2 (ja) 基板用測定装置
CN218867065U (zh) 一种晶圆存取库
JP4226955B2 (ja) 基板の位置決め装置
JP3157212B2 (ja) 板状物搬送装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20030311

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees