JP3413135B2 - 半導体モジュールの製造方法 - Google Patents

半導体モジュールの製造方法

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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体モジュール
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体モジュールには、例えば図
3に示すように製造されるものがあった。図3(a)に
示すように、金属基板2の表面に、パターン化された銅
回路を有する絶縁板4が貼り付けられる。この絶縁板4
上の銅回路上に半導体チップ6a、6bやその他のチッ
プ6cが半田付けされる。金属基板2、絶縁板4等とは
別個に合成樹脂によってケース8が形成される。金属基
板2の周縁部にシリコンゴム10が塗布され、同図
(b)に示すように、シリコンゴム10上に樹脂ケース
8の開口12の縁部を載せて、ケース8とシリコンゴム
10と金属基板2とを加熱して、金属基板2にケース8
を接着する。なお、ケース8の側壁部8a内には半導体
チップ6a等に接続される端子14が埋め込まれてい
る。ケース8内には、半導体チップ6a、6b等を超え
る高さまでゲル状の封止材16が充填され、半導体チッ
プ6a、6b等が保護されている。封止材16の上方に
は、プリント配線基板18が配置され、その上には、半
導体チップ6a、6bを制御したり、保護したりするた
めの部品20a乃至20cが搭載されている。ケース8
の上部開口は、蓋22によって閉じられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】シリコンゴム10によ
って金属基板2とケース8とを接着した場合、シリコン
ゴム10と金属基板2との間や、シリコンゴム10とケ
ース8との間で、両者のなじみが悪く、隙間が生じるこ
とがある。そして、封止材16を充填したとき、封止材
16が上記の隙間から漏れ出ることがあった。この漏れ
出た封止材16を除去しなければならず、時には漏れ出
た封止材16の量が多く、半導体チップ6a、6b等が
封止材16によって封止されないこともある。
【0004】上記の隙間が形成されないようにするため
には、独特のノウハウが必要となり、作業工程数が増加
する。
【0005】本発明は、上記の隙間が形成されることを
防止し、工程数減少させた半導体モジュールの製造
法を提供することを目的とする。
【0006】
【0007】
【0008】
【0009】
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明による半導体モジ
ュールの製造方法では、金属板の周縁部から外方に伸び
る底部形成用空間を設け、かつ、金属板上の絶縁体が内
部に位置する周壁形成用空間を前記底部形成用空間の外
方端部に連ねて設ける。これら空間は、例えばモールド
を配置することによって形成できる。両空間に熱硬化性
樹脂を充填してケースを形成する。このケースの形成に
よって、金属板とケースとの結合も同時に行われる。こ
のケース形成工程の前または後に、絶縁体上に半導体装
置が設けられる。半導体装置を埋め込むように、ケース
内部に封止材が充填される。
【0011】この製造方法によれば、ケースの形成時に
同時に、ケースと金属板との結合も行われる。従って、
接着剤等の塗布工程を省略することができ、工程数を減
少させることができる。特に、熱硬化性樹脂を使用して
いるので、ケースと金属板との接着が非常に良好であ
り、しかも、接着剤等の中間介在物がケースと金属板と
の間に存在していないので、両者の間に隙間が形成され
ることがなく、ケース内部に封止材を充填しても、ケー
スから封止材が漏れ出ることがない。
【0012】ケース形成時には、底部形成用空間及び周
壁形成用空間に、半導体装置に結合される端子を配置す
ることができる。この場合、ケースの形成及びケースと
金属板との結合時に、同時に端子のケースへの取付も行
うことができ、工程数を減少させることができる。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態の半導体モ
ジュールは、図2(b)に示すように、金属板、例えば
金属基板30を有している。この金属基板30は、例え
ば鉄、銅またはアルミニウム等の熱伝導性の良好な金属
製で、その形状は、例えば矩形に形成されている。この
金属基板30は、相対向する2つの平行な面を有し、そ
の一方の面上に絶縁板32が取り付けられている。この
絶縁板32は、例えば金属基板30よりも一回り小さい
矩形に、アルミナまたは窒化アルミ等の絶縁体によって
形成されている。この絶縁板32には、予め定めた導電
パターン、例えば銅回路が形成されている。この銅回路
の所定の位置に、それぞれ半導体装置、例えばIGB
T、MOSFETまたはパワーバイポーラトランジスタ
等の電力用半導体チップ34a、34b及び34cが半
田付けされている。
【0014】この金属基板30は、電力用半導体チップ
34a、34b及び34cが内部に収容されるように、
ケース36に取り付けられている。ケース36は、例え
ば熱硬化性樹脂、具体的にはAVライト、エポキシ樹脂
またはABS製である。このケース36は、例えば矩形
の底壁部36aと、これら底壁部36aの各縁部から底
壁部36aに対してほぼ垂直に同一方向に伸延した周壁
部36bを有している。底壁部36aには、金属基板3
0にほぼ対応する大きさの矩形の開口38が形成されて
いる。この開口38は、その下方側全域に段部40を有
している。この段部40は、金属基板30の上面(電力
用半導体チップ34a、34b及び34cが取り付けら
れている面)の周縁部と、この周縁部に連なる金属基板
30の周面の一部とに接触して、互いに結合されてい
る。この段部と金属基板30との結合は、直接に行われ
ており、両者の間には、接着剤等の介在物は存在してい
ない。なお、金属基板30の下面は、底壁部36aの下
面よりも下方に若干突出して位置している。このように
金属基板30の下面が底壁部36aの下面よりも突出し
ていると、金属基板を半田付け等によって固定しやす
い。
【0015】ケース36の周壁部36bのうち1つに
は、端子、例えばL字状の出力端子42の一部、例えば
垂直部42aが埋め込まれ、出力端子42の水平部42
bが、ケース36の底壁部36aの上面に露出してい
る。この出力端子42の水平部の先端が、図示していな
いが、電力用半導体チップ34bにワイヤーによって結
合されている。
【0016】電力用半導体チップ34a、34b等を埋
め込むように、ケース36の内部には、封止材44がケ
ース34の底部から高さ方向の中途まで充填されてい
る。
【0017】ケース36内において、封止材44の上面
よりも上方には、プリント基板46が、ケース36の底
壁部36aにほぼ平行に配置されている。このプリント
基板46には、電力用半導体装置34a、34b等を制
御したり、保護したりするための回路が構成されてい
る。符号48a、48b、48c、48d、48eで示
すのは、このプリント基板46上に配置された各部品で
ある。
【0018】このケース36の各周壁部36bの上部に
は、開口が形成されており、この開口は、蓋体50によ
って閉じられている。この蓋体50も、例えば、上述し
たような熱硬化性樹脂によって製造されている。
【0019】この半導体モジュールは、例えば次のよう
に製造される。先ず、図1(a)に示すように、金属基
板30を準備する。同図(b)に示すように、金属基板
30の一方の面に絶縁板32を形成する。
【0020】同図(c)に示すように、ケース36を形
成すると同時に、金属基板30とケース36とを結合す
る。そのため、先ず、金属基板30の上側面と下側面と
にモールドをそれぞれ配置する。このモールドの配置に
よって、ケース36の底壁部36aに相当する、金属基
板30の外方に伸びる底壁部形成空間と、周壁部36b
に相当する、底壁部形成空間の先端に底壁部形成空間と
ほぼ垂直に形成された周壁部形成空間とが、金属基板3
0の周囲に形成される。このとき、L字状出力端子42
も、周壁部形成空間部と底壁部形成空間とに配置され
る。このモールド内に、上述した熱硬化性樹脂が注入さ
れ、空間部の隅々まで充填される。そして、モールドを
加熱することによって熱硬化性樹脂を硬化させる。この
とき、熱硬化性樹脂は、加熱時に接しているものと強固
に接着する性質を有しているので、金属基板の上面の周
縁部及びこれに連なる周壁面の一部と熱硬化性樹脂とが
強固に接着され、金属基板32とケース36とが一体と
なる。同時に、出力端子42の垂直部42aも周壁部3
6b内に埋め込まれ、かつ周壁部36bを構成している
熱硬化性樹脂と強固に接着され、一体となる。
【0021】同図(d)に示すように、絶縁板32の銅
回路の所定位置に、それぞれクリーム半田52a乃至5
2cを塗布し、これら半田52a乃至52c上に電力用
半導体チップ34a、34b及びその他のチップ34c
を配置し、加熱炉を通して、チップ34a、34b及び
34cを銅回路の所定位置に半田付けする。
【0022】図2(a)に示すように、ケース36の内
部に封止材、例えばゲル状の封止材44が充填される。
この充填は、ケース36の底部36aからチップ34
a、34b及び34cを超える高さまで行われる。これ
によって、チップ34a、34b及び34cの保護が行
われる。
【0023】その後、同図(b)に示すように、ケース
36内における封止材44の上方に、プリント基板46
が配置され、蓋体50が周壁部36b上部の開口に取り
付けられる。
【0024】このように半導体モジュールを製造してい
るので、特に、熱硬化性樹脂によってケース36を形成
する際に、同時に金属基板30とケース36とを密着さ
せているので、金属基板30とケース36とが強固に結
合され、両者の間に隙間が形成されることがない。従っ
て、ゲル状の封止材44をケース36内に充填しても、
封止材46が漏れ出ることはない。また、ケース36と
金属基板30とを接着剤によって接着する工程が不要で
あるので、工程数を減少させられる。しかも、出力端子
42のケース36への固定も同時に行えるので、益々工
程数を減少させられる。
【0025】上記の実施の形態では、ケース36と金属
基板30とを結合した後に、チップ34a、34b及び
34cを絶縁板32に半田付けしたが、チップ34a、
34b及び34cを絶縁板32に半田付けした後に、金
属基板30とケース36とを結合してもよい。また、上
記の実施の形態では、チップ34a、34b及び34c
の3つのチップを使用したが、その数は任意に変更する
ことができ、ただ1つのチップのみを設けることもでき
る。また、チップとしては、電力用半導体チップ34
a、34bを使用したが、電力用に限ったものではな
く、他の用途の半導体チップを使用することもできる。
また、上記の実施の形態では、半導体チップ34a、3
4b等の制御用及び保護用の回路が構成されたプリント
基板46を設けたが、場合によっては、これを省略する
ことができる。また、上記の実施の形態では、出力用端
子42をケース36内に埋め込んだが、必ずしも埋め込
む必要はなく、例えば蓋体50に設けることもできる。
上記の実施の形態では、金属基板30上に形成した絶縁
板32上にチップを設けたが、場合によっては、チップ
を直接に金属基板30上に取り付けることもできる。
【0026】
【発明の効果】以上のように、本発明による半導体モジ
ュールの製造方法によれば、ケース内に充填した封止材
が漏れ出ることを防止した半導体モジュールを、少ない
工程数で製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態の半導体モジュールの製
造工程の一部を示す図である。
【図2】図1の半導体モジュールの製造工程の残りの部
分を示す図である。
【図3】従来の半導体モジュールの製造工程を示す図で
ある。
【符号の説明】
30 金属基板 34a、34b 半導体チップ(半導体装置) 36 ケース 44 封止材
フロントページの続き (72)発明者 徳田 俊秀 大阪府大阪市東淀川区西淡路3丁目1番 56号 株式会社三社電機製作所内 (56)参考文献 特開 平11−260968(JP,A) 特開 平11−176992(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/28 H01L 25/07 H01L 25/18

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属板の周縁部から外方に伸びる底部形
    成用空間を設け、かつ、前記金属板上の絶縁体が内部に
    位置する周壁形成用空間を前記底部形成用空間の外方端
    部に連ねて設け、前記両空間に熱硬化性樹脂を充填して
    ケースを形成する工程と、 このケース形成工程の前または後に、前記絶縁体上に半
    導体装置を設ける工程と、 前記半導体装置を埋め込むように、前記ケース内部に封
    止材を充填する工程とを、 具備する半導体モジュールの製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体モジュールの製造
    方法において、 前記ケース形成工程では、前記底部形成用空間及び周壁
    形成用空間に、前記半導体装置に結合される端子が配置
    されている半導体モジュールの製造方法。
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