JP3406669B2 - β−ラクタム系化合物の製造方法及びその中間体 - Google Patents
β−ラクタム系化合物の製造方法及びその中間体Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
【0001】本発明はβ−ラクタム系抗生物質を製造す
るために有用な方法に関する。とりわけ、本発明はβ−
ラクタム系抗生物質を製造するために有益な中間生成物
であるカルバペナム誘導体の製造方法、及びその方法に
有用な中間体に関する。より詳細には、新規有用なアゼ
チジノン誘導体を環化させることを特徴とするβ−ラク
タム系化合物の製造方法、及びそのようなアゼチジノン
誘導体に関する。現在感染症の処置に臨床上使用されて
いる抗生物質の中にβ−ラクタム系抗生物質があるが、
そのβ−ラクタム系薬物もさらに分類でき、比較的新し
い薬物としてカルバペナム又はカルバペネム骨格を有す
る抗生物質が挙げられる。
るために有用な方法に関する。とりわけ、本発明はβ−
ラクタム系抗生物質を製造するために有益な中間生成物
であるカルバペナム誘導体の製造方法、及びその方法に
有用な中間体に関する。より詳細には、新規有用なアゼ
チジノン誘導体を環化させることを特徴とするβ−ラク
タム系化合物の製造方法、及びそのようなアゼチジノン
誘導体に関する。現在感染症の処置に臨床上使用されて
いる抗生物質の中にβ−ラクタム系抗生物質があるが、
そのβ−ラクタム系薬物もさらに分類でき、比較的新し
い薬物としてカルバペナム又はカルバペネム骨格を有す
る抗生物質が挙げられる。
【0002】このカルバペナム又はカルバペネム抗生物
質を製造する方法には、アゼチジノン誘導体からカルバ
ペナム骨格を有する誘導体の製造工程が包含され得る。
このような工程として、EP 0037080 A1に
は、下記反応式で示される工程が記載されている:
質を製造する方法には、アゼチジノン誘導体からカルバ
ペナム骨格を有する誘導体の製造工程が包含され得る。
このような工程として、EP 0037080 A1に
は、下記反応式で示される工程が記載されている:
【化6】
この工程は、好ましくは触媒CuSO4、Pd(OAc)2又
はRh2(OAc)4などの存在下にジアゾ中間体を50−1
00℃に加熱することを特徴とする環化反応である。こ
の工程は現在一応工業的に大規模に利用されている。
はRh2(OAc)4などの存在下にジアゾ中間体を50−1
00℃に加熱することを特徴とする環化反応である。こ
の工程は現在一応工業的に大規模に利用されている。
【0003】しかし、上記の工程は、使用するアジド試
薬やジアゾ中間体の加熱時爆発性が高いという欠点を有
している。即ち、大量のジアゾ中間体を取り扱うことは
爆発性の危険性から望ましくなく、従って上記の工程は
カルバペナム骨格製造のための工業的製法としては、満
足のいく方法ではない。そこで、本発明者らは鋭意研究
を行い、上記のアジド試薬、ジアゾ中間体を使用するこ
となく、安全かつ簡易にカルバペナム骨格を製造できる
方法を見いだした。
薬やジアゾ中間体の加熱時爆発性が高いという欠点を有
している。即ち、大量のジアゾ中間体を取り扱うことは
爆発性の危険性から望ましくなく、従って上記の工程は
カルバペナム骨格製造のための工業的製法としては、満
足のいく方法ではない。そこで、本発明者らは鋭意研究
を行い、上記のアジド試薬、ジアゾ中間体を使用するこ
となく、安全かつ簡易にカルバペナム骨格を製造できる
方法を見いだした。
【0004】本発明は、式(II):
【化7】
[式中、R1は、水素、置換基を有していてもよいアル
キル、置換基を有していてもよいアミノ、R2はカルボ
キシ保護基、R3は置換基を有していてもよいアリー
ル、Xは、O又はSが介在していてもよく、さらに置換
基を有していてもよいアルキレンを表わす]で示される
アゼチジノン誘導体を環化することを特徴とする式
(I):
キル、置換基を有していてもよいアミノ、R2はカルボ
キシ保護基、R3は置換基を有していてもよいアリー
ル、Xは、O又はSが介在していてもよく、さらに置換
基を有していてもよいアルキレンを表わす]で示される
アゼチジノン誘導体を環化することを特徴とする式
(I):
【化8】
[式中、R1、R2及びXはそれぞれ前記と同意義であ
る]で示されるβ−ラクタム系化合物の製造方法に関す
る。
る]で示されるβ−ラクタム系化合物の製造方法に関す
る。
【0005】上記式中、R1においてアルキルとは、直
鎖又は分枝状のC1−C6アルキル、好ましくはC1−C4
アルキルを意味する。該アルキルの置換基としてはハロ
ゲン、及びヒドロキシ保護基により保護されていてもよ
いヒドロキシ等が例示される。ヒドロキシの保護基とし
ては例えば、C1−C4アルコキシカルボニル(例えば、
t−ブチルオキシカルボニル)などの低級アルコキシカ
ルボニル、ハロゲン化(C1−C3)アルコキシカルボニル
(例えば、2−ヨードエチルオキシカルボニル、2,
2,2−トリクロロエチルオキシカルボニル)などのハ
ロゲン化低級アルコキシカルボニル、ベンゼン環に置換
分(群)を有することあるフェニル(C1−C4)アルコキシ
カルボニル(ベンジルオキシカルボニル、o−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル)な
どのアリール(低級)アルコキシカルボニル、トリ(C1−
C4)アルキルシリル(例えば、トリメチルシリル、t−
ブチルジメチルシリル)などのトリ(低級)アルキルシリ
ル、C1−C4アルコキシメチル(例えば、メトキシメチ
ル)、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルコキシメチル
(例えば、2−メトキシエトキシメチル)、C1−C4ア
ルキルチオメチル(例えば、メチルチオメチル)などの
置換メチル、テトラヒドロピラニル、などの通常の基が
挙げられる。R1における特に好ましい基は、ヒドロキ
シエチルである。
鎖又は分枝状のC1−C6アルキル、好ましくはC1−C4
アルキルを意味する。該アルキルの置換基としてはハロ
ゲン、及びヒドロキシ保護基により保護されていてもよ
いヒドロキシ等が例示される。ヒドロキシの保護基とし
ては例えば、C1−C4アルコキシカルボニル(例えば、
t−ブチルオキシカルボニル)などの低級アルコキシカ
ルボニル、ハロゲン化(C1−C3)アルコキシカルボニル
(例えば、2−ヨードエチルオキシカルボニル、2,
2,2−トリクロロエチルオキシカルボニル)などのハ
ロゲン化低級アルコキシカルボニル、ベンゼン環に置換
分(群)を有することあるフェニル(C1−C4)アルコキシ
カルボニル(ベンジルオキシカルボニル、o−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル)な
どのアリール(低級)アルコキシカルボニル、トリ(C1−
C4)アルキルシリル(例えば、トリメチルシリル、t−
ブチルジメチルシリル)などのトリ(低級)アルキルシリ
ル、C1−C4アルコキシメチル(例えば、メトキシメチ
ル)、C1−C4アルコキシ(C1−C4)アルコキシメチル
(例えば、2−メトキシエトキシメチル)、C1−C4ア
ルキルチオメチル(例えば、メチルチオメチル)などの
置換メチル、テトラヒドロピラニル、などの通常の基が
挙げられる。R1における特に好ましい基は、ヒドロキ
シエチルである。
【0006】R1におけるアミノ基の置換基は、ペニシ
リン、セファロスポリンの化学の分野で、分子中の他の
部分に不都合な変化を起こすことなく着脱可能な炭素数
1−20のアミノ保護基が好ましい。代表例には、いず
れも更に置換基を有していてもよい炭素数1−8のアル
キル(t−ブチル、メトキシメチル、メトキシエトキシ
メチル、トリクロロエチル、テトラヒドロピラニルな
ど)、炭素数7−20のアラルキル(ベンジル、ジフェ
ニルメチル、トリチル、メトキシベンジル、ニトロベン
ジル、メチルベンジルなど)、炭素数6−12のアリー
ルチオ(ニトロフェニルチオなど)、炭素数1−8のア
ルキリデン、炭素数7−14のアラルキリデン(ベンジ
リデンまたは置換ベンジリデン)、アシル[炭素数1−
8のアルカノイル(ホルミル、アセチル、クロロアセチ
ル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルな
ど)、炭素数7−15のアラルカノイル(フェニルアセ
チル、フェニルグリシル、フェニルグリコリル、フェニ
ルマロニル、チアゾリルアセチル、アミノチアゾリル−
α−ヒドロキシイミノアセチルなど)、炭素数7−15
のアロイル(ベンゾイル、ニトロベンゾイルなど)、炭
素数2−12のアルコキシカルボニル(ここにアルキル
部分はメチル、エチル、プロピル、シクロプロピルエチ
ル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、イソ
ブチル、トリクロロエチル、ピリジルメチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシルなど)、炭素数8−15のアラ
ルコキシカルボニル(ここにアラルキル部分はベンジ
ル、ジフェニルメチル、ニトロベンジルなど)、炭素数
3−10の二塩基性酸アシル(サクシニル、フタロイル
など)、ハロスルホニル、炭素数0−10の燐酸アシル
(ジアルコキシホスホリル、ジクロロホスホリルな
ど)、その他]、炭素数3−15のトリアルキルシリ
ル、炭素数3−15のトリアルキルスタニルなどのアミ
ノ保護基がある。
リン、セファロスポリンの化学の分野で、分子中の他の
部分に不都合な変化を起こすことなく着脱可能な炭素数
1−20のアミノ保護基が好ましい。代表例には、いず
れも更に置換基を有していてもよい炭素数1−8のアル
キル(t−ブチル、メトキシメチル、メトキシエトキシ
メチル、トリクロロエチル、テトラヒドロピラニルな
ど)、炭素数7−20のアラルキル(ベンジル、ジフェ
ニルメチル、トリチル、メトキシベンジル、ニトロベン
ジル、メチルベンジルなど)、炭素数6−12のアリー
ルチオ(ニトロフェニルチオなど)、炭素数1−8のア
ルキリデン、炭素数7−14のアラルキリデン(ベンジ
リデンまたは置換ベンジリデン)、アシル[炭素数1−
8のアルカノイル(ホルミル、アセチル、クロロアセチ
ル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルな
ど)、炭素数7−15のアラルカノイル(フェニルアセ
チル、フェニルグリシル、フェニルグリコリル、フェニ
ルマロニル、チアゾリルアセチル、アミノチアゾリル−
α−ヒドロキシイミノアセチルなど)、炭素数7−15
のアロイル(ベンゾイル、ニトロベンゾイルなど)、炭
素数2−12のアルコキシカルボニル(ここにアルキル
部分はメチル、エチル、プロピル、シクロプロピルエチ
ル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、イソ
ブチル、トリクロロエチル、ピリジルメチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシルなど)、炭素数8−15のアラ
ルコキシカルボニル(ここにアラルキル部分はベンジ
ル、ジフェニルメチル、ニトロベンジルなど)、炭素数
3−10の二塩基性酸アシル(サクシニル、フタロイル
など)、ハロスルホニル、炭素数0−10の燐酸アシル
(ジアルコキシホスホリル、ジクロロホスホリルな
ど)、その他]、炭素数3−15のトリアルキルシリ
ル、炭素数3−15のトリアルキルスタニルなどのアミ
ノ保護基がある。
【0007】上記式中、R2における「カルボキシ保護
基」なる用語は例えば、C1−C4アルキル(例えば、メ
チル、エチル、イソプロピル、t−ブチル)などの低級
アルキル、ハロゲン化C1−C3アルキル(例えば、2−
ヨードエチル、2,2,2−トリクロロエチル)などの
ハロゲン化低級アルキル、C1−C4アルコキシメチル
(例えば、メトキシメチル、エトキシメチル、イソブト
キシメチル)などの低級アルコキシメチル、C1−C5ア
ルカノイルオキシメチル(例えば、アセトキシメチル、
プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、ピ
バロイルオキシメチル)などの低級脂肪族アシルオキシ
メチル、1−(C1−C4アルコキシカルボニルオキシ)エ
チル(例えば、1−メトキシカルボニルオキシエチル、
1−エトキシカルボニルオキシエチル)などの低級アル
コキシカルボニルオキシエチル、C1−C4アルキルもし
くはフェニルによって置換されていることあるC3−C
10アルケニル(例えば、アリル、2−メチルアリル、3
−メチルアリル、3−フェニルアリル)などの置換され
ていることある低級アルケニル、C1−C4アルコキシ、
ニトロ、ハロゲンなどから選ばれる置換分(群)をベンゼ
ン環に有することあるフェニル(C1−C4)アルキル(例
えば、ベンジル、p−メトキシベンジル、2,4−ジメ
トキシベンジル、o−ニトロベンジル、p−ニトロベン
ジル、p−クロロベンジル)などの置換されていること
あるモノアリール(低級)アルキル、C1−C4アルコキシ
などから選ばれる置換分(群)をベンゼン環に有すること
あるジフェニル(C1−C4)アルキル(例えば、ジフェニ
ルメチル、ジ−p−アニシルメチル)などの置換されて
いることあるジアリール(低級)アルキル、ハロゲン、ニ
トロ、C1−C4アルコキシなどによって置換されている
ことあるフェニル(例えば、フェニル、p−クロロフェ
ニル、2,4,5−トリクロロフェニル、p−ニトロフ
ェニル、o−ニトロフェニル、p−メトキシフェニル)
などのアリール、C1−C4アルキルによって置換されて
いることあるピリジル又はピリミジル(例えば、2−ピ
リジル、3−ピリジル、4−ピリジル、2−ピリミジ
ル、2−(4,6−ジメチル)ピリミジル)などのヘテロ
アリール、フタリジルなどの、カルボキシ基を保護する
通常の基を意味する。
基」なる用語は例えば、C1−C4アルキル(例えば、メ
チル、エチル、イソプロピル、t−ブチル)などの低級
アルキル、ハロゲン化C1−C3アルキル(例えば、2−
ヨードエチル、2,2,2−トリクロロエチル)などの
ハロゲン化低級アルキル、C1−C4アルコキシメチル
(例えば、メトキシメチル、エトキシメチル、イソブト
キシメチル)などの低級アルコキシメチル、C1−C5ア
ルカノイルオキシメチル(例えば、アセトキシメチル、
プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、ピ
バロイルオキシメチル)などの低級脂肪族アシルオキシ
メチル、1−(C1−C4アルコキシカルボニルオキシ)エ
チル(例えば、1−メトキシカルボニルオキシエチル、
1−エトキシカルボニルオキシエチル)などの低級アル
コキシカルボニルオキシエチル、C1−C4アルキルもし
くはフェニルによって置換されていることあるC3−C
10アルケニル(例えば、アリル、2−メチルアリル、3
−メチルアリル、3−フェニルアリル)などの置換され
ていることある低級アルケニル、C1−C4アルコキシ、
ニトロ、ハロゲンなどから選ばれる置換分(群)をベンゼ
ン環に有することあるフェニル(C1−C4)アルキル(例
えば、ベンジル、p−メトキシベンジル、2,4−ジメ
トキシベンジル、o−ニトロベンジル、p−ニトロベン
ジル、p−クロロベンジル)などの置換されていること
あるモノアリール(低級)アルキル、C1−C4アルコキシ
などから選ばれる置換分(群)をベンゼン環に有すること
あるジフェニル(C1−C4)アルキル(例えば、ジフェニ
ルメチル、ジ−p−アニシルメチル)などの置換されて
いることあるジアリール(低級)アルキル、ハロゲン、ニ
トロ、C1−C4アルコキシなどによって置換されている
ことあるフェニル(例えば、フェニル、p−クロロフェ
ニル、2,4,5−トリクロロフェニル、p−ニトロフ
ェニル、o−ニトロフェニル、p−メトキシフェニル)
などのアリール、C1−C4アルキルによって置換されて
いることあるピリジル又はピリミジル(例えば、2−ピ
リジル、3−ピリジル、4−ピリジル、2−ピリミジ
ル、2−(4,6−ジメチル)ピリミジル)などのヘテロ
アリール、フタリジルなどの、カルボキシ基を保護する
通常の基を意味する。
【0008】上記式中、R3における「アリール」とし
てはフェニル、ナフチルが挙げられ、これらは、ハロゲ
ン、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、アミ
ノ、ニトロ等で置換されていてもよい。なかでもフェニ
ルが特に好ましい。
てはフェニル、ナフチルが挙げられ、これらは、ハロゲ
ン、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、アミ
ノ、ニトロ等で置換されていてもよい。なかでもフェニ
ルが特に好ましい。
【0009】Xの定義において、アルキレンとしては、
好ましくはC1−C5アルキレン、更に好ましくはC1−
C3アルキレンであり、例えばメチレン、エチレン、プ
ロピレン、ブチレン、ペンチレンが挙げられる。これら
はOもしくはSによって介在されていてもよく、さらに
置換基(低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキル
チオ、アリール、低級アルケニル等)によって置換され
ていてもよい。このアルキレンとしては例えば、−OC
H2−、−SCH2−、−O(CH2)2−、−S(CH2)
2−、又は式:
好ましくはC1−C5アルキレン、更に好ましくはC1−
C3アルキレンであり、例えばメチレン、エチレン、プ
ロピレン、ブチレン、ペンチレンが挙げられる。これら
はOもしくはSによって介在されていてもよく、さらに
置換基(低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキル
チオ、アリール、低級アルケニル等)によって置換され
ていてもよい。このアルキレンとしては例えば、−OC
H2−、−SCH2−、−O(CH2)2−、−S(CH2)
2−、又は式:
【化9】
で示される基等が例示される。好適な基の1例は、一般
式: CnH2n+1CH= (nは0以上の整数、好ましくは0から5までの整数)
で表される基(アルキリデン)であり、エチリデン(C
H3CH=)、プロピリデン(CH3CH2CH=)、イ
ソプロピリデン((CH3)2C=)等が例示され、特に好
ましくは、エチリデンである。
式: CnH2n+1CH= (nは0以上の整数、好ましくは0から5までの整数)
で表される基(アルキリデン)であり、エチリデン(C
H3CH=)、プロピリデン(CH3CH2CH=)、イ
ソプロピリデン((CH3)2C=)等が例示され、特に好
ましくは、エチリデンである。
【0010】本発明の方法は上記のようにアゼチジノン
誘導体からβ−ラクタム系化合物を合成する工程からな
る。この方法は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中にて
行われるが、好ましくは非プロトン系溶媒中にて行う。
非プロトン系溶媒としてはメチレンクロライド、ベンゼ
ン、トルエン、テトラヒドロフランなどが好ましい。反
応は、温度:−20〜100℃、好ましくは−10〜5
0℃、特に好ましくは氷冷下〜室温にて行い、反応は数
十分〜数十時間で実質的に終了する。
誘導体からβ−ラクタム系化合物を合成する工程からな
る。この方法は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中にて
行われるが、好ましくは非プロトン系溶媒中にて行う。
非プロトン系溶媒としてはメチレンクロライド、ベンゼ
ン、トルエン、テトラヒドロフランなどが好ましい。反
応は、温度:−20〜100℃、好ましくは−10〜5
0℃、特に好ましくは氷冷下〜室温にて行い、反応は数
十分〜数十時間で実質的に終了する。
【0011】本反応は、好ましくは、触媒存在下にて行
う。該触媒としては、化合物(II)を環化させるもので
あればよいが、なかでも遷移金属触媒、とりわけロジウ
ム塩が好ましい。該ロジウム塩としては、カルボン酸と
の塩が例示され、酢酸塩(Rh2(OAc)4)、トリフルオ
ロ酢酸塩(Rh2(CF3CO2)4)、ピバリック酸塩(Rh2
((CH3)3CCO2)4)、オクタン酸塩(Rh2(C7H15C
OO)4)等が挙げられる。触媒量は、使用する触媒の種
類、反応温度等により異なるが、好ましくは、アゼチジ
ノン誘導体1モル当たり0.001〜0.1モルであ
る。
う。該触媒としては、化合物(II)を環化させるもので
あればよいが、なかでも遷移金属触媒、とりわけロジウ
ム塩が好ましい。該ロジウム塩としては、カルボン酸と
の塩が例示され、酢酸塩(Rh2(OAc)4)、トリフルオ
ロ酢酸塩(Rh2(CF3CO2)4)、ピバリック酸塩(Rh2
((CH3)3CCO2)4)、オクタン酸塩(Rh2(C7H15C
OO)4)等が挙げられる。触媒量は、使用する触媒の種
類、反応温度等により異なるが、好ましくは、アゼチジ
ノン誘導体1モル当たり0.001〜0.1モルであ
る。
【0012】本発明は別の態様として、本発明方法の出
発物質として使用できる式(II):
発物質として使用できる式(II):
【化10】
[式中、R1、R2、R3及びXは前記と同意義であ
る。]で示される新規なアゼチジノン誘導体をも提供す
る。本発明のアゼチジノン誘導体は、例えば式(III):
る。]で示される新規なアゼチジノン誘導体をも提供す
る。本発明のアゼチジノン誘導体は、例えば式(III):
【化11】
[式中、R1、R2及びXはそれぞれ前記と同意義であ
る]で示される化合物を式: R3−I(Q)2 (ここに、R3は前記と同意義、Qは酸の負イオンに由
来する置換基である)で示される化合物と反応させるこ
とにより製造される。
る]で示される化合物を式: R3−I(Q)2 (ここに、R3は前記と同意義、Qは酸の負イオンに由
来する置換基である)で示される化合物と反応させるこ
とにより製造される。
【0013】R3−I(Q)2において、Qは酸、即ち有機
酸又は無機酸の負イオンに由来する置換基を表す。該有
機酸としてはカルボン酸、スルホン酸等が例示される。
また、該無機酸としては、ハロゲン化水素酸(HF、H
Cl、HBr等)が例示される。R3−I(Q)2の好まし
い例としては、PhI(OCOCH3)2、PhI(OCOC
F3)2、PhIF2等が挙げられる。該反応は溶媒中、
塩基存在下にて行われる。溶媒としては、反応に悪影響
を及ぼさないものであればさしつかえないが、好ましく
は、メタノール等のアルコール系溶媒である。塩基とし
ては、有機塩基(第3級アミン、芳香族塩基など)、又
は無機塩基(アルカリ金属、アルカリ土類金属などの酸
化物、水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩など)が使用可能で
ある。なお、化合物(III)はβ−ラクタム系抗生物質の
分野において公知の方法を応用して製造することができ
る。また、化合物(II)はR3−I(Q)2の代わりに(Ph
IO)n、PhI(OH)OTs等を用いて文献[Varvoglis
A., Synthesis, 709(1984)、Moriarty R. M., Valid R.
K., Synthesis, 431(1990)]に記載の方法を適用する
ことによっても合成可能である。
酸又は無機酸の負イオンに由来する置換基を表す。該有
機酸としてはカルボン酸、スルホン酸等が例示される。
また、該無機酸としては、ハロゲン化水素酸(HF、H
Cl、HBr等)が例示される。R3−I(Q)2の好まし
い例としては、PhI(OCOCH3)2、PhI(OCOC
F3)2、PhIF2等が挙げられる。該反応は溶媒中、
塩基存在下にて行われる。溶媒としては、反応に悪影響
を及ぼさないものであればさしつかえないが、好ましく
は、メタノール等のアルコール系溶媒である。塩基とし
ては、有機塩基(第3級アミン、芳香族塩基など)、又
は無機塩基(アルカリ金属、アルカリ土類金属などの酸
化物、水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩など)が使用可能で
ある。なお、化合物(III)はβ−ラクタム系抗生物質の
分野において公知の方法を応用して製造することができ
る。また、化合物(II)はR3−I(Q)2の代わりに(Ph
IO)n、PhI(OH)OTs等を用いて文献[Varvoglis
A., Synthesis, 709(1984)、Moriarty R. M., Valid R.
K., Synthesis, 431(1990)]に記載の方法を適用する
ことによっても合成可能である。
【0014】本発明はさらに、式(II)で示されるアゼチ
ジノン誘導体の上記の製造方法を経由する式(I)のβ−
ラクタム系化合物の製造方法、即ち、式(III):
ジノン誘導体の上記の製造方法を経由する式(I)のβ−
ラクタム系化合物の製造方法、即ち、式(III):
【化12】
[式中、R1、R2及びXはそれぞれ前記と同意義であ
る]で示される化合物を式: R3−I(Q)2 (ここに、R3、及びQは前記と同意義である)で示さ
れる化合物と反応させ、式(II):
る]で示される化合物を式: R3−I(Q)2 (ここに、R3、及びQは前記と同意義である)で示さ
れる化合物と反応させ、式(II):
【化13】
で示されるアゼチジノン誘導体を製造し、次いで得られ
た式(II)の化合物を環化させることを特徴とする式
(I):
た式(II)の化合物を環化させることを特徴とする式
(I):
【化14】
[式中、R1、R2、R3及びXはそれぞれ前記と同意義
である]で示されるβ−ラクタム系化合物の製造方法、
をも提供するものである。
である]で示されるβ−ラクタム系化合物の製造方法、
をも提供するものである。
【0015】本発明方法によって得られる式(I)で示さ
れる化合物は、例えば特願平4−221767号に記載
されている式:
れる化合物は、例えば特願平4−221767号に記載
されている式:
【化15】
で示される化合物を製造するための出発原料として使用
できる。例えば、これをリン酸エステル化して活性化し
たものにチオール化合物を作用させれば公知の2−チオ
化カルバペネム化合物を、またエノールクロル化すれば
公知の3−クロロカルバセフェム化合物にそれぞれ誘導
できる。
できる。例えば、これをリン酸エステル化して活性化し
たものにチオール化合物を作用させれば公知の2−チオ
化カルバペネム化合物を、またエノールクロル化すれば
公知の3−クロロカルバセフェム化合物にそれぞれ誘導
できる。
【0016】以下に実施例及び参考例を挙げて本発明を
さらに詳細に説明するが、これらは本発明の範囲を限定
するものでない。実施例1 ジフェニルメチル・(1R,5R,6S)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−
オキソ−1−カルバペナム−3−カルボキシレート(化
合物3)
さらに詳細に説明するが、これらは本発明の範囲を限定
するものでない。実施例1 ジフェニルメチル・(1R,5R,6S)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−
オキソ−1−カルバペナム−3−カルボキシレート(化
合物3)
【化16】
I.(3S,4R)−3−[(R)−1−ヒドロキシエ
チル]−4−[(R)−3−ジフェニルメトキシカルボ
ニル−1−メチル−2−オキソ−3−フェニルヨードニ
オプロピル]−アゼチジン−2−オン(化合物2) (A法) ヨードベンゼンジアセテート(1.68g、
5.22ミリモル)をメタノール(20ml)に溶か
し、これにナトリウムメチラートの1.26Nメタノー
ル溶液(8.28ml、10.4ミリモル)を加えて、室
温で10分間撹拌する。次に化合物1:(3S,4R)
−3−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−
[(R)−3−ジフェニルメトキシカルボニル−1−メ
チル−2−オキソプロピル]−アゼチジン−2−オン
(2.00g、5.06ミリモル)を加え、室温で20
分間撹拌する。反応液を濃縮し、残渣に酢酸エチル(3
0ml)を加え、酢酸ナトリウムを濾去する。濾液を濃縮
し、残渣に酢酸エチル(10ml)とヘキサン(40ml)
を加えて結晶化し濾過すれば、淡黄白結晶として化合物
2(2.70g、89%)を得る。 (B法) ヨードベンゼンジアセテート(420mg、
1.30ミリモル)をメタノール(5ml)に溶かし、こ
れに炭酸カリウム(180mg、1.30ミリモル)を
加え、室温で10分間撹拌する。次に、化合物1(50
0mg、1.27ミリモル)を加え、室温で20分間撹
拌する。反応液を濃縮し、残渣に酢酸エチル(8ml)を
加え、酢酸カリウムを濾去する。濾液を濃縮し、残渣に
酢酸エチル(4ml)とヘキサン(20ml)を加えて結晶
化し濾過すれば、淡黄白結晶として化合物2(702m
g、93%)を得る。
チル]−4−[(R)−3−ジフェニルメトキシカルボ
ニル−1−メチル−2−オキソ−3−フェニルヨードニ
オプロピル]−アゼチジン−2−オン(化合物2) (A法) ヨードベンゼンジアセテート(1.68g、
5.22ミリモル)をメタノール(20ml)に溶か
し、これにナトリウムメチラートの1.26Nメタノー
ル溶液(8.28ml、10.4ミリモル)を加えて、室
温で10分間撹拌する。次に化合物1:(3S,4R)
−3−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−
[(R)−3−ジフェニルメトキシカルボニル−1−メ
チル−2−オキソプロピル]−アゼチジン−2−オン
(2.00g、5.06ミリモル)を加え、室温で20
分間撹拌する。反応液を濃縮し、残渣に酢酸エチル(3
0ml)を加え、酢酸ナトリウムを濾去する。濾液を濃縮
し、残渣に酢酸エチル(10ml)とヘキサン(40ml)
を加えて結晶化し濾過すれば、淡黄白結晶として化合物
2(2.70g、89%)を得る。 (B法) ヨードベンゼンジアセテート(420mg、
1.30ミリモル)をメタノール(5ml)に溶かし、こ
れに炭酸カリウム(180mg、1.30ミリモル)を
加え、室温で10分間撹拌する。次に、化合物1(50
0mg、1.27ミリモル)を加え、室温で20分間撹
拌する。反応液を濃縮し、残渣に酢酸エチル(8ml)を
加え、酢酸カリウムを濾去する。濾液を濃縮し、残渣に
酢酸エチル(4ml)とヘキサン(20ml)を加えて結晶
化し濾過すれば、淡黄白結晶として化合物2(702m
g、93%)を得る。
【0017】化合物2:融点;109〜111℃;1
H−NMR(CDCl3)δ:7.66(2H,d,J
=8.2Hz),7.53(1H,t,J=8.2H
z),7.4〜7.2(12H,m),6.86(1
H,s),6.05(1H,brs),4.14〜3.8
8(2H,m),3.77(1H,dd,J=1.8H
z,8.3Hz),2.69(1H,dd,J=1.8H
z,8.8Hz),1.26(3H,d,J=6.4H
z),1.20(3H,d,J=6.8Hz); IR(CHCl3)cm-1:3400(br),1752,1
655,1560,1545,1538,1380,1
370,1340。
=8.2Hz),7.53(1H,t,J=8.2H
z),7.4〜7.2(12H,m),6.86(1
H,s),6.05(1H,brs),4.14〜3.8
8(2H,m),3.77(1H,dd,J=1.8H
z,8.3Hz),2.69(1H,dd,J=1.8H
z,8.8Hz),1.26(3H,d,J=6.4H
z),1.20(3H,d,J=6.8Hz); IR(CHCl3)cm-1:3400(br),1752,1
655,1560,1545,1538,1380,1
370,1340。
【0018】II. 標題の化合物3
上記I項で得た化合物2(200mg、0.335ミリ
モル)をジクロロメタン(6ml)に懸濁させ、これにロ
ジウムアセテート(1.5mg、0.0034ミリモ
ル)を加えて、室温で20分間撹拌する。反応液をジク
ロロメタンでうすめ、水で1回、塩水で1回洗浄し、無
水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮する。得られた残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチ
ル:酢酸=250:250:1で溶出)により精製すれ
ば、無色フォームとして化合物3(113mg、86
%)を得る。 化合物3:1H−NMR(CDCl3)δ:7.4〜7.
2(10H,m),6.87(1H,s),4.76
(1H,s),4.29(1H,quintet,J=6.5
Hz),4.22(1H,dd,J=2.3Hz,7.9
Hz),3.24(1H,dd,J=2.3Hz,7.0
Hz),2.77(1H,quintet,J=7.7Hz),
1.37(3H,d,J=6.2Hz),1.20(3
H,d,J=7.8Hz); IR(CHCl3)cm-1:3600,3500(br),1
765,1750(肩),1495,1455,138
0,1360,1295。
モル)をジクロロメタン(6ml)に懸濁させ、これにロ
ジウムアセテート(1.5mg、0.0034ミリモ
ル)を加えて、室温で20分間撹拌する。反応液をジク
ロロメタンでうすめ、水で1回、塩水で1回洗浄し、無
水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮する。得られた残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチ
ル:酢酸=250:250:1で溶出)により精製すれ
ば、無色フォームとして化合物3(113mg、86
%)を得る。 化合物3:1H−NMR(CDCl3)δ:7.4〜7.
2(10H,m),6.87(1H,s),4.76
(1H,s),4.29(1H,quintet,J=6.5
Hz),4.22(1H,dd,J=2.3Hz,7.9
Hz),3.24(1H,dd,J=2.3Hz,7.0
Hz),2.77(1H,quintet,J=7.7Hz),
1.37(3H,d,J=6.2Hz),1.20(3
H,d,J=7.8Hz); IR(CHCl3)cm-1:3600,3500(br),1
765,1750(肩),1495,1455,138
0,1360,1295。
【0019】実施例2 p−ニトロベンジル・(1R,5R,6S)−6−
[(R)−1−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル]−1−メチル−2−ジフェニルホスホリルオキシ−
1−カルバ−2−ペネム−3−カルボキシレート(化合
物6)
[(R)−1−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル]−1−メチル−2−ジフェニルホスホリルオキシ−
1−カルバ−2−ペネム−3−カルボキシレート(化合
物6)
【化17】
I.(3S,4R)−3−[(R)−1−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル]−4−[(R)−1−メ
チル−3−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−
オキソ−3−フェニルヨードニオプロピル]−アゼチジ
ン−2−オン(化合物5) 化合物4:(3S,4R)−3−[(R)−1−tert−
ブチルジメチルシリルオキシエチル]−4−[(R)−
1−メチル−3−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−2−オキソプロピル]−アゼチジン−2−オン(50
0mg、1.04ミリモル)をメタノール(1ml)に溶
かし、−5℃に冷却する。これに、水酸化カリウム(1
36mg、2.08ミリモル)をメタノール(1ml)に
溶かして加え、次に、ヨードベンゼンジアセテート(3
37mg、1.05ミリモル)をメタノール(2ml)に
溶かして加え、−10〜−5℃で40分間撹拌する。反
応液に氷水を加え、ジクロロメタンで2回抽出する。有
機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、濃縮すれば、淡
黄色結晶として化合物5(606mg、86%)を得
る。 化合物5:1H−NMR(CDCl3)δ:8.18〜
8.14(2H,m),7.7〜7.3(7H,m),
6.10(1H,brs),5.17(2H,s),4.
36〜4.22(1H,m),4.22〜4.08(1
H,m),3.86(1H,dd,J=2.1Hz,
4.1Hz),3.04〜2.97(1H,m),1.
17(3H,d,J=6.8Hz),1.14(3H,
d,J=6.2Hz),0.84(9H,s),0.0
5(3H,s),0.04(3H,s)。
ジメチルシリルオキシエチル]−4−[(R)−1−メ
チル−3−p−ニトロベンジルオキシカルボニル−2−
オキソ−3−フェニルヨードニオプロピル]−アゼチジ
ン−2−オン(化合物5) 化合物4:(3S,4R)−3−[(R)−1−tert−
ブチルジメチルシリルオキシエチル]−4−[(R)−
1−メチル−3−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
−2−オキソプロピル]−アゼチジン−2−オン(50
0mg、1.04ミリモル)をメタノール(1ml)に溶
かし、−5℃に冷却する。これに、水酸化カリウム(1
36mg、2.08ミリモル)をメタノール(1ml)に
溶かして加え、次に、ヨードベンゼンジアセテート(3
37mg、1.05ミリモル)をメタノール(2ml)に
溶かして加え、−10〜−5℃で40分間撹拌する。反
応液に氷水を加え、ジクロロメタンで2回抽出する。有
機層を無水硫酸ナトリウム上で乾燥後、濃縮すれば、淡
黄色結晶として化合物5(606mg、86%)を得
る。 化合物5:1H−NMR(CDCl3)δ:8.18〜
8.14(2H,m),7.7〜7.3(7H,m),
6.10(1H,brs),5.17(2H,s),4.
36〜4.22(1H,m),4.22〜4.08(1
H,m),3.86(1H,dd,J=2.1Hz,
4.1Hz),3.04〜2.97(1H,m),1.
17(3H,d,J=6.8Hz),1.14(3H,
d,J=6.2Hz),0.84(9H,s),0.0
5(3H,s),0.04(3H,s)。
【0020】II. 標題の化合物6
上記Iにて得た化合物5(120mg、0.176ミリ
モル)をジクロロメタン(1ml)に溶かし、氷冷下、ロ
ジウムアセテート(8mg、0.018ミリモル)を加
えて20分間撹拌する。反応液を濾過し、濃縮する。p
−ニトロベンジル・(1R,5R,6S)−6−
[(R)−1−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル]−1−メチル−2−オキソ−1−カルバ−2−ペネ
ム−3−カルボキシレートを含む残渣をアセトニトリル
(2ml)に溶かし、氷冷下、塩化ジフェニルリン酸(4
4μl、0.212ミリモル)及びジイソプロピルエチ
ルアミン(37μl、0.212ミリモル)を加え、5
0分間撹拌する。反応液を酢酸エチルでうすめ、希塩
酸、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、塩水で各々1回づ
つ洗浄する。次に、有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾
燥、濃縮する。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー(トルエン:酢酸エチル=10:1)で精製すれ
ば、無色泡状物として化合物6(50mg、40%)を
得る。 化合物6:1H−NMR(CDCl3)δ:8.2〜8.
1(2H,m),7.6〜7.15(12H,m),
5.33,5.23(2H,ABq,J=13.6H
z),4.32〜4.15(1H,m),4.19(1
H,dd,J=3.0Hz,7.6Hz),3.54〜
3.34(1H,m),3.28(1H,dd,J=
3.0Hz,5.7Hz),1.23(3H,d,J=6
Hz),1.20(3H,d,J=6Hz),0.86
(9H,s),0.07(3H,s),0.06(3
H,s)。
モル)をジクロロメタン(1ml)に溶かし、氷冷下、ロ
ジウムアセテート(8mg、0.018ミリモル)を加
えて20分間撹拌する。反応液を濾過し、濃縮する。p
−ニトロベンジル・(1R,5R,6S)−6−
[(R)−1−tert−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル]−1−メチル−2−オキソ−1−カルバ−2−ペネ
ム−3−カルボキシレートを含む残渣をアセトニトリル
(2ml)に溶かし、氷冷下、塩化ジフェニルリン酸(4
4μl、0.212ミリモル)及びジイソプロピルエチ
ルアミン(37μl、0.212ミリモル)を加え、5
0分間撹拌する。反応液を酢酸エチルでうすめ、希塩
酸、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、塩水で各々1回づ
つ洗浄する。次に、有機層を無水硫酸ナトリウム上で乾
燥、濃縮する。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー(トルエン:酢酸エチル=10:1)で精製すれ
ば、無色泡状物として化合物6(50mg、40%)を
得る。 化合物6:1H−NMR(CDCl3)δ:8.2〜8.
1(2H,m),7.6〜7.15(12H,m),
5.33,5.23(2H,ABq,J=13.6H
z),4.32〜4.15(1H,m),4.19(1
H,dd,J=3.0Hz,7.6Hz),3.54〜
3.34(1H,m),3.28(1H,dd,J=
3.0Hz,5.7Hz),1.23(3H,d,J=6
Hz),1.20(3H,d,J=6Hz),0.86
(9H,s),0.07(3H,s),0.06(3
H,s)。
【0021】実施例3 p−ニトロベンジル・(1R,5R,6S)−6−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−
オキソ−1−カルバペナム−3−カルボキシレート(化
合物13)
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1−メチル−2−
オキソ−1−カルバペナム−3−カルボキシレート(化
合物13)
【化18】
I.(3S,4R)−3−[(R)−1−ヒドロキシエ
チル]−4−[(R)−1−メチル−3−p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル−2−オキソ−3−フェニルヨ
ードニオプロピル]−アゼチジン−2−オン(化合物1
2) ヨードベンゼンジアセテート(456mg、1.42ミ
リモル)をメタノール(5ml)に溶かし、これに炭酸カ
リウム(196mg:1.42ミリモル)を加えて、室温
で20分間撹拌する。−78℃に冷却し、化合物11:
(3S,4R)−3−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−4−[(R)−1−メチル−3−p−ニトロベン
ジルオキシカルボニル−2−オキソプロピル]−アゼチ
ジン−2−オン(500mg、1.37ミリモル)を加
え、同温で30分間撹拌する。反応液を濃縮し、残渣に
酢酸エチル(8ml)を加え、不溶の酢酸カリウムを濾去
する。濾液を濃縮し、残渣に酢酸エチル(5ml)とヘキ
サン(15ml)を加えて結晶化し、濾取する。得られた
結晶を水洗し、乾燥すれば、白色結晶として、化合物1
2(676mg:87%)を得る。 化合物12: 融点:88〜89℃.1 H−NMR(CDCl3)δ:8.17(2H,d,J
=8.5Hz),7.74(2H,d,J=8.5H
z),7.58(1H,t,J=8Hz),7.43〜
7.35(4H,m),6.15(1H,brs),5.
20(2H,s),4.2〜3.85(2H,m),
3.81(1H,dd,J=1.9Hz,8.5H
z),3.74(1H,s),2.72(1H,brd,
J=8Hz),1.28(3H,d,J=6.8Hz),
1.24(3H,d,J=7.4Hz). IR(CHCl3)cm-1:3400(br),1750,1
655,1520,1380,1370,1340.
チル]−4−[(R)−1−メチル−3−p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル−2−オキソ−3−フェニルヨ
ードニオプロピル]−アゼチジン−2−オン(化合物1
2) ヨードベンゼンジアセテート(456mg、1.42ミ
リモル)をメタノール(5ml)に溶かし、これに炭酸カ
リウム(196mg:1.42ミリモル)を加えて、室温
で20分間撹拌する。−78℃に冷却し、化合物11:
(3S,4R)−3−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−4−[(R)−1−メチル−3−p−ニトロベン
ジルオキシカルボニル−2−オキソプロピル]−アゼチ
ジン−2−オン(500mg、1.37ミリモル)を加
え、同温で30分間撹拌する。反応液を濃縮し、残渣に
酢酸エチル(8ml)を加え、不溶の酢酸カリウムを濾去
する。濾液を濃縮し、残渣に酢酸エチル(5ml)とヘキ
サン(15ml)を加えて結晶化し、濾取する。得られた
結晶を水洗し、乾燥すれば、白色結晶として、化合物1
2(676mg:87%)を得る。 化合物12: 融点:88〜89℃.1 H−NMR(CDCl3)δ:8.17(2H,d,J
=8.5Hz),7.74(2H,d,J=8.5H
z),7.58(1H,t,J=8Hz),7.43〜
7.35(4H,m),6.15(1H,brs),5.
20(2H,s),4.2〜3.85(2H,m),
3.81(1H,dd,J=1.9Hz,8.5H
z),3.74(1H,s),2.72(1H,brd,
J=8Hz),1.28(3H,d,J=6.8Hz),
1.24(3H,d,J=7.4Hz). IR(CHCl3)cm-1:3400(br),1750,1
655,1520,1380,1370,1340.
【0022】II 標題の化合物13
先に得た化合物12(200mg:0.353ミリモ
ル)をジクロロメタン(6ml)に溶かし、これにロジウ
ムアセテート(1.6mg:0.0036ミリモル)を
加えて、室温で20分間撹拌する。反応液をジクロロメ
タンでうすめ、水で1回と塩水で1回洗浄する。無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、濃縮する。得られた残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル:酢
酸=250:250:1で溶出)で精製すれば、無色泡
状物として、化合物13(107mg:84%)を得
る。なお、この化合物13には、クロマトグラフィー中
の異性化の結果、1―α異性体5%を含む。 化合物13:1 H−NMR(CDCl3)δ:8.24(2H,d,J
=8.6Hz),7.54(2H,d,J=8.6H
z),5.34及び5.27(2H,ABq,J=1
3.3Hz),4,75(1H,s),4.34(1
H,quintet,J=6.5Hz),4.25(1H,d
d,J=2.2Hz,7.8Hz),3.28(1H,d
d,J=2.2Hz,6.5Hz),2.84(1H,qu
intet,J=7.8Hz),1.39(3H,d,J=
6.5Hz),1.23(3H,d,J=7.8Hz). IR(CHCl3)cm-1:3590,3500(br),1
760,1605,1523,1455,1375,1
345.
ル)をジクロロメタン(6ml)に溶かし、これにロジウ
ムアセテート(1.6mg:0.0036ミリモル)を
加えて、室温で20分間撹拌する。反応液をジクロロメ
タンでうすめ、水で1回と塩水で1回洗浄する。無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、濃縮する。得られた残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル:酢
酸=250:250:1で溶出)で精製すれば、無色泡
状物として、化合物13(107mg:84%)を得
る。なお、この化合物13には、クロマトグラフィー中
の異性化の結果、1―α異性体5%を含む。 化合物13:1 H−NMR(CDCl3)δ:8.24(2H,d,J
=8.6Hz),7.54(2H,d,J=8.6H
z),5.34及び5.27(2H,ABq,J=1
3.3Hz),4,75(1H,s),4.34(1
H,quintet,J=6.5Hz),4.25(1H,d
d,J=2.2Hz,7.8Hz),3.28(1H,d
d,J=2.2Hz,6.5Hz),2.84(1H,qu
intet,J=7.8Hz),1.39(3H,d,J=
6.5Hz),1.23(3H,d,J=7.8Hz). IR(CHCl3)cm-1:3590,3500(br),1
760,1605,1523,1455,1375,1
345.
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
C07D 477/00
C07D 205/08
C07D 205/085
C07D 463/00
C07D 501/08
CA(STN)
REGISTRY(STN)
Claims (7)
- 【請求項1】 式(II): 【化1】 [式中、R1は、水素、置換基を有していてもよいアル
キル、置換基を有していてもよいアミノ、 R2はカルボキシ保護基、 R3は置換基を有していてもよいアリール、 Xは、OもしくはSが介在していてもよく、さらに置換
基を有していてもよいアルキレンを表わす]で示される
アゼチジノン誘導体を環化することを特徴とする式
(I): 【化2】 [式中、R1、R2及びXはそれぞれ前記と同意義であ
る]で示されるβ−ラクタム系化合物の製造方法。 - 【請求項2】 該環化を触媒の存在下で行なうことを特
徴とする請求項1に記載の製造方法。 - 【請求項3】 請求項1に記載の製造方法において、式
(III): 【化3】 [式中、R1は、水素、置換基を有していてもよいアル
キル、置換基を有していてもよいアミノ、 R2はカルボキシ保護基、 Xは、OもしくはSが介在していてもよく、さらに置換
基を有していてもよいアルキレンを表わす]で示される
化合物を式: R3−I(Q)2 (ここに、R3は置換基を有していてもよいアリール、
Qは、酸の負イオンに由来する置換基である)で示され
る化合物と反応させることにより、式(II)で示されるア
ゼチジノン誘導体を製造することを特徴とする請求項1
に記載の方法。 - 【請求項4】 R3がフェニル、Qがアセチルオキシで
ある請求項1、2又は3に記載の方法。 - 【請求項5】 式(II): 【化4】 [式中、R1は、水素、置換基を有していてもよいアル
キル、置換基を有していてもよいアミノ、 R2はカルボキシ保護基、 R3は置換基を有していてもよいアリール、 Xは、OもしくはSが介在していてもよく、さらに置換
基を有していてもよいアルキレンを表わす]で示される
アゼチジノン誘導体。 - 【請求項6】 R3がフェニルである請求項5に記載の
化合物。 - 【請求項7】 式(III): 【化5】 [式中、R1は、水素、置換基を有していてもよいアル
キル、置換基を有していてもよいアミノ、 R2はカルボキシ保護基、 Xは、OもしくはSが介在していてもよく、さらに置換
基を有していてもよいアルキレンを表わす]で示される
化合物を式: R3−I(Q)2 (ここに、R3は置換基を有していてもよいアリール、
Qは、酸の負イオンに由来する置換基である)で示され
る化合物と反応させることを特徴とする請求項5に記載
のアゼチジノン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01519994A JP3406669B2 (ja) | 1993-02-10 | 1994-02-09 | β−ラクタム系化合物の製造方法及びその中間体 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5-22451 | 1993-02-10 | ||
JP2245193 | 1993-02-10 | ||
JP01519994A JP3406669B2 (ja) | 1993-02-10 | 1994-02-09 | β−ラクタム系化合物の製造方法及びその中間体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06293767A JPH06293767A (ja) | 1994-10-21 |
JP3406669B2 true JP3406669B2 (ja) | 2003-05-12 |
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ID=26351319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01519994A Expired - Fee Related JP3406669B2 (ja) | 1993-02-10 | 1994-02-09 | β−ラクタム系化合物の製造方法及びその中間体 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3406669B2 (ja) |
-
1994
- 1994-02-09 JP JP01519994A patent/JP3406669B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06293767A (ja) | 1994-10-21 |
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