JP3405656B2 - 地盤改良装置 - Google Patents

地盤改良装置

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JP3405656B2
JP3405656B2 JP16886297A JP16886297A JP3405656B2 JP 3405656 B2 JP3405656 B2 JP 3405656B2 JP 16886297 A JP16886297 A JP 16886297A JP 16886297 A JP16886297 A JP 16886297A JP 3405656 B2 JP3405656 B2 JP 3405656B2
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朗 五島
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  • Consolidation Of Soil By Introduction Of Solidifying Substances Into Soil (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、軟弱地盤等に地盤
改良剤を噴射しながら攪拌して、地盤の改良を行う地盤
改良装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、特公平7−35652号公報
にあるように、昇降部材をワイヤにより吊下げて、リー
ダに沿って昇降させると共に、昇降部材には流体圧シリ
ンダにより昇降される駆動機構を設け、駆動機構は、先
端に攪拌ヘッドが設けられたパイプを回転し、攪拌ヘッ
ドの吐出口から地盤改良剤を噴射できるように構成した
ものが知られている。
【0003】これは、駆動機構によりパイプを回転させ
ながら、流体圧シリンダにより駆動機構を上昇させ、攪
拌ヘッドから地盤改良剤を噴射する。流体圧シリンダの
ストローク分上昇させた後は、ワイヤを巻き上げて昇降
部材を流体圧シリンダのストローク分上昇させる。次
に、再び流体圧シリンダにより駆動機構を上昇させて、
地盤改良剤を噴射しながらロッドを引き上げていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、こうし
た従来のものでは、駆動機構を昇降させる流体圧シリン
ダを設けなければならず、構成が複雑になり、大型化す
ると共に、ウインチによる昇降と流体圧シリンダによる
昇降とを切換操作しなければならず、操作も煩雑である
という問題があった。
【0005】本発明の課題は、構成が簡単で操作も容易
な地盤改良装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】かかる課題を達成すべ
く、本発明は課題を解決するため次の手段を取った。即
ち、立設されたリーダに沿って昇降可能に支持された回
転駆動機構を昇降機構により移動させると共に、前記回
転駆動機構によりロッドの先端に設けられた撹拌ヘッド
を回転し、該撹拌ヘッドから地盤改良剤を噴射する地盤
改良装置において、前記撹拌ヘッドの深度を検出する深
度検出センサと、前記昇降機構を制御して、前記深度検
出センサにより検出される前記深度が、予め1ステップ
長間隔毎に設定された予定深度と補正値とに基づいて算
出した絶対到達予定深度に達したときには前記昇降機構
を一旦停止し、1ステップ時間が経過したときには前記
昇降機構の駆動を再開して、前記撹拌ヘッドを断続的に
移動させる撹拌制御手段と、前記1ステップ時間が経過
したときに前記深度検出センサにより検出される現在深
度に基づいて前記補正値を算出する補正手段とを備えた
ことを特徴とする地盤改良装置がそれである。
【0007】また、前記昇降機構は、ワイヤの巻き上げ
・繰り出しを行うウインチであってもよい。
【0008】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
基づいて詳細に説明する。図1に示すように、1は自走
式建設機械で、リーダ2がステー4及びキャッチングホ
ーク6によって起倒自在に支持されている。リーダ2の
前面にはその長手方向に沿って長尺状の2本のガイドレ
ール8が敷設されており、ガイドレール8には、回転駆
動機構10が摺動可能に支持されている。
【0009】回転駆動機構10には、ロッド14を回転
駆動するように取り付けられている。ロッド14の先端
には、攪拌ヘッド16が取り付けられており、攪拌ヘッ
ド16にはセメントミルク等の地盤改良剤を噴射する図
示しない吐出口が設けられている。ロッド14は中空状
に形成されて、回転駆動機構10を介して地盤改良剤の
供給ホース18に接続されており、外部から供給される
地盤改良剤を攪拌ヘッド16から地中に噴射できるよう
に構成されている。
【0010】また、回転駆動機構10の図示しない吊り
シーブに巻回されたワイヤ20の一端は、リーダ2の上
端に止結されると共に、他端はリーダ2の上端に回転可
能に支承された一対のシーブ22,24に掛け渡されて
いる。そして、リーダ2の中間に回転可能に支承された
シーブ26及びリーダ2の下端に設けられたシーブ28
を介して建設機械1の内部に設けられたウインチ等の昇
降機構30の回転ドラムに巻回されている。昇降機構3
0はバルブ34を制御することにより、図示しない油圧
源から供給される高圧作動油により油圧モータ36の回
転を制御し、回転ドラムを回転させて、回転駆動機構1
0を昇降させることができるように構成されている(図
2参照)。
【0011】更に、シーブ28の回転数を検出する深度
検出センサ32が設けられている。深度検出センサ32
は、図2に示すように、制御回路50に接続されてお
り、制御回路50は周知のCPU52、ROM54、R
AM56等を中心に論理演算回路として構成され、外部
と入出力を行う入出力回路58がコモンバス60を介し
て相互に接続されている。
【0012】CPU52は、深度検出センサ32からの
入力信号を入出力回路58を介して入力し、これらの信
号及びROM54、RAM56内のデータや予め記憶さ
れた制御プログラムに基づいてCPU52は、入出力回
路58を介して回転駆動機構10、昇降機構30のバル
ブ34に駆動信号を出力する。
【0013】次に、前述した制御回路50において行わ
れる制御処理について、図3のフローチャートと共に説
明する。まず、図1に示すように、回転駆動機構10に
よりロッド14を回転させながら、昇降機構30により
回転駆動機構10をガイドレール8に沿って下降させ
る。よって、攪拌ヘッド16が地中に貫入され、図5に
示すように、攪拌ヘッド16の深度が所定の貫入長とな
るまで貫入されたときには、昇降機構30による下降を
停止する。
【0014】貫入される際には、攪拌ヘッド16はほぼ
一定の速度で貫入され、その後、攪拌ヘッド16を回転
しながら地盤改良剤を噴射し、改良長に応じた深度にま
で断続的に上昇させる。そして、地上までの空打長の間
は、地盤改良剤を噴射することなく、攪拌ヘッド16を
回転させながら上昇させる。
【0015】この改良長の区間で断続的に上昇させる
間、図3に示す攪拌制御処理が実行される。攪拌制御処
理では、まず、深度検出センサ32により検出されるシ
ーブ28の回転数からワイヤ20の移動量を求め、この
移動量から現在深度Dn を検出する(ステップ10
0)。
【0016】次に、改良長まで攪拌ヘッド16が上昇し
た改良終了深度か否かを、現在深度Dn に基づいて判断
する(ステップ110)。開始当初は、改良終了深度に
達していないので、続いて、1ステップ時間tが経過し
たか否かを判断する(ステップ120)。
【0017】1ステップ時間tは予め設定された時間で
あり、改良長の区間で攪拌ヘッド16を断続的に上昇さ
せるが、回転駆動機構10の上昇を開始してから、次に
回転駆動機構10の上昇を開始するまでの時間である。
また、1ステップ時間tと共に、1ステップ長aも予め
設定されており、1ステップ長aは1ステップ時間tの
間に攪拌ヘッド16を上昇させる距離である。
【0018】1ステップ時間tが経過していないときに
は、フラグflgが1か否かを判断する(ステップ13
0)。上昇開始直後は、フラグflgが1でないので、
カウンタnに1を加算する(ステップ140)。次に、
1ステップ時間tの計測を開始してから(ステップ15
0)、バルブ34に「ON」信号を出力して(ステップ
160)、昇降機構30により回転駆動機構10を上昇
させる。
【0019】そして、絶対到達予定深度Xn を予定深度
αn と補正量bn とに基づいて算出する(ステップ17
0)。予定深度αn は予め設定される攪拌ヘッド16を
一時的に停止させる深度であり、1ステップ長a間隔毎
の値である。また、補正量bn は後述するステップ23
0の処理の実行により設定される値であり、初期値とし
ては0がセットされている。
【0020】絶対到達予定深度Xn は、予定深度αn と
補正量bn とを加算して算出されるが、絶対到達予定深
度Xn は地表面からの絶対値として算出される。従っ
て、絶対到達予定深度Xn は、深度検出センサ32から
の現在深度Dn から1ステップ長aを減算して算出され
るのではなく、予め設定された値に応じて算出される。
【0021】続いて、フラグflgに1をセットしてか
ら(ステップ180)、絶対到達予定深度Xn か否かを
判断する(ステップ190)。絶対到達予定深度Xn に
達していないときには、繰り返し攪拌制御処理を実行し
て、現在の深度を深度検出センサ32により検出し(ス
テップ100)、改良終了深度に達していないことから
(ステップ110)、1ステップ時間tが経過するまで
は(ステップ120)、フラグflgが1にセットされ
ていることから(ステップ)、絶対到達予定深度Xn に
達したか否かを判断する(ステップ190)。
【0022】絶対到達予定深度Xn に達していないとき
には、ステップ100〜130,190の処理を繰り返
し実行し、その間、攪拌ヘッド16は回転駆動機構10
により回転されながら、昇降機構30により上昇され
る。深度検出センサ32により検出された現在深度Dn
が、絶対到達予定深度Xn に達しているときには、バル
ブ34に「OFF」信号を出力して、油圧モータ36の
駆動を停止し、昇降機構30による回転駆動機構10の
上昇を停止する。上昇が停止されても、攪拌ヘッド16
は回転駆動機構10により回転され続けると共に、地盤
改良剤も噴射される。
【0023】図4に示すように、1ステップ長aを攪拌
ヘッド16が上昇するのに要する時間は1ステップ時間
tの1/4程度以下となるように設定される。図4に破
線で示すように、攪拌ヘッド16が1ステップ長a間隔
毎に、断続的に上昇するのが好ましい。
【0024】しかし、一般的には、ステップ200の処
理により、絶対到達予定深度Xn に達したと判断して、
昇降機構30の駆動を停止する信号を出力しても、攪拌
ヘッド16の上昇はすぐには停止しない。例えば、昇降
機構30の制御遅れやワイヤ20の弾性等により、攪拌
ヘッド16が信号出力後更に上昇して停止し、あるい
は、引き上げ時の反力によるリーダ2の倒れや建設機械
1の傾きが復元する際に、攪拌ヘッド16が信号出力後
更に上昇して停止する。よって、絶対到達予定深度Xn
に達した後、昇降機構30の駆動を停止した後、絶対到
達予定深度Xn より上昇した位置で攪拌ヘッド16が停
止する。また、この停止位置は土質によっても変化す
る。
【0025】そこで、1ステップ時間tが経過したと判
断すると(ステップ120)、まず、フラグflgをリ
セットしてから(ステップ210)、オーバーか否かを
判断する(ステップ220)。1ステップ時間tが経過
するまでの間も、攪拌制御処理を繰り返し実行して、ス
テップ100の処理により、現在深度Dn が深度検出セ
ンサ32により検出される。
【0026】ステップ200の処理の実行により、バル
ブ34に「OFF」信号が出力されて昇降機構30の駆
動が停止されても、攪拌ヘッド16が上昇する。1ステ
ップ時間が経過するときの攪拌ヘッド16の現在深度D
n を検出して、その現在深度Dn により、攪拌ヘッド1
6が絶対到達予定深度Xn をオーバーしているか否かを
判断する。
【0027】オーバーしているときには、補正量bn+1
を算出する(ステップ230)。補正量bn+1 は、オー
バー量gn (=Dn −αn )の50%程度の値としても
よく、あるいは、これに限らず、土質に応じて割合を変
えてもよく、他の一定値でもよい。補正量bn+1 を算出
後、1ステップ時間tの計測をリセットして(ステップ
240)、攪拌制御処理を繰り返し実行する。
【0028】一方、オーバーではないと判断されたとき
には、補正量bn+1 に前回の補正量bn を代入してから
(ステップ250)、1ステップ時間tの計測をリセッ
トして(ステップ240)、攪拌制御処理を繰り返し実
行する。即ち、補正量は、前回の値がそのまま引き継が
れる。
【0029】ステップ230の処理の実行により、補正
量bn+1 を算出した後、攪拌制御処理を繰り返し実行し
て、まず、ステップ120の処理により、1ステップ時
間tが経過していないと判断される。そして、フラグf
lgが1でないことから(ステップ130)、カウンタ
nをインクリメントし(ステップ140)、1ステップ
時間の計測を開始する(ステップ150)。
【0030】続いて、バルブ34に「ON」信号を出力
し(ステップ160)、絶対到達予定深度Xn を予定深
度αn にステップ230の処理により算出された補正量
bnを加算して求める(ステップ170)。次に、フラ
グflgに1をセットして(ステップ180)、絶対到
達予定深度Xn か否かを判断する(ステップ190)。
絶対到達予定深度Xn に達していないときには、ステッ
プ100〜130,190の処理を繰り返し実行し、絶
対到達予定深度Xn に達したときには、バルブ34に
「OFF」信号を出力する(ステップ200)。
【0031】従って、補正量bn+1 が算出されたときに
は、攪拌ヘッド16が予定深度αn+1 より補正量bn+1
だけ手前の絶対到達予定深度Xn+1 に達したときに、昇
降機構30により回転駆動機構10の上昇が停止され
る。よって、ワイヤ20の弾性等により攪拌ヘッド16
の上昇が続いても、予定深度αn+1 をオーバーするオー
バー量gn+1 は小さく押さえられる。
【0032】そして、攪拌制御処理を繰り返し実行し
て、現在の深度が検出され(ステップ100)、1ステ
ップ時間が経過したと判断されると(ステップ12
0)、フラグflgをリセットし(ステップ210)、
オーバーしていないと判断されたときには(ステップ2
20)、前回の補正量bn を新たな補正量bn+1 に代入
してから、1ステップ時間tの計測をリセットする(ス
テップ240)。
【0033】再び、攪拌制御処理を繰り返し実行して、
図5に示すように、改良長の区間、断続的に攪拌ヘッド
16を上昇させながら、地盤改良剤を噴射する。ステッ
プ100により検出された現在深度が、ステップ110
の処理により、改良終了深度に達したと判断されたとき
には、フラグflgをリセットして(ステップ26
0)、本制御処理を終了する。地盤改良剤の噴射を停止
し、回転駆動機構10を引続き、昇降機構30により上
昇させて、攪拌ヘッド16を引き抜いて、作業を終了す
る。尚、ステップ100〜160,180〜200,2
40の処理の実行が攪拌制御手段として働く。また、ス
テップ100,120,170,220,230の処理
の実行が補正手段として働く。
【0034】このように、本実施形態の地盤改良装置
は、深度検出センサ32による現在深度に基づかずに、
予定深度αn による絶対到達予定深度Xn に達したとき
に(ステップ190)、昇降機構30による上昇を停止
する(ステップ200)。よって、絶対到達予定深度X
n は深度検出センサ32による検出誤差を含まず、簡単
な構成で、しかも昇降機構30のみの簡単な操作で正確
な深度管理ができる。
【0035】また、オーバーか否かの判断は(ステップ
210)、1ステップ時間t経過時の現在深度により判
断する(ステップ100,120)。そして、制御遅れ
やワイヤ20の弾性等により、昇降機構30の上昇停止
後に攪拌ヘッド16が上昇をし続けても、その上昇を検
出して、補正値bn+1 を算出するので、正確な補正がで
きる。更に、バルブ34に「ON」信号を出力した後
(ステップ160)、絶対到達予定深度Xn の計算を行
うので、速やかに昇降機構30の制御を開始できる。
【0036】尚、本実施形態では、一旦攪拌ヘッド16
を貫入長の深度まで貫入させた後、昇降機構30により
攪拌ヘッド16を断続的に上昇させながら、地盤改良剤
を噴射しているが、これとは逆に、昇降機構30により
回転駆動機構10を下降させると共に、攪拌ヘッド16
が絶対到達予定深度に達する毎に下降を停止させ、断続
的に下降させながら、地盤改良剤を噴射するようにして
も、同様に実施可能である。また、予めボーリング調査
等により深度に応じた地質の変化を調査し、攪拌ヘッド
16の深度に応じて、噴射する地盤改良剤の量を調整す
るようにしてもよい。
【0037】以上本発明はこの様な実施態様に何等限定
されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲に
おいて種々なる態様で実施し得る。
【0038】
【発明の効果】以上詳述したように本発明の地盤改良装
置は、撹拌ヘッドの深度が、予め1ステップ長間隔毎に
設定された予定深度と補正値とに基づいて算出した絶対
到達予定深度に達したときに、昇降機構による移動を停
止するので、昇降機構のみの昇降による簡単な構成で、
しかも簡単な操作で正確な深度管理ができるという効果
を奏する。
【0039】また、制御遅れやリーダの復元、ワイヤの
弾性等により、昇降機構による移動停止後に撹拌ヘッド
が上昇をし続けても、深度検出センサがその移動を検出
して、1ステップ時間が経過したときに補正値を算出す
るので、正確な補正ができる。
【0040】昇降機構が、ワイヤの巻き上げ・繰り出し
を行うウインチであっても、正確な補正ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態としての地盤改良装置の側
面図である。
【図2】本実施形態の電気系統の構成を示すブロック図
である。
【図3】本実施形態の電子制御回路において行われる攪
拌制御処理の一例を示すフローチャートである。
【図4】本実施形態の攪拌ヘッドの深度と補正との関係
を示す説明図である。
【図5】本実施形態の地盤改良時の攪拌ヘッドの深度と
時間の関係を示す説明図である。
【符号の説明】 1…建設機械 2…リーダ 10…回転駆動機構 16…攪拌ヘッド 18…供給ホース 20…ワイヤ 30…昇降機構 32…深度検出センサ 34…バルブ 50制御回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西尾 経 東京都台東区柳橋2丁目17番4号 小野 田ケミコ株式会社内 (72)発明者 五島 朗 愛知県名古屋市熱田区三本松町1番1号 日本車輌製造株式会社内 (72)発明者 吉田 一郎 愛知県名古屋市熱田区三本松町1番1号 日本車輌製造株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−264213(JP,A) 特開 平3−125786(JP,A) 特開 平10−18284(JP,A)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 立設されたリーダに沿って昇降可能に支
    持された回転駆動機構を昇降機構により移動させると共
    に、前記回転駆動機構によりロッドの先端に設けられた
    撹拌ヘッドを回転し、該撹拌ヘッドから地盤改良剤を噴
    射する地盤改良装置において、 前記撹拌ヘッドの深度を検出する深度検出センサと、 前記昇降機構を制御して、前記深度検出センサにより検
    出される前記深度が、予め1ステップ長間隔毎に設定さ
    れた予定深度と補正値とに基づいて算出した絶対到達予
    定深度に達したときには前記昇降機構を一旦停止し、1
    ステップ時間が経過したときには前記昇降機構の駆動を
    再開して、前記撹拌ヘッドを断続的に移動させる撹拌制
    御手段と、 前記1ステップ時間が経過したときに前記深度検出セン
    サにより検出される現在深度に基づいて前記補正値を算
    出する補正手段とを備えたことを特徴とする地盤改良装
    置。
  2. 【請求項2】 前記昇降機構は、ワイヤの巻き上げ・繰
    り出しを行うウインチであることを特徴とする請求項1
    記載の地盤改良装置。
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JP2012047008A (ja) * 2010-08-30 2012-03-08 Onoda Chemico Co Ltd 地盤改良装置
JP2014202027A (ja) * 2013-04-09 2014-10-27 小野田ケミコ株式会社 地盤改良方法
JP7409589B2 (ja) * 2018-11-21 2024-01-09 株式会社ワイビーエム 地盤施工機における制御方法および地盤施工機

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