JP3404278B2 - Cu-Ni-Si based copper base alloy with improved annealing cracking - Google Patents

Cu-Ni-Si based copper base alloy with improved annealing cracking

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JP3404278B2
JP3404278B2 JP01668898A JP1668898A JP3404278B2 JP 3404278 B2 JP3404278 B2 JP 3404278B2 JP 01668898 A JP01668898 A JP 01668898A JP 1668898 A JP1668898 A JP 1668898A JP 3404278 B2 JP3404278 B2 JP 3404278B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は焼鈍割れ性を改善し
たCu−Ni−Si系銅基合金に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a Cu-Ni-Si-based copper-based alloy having improved annealing cracking resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器用Cu−Ni−Si系銅基合金
は、製造コストを低減するために、大型のインゴットを
一旦熱間圧延する工程により製造されている。その後、
冷間加工により薄板に加工されるが、製造性の面では如
何にして高能率でかつ高歩留で熱延板を得るかというこ
とが非常に重要である。
2. Description of the Related Art A Cu-Ni-Si-based copper-based alloy for electronic equipment is manufactured by a process of once hot rolling a large ingot in order to reduce the manufacturing cost. afterwards,
Although it is processed into a thin plate by cold working, in terms of manufacturability, how to obtain a hot rolled plate with high efficiency and high yield is very important.

【0003】ところで、電子機器の小型化の要求によ
り、基板上の半導体素子の高密度実装への要求がますま
す高まっている。最近では高実装密度向上に有利なSO
J,SOP,QFP等の表面実装パッケージが主流とな
っている。最近ではこれらのパッケージには、多ピン化
の要求からくるリードピッチのさらなる縮小や、TSO
P,TQFPなどに代表される薄板化が進行している。
多ピン、狭ピッチのフレームはエッチング加工により
られるのが大半であるが、エッチングは板厚方向だけで
はなく、板幅方向へサイドエッチも起こることから、リ
ード幅やリード間隔の加工限界は板厚に依存し、板厚は
薄いほど加工上有利となる。また、パッケージの薄肉化
の要求から、リードフレーム材を薄くする必要があり、
その結果、板厚は最近では0.15mm,0.125m
mといった薄い材料が主流となっている。このようなリ
ードフレームの薄板化、リードの狭小化はフレーム全体
やリードの剛性を低下させ、アセンブリー工程中でのイ
ンナーリードの変形、デバイス実装時のアウターリード
の変形を引き起こす。このようなトラブルを防止するた
めには、使用されるリードフレーム材料に対し、より高
い強度が要求される。一方、ICの処理スピードの高速
及び多ピン化に伴い消費電力が大きくなるため、ここ
から発生する熱の放散対策がIC設計上の重要な問題と
なる。
By the way, due to the demand for miniaturization of electronic equipment, the demand for high-density mounting of semiconductor elements on a substrate is increasing more and more. Recently, SO which is advantageous for high packaging density improvement
Surface mount packages such as J, SOP, and QFP are the mainstream. Recently, in these packages, the lead pitch has been further reduced due to the demand for more pins, and TSO
Thinning plates represented by P, TQFP, etc. are in progress.
Multi-pin, narrow-pitch of the frame created by etching
But are the are the majority, etching not only the plate thickness direction, since the side-etched also occur to the plate width direction, processing limit of the lead width and lead spacing are dependent on the plate thickness, plate thickness thinner working on Be advantageous. Also, due to the demand for thinner package, it is necessary to make the lead frame material thinner,
As a result, the thickness is 0.15mm and 0.125m recently.
Thin materials such as m are the mainstream. Such thinning of the lead frame and narrowing of the leads reduce the rigidity of the entire frame and the leads, causing deformation of the inner leads during the assembly process and deformation of the outer leads during device mounting. In order to prevent such trouble, higher strength is required for the lead frame material used. On the other hand, since the power consumption increases as the processing speed of the IC increases and the number of pins increases, measures to dissipate the heat generated from this become an important issue in IC design.

【0004】銅は、もともと熱伝導度で42アロイをは
かるに上回る特性をもっているので、銅合金は熱放散性
において有利である。従って、薄板化に対応可能な強度
を有し、かつ熱放散性に優れる銅系リードフレーム材料
への要求が益々強くなっている。このような要求には、 1)リードが容易に変形することがない機械的強度を有
すること。 2)リードフレームのパターン形成において、優れたエ
ッチング性及びプレス加工性を有すること。 3)チップの発熱に対して、効率良く熱放散することが
可能な高い熱伝導率を有すること。 4)通電特性に優れていること。 5)実装における半田付け性に優れること半田接合部の
信頼性が高いこと。 6)ボンディングのための銀めっき性に優れること。 7)加熱工程で生じた合金表面の酸化層が剥離しにくい
こと。 8)リード曲げ加工時の加工性に優れていること。 9)適正な価格であること。等が挙げられ、多岐多様な
特性が必要とされる。
Copper alloys are advantageous in terms of heat dissipation, since copper has a property of thermal conductivity far exceeding 42 alloy. Therefore , there is an increasing demand for a copper-based lead frame material which has strength capable of coping with thinning and is excellent in heat dissipation. The requirements are as follows: 1) The leads must have mechanical strength so that they are not easily deformed. 2) It has excellent etching property and press workability in the pattern formation of the lead frame. 3) It has a high thermal conductivity capable of efficiently dissipating the heat generated by the chip. 4) Excellent current-carrying characteristics. 5) Excellent solderability in mounting High reliability of solder joint. 6) Excellent silver plating property for bonding. 7) The oxide layer on the surface of the alloy generated in the heating step is difficult to peel off. 8) Excellent workability during lead bending. 9) The price is reasonable. Etc., and various characteristics are required.

【0005】また、各種端子、コネクター、リレーまた
はスイッチといった電子部品に対しては、従来、安価な
黄銅、優れたばね特性を有するりん青銅あるいは優れた
ばね特性と耐食性を有する洋白といった材料が適用され
ていた。ところが、近年、電子機器類及びその部品には
小型化、薄肉化が要求されるようになり、また、自動車
の電装部品のような高温の環境下で使用されるケースで
は、苛酷な環境に耐えられる信頼性の高い部品が望まれ
ている。このような要求に対して、材料には a)薄い板厚においても高い接触圧を生じるための十分
な強度を有すること。 b)応力緩和率が低く、高温下で長期間使用しても接触
圧が低下しないこと。 c)導電率が高く、通電時にジュール熱の発生しにくい
こと。また、発生する熱を放散し易いこと。 d)厳しい曲げ加工を行っても曲げ部に割れや肌あれの
生じないこと。 e)弾性域内で多くの曲げ変形を繰り返し与えても材料
が疲労破壊しないことが要求される。
Further, for electronic parts such as various terminals, connectors, relays and switches, materials such as inexpensive brass, phosphor bronze having excellent spring characteristics or nickel silver having excellent spring characteristics and corrosion resistance have been conventionally applied. It was However, in recent years, electronic devices and their parts are required to be smaller and thinner, and in the case where they are used in a high temperature environment such as electric parts of automobiles, they can withstand harsh environments. There is a demand for reliable components that can be used. In order to meet such requirements, the material must have a) sufficient strength to generate a high contact pressure even at a thin plate thickness. b) The stress relaxation rate is low, and the contact pressure does not decrease even after long-term use at high temperature. c) The conductivity is high, and Joule heat is unlikely to be generated when energized. Also, the heat generated should be easily dissipated. d) No cracking or roughening of the bent portion occurs even after severe bending. e) It is required that the material does not fatigue-fracture even if a large amount of bending deformation is repeatedly applied within the elastic region.

【0006】近年、これらの電子機器用銅合金のような
高い強度と導電性を要求される用途には、析出型銅合金
が使われるケースが多い。Cu−Ni−Si系合金は高
強度と高導電率を併せ持つ代表的な析出型銅合金であ
り、電子機器用材料として実用化されている。例えば、
リードフレームまたはコネクター用途に適した材料とし
て、以下のような成分組成を有するCu−Ni−Si系
合金が公表されている。 特公昭60−058783:Ni=1.0〜4.0重
量%、Si=0.3〜1.0重量%を含み、さらに必要
に応じてP,As,Sb,Fe,Co,Cr,Sn,A
l,Ti,Zr,Mg,Be,Zn,Mnのうち1種以
上を0.001〜2.0%含有し、残部Cu及びその不
可避的不純物からなる合金 特公平7−88549:Ni=1.0〜4.0重量
%、Si=0.2〜1.0重量%、Ag=0.0005
〜0.5重量%を含み、さらにZn,Mn,Mg,S
n,Sb,Cr,B,Y,希土類,Co,Ti,Zr,
Vのうち1種以上を2.0%以下含有し、残部Cu及び
その不可避的不純物からなる合金
In recent years, precipitation-type copper alloys are often used in applications requiring high strength and conductivity such as copper alloys for electronic devices. The Cu-Ni-Si alloy is a typical precipitation-type copper alloy having both high strength and high conductivity, and has been put to practical use as a material for electronic devices. For example,
As a material suitable for use in lead frames or connectors, Cu-Ni-Si alloys having the following component compositions have been published. Japanese Patent Publication No. 60-058783: Ni = 1.0 to 4.0% by weight, Si = 0.3 to 1.0% by weight, and if necessary, P, As, Sb, Fe, Co, Cr, Sn. , A
1, 0.001 to 2.0% of at least one of Ti, Zr, Mg, Be, Zn, and Mn, and the balance Cu and its unavoidable impurities, Japanese Patent Publication No. 7-88549: Ni = 1. 0 to 4.0% by weight, Si = 0.2 to 1.0% by weight, Ag = 0.0005
.About.0.5% by weight, and further contains Zn, Mn, Mg, S
n, Sb, Cr, B, Y, rare earth, Co, Ti, Zr,
An alloy containing 2.0% or less of one or more of V and the balance Cu and its unavoidable impurities.

【0007】ところが、このようなCu−Ni−Si系
合金のインゴットは、熱間圧延前の加熱工程で、鋳造時
の残留応力の作用により脆性割れが発生することが知ら
れており(特開平4−210439号公報,特開平4−
2750号公報),かかる割れを有するインゴットを熱
間圧延すると、生産性低下や歩留低下による製造コスト
の増大、品質の不安定さといった問題を引き起こしてい
た。一方、この加熱割れを回避する方策として、イン
ゴットの断面積を小さくし残留応力を低減する方法、
インゴットの結晶粒度を小さくする方法、インゴット
を低温で圧延した後、熱間圧延を行う方法等が公表され
ている(特開平4−210439号公報,特開平4−2
750号公報)。
However, it is known that such an ingot of a Cu--Ni--Si alloy causes brittle cracking in the heating step before hot rolling due to the effect of residual stress during casting (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 10-1999). No. 4-210439, Japanese Patent Laid-Open No. 4-41039
No. 2750), hot rolling an ingot having such cracks causes problems such as an increase in manufacturing cost due to a decrease in productivity and a decrease in yield, and instability of quality. On the other hand, as a measure to avoid this heat cracking, a method of reducing the cross-sectional area of the ingot to reduce the residual stress,
A method for reducing the grain size of the ingot, a method for hot rolling after rolling the ingot at a low temperature, and the like have been published (JP-A-4-210439, JP-A-4-4-2).
750).

【0008】さらに、Cu−Ni−Si系合金薄板を強
度に冷間加工した後に焼鈍すると、冷間加工で蓄積され
歪みが原因になって微細な割れ発生する場合がある
ことがわかった。この割れは、その後の圧延において材
料を破断させ、著しい歩留り低下を引き起こす。また圧
延で破断を生じなかった場合でも、割れが最後まで残留
し、素材を部品にプレス加工する際に割れを生じさせた
りする。
Further, when a Cu-Ni-Si alloy thin plate is subjected to strong cold working and then annealed, it is accumulated in the cold working.
Strain fine cracks causing was found <br/> that may occur. This crack breaks the material in the subsequent rolling and causes a significant yield loss. Even if no fracture occurs in rolling, cracks remain until the end, and cracks may occur when the material is pressed into parts.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】焼鈍割れ対策のと
は生産性の低下を招き、のインゴットの結晶粒度微細
化には工業的に限界があるというように、いずれもイン
ゴットの焼鈍割れを改善するための有効な手段になり得
なかった。本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもの
であり、生産性の低下や製造コストの増大を生じること
なくインゴットや薄板などの焼鈍割れを解消したCu−
Ni−Si系合金を提供することを目的とする。
As a countermeasure against annealing cracks, productivity is lowered, and there is an industrial limit to refining the crystal grain size of the ingot, both of which improve the annealing cracks of the ingot. Could not be an effective means of The present invention has been made in view of such problems, and Cu- which eliminates the annealing cracks of ingots and thin plates without lowering productivity and increasing manufacturing cost.
It is intended to provide a Ni-Si alloy.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、Ni:1.0
〜4.8重量%、Si:0.2〜1.4重量%を基本成
分として含有し、残部が実質的にCuであるCu−Ni
−Si系銅基合金において、水素濃度を0.0001重
量%以下、かつ硫黄濃度を0.0020重量%以下に規
制することにより、従来からの課題であったCu−Ni
−Si系合金の熱間加工性や熱処理性を改善したことを
大きな特徴とする。なお、ここでいうCu−Ni−Si
系とは、適当な時効処理を行いNiとSiの化合物粒子
(Ni2Si)を析出させることにより、強度及び電気
伝導性といった基本的特性を作り込むことを特徴とする
銅基合金の総称である。もちろん、電子材料としての諸
特性を改善することを目的とし、前述したP,As,S
b,Fe,Co,Cr,Sn,Al,Ti,Zr,M
g,Be,Zn,Mn,Ag,B,Y,希土類,Co,
Ti,Zr,V等の元素を副成分として添加した場合に
も、水素及び硫黄濃度の低減による熱間加工性の改善効
果は得られる。
The present invention provides Ni: 1.0.
.About.4.8 wt%, Si: 0.2 to 1.4 wt% as a basic component, and the balance is Cu--Ni which is substantially Cu.
In the —Si-based copper-based alloy, by controlling the hydrogen concentration to 0.0001% by weight or less and the sulfur concentration to 0.0020% by weight or less, the conventional problem of Cu—Ni
A major feature is that the hot workability and heat treatment of the Si-based alloy are improved. In addition, Cu-Ni-Si referred to here
The system is a general term for copper-based alloys characterized by incorporating basic properties such as strength and electrical conductivity by precipitating Ni and Si compound particles (Ni 2 Si) by appropriate aging treatment. is there. Of course, for the purpose of improving various characteristics as an electronic material, the above-mentioned P, As, S
b, Fe, Co, Cr, Sn, Al, Ti, Zr, M
g, Be, Zn, Mn, Ag, B, Y, rare earth, Co,
Even when elements such as Ti, Zr and V are added as auxiliary components, the effect of improving hot workability can be obtained by reducing the hydrogen and sulfur concentrations.

【0011】本願請求項2に係る合金は工業的に熱間加
工を施される形状・寸法を有するものである。具体的に
は断面積が104 mm2 以上のものに好ましく本発明を
適用することができる。なお、大型インゴットの熱間加
工は主として圧延により行われているが、熱間鍛造の場
合も同様の効果が得られる。また、インゴットを2ヒー
ト熱間加工する場合のスラブまたはブルームの熱間圧延
の場合も同様の効果が得られる。
The alloy according to claim 2 of the present application has a shape and dimensions that are industrially hot worked. Specifically, the present invention can be preferably applied to those having a sectional area of 10 4 mm 2 or more. The hot working of the large ingot is mainly performed by rolling, but the same effect can be obtained in the case of hot forging. Further, the same effect can be obtained in the case of hot rolling a slab or bloom in the case of hot working an ingot for two heats.

【0012】本願請求項3に係る冷間加工後焼鈍された
調質状態を有する合金の形状は特に制限がなく、冷間圧
延後中間焼鈍された圧延板材や最終圧延後に同様の調質
状態となったリードフレーム材であってよい。次に本発
明において銅合金の成分組成を前記の如く定めた理由を
説明する。なお組成の百分率は重量%表記である。
There is no particular limitation on the shape of the alloy having a tempered state annealed after cold working according to claim 3 of the present application, and a rolled sheet material that has been annealed after cold rolling or has a similar tempered state after final rolling. It may be a new lead frame material. Next, the reason why the composition of the copper alloy is determined as described above in the present invention will be explained. The compositional percentages are expressed in% by weight.

【0013】Ni及びSi NiおよびSiは、それぞれが合金中に固溶することに
よって合金強度を高める作用もあるが、適当な時効処理
を行うことによりNiとSiが相互にNi2Si組成の
析出物を形成し、合金の強度著しく増加させるとともに
熱伝導度をも著しく高める。したがって、これらの元素
の含有量が著しく少ないと、これらの性質が低下し、電
子機器用としては望ましくない合金となる。よって、N
i含有量は1.0%以上Si含有量は0.2%以上とす
る。Ni含有量が4.8%以上またはSi含有量が1.
4%以上の場合は、所望とする電気伝導性が得られない
ことに加え、インゴットの粒界に発生するNiとSiの
化合物粒子の寸法および頻度が増加し、インゴットの焼
鈍割れが助長される。したがって、Niの含有量を1.
〜4.8%、Siの含有量を0.2〜1.4%と定め
た。なお、時効処理後の熱伝導度をより高めるために
は、合金中のNiとSiの濃度比を、Ni2Si析出物
におけるNiとSiの濃度比に近けることが望まし
い。良好な熱伝導性を得るためのSi濃度に対するNi
濃度の比(Ni濃度/Si濃度)は2〜8である。
Ni and Si Ni and Si also have the effect of increasing the alloy strength by forming a solid solution in the alloy, but by performing an appropriate aging treatment, Ni and Si mutually precipitate the Ni 2 Si composition. It forms a substance and significantly increases the strength of the alloy and also significantly increases the thermal conductivity. Therefore, if the contents of these elements are extremely low, these properties deteriorate and the alloy becomes undesired for electronic devices. Therefore, N
The i content is 1.0 % or more and the Si content is 0.2% or more. The Ni content is 4.8% or more or the Si content is 1.
If it is 4% or more, in addition to the desired electrical conductivity not being obtained, the size and frequency of the compound particles of Ni and Si generated at the grain boundaries of the ingot increase, which promotes annealing cracking of the ingot. . Therefore, the Ni content is 1.
0 to 4.8% and the Si content were set to 0.2 to 1.4%. In order to increase the thermal conductivity after the aging treatment, the concentration ratio of Ni and Si in the alloy, Ni 2 Si precipitate that takes closer to the concentration ratio of Ni and Si in desirable. Ni to Si concentration for good thermal conductivity
The concentration ratio (Ni concentration / Si concentration) is 2 to 8.

【0014】 Sは、原子状態で粒界に偏析して粒界の結合力を低下さ
せるほか、Cuあるいは合金元素との硫化物として粒界
に晶出または析出した場合にもボイド発生の起点とな
る。したがって、S濃度はできる限り低いほうが望まし
いが、0.0020%以下であれば、工業的にはこの悪
影響を無視できるので、Sの含有量は0.0020%以
下とした。
S S is segregated to the grain boundaries in the atomic state to reduce the binding force of the grain boundaries, and also the starting point of void generation when crystallized or precipitated at the grain boundaries as a sulfide with Cu or an alloy element. Becomes Therefore, it is desirable that the S concentration is as low as possible. However, if it is 0.0020% or less, this adverse effect can be ignored industrially, so the S content was made 0.0020% or less.

【0015】 Hは応力が集中するボイド及び粒界に集まってきて、イ
ンゴットなどの加工素材の焼鈍割れを助長する。したが
って、H濃度はできる限り低いほうが望ましいが、0.
0001%以下であれば、工業的にはこの悪影響を無視
できるので、Hの含有量は0.0001%以下とした。
H H gathers in the voids and grain boundaries where stress concentrates, and promotes annealing cracking of a work material such as an ingot. Therefore, it is desirable that the H concentration is as low as possible.
If the content is 0001% or less, this adverse effect can be ignored industrially, so the H content was set to 0.0001% or less.

【0016】P,As,Sb,Fe,Co,Cr,A
l,Ti,Zr,Mg,B,Y,希土類,Co,V 任意添加成分であるこれらの元素はCu中への固溶度が
比較的小さい元素であり、ボイドの発生起点となる析出
粒子を粒界につくり易いために、上限を制限する必要が
ある。その量は総量で2%以下である。
[0016]P, As, Sb, Fe, Co, Cr, A
l, Ti, Zr, Mg, B, Y, rare earth, Co, V These elements, which are optional additional components, have a solid solubility in Cu.
Precipitation, which is a relatively small element and is the origin of voids
It is necessary to limit the upper limit because it is easy to form particles at grain boundaries.
is there. The total amount is 2% or less.

【0017】Zn,Mn,Ag,Sn これらの元素はCu中への固溶度が比較的多い元素であ
り、析出粒子を形成することはないが、Ni,Siとい
った合金成分や不純物との間で、金属間化合物粒子や非
金属介在物粒子を形成し、これらが粒界ボイドの発生原
因となるので、Pなどと同様の理由から制限される含有
量上限は2%以下である。
Zn, Mn, Ag, Sn These elements are elements that have a relatively high solid solubility in Cu and do not form precipitated particles, but between the alloy components and impurities such as Ni and Si. Thus, the intermetallic compound particles and the non-metallic inclusion particles are formed, and these cause the generation of grain boundary voids. Therefore, the upper limit of the content limited for the same reason as P is 2% or less.

【0018】上記した極めて低いH含有量の銅合金を製
造するためには、溶解及び注湯中の銅合金への水素の吸
収量を少なくする必要がある。特に前者の吸収抑制が重
要であり、このためには使用直前に十分乾燥した木炭を
厚さ20〜200mmの溶湯被覆層として使用すること
が好ましい。この木炭被覆に、酸化物、塩化物あるいは
弗化物等から構成される溶融塩による被覆を併用すれ
ば、より高い水素吸収抑制効果が得られる。また、溶湯
の脱ガス処理を行い、H含有量の低い銅合金を製作する
方策もある。液体Cu中のHの溶解度([%H])は、
雰囲気中の水素分圧(PH2)によって、 [%H]=K√PH2 の関係で与えられる。ここでKは温度によって決定され
る定数である。温度が1200℃のときPH2=1気圧下
でのCu中のHの溶解度は6ppmであるので、H濃度
を1ppm以下に下げるためには、平衡論的にはPH2
0.028気圧以下にすればよい。これは、工業的に
比較的容易に達成でき、そのための具体的方法には、真
空溶解、真空脱ガス、真空鋳造などの真空冶金法、溶解
炉あるいは樋中の溶湯に不活性ガスを吹き込む方法等が
ある。同様に、極めて低いS含有量の銅合金を製造する
ためには、原料、溶湯と接触する耐火物、溶湯被覆剤等
からのSの混入を防止することが必要であり、これらの
品質を厳選することが必要であるが、Na2CO3等の脱
硫剤を溶湯上に添加し、溶湯中に含有されたSを除去す
ることもできる。
In order to produce the above-described copper alloy having an extremely low H content, it is necessary to reduce the amount of hydrogen absorbed by the copper alloy during melting and pouring. In particular, it is important to suppress the absorption of the former, and for this purpose, make sure to use sufficiently dry charcoal just before use.
It is preferably used as a molten metal coating layer having a thickness of 20 to 200 mm. When this charcoal coating is used in combination with a coating of a molten salt composed of oxides, chlorides or fluorides, a higher hydrogen absorption suppressing effect can be obtained. There is also a method of producing a copper alloy having a low H content by degassing the molten metal. The solubility of H in liquid Cu ([% H]) is
The hydrogen partial pressure (P H2 ) in the atmosphere gives the relationship of [% H] = K√P H2 . Here, K is a constant determined by the temperature. When the temperature is 1200 ° C., the solubility of H in Cu under P H2 = 1 atm is 6 ppm. Therefore, in order to reduce the H concentration to 1 ppm or less, equilibrium P H2 should be 0.028 atm or less. You can do this. This also <br/> relatively easily achieved industrially, particularly a method for its, vacuum melting, vacuum degassing, manufactured by Vacuum Metallurgical methods such as vacuum casting, the molten metal of a melting furnace or in a launder not There is a method of blowing active gas. Similarly, in order to produce a copper alloy having an extremely low S content, it is necessary to prevent the incorporation of S from the raw material, the refractory that comes into contact with the molten metal, the molten metal coating agent, etc. However, it is necessary to add a desulfurizing agent such as Na 2 CO 3 to the molten metal to remove S contained in the molten metal.

【0019】[0019]

【作用】本発明者らは、Cu−Ni−Si系合金の焼鈍
割れについて鋭意研究を重ねた結果、この割れはインゴ
ットなどの歪が蓄積した銅合金を昇温する過程において
500℃近傍で発生する粒界割れであり、銅合金で一般
的に知られている中間温度脆性に対応する現象であるこ
とを知見した。すなわち、鋳造したインゴットや強度に
冷間加工された材料の残留応力や昇温過程でこれらの材
料に発生する熱応力に起因して粒界すべりが生じ、これ
に伴って粒界でボイドが発生、このボイドが連結・合体
して割れに至ることがわかった。さらに研究を進め、こ
の割れを助長する要因として、 (1)鋳造時の晶出または析出により生成した粒界のN
i−Si化合物粒子(ボイドの発生起点となる) (2)硫黄の粒界偏析(硫黄は粒界に偏析して粒界の結
合力を低下させる) (3)インゴットなどの熱間圧延加工素材が含有する水
素(応力集中部に集まってきて割れ内部に放出されるこ
とにより、割れ発生に必要なエネルギーを低下させる)
が挙げられることがわかった。上記の理由により、N
i,Si,H及びSの量を定めてインゴットなどの焼鈍
割れを改善した。以下、実施例により本発明をさらに詳
しく説明する。
As a result of intensive studies on the annealing cracks of Cu-Ni-Si alloys, the present inventors found that the cracks occur at around 500 ° C in the process of raising the temperature of a copper alloy in which strain such as an ingot has accumulated. It was found that intergranular cracking occurs, which is a phenomenon corresponding to the intermediate temperature brittleness generally known in copper alloys. That is, the cast ingot and strength
Residual stress in cold-worked materials
It was found that grain boundary slip occurs due to the thermal stress generated in the material, and a void is generated at the grain boundary accompanying this, and the voids are connected and united to cause cracking. Further research has been conducted, and the factors that promote this cracking are as follows: (1) N of grain boundaries formed by crystallization or precipitation during casting.
i-Si compound particles (becomes the origin of generation of voids) (2) Grain boundary segregation of sulfur (sulfur segregates at the grain boundaries to reduce the bond strength of the grain boundaries) (3) Hot rolling material such as ingot Hydrogen contained in (reduces the energy required for crack generation by gathering in the stress concentration area and being released inside the crack)
I found that For the above reason, N
The amount of i, Si, H and S was determined to improve the annealing cracks of ingots. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

【0020】[0020]

【実施例】実施例1 溶湯の成分が以下の6種類の銅合金になるよう、電気
銅、Ni,Si,Mg,Zn及びCu2Sを混合し溶解
原料とした。ここで、Mgを添加した理由は、Mgは硫
黄との親和力が強いため、硫黄と化合物を形成すること
により、粒界への硫黄元素の偏析を軽減する効果が期待
できるためである。Znはめっき耐熱剥離性や耐マイグ
レーション性などの特性を改善することを目的とし、電
子材料用銅合金によく添加される合金元素であり、Zn
の焼鈍割れへの影響を調査するために添加している。 Cu−3%Ni−0.6%Si−0.0005%S Cu−3%Ni−0.6%Si−0.0025%S Cu−3%Ni−0.6%Si−0.1%Mg−0.
0005%S Cu−3%Ni−0.6%Si−0.1%Mg−0.
0025%S Cu−3%Ni−0.6%Si−0.2%Zn−0.
0005%S Cu−3%Ni−0.6%Si−0.2%Zn−0.
0025%S
Example 1 Electrolytic copper, Ni, Si, Mg, Zn, and Cu 2 S were mixed to obtain a molten raw material so that the molten alloy had the following six types of copper alloys. Here, the reason why Mg is added is that Mg has a strong affinity with sulfur, and therefore, by forming a compound with sulfur, an effect of reducing segregation of the elemental sulfur into grain boundaries can be expected. Zn is an alloying element that is often added to copper alloys for electronic materials for the purpose of improving properties such as heat resistance peeling resistance and migration resistance.
It is added to investigate the effect of the alloy on annealing cracking. Cu-3% Ni-0.6% Si-0.0005% S Cu-3% Ni-0.6% Si-0.0025% S Cu-3% Ni-0.6% Si-0.1% Mg-0.
0005% S Cu-3% Ni-0.6% Si-0.1% Mg-0.
0025% S Cu-3% Ni-0.6% Si-0.2% Zn-0.
0005% S Cu-3% Ni-0.6% Si-0.2% Zn-0.
0025% S

【0021】次に、溶解原料を黒鉛るつぼ中に入し高
周波誘導炉を用いて溶解し、真空脱ガスにより水素を低
減させる処理あるいは油添加により水素を混入させる処
理を行って、溶湯を種々の水素濃度に調整した後、金型
に注湯してインゴットを製造した。インゴットの寸法は
厚み60mm、幅90mm、高さ150mmである。こ
のインゴットを850℃で1時間焼鈍しても割れは発生
しなかった。これは、インゴットの断面積が小さいた
め、焼鈍割れの駆動力となる鋳造で発生する残留応力が
小さいためである。そこで、図1に示すようにインゴッ
ト10を皮削後4個(1〜4)に切断した後、1〜3に
ついては冷間圧延を行って残留応力を付加した。4は不
活性ガス中溶融抽出−熱伝導度測定法による水素分析を
行った。12は押湯である。冷間圧延は1,3及び5%
の3通りの加工度で行ったが、冷間圧延後の試料に割れ
は観察されなかった。次に冷間圧延後の試料を、850
℃で1時間加熱し冷却した後、浸透探傷法により表面割
れの有無を観察した。図2には圧延供試材の寸法及び
クロ組織を示す。
Next, dissolve the raw material was dissolved with loading city high-frequency induction furnace in a graphite crucible, by performing a process of mixing hydrogen in the process or oil additives reduce hydrogen by vacuum degassing, various molten metal After adjusting the hydrogen concentration to 1, the ingot was manufactured by pouring the molten metal into a mold. The ingot has a thickness of 60 mm, a width of 90 mm and a height of 150 mm. No cracking occurred even when the ingot was annealed at 850 ° C. for 1 hour. This is because the cross-sectional area of the ingot is small and the residual stress generated in casting, which is the driving force for annealing cracking, is small. Therefore, as shown in FIG. 1, after ingot 10 was cut into four pieces (1 to 4), cold rolling was performed on 1 to 3 to add residual stress. For No. 4, hydrogen analysis was performed by melt extraction in an inert gas-thermal conductivity measurement method. 12 is a feeder. Cold rolling is 1, 3 and 5%
However, no cracks were observed in the sample after cold rolling. Next, the sample after cold rolling is set to 850
After heating for 1 hour at 0 ° C. and cooling, the presence or absence of surface cracks was observed by a penetrant flaw detection method. FIG. 2 shows the dimensions and macrostructure of the rolled test material.

【0022】表1〜6にそれぞれ〜の合金における
水素濃度と浸透探傷法で観察された割れの発生状況の関
係を示す。いずれの合金においても、水素濃度が高く、
圧延加工度すなわち残留応力が大きいほど、割れの発生
が顕著になることがわかる。また、〜の各合金間で
割れの発生状況を比較すると、、、及びと比較
して及びでは割れが激しく発生している。これは、
水素以外に硫黄も割れに悪影響を及ぼし、Mgを含有す
ると硫黄の粒界偏析が軽減され割れが改善されることを
示す。Mgと同様に硫黄との親和力が強く硫黄の粒界偏
析を軽減する元素には、Ti,Zr,Al,Mn,希土
類元素等がある。一方、の割れがと、の割れが
とほぼ同じレベルであることより、0.2%程度のZn
の添加は割れの発生状況に影響を及ぼさないことがわか
る。このように比較的低い濃度範囲において割れに影響
を及ぼさない元素として、Znのほか前述したP,A
s,Sb,Fe,Co,Cr,Sn,B,Y,Co,V
およびAgがげられる。なお、この実験で観察された
割れは、粒界において発生していた。割れの典型的なも
のにつき割れの発生状況及び割れの断面状況を図4及び
5に示す。割れは試料の圧延面に発生していたが、これ
は圧延面に引張りの残留応力が生じていたためであると
考えられる。また、図2と対比すると、割れは主に柱状
晶に沿って発生していることがわかる。さらに、割れの
末端をミクロ的に観察することにより、割れが粒界での
ボイドの発生と成長により発生していることが確認され
た。
Tables 1 to 6 show the relationship between the hydrogen concentration in each of the alloys 1 to 6 and the occurrence of cracks observed by the penetrant flaw detection method. In all alloys, the hydrogen concentration is high,
It can be seen that the greater the rolling workability, that is, the residual stress, the more remarkable the occurrence of cracks. Also, compared to the and cracking and to compare the occurrence of cracking ,,, and the among the alloys - is vigorously generated. this is,
In addition to hydrogen, sulfur also has an adverse effect on cracking, and it is shown that when Mg is contained, the grain boundary segregation of sulfur is reduced and cracking is improved. Similar to Mg, Ti, Zr, Al, Mn, rare earth elements, and the like are elements that have a strong affinity with sulfur and reduce sulfur grain boundary segregation. On the other hand, from the possible cracking and is almost the same level cracking and of, on the order of 0.2% Zn
It can be seen that the addition of does not affect the occurrence of cracks. Elements other than Zn, such as P and A described above, do not affect the cracking in a relatively low concentration range.
s, Sb, Fe, Co, Cr, Sn, B, Y, Co, V
And Ag can be mentioned up. The cracks observed in this experiment occurred at the grain boundaries. 4 and 5 show the occurrence of cracks and the cross-section of cracks for typical cracks. The cracks were generated on the rolled surface of the sample, and this is considered to be because tensile residual stress was generated on the rolled surface. Further, in comparison with FIG. 2, it can be seen that cracks mainly occur along columnar crystals. Furthermore, by observing the ends of the cracks microscopically, it was confirmed that the cracks were generated by the generation and growth of voids at the grain boundaries.

【0023】[0023]

【表1】 ○:割れなし、△:微細な割れ発生、×:大きな割れ発生[Table 1] ○: No cracks, △: Fine cracks occurred, ×: Large cracks occurred

【0024】[0024]

【表2】 ○:割れなし、△:微細な割れ発生、×:大きな割れ発生[Table 2] ○: No cracks, △: Fine cracks occurred, ×: Large cracks occurred

【0025】[0025]

【表3】 ○:割れなし、△:微細な割れ発生、×:大きな割れ発生[Table 3] ○: No cracks, △: Fine cracks occurred, ×: Large cracks occurred

【0026】[0026]

【表4】 [Table 4]

【0027】[0027]

【表5】 ○:割れなし、△:微細な割れ発生、×:大きな割れ発生[Table 5] ○: No cracks, △: Fine cracks occurred, ×: Large cracks occurred

【0028】[0028]

【表6】割れの発生状況 Cu−3%Ni−0.6%Ni−0.2%Zn−0.
0025%S) ○:割れなし、△:微細な割れ発生、×:大きな割れ発
[Table 6] Occurrence of cracks Cu-3% Ni-0.6% Ni-0.2% Zn-0.
(0025% S) ○: No cracks, △: Fine cracks occurred, ×: Large cracks occurred
Raw

【0029】Cu−(2.0〜3.0%)Ni−(0.
4〜0.8%)Si合金を低周波溶解炉で溶解する際の
合金溶湯を被覆する木炭粉の乾燥状態を予め種々調整し
た。鋳造により得られた断面形状が、幅500mm、厚
さ200mmのインゴットを熱間圧延前に850℃で2
時間加熱し、その後10mmまで熱間圧延した。インゴ
ットの焼鈍割れは、熱間圧延割れとして顕在化する。熱
間圧延で発生した割れは、次の研削工程で、切断あるい
は研削により除去する必要がある。そこで、(1)式で
算出した熱間圧延歩留を指標とし、水素及び硫黄濃度の
焼鈍割れへの影響を調査した。 熱間圧延歩留(%)=(研削後の材料重量)/(インゴット重量)×10 0 ・・・・・・・・・・・( 1) で表わされる熱間圧延歩留を図3に示す。
Cu- (2.0-3.0%) Ni- (0.
4 to 0.8%) The dry state of the charcoal powder coating the molten alloy when the Si alloy was melted in the low frequency melting furnace was adjusted in advance. The cross-sectional shape obtained by casting is an ingot with a width of 500 mm and a thickness of 200 mm, which is 2 at 850 ° C. before hot rolling.
It was heated for an hour and then hot rolled to 10 mm. Annealing cracking of the ingot becomes apparent as hot rolling cracking. Cracks generated by hot rolling must be removed by cutting or grinding in the next grinding step. Therefore, using the hot rolling yield calculated by the formula (1) as an index, the effect of hydrogen and sulfur concentrations on annealing cracks was investigated. Hot rolling yield (%) = (weight of material after grinding) / (weight of ingot) × 10 0 ········ (1) The hot rolling yield is shown in FIG. Show.

【0030】硫黄濃度が0.0020%以下の場合、水
素濃度が0.0001%以下であれば、熱間圧延歩留は
80%以上である。20%程度の歩留低下は、材料の表
面酸化等により不可避的に生じるものである。一方、水
素濃度が0.0001%を超えると熱間圧延歩留は80
%未満の低い値を示している。また、硫黄濃度が0.0
02%を超える場合には水素濃度にかかわらず熱間圧延
歩留は低い値となっている。
When the sulfur concentration is 0.0020% or less and the hydrogen concentration is 0.0001% or less, the hot rolling yield is 80% or more. The yield reduction of about 20% is inevitably caused by surface oxidation of the material. On the other hand, when the hydrogen concentration exceeds 0.0001%, the hot rolling yield is 80.
It shows a low value of less than%. Also, the sulfur concentration is 0.0
If it exceeds 02%, the hot rolling yield is low regardless of the hydrogen concentration.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように本発明に関わるCu
−Ni−Si系銅基合金は、H及びS量を規制したこと
により優れた性質が達成され、具体的には次のような利
点が得られる。 (1)インゴットの熱間圧延歩留りが高いために生産性
が優れかつコストも低減される。 (2)熱間圧延の研削が不必要になるか、あるいは研
削を行う場合でも研削代が少ない。 (3)極低H及びSを得るための手段はインゴットの大
きさや合金成分に関係なく各種コルソン合金素材に広く
適用できるので、工業的に応用範囲が広い。また一旦極
低H及びSを得た素材の加工は、何ら条件が制限されな
い。これに対して微細結晶粒により焼鈍割れを防止する
方法では鋳造条件が制限され、また加工中にも結晶粒を
粗大化するような加工条件は避けることが望ましい。 (4)冷間加工後焼鈍される材料の微細割れを防止する
ことができるので、電子機器部品としてのシビアな品質
要求に対応できる。
As described above, Cu related to the present invention
The -Ni-Si-based copper-based alloy achieves excellent properties by controlling the amounts of H and S, and specifically, has the following advantages. (1) Since the hot rolling yield of the ingot is high, the productivity is excellent and the cost is reduced. (2) Grinding of the hot rolled plate becomes unnecessary, or the grinding allowance is small even when grinding is performed. (3) The means for obtaining the extremely low H and S can be widely applied to various Corson alloy materials regardless of the size of the ingot and the alloy components, and thus has a wide range of industrial application. Further, the conditions for processing the material once having extremely low H and S are not limited. On the other hand, in the method of preventing annealing cracks by fine crystal grains, casting conditions are limited, and it is desirable to avoid processing conditions that coarsen the crystal grains during processing. (4) Since it is possible to prevent fine cracks in the material annealed after cold working, it is possible to meet severe quality requirements for electronic equipment parts.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 実施例1において使用したインゴットを示
し、またその切断線を示す図である。
FIG. 1 is a view showing an ingot used in Example 1 and a cutting line thereof.

【図2】 インゴットから切断された圧延素材のマクロ
組織を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a macrostructure of a rolled material cut from an ingot.

【図3】 実施例2において調査した熱間圧延歩留を織
を示す図である。
FIG. 3 is a view showing a weaving hot rolling yield investigated in Example 2.

【図4】 圧延面における典型的な割れ発生状況を示す
図である。
FIG. 4 is a view showing a typical crack occurrence situation on a rolled surface.

【図5】 断面から観察した割れの図である。FIG. 5 is a view of a crack observed from a cross section.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1〜3:圧延素材 4:水素分析に供した部分 10:インゴット 12:押湯 1-3: Rolled material 4: Part used for hydrogen analysis 10: Ingot 12: Hot water

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C22C 9/00 C22C 9/10 C22F 1/08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) C22C 9/00 C22C 9/10 C22F 1/08

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 Ni:1.0〜4.8重量%,Si:0.2〜1.4重量
%を基本成分として含有し、残部が実質的にCuであり、
水素濃度が0.0001重量%以下、硫黄濃度が0.0020重量%
以下であることを特徴とする焼鈍割れ性を改善したCu-N
i-Si系銅基合金。
1. Ni: 1.0 to 4.8 wt%, Si: 0.2 to 1.4 wt% as a basic component, the balance is substantially Cu,
Hydrogen concentration is 0.0001% by weight or less, sulfur concentration is 0.0020% by weight
Cu-N with improved annealing cracking characteristics characterized by:
i-Si-based copper-based alloy.
【請求項2】 熱間加工用素材である請求項1記載のC
u−Ni−Si系銅基合金。
2. The C according to claim 1, which is a material for hot working.
u-Ni-Si-based copper-based alloy.
【請求項3】 冷間加工後焼鈍された調質状態を有する
請求項1記載のCu−Ni−Si系銅基合金。
3. The Cu-Ni-Si-based copper-based alloy according to claim 1, which has a tempered state that is annealed after cold working.
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