JP3400429B2 - 電磁波透過性金属蒸着ホログラム転写材とその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、美麗で高輝度の電
磁波透過性金属蒸着ホログラム転写材とその製造方法に
関し、詳しくは、ホログラムを有して美麗であるうえ
に、高周波照射を受けても、放電や熱収縮、燃焼等を引
き起こすことがなく、従って、例えば、食品包装材やそ
れに貼付するラベル紙、印刷紙等に高輝度で電磁波透過
性の金属蒸着膜を転写するために好適な電磁波透過性金
属蒸着ホログラム転写材とそのような電磁波透過性金属
蒸着ホログラム転写材の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、絶縁性金属蒸着膜転写材とし
て、島の大きさを２００Å〜１μｍとすると共に、島相
互の間隔を１００〜５０００Åとした島状構造を有する
金属蒸着膜をスズ、鉛、亜鉛、ビスマス、アンチモン等
の金属から形成してなる絶縁層を有するものが知られて
いる。しかし、このような金属蒸着膜は、その厚みが３
００Å以上（光線透過率にして１０％以下）程度になる
と、島が連続して一体となり、上記島状構造とした本来
の目的である絶縁性を失なって、良導電性を示すに至る
こととなる。

【０００３】また、上述したような従来の絶縁性金属蒸
着膜を有するラベルを貼着した食品包装材は、高感度異
物検出機による検査においても、金属異物が混入してい
るとして誤認されることもある。更に、そのような食品
包装材を電子レンジによる調理やウェルダー箔押転写加
工に際して、マイクロ波のような高周波を照射すると、
放電や熱収縮、場合によっては、燃焼さえも生じる重大
な問題がある。

【０００４】他方、上記絶縁性金属蒸着膜の厚みが２０
０Å以下（光線透過率にして１５％以上）程度に薄いと
きは、美麗な金属光沢をもたず、黒ずんだ色感があり、
外観が悪い問題がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の絶縁
性金属蒸着膜転写材における上述したような問題を解決
するためになされたものであって、十分な絶縁性を有
し、従って、電磁波透過性を有すると共に、美麗で高輝
度の金属光沢を有し、耐膜性強度の高いホログラムを転
写することができる電磁波透過性金属蒸着ホログラム転
写材とその製造方法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、基材上
に離型剤層、内部保護用透明樹脂層、インジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜及び接着剤層をこの順序にて有
し、上記内部保護用透明樹脂層及び複合蒸着膜の少なく
とも一方の表面にホログラム層が形成されており、上記
酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の
範囲の数である。）で表わされると共に、上記複合蒸着
膜のインジウム／酸化インジウム重量比が９５／５〜８
０／２０の範囲にあることを特徴とする電磁波透過性金
属蒸着ホログラム転写材が提供される。

【０００７】特に、本発明によれば、上記インジウム／
酸化インジウム複合蒸着膜が厚み２５０〜５００Åを有
することが好ましい。

【０００８】更に、本発明によれば、基材上に離型剤層
と内部保護用透明樹脂層をこの順序で積層した後、この
内部保護用透明樹脂層上に高周波励起プラズマ又は電子
線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着法にてイ
ンジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を積層し、次い
で、この蒸着膜上に接着剤層を積層する電磁波透過性金
属蒸着膜転写材の製造方法において、上記酸化インジウ
ムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範囲の数であ
る。）で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジウ
ム／酸化インジウム重量比が９５／５〜８０／２０の範
囲にあることを特徴とする電磁波透過性金属蒸着膜転写
材の製造方法が提供される。

【０００９】

【発明の実施の形態】図１は、本発明による電磁波透過
性金属蒸着ホログラム転写材の好ましい一実施例を示
し、基材１上に離型剤層２、表面保護用透明樹脂層３、
表面にホログラム層４を有する内部保護用透明樹脂層
５、インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜６、接着ア
ンカー層７及び接着剤層８をこの順序にて有し、これら
の層のうち、表面保護用透明樹脂層３と接着アンカー層
７は、必要に応じて設けられているものである。後述す
るように、これらの層のうち、表面保護用透明樹脂層
３、ホログラム層４を有する内部保護用透明樹脂層５、
インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜６、接着アンカ
ー層７及び接着剤層８からなる積層体が接着剤層にて被
転写体に転写される転写層９である。

【００１０】図２は、本発明による電磁波透過性金属蒸
着ホログラム転写材の好ましい別の一実施例を示し、基
材１上に離型剤層２、表面保護用透明樹脂層３、内部保
護用透明樹脂層５、表面にホログラム層４を有するイン
ジウム／酸化インジウム複合蒸着膜６、接着アンカー層
７及び接着剤層８をこの順序にて有し、これらの層のう
ち、表面保護用透明樹脂層３と接着アンカー層７は、必
要に応じて設けられているものである。後述するよう
に、これらの層のうち、表面保護用透明樹脂層３、内部
保護用透明樹脂層５、ホログラム層４を有するインジウ
ム／酸化インジウム複合蒸着膜６、接着アンカー層７及
び接着剤層８からなる積層体が接着剤層にて被転写体に
転写される転写層９である。

【００１１】上記基材は、通常、透明乃至半透明の合成
樹脂フィルムからなり、この合成樹脂としては、限定さ
れるものではないが、例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレ
ンサルファイド、ポリエーテルサルファイド、ポリイミ
ド、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン、ポリスチレン等を挙げることができる。しかし、必
要に応じて、基材は、生分解性フィルムやセロハンや紙
からなるものであってもよい。また、基材は、必要に応
じて、ヘアーライン、スピン加工、コーティングマット
加工等、凹凸加工を施されていてもよい。上記基材は、
２種以上のものが積層されていてもよい。

【００１２】本発明による金属蒸着膜転写材において
は、このような基材上に離型剤層を有する。この離型剤
層も、特に限定されるものではなく、例えば、シリコー
ン樹脂、変性シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ロジン樹
脂、アクリル樹脂、α−オレフィン−エチレン共重合体
樹脂、エチレン−アクリル共重合体樹脂等の樹脂類、ポ
リエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス等の合
成ワックス類、パラフィンワックス、変性モンタンワッ
クス、部分ケン化エステルワックス、酸化ワックス、カ
ルナバワックス等のワックス類のほか、脂肪酸エステル
類や種々の界面活性剤からなるものである。これらの樹
脂やワックスは、必要に応じて、２種以上が併用され
る。

【００１３】このような樹脂やワックスを適宜の有機溶
剤に溶解して溶液とし、これを上記基材上に適宜の塗工
手段にて塗布、乾燥すれば、基材上に離型剤層を形成す
ることができる。離型剤層の厚みは、特に限定されるも
のではないが、通常、0.０１〜0.５μｍの範囲である。
上記塗工手段としては、例えば、グラビアコーター、グ
ラビアリバースコーター、リバースロールコーター、マ
イヤーバーコーター、パイプドクターリバースコータ
ー、オフセットグラビアコーター、スリットリバースコ
ーター等を挙げることができる。

【００１４】この離型剤層は、本発明による金属蒸着膜
転写材を用いて、被転写体に転写層を転写する際に、基
材を転写層から容易に剥離することができるように設け
られている。

【００１５】この離型剤層上には、好ましくは、表面保
護用透明樹脂層が設けられており、この表面保護用透明
樹脂層は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂又はこれらの混
合物からなる透明乃至半透明の合成樹脂層である。しか
し、必要に応じて、表面保護用透明樹脂層は、活性エネ
ルギー線硬化型樹脂を含んでいてもよい。

【００１６】上記熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂として
は、例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、メラミン−エポ
キシ共重合樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、メラミン
−アクリル共縮合樹脂等のアミノ樹脂、ポリウレタン樹
脂、アクリル樹脂、石油系樹脂、ロジン樹脂、クロロプ
レンゴム、塩化ゴム、環化ゴム等のゴム系樹脂、繊維素
誘導体樹脂、フェノール系樹脂、塩素化ポリプロピレ
ン、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体樹脂、キシレン樹脂、ポリエステル
樹脂等を挙げることができる。

【００１７】従って、用いる樹脂によっては、必要に応
じて、適量の柔軟剤（又は可塑剤）や硬化剤を用いるこ
とができる。上記柔軟剤（又は可塑剤）としては、例え
ば、屈折率の高いフタル酸ジメチル（屈折率ｎ＝1.
５）、フタル酸ジエチル（屈折率ｎ＝1.５）等のフタル
酸ジエステル類や、Ｎ−ブチルベンゼンスルホンアミ
ド、トルエンスルホンメチルアミド、トルエンスルホン
エチルアミド、アミノベンゼンスルホンアミド等のよう
なスルホンアミド類を好適に用いることができる。ま
た、上記硬化剤としては、例えば、リン酸やリン酸エス
テル（アミノ樹脂の硬化剤）やイソシアネート（ウレタ
ン樹脂の硬化剤）等を挙げることができる。但し、これ
らに限定されるものではない。

【００１８】本発明によれば、表面保護用透明樹脂層
は、好ましくは、熱硬化性樹脂１０〜９０重量％、好ま
しくは、２０〜７０重量％と熱可塑性樹脂９０〜１０重
量％、好ましくは、８０〜３０重量％との混合物１００
重量部に対して、ジメチルポリシロキサンを骨格とする
変性シリコーン樹脂１〜１０重量部を含有し、必要に応
じて、前述したような活性エネルギー線硬化型樹脂５〜
１０重量部を含有することができる。上記変性シリコー
ン樹脂としては、例えば、アクリル変性シリコーン樹脂
（本発明においては、アクリル変性シリコーン樹脂はメ
タアクリル変性シリコーン樹脂を含むものとする。）、
ポリエーテル変性シリコーン樹脂又はアミノ変性シリコ
ーン樹脂が好ましく用いられる。

【００１９】上記活性エネルギー線硬化型樹脂とは、紫
外線や電子線等のような活性エネルギー線の照射によっ
て、重合して、硬化物を与える樹脂組成物をいい、通
常、活性エネルギー線の照射によってラジカル重合する
活性基（特に、アクリロイル基やメタクリロイル基）を
有するオリゴマー又はプレポリマーと、通常、上記活性
基を有するモノマーとからなる。活性エネルギー線硬化
型樹脂の硬化物とは、上述したように、活性エネルギー
線硬化型樹脂に活性エネルギー線を照射して形成された
硬化物である。

【００２０】上記活性エネルギー線の照射によって硬化
するオリゴマー又はプレポリマーとしては、例えば、紫
外線活性基としてアクリロイル基やメタアクリロイル基
を有するオリゴマーやプレポリマーを挙げることができ
る。具体例としては、例えば、ポリエステルアクリレー
ト、エポキシアクリレート、ポリウレタンアクリレー
ト、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート、
ポリエステルメタクリレート、エポキシメタクリレー
ト、ポリウレタンメタクリレート、ポリオールメタクリ
レート、メラミンメタクリレート等を挙げることができ
る。また、モノマーとしては、例えば、エチレングリコ
ールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート等のような多官能性（メタ）アクリレート
や、必要に応じて、アクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チルのような単官能性アクリレートも用いられる。

【００２１】このような活性エネルギー線硬化型樹脂
は、通常、増感剤、重合開始剤、安定剤、充填剤等を含
んでおり、更に、希釈剤として、上述したような単官能
又は多官能（メタ）アクリレートと溶媒とを含む液状組
成物として、市販されており、本発明においては、その
ような市販品を好適に用いることができる。

【００２２】上記アクリル変性シリコーン樹脂も、分子
末端に（メタ）アクリロイル基を有し、加熱によって硬
化して、強靱な被膜を形成する。アクリル変性シリコー
ン樹脂も、市販品を用いることができる。

【００２３】このような表面保護用透明樹脂層は、上述
したような熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との混合物と上
記変性シリコーン樹脂とを、必要に応じて、上記活性エ
ネルギー線硬化型樹脂等を適宜の有機溶媒に溶解して溶
液とし、これを離型剤層上に塗布し、加熱、乾燥させる
ことによって形成することができる。表面保護用透明樹
脂層の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、
0.１〜１μｍの範囲である。

【００２４】このように、本発明による転写材が変性シ
リコーン樹脂、好ましくは、アクリル変性又はアミノ変
性シリコーン樹脂を含む表面保護用透明樹脂層を有する
とき、このような転写材は、上記変性シリコーン樹脂の
硬化に由来して、耐摩耗性や耐擦過性を有する強靱な表
面を有する。

【００２５】更に、このように、本発明による転写材が
変性シリコーン樹脂と、必要に応じて、活性エネルギー
線硬化型樹脂を含む表面保護用透明樹脂層を有するとき
は、このような転写材を用いて被転写体に転写層を転写
した後、その転写層の表面に活性エネルギー硬化型イン
キにて堅牢な印刷層を形成することができる。

【００２６】即ち、前記図１に示す本発明による転写材
を用いて転写層９を被転写体１０に転写すれば、図３に
示すように、転写層９は、被転写体１０上に接着剤層
８、接着アンカー層７、インジウム／酸化インジウム複
合蒸着膜６、ホログラム層４を有する内部保護用透明樹
脂層５及び表面保護用透明樹脂層３がこの順序にて積層
されてなる積層体である。

【００２７】ここに、活性エネルギー線硬化型インキ
は、インキ中に前述したような活性エネルギー線硬化型
樹脂を含むので、例えば、紫外線硬化型オフセットイン
キや紫外線硬化型シルクスクリーンインキ等を用いて転
写層の表面（即ち、表面保護用透明樹脂層の表面）に印
刷を行なう際に、転写層の表面が上記活性エネルギー線
硬化型インキとの親和性にすぐれると共に、印刷後に活
性エネルギー線を照射すれば、活性エネルギー線硬化型
インキと共に、表面保護用透明樹脂層中の活性エネルギ
ー線硬化型樹脂も硬化するので、印刷層が表面保護用透
明樹脂層と一体化し、かくして、形成される印刷層Ｐ
は、耐摩耗性、耐擦過傷性、耐溶剤性、耐薬品性、爪に
よる耐引っ掻き傷性等にすぐれ、非常に堅牢である。

【００２８】本発明による転写材は、上記表面保護用透
明樹脂層上に内部保護用透明樹脂層を有する。この内部
保護用透明樹脂層は、透明乃至半透明の合成樹脂層から
なり、着色されていてもよい。

【００２９】このような内部保護用透明樹脂層は、前述
したような熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂のみからなる
ものでもよく、熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂との混合物
からなるものでもよく、また、前述したような活性エネ
ルギー線硬化型樹脂の硬化物のみからなるものでもよ
く、更に、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物と熱硬
化性若しくは熱可塑性樹脂との混合物からなるものでも
よい。

【００３０】このような樹脂を適宜の有機溶媒に溶解し
て溶液とし、これを前記表面保護用透明樹脂層上に塗布
し、塗膜を形成することによって、内部保護用透明樹脂
層を形成することができる。この塗膜化に際して、用い
る樹脂が熱硬化性樹脂を含むときは、必要に応じて、樹
脂を硬化剤の存在下に加熱、硬化させる。

【００３１】内部保護用透明樹脂層が無色透明であれ
ば、本発明による転写材を用いて被転写体に転写層を転
写したとき、転写層は、インジウム／酸化インジウム複
合蒸着膜に基づく銀色の金属光沢を有し、内部保護用透
明樹脂層が着色透明であれば、銀色のインジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜を背景とした有彩色の金属光沢を
有する。例えば、内部保護用透明樹脂層が黄色、青色又
は赤色透明であれば、転写層は、それぞれ金色、青色又
は赤色の鮮やかな金属光沢を有する。

【００３２】本発明による電磁波透過性金属蒸着ホログ
ラム転写材は、上記内部保護用透明樹脂層及び前記複合
蒸着膜の少なくとも一方の表面にホログラム層が形成さ
れている。

【００３３】既に、微細な凹凸模様像からなるホログラ
ム画像から製作した一種のニッケル製金型（シム版又は
スタンパー）を加圧加熱下に樹脂フィルムの表面に押し
当て、エンボス加工を行なって、樹脂フィルムに上記微
細な凹凸模様像を複写することによって、樹脂フィルム
の表面にレリーフ型ホログラム層を複製することができ
ることが知られている。このような樹脂フィルムの裏面
に、例えば、アルミニウム、スズ、銀等を蒸着し、反射
層を形成することによって、反射型ホログラムを得るこ
とができる。但し、本発明において、ホログラムとは、
レリーフ型（レインボー型）のみならず、リップマン型
やマルチプレックス型のホログラムを用いる含むものと
する。

【００３４】本発明に従って、内部保護用透明樹脂層の
表面にホログラム層を有する転写材を得るには、前記表
面保護用透明樹脂層上に内部保護用透明樹脂層を形成し
た後、この内部保護用透明樹脂層の表面にホログラム層
を形成する。内部保護用透明樹脂層の表面のホログラム
層は、特に限定されるものではないが、その厚みは、通
常、0.１〜0.９μｍの範囲である。

【００３５】このように、内部保護用透明樹脂層の表面
にホログラム層を形成するには、内部保護用透明樹脂層
は、好ましくは、熱硬化性樹脂２０〜５０重量％と熱可
塑性樹脂８０〜５０重量％との混合物からなり、ホログ
ラム形成用の金型による樹脂層の表面のエンボス加工が
可能であるように、ホログラム形成用の金型の表面温度
と同じく、１４０〜１６０℃の範囲の軟化点を有するこ
とが好ましい。必要に応じて、内部保護用透明樹脂層
は、前述したように、活性エネルギー線硬化型樹脂や柔
軟剤（又は可塑剤）を含んでいてもよい。

【００３６】本発明による電磁波透過性金属蒸着ホログ
ラム転写材は、上記内部保護用透明樹脂層上にインジウ
ム／酸化インジウム複合蒸着膜を有し、ここに、本発明
によれば、このインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜
においては、上記酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、
ｘは1.０〜1.９の範囲の数である。）で表わされると共
に、上記複合蒸着膜のインジウム／酸化インジウム重量
比が９５／５〜８０／２０の範囲にある。

【００３７】このようなインジウム／酸化インジウム複
合蒸着膜を形成する手段は、特に限定されるものではな
く、例えば、電子線加熱式蒸着法、高周波誘導加熱式、
電気抵抗加熱式蒸着法、イオンプレーティング、スパッ
タリング蒸着法、活性化反応性蒸着法等によることがで
き、好ましくは、連続巻取式蒸着装置を用いて前記内部
保護用透明樹脂層上に形成される。

【００３８】上述した種々の手段のなかでも、活性化反
応性蒸着法は、本発明によるインジウム／酸化インジウ
ム複合蒸着膜を形成するための好ましい方法の一つであ
る。特に、本発明によれば、インジウムを蒸発させつ
つ、これを高周波励起プラズマ又は電子線酸化陽極プラ
ズマ中に導いて酸素にてインジウムを酸化し、かくし
て、インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を形成させ
る活性化反応性蒸着法によるのが好ましい。

【００３９】以下にこれらの方法のうち、先ず、高周波
励起プラズマを用いる活性化反応性蒸着法を図４を参照
しながら説明する。

【００４０】前述したように、基材上に離型剤層と内部
保護用透明樹脂層をこの順序で積層してなる蒸着用基材
１１（巻取りロール）を原反とし、この蒸着用基材を活
性化反応性蒸着装置１２内の上室１３に設けた巻出し側
１４にセットし、冷却ロール１５を経て、巻取り側１６
につなぎ、隔壁１７にて隔てた上室と下室１８との間に
差圧があるように、真空ポンプを用いて装置の上室を到
達真空度１０^-4〜１０ ^-3Ｔｏｒｒ、好ましくは、５×１
０^-3〜３×１０^-3Ｔｏｒｒまで排気すると共に、下室側
を到達真空度１０^-5〜１０^-4Ｔｏｒｒ、好ましくは、１
×１０^-4〜1.５×１０^-4Ｔｏｒｒまで排気して、上室と
下室をそれぞれ真空槽に形成する。

【００４１】上記隔壁は、冷却ロールの下部に沿ってス
リット１９を有し、このスリットによって上室と下室は
連通していて、冷却ロールはその下部がスリットに案内
されるように下室に位置している。

【００４２】次いで、下室真空槽に設けた高周波誘導加
熱用コイル２０（例えば、周波数１０ＫＨｚ）で蒸発源
坩堝２１中の金属インジウムを徐々に加熱し、金属イン
ジウムの蒸発温度である２１００〜２２００℃程度に達
したとき、上記蒸着用基材を上記巻出し側から適宜の温
度（例えば、−５℃から５℃の範囲）に冷却した冷却ロ
ールに沿わせながら、上記巻取り側に巻取り、ここで、
蒸着用基材が冷却ロール上を走行する間、冷却ロールに
沿って延びる前記スリットを通して下室に案内し、下方
に蒸発源坩堝を臨むように下室中に蒸着用基材をインジ
ウム蒸気流Ｖ中にＷ露出させて、蒸着用基材の内部保護
用透明樹脂層上にインジウムを蒸着させる。

【００４３】このように、蒸着用基材を巻出し側から巻
取り側に一定の速度で走行させながら、蒸着用基材上に
インジウムを蒸着させ、かくして得られた蒸着フィルム
を巻取り側に巻取るまでに、この蒸着フィルムの光透過
率を、蒸着用基材を基準フィルムとし、その光透過率を
１００％とする相対値として、連続して光透過率計２２
にて測定すると共に、蒸着フィルムの蒸着膜の膜厚を膜
厚測定器２３にて連続して測定しながら、２５０〜５０
０Åの範囲で一定の膜厚（例えば、４００Å）を有する
インジウム蒸着膜が形成されるように、前記高周波誘導
加熱用コイルの出力を調整し、インジウムの蒸発速度を
制御する。

【００４４】装置内において、前記蒸発源坩堝の上部に
高周波励起プラズマ生成用電極２４が取付けられてお
り、更に、その上部にはアルゴンガスのシャワー口２５
と酸素ガスのシャワー口２６が取付けられており、これ
らの上方で蒸着用基材が冷却ロールを走行しつつ、下室
中に露出されている。

【００４５】そこで、上述したように、蒸着用基材上に
一定の厚みのインジウム蒸着膜が形成されるようになっ
たとき、高周波励起マッチングボックス３３を介して高
周波発振器３４（例えば、出力１ＫＷ、周波数１3.５６
ＭＨｚ）にて上記高周波励起プラズマ生成用コイルに高
周波電圧を印加しながら、その反射波が２０〜３０Ｗの
範囲でマッチングがとれるように設定し、下室中にマス
フローコントローラ（図示せず）を経てアルゴンガスを
一定の割合（例えば、0.１Ｌ／分）で上記シャワー口か
ら導入すると共に、酸素ガスをマスフローコントローラ
（図示せず）を経て一定の割合（例えば、0.２Ｌ／分）
で上記シャワー口から導入して、前記蒸発源坩堝の上方
にてプラズマを生成させ、このプラズマ中で酸素を活性
酸素イオンとし、インジウム蒸気をイオン化して、これ
らの間で反応（インジウムの酸化反応）を起こさせ、か
くして、生成した酸化インジウムをインジウムと共に蒸
着用基材上に蒸着させて、本発明によるインジウム／酸
化インジウム複合蒸着膜を蒸着用基材上に形成した蒸着
フィルム２７を得ることができる。

【００４６】本発明によれば、上述したように、蒸着フ
ィルムの蒸着膜の厚みを膜厚測定器を用いて測定しなが
ら、これを適当な範囲に調節すると共に、光透過率計を
用いて、上記蒸着膜の光透過率が基準フィルム（蒸着用
基材）の光透過率（１００％）に対して所定の範囲にあ
るように、上記酸素ガスの導入量を調節して、プラズマ
中のインジウムの酸化反応を制御することによって、酸
化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範
囲の数である。）で表わされると共に、インジウム／酸
化インジウム重量比が９５／５〜８０／２０の範囲にあ
るインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を有する蒸着
フィルムを得ることができる。

【００４７】即ち、本発明によれば、このように、イン
ジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィル
ムを走行させながら、上述したようにして、その蒸着膜
の光透過率と膜厚を連続的に測定し、膜厚が所定の範囲
にあることを確認しながら、酸素の導入量を制御して、
一定の酸素分圧下に、蒸着膜に基準フィルムに対して所
定の範囲の光透過率を有せしめることによって、インジ
ウムに対して所定の割合で酸化インジウムを生成させ、
かくして、目的とするインジウム／酸化インジウム複合
蒸着膜、即ち、酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘ
は1.０〜1.９の範囲の数である。）で表わされると共
に、インジウム／酸化インジウム重量比が９５／５〜８
０／２０の範囲にあるインジウム／酸化インジウム複合
蒸着膜を形成させることができる。

【００４８】より詳細には、予め、蒸着用基材上に一定
の厚み（２５０〜５００Åの範囲の間で種々の厚み、例
えば、４００Åの厚み）のインジウム／酸化インジウム
複合蒸着膜を形成して蒸着フィルムとし、この蒸着膜に
ついて、インジウムと酸素の量と共に、インジウムと酸
化インジウムの割合、即ち、酸化インジウム（Ｉｎ₂Ｏ
_x ）におけるｘ値とインジウム／酸化インジウム重量比
を、例えば、ＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分析）スペクトロメ
ーターを用いて求めると共に、この蒸着膜について、基
準フィルム（蒸着用基材）の光透過率を１００％とする
相対的な光透過率を求めておき、その間の関係を求めて
おけば、その関係に基づいて、酸素ガスの導入量を調節
して、インジウムの酸化反応を適宜に制御することによ
って、蒸着用基材上に所定の厚みと所定のｘ値を有する
インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を形成させるこ
とができる。

【００４９】上記光透過率計としては、例えば、赤外発
光ダイオード（発光波長９１０ｎｍ）から蒸着フィルム
に投光し、基準フィルムの光透過率を１００％として、
蒸着膜の光透過率を相対値として測定するものを用いる
ことができる。

【００５０】このようにして、本発明によれば、膜厚２
５０〜５００Å、好ましくは、３００〜４５０Åの厚み
を有し、酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０
〜1.９の範囲の数である。）で表わされると共に、イン
ジウム／酸化インジウム重量比が９５／５〜８０／２０
の範囲にあるインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を
蒸着用基材上に形成させることができる。

【００５１】本発明によれば、インジウム／酸化インジ
ウム複合蒸着膜のインジウム／酸化インジウム重量比が
８０／２０よりも小さいとき、又は、酸化インジウム
（Ｉｎ ₂Ｏ_x ）のｘ値が1.９よりも大きいときは、蒸着
膜が導電性を有するようになって、電磁波透過性が悪く
なる。特に、本発明によれば、複合蒸着膜中の酸化イン
ジウム（Ｉｎ₂Ｏ_X ）は、そのｘ値が1.０≦ｘ≦1.５の
範囲にあるのが好ましい。他方、酸化インジウム（Ｉｎ
₂Ｏ_X ）のｘ値が1.０よりも小さいときは、複合蒸着膜
の強度が小さく、耐摩耗性、耐擦傷性、耐擦過性等が十
分でない。即ち、本発明によれば、酸化インジウムがＩ
ｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範囲の数である。）
で表わされると共に、インジウム／酸化インジウム重量
比が９５／５〜８０／２０の範囲にあるインジウム／酸
化インジウム複合蒸着膜を形成させることによって、絶
縁性（即ち、電磁波透過性）と耐膜性強度を兼ね備えた
R>複合蒸着膜を得ることができる。

【００５２】次に、電子線酸化陽極プラズマを用いる活
性化反応性蒸着法を図５を参照しながら説明する。図５
において、図４と同じ部材には同じ参照番号を付してあ
る。

【００５３】この方法は、プラズマを生成させる手段と
して、前記高周波励起プラズマに代えて、電子線酸化陽
極プラズマを用いる点において相違するのみである。従
って、前述したと同様に、下室１８に設けた高周波誘導
加熱用コイル２０（例えば、周波数１０ＫＨｚ）で蒸発
源坩堝２１中の金属インジウムをその蒸発温度に加熱
し、蒸着用基材１１を巻出し側１４から巻取り側１６に
一定の速度で走行させながら、蒸着用基材上にインジウ
ムを蒸着させる。かくして得られた蒸着フィルムを巻取
り側に巻取るまでに、前述したように、蒸着膜の光透過
率を光透過率計２２にて連続して測定すると共に、蒸着
膜の膜厚を膜厚測定器２３にて連続して測定しながら、
２５０〜５００Åの範囲で一定の膜厚（例えば、４００
Å）を有するインジウム蒸着膜が形成されるように、前
記高周波誘導加熱用コイル出力を調整し、インジウムの
蒸発速度を制御する。

【００５４】電子線酸化陽極プラズマを生成させるため
に、装置１２内において、射線が上記蒸発源の上方（空
間放電プラズマ領域又は空間放電プラズマ流Ｄ）を横切
るようにホロカソード式電子線プラズマ照射銃（ＨＣＤ
電子銃、出力電圧３０ＫＷ／台）のカソード電極３１が
設けられており、これらのカソード電極に対向して、装
置内の反対側にＨＣＤ電子銃のアノード電極３２が設け
られている。また、ホロカソード式電子線プラズマ照射
銃のカソード電極にはアルゴンガスを下室中に導入する
ためのシャワー口２５が設けられていると共に、上記蒸
発源坩堝の上部には酸素ガスのシャワー口２６が取付け
られており、その上方で蒸着用基材が冷却ロールを走行
しつつ、下室中に露出されている。

【００５５】そこで、上述したように、基材上に一定の
厚みのインジウム蒸着膜が形成されるようになったと
き、電源３５から上記電子銃に電圧と電流を印加すると
共に、一定の割合（例えば、0.１Ｌ／分）でシャワー口
からアルゴンガスを導入し、他方、酸素シャワー口から
酸素ガスを一定の割合（例えば、0.２Ｌ／分）で導入し
て、電子銃の上記カソード電極とアノード電極との間の
空間で空間放電プラズマ領域Ｄを生成させ、この空間放
電プラズマ領域中で酸素を活性酸素イオンとし、インジ
ウム蒸気をイオン化して、これらの間で反応（インジウ
ムの酸化反応）を起こさせ、かくして、生成した酸化イ
ンジウムをインジウムと共に蒸着用基材上に蒸着させ
て、インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を形成させ
る。

【００５６】この後、高周波励起プラズマを用いる活性
化反応性蒸着法におけると同様に、インジウム／酸化イ
ンジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィルムを光透過率計
に導き、基準フィルムに対する蒸着膜の光透過率を測定
すると共に、蒸着膜の膜厚を膜厚測定器にて測定し、蒸
着膜の光透過率が所定の値になるように下室中への酸素
導入量を制御し、かくして、膜厚２５０〜５００Å、好
ましくは、３００〜４５０Åの厚みを有し、酸化インジ
ウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範囲の数で
ある。）で表わされると共に、上記複合蒸着膜のインジ
ウム／酸化インジウム重量比が９５／５〜８０／２０の
範囲にあるインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を得
ることができる。

【００５７】このようなインジウム／酸化インジウム複
合蒸着膜は、インジウム蒸着膜の非導電性テトラゴナル
（正方晶、tetragonal）構造と酸化インジウムのキュー
ビック（立方晶、cubic) 構造との複合晶であって、膜
厚を大きくしても、高い絶縁性と耐膜性強度とを有して
おり、しかも、美麗で高輝度の金属光沢を保持してい
る。従って、本発明による転写材からの転写層は、３０
０ＭＨｚから３００ＧＨｚにわたるマイクロ波又は高周
波に対して透過性を有する。

【００５８】本発明においては、このインジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜の表面に前述したようにしてホロ
グラム層が形成されていてもよい。即ち、本発明によれ
ば、前記内部保護用透明樹脂層とこの複合蒸着膜が共に
ホログラム層を有していてもよく、また、前記内部保護
用透明樹脂層とこの複合蒸着膜のいずれかのみがホログ
ラム層を有していてもよい。

【００５９】本発明によれば、インジウム／酸化インジ
ウム複合蒸着膜が適度に柔軟であるので、前述したと同
じ方法によって、樹脂フィルムと同様に、その表面に容
易にホログラム層を形成することができる。ホログラム
層の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、0.
１〜0.９μｍの範囲である。

【００６０】インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜上
にホログラム層を形成するには、上記内部保護用透明樹
脂層上にインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を形成
した後、前述したと同じ方法によって、その表面にホロ
グラム層を形成すればよい。

【００６１】更に、本発明による電磁波透過性金属蒸着
ホログラム転写材は、好ましくは、上記複合蒸着膜上に
接着アンカー層を有する。この接着アンカー層は、この
上の接着剤層と前記複合蒸着膜との層間剥離を防止し、
また、接着剤層中の酸やアルカリ成分や、或いは被転写
体から接着剤層を透過した酸やアルカリ成分を前記複合
蒸着膜から遮断すると共に、複合蒸着膜が柔軟であると
ころ、本発明による転写材の製造時の巻取や、また転写
材から転写層を被転写体に転写する際に傷が付かないよ
うに、複合蒸着膜を保護する役割を担っている。この接
着アンカー層は、前述した熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂
又はこれらの混合物からなり、厚み0.１〜１μｍ程度の
合成樹脂層からなる。

【００６２】この接着アンカー層も、前述したような熱
硬化性樹脂、熱可塑性樹脂又はこれらの混合物を適宜の
有機溶媒に溶解させて溶液とし、これを上記複合蒸着膜
上に塗布し、乾燥又は硬化させることによって形成する
ことができる。

【００６３】本発明による電磁波透過性金属蒸着ホログ
ラム転写材は、上記接着アンカー層の上に接着剤層を有
する。この接着剤層における接着剤は、感熱接着剤でも
よく、また、感圧接着剤でもよく、転写材の使用方法や
目的に応じて適宜に選ばれる。これらの感熱又は感圧接
着剤としては、例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、塩素化ポリプロピ
レン樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、セ
ルロース系樹脂、石油樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹
脂、ロジン及びハードレジンとその種々の誘導体や変性
物、ゴム系樹脂、アクリル−アクリロニトリル共重合樹
脂、アクリル−スチレン共重合体樹脂、アクリル−スチ
レン−ブタジエン共重合体樹脂、エチレン−イソブチル
アクリレート共重合体樹脂等が単独で、又は２種以上を
組合わせて適宜に用いられる。

【００６４】このような接着剤は、必要に応じて、溶媒
や、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、酸化亜
鉛、カオリン、シリカゲル、炭酸カルシウム、酸化チタ
ン、タルク等の無機微粒子からなる充填剤や架橋アクリ
ル樹脂からなる真球状微粒子、架橋ポリスチレン樹脂か
らなる真球状微粒子、架橋シリコーン樹脂からなる真球
状微粒子、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物
からなる球状微粒子、メラミン−ホルムアルデヒド縮合
物からなる球状微粒子、ベンゾグアナミン−メラミン−
ホルムアルデヒド縮合物からなる球状微粒子等の有機微
粒子からなる充填剤等、適宜の添加剤を含有していても
よい。

【００６５】このような接着剤層は、上記接着アンカー
層上に上記樹脂の溶液や溶融物を常法にて塗布し、乾燥
することによって形成することができる。接着剤層の厚
さは、特に限定されるものではないが、通常、0.５〜５
μｍの範囲が適当である。

【００６６】接着剤層が多少とも、粘着性を帯びている
感圧接着剤層であるときのように、必要に応じて、この
接着剤層上にシリコーン樹脂を塗布した剥離フィルム
（リリースフィルム）を貼合してもよく、また、コーン
スターチ等の微粒子デンプンや、酸化チタン、シリカゲ
ル等の超微粒子顔料等を散布してもよい。

【００６７】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。以下において、部を重量部を示す。

【００６８】実施例１ （離型剤層の形成）酸化ポリエチレンワックス2.５部、
変性モンタンワックス2.５部、α−オレフィン−エチレ
ン共重合体樹脂３部及びロジン樹脂５部をトルエン６５
部、キシレン１０部及びメチルエチルケトン７５部から
なる混合溶媒に加え、十分に混和し、これを基材である
幅６７０ｍｍ、厚さ１２μｍの透明なポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片面上にグラビアコーターを用い
て塗布し、１２０〜１３０℃の範囲の温度で乾燥して、
厚さ0.３μｍの離型剤層を形成した。

【００６９】（表面保護用透明樹脂層の形成）次に、熱
硬化性樹脂として、メラミン−アクリル共縮合樹脂２０
部、ウレタン樹脂２０部、イソシアネート樹脂（ウレタ
ン樹脂硬化剤、武田薬品工業（株）製タケネートＡ−
５）１０部、アクリル変性シリコーン樹脂５部、ポリエ
ーテル変性シリコーン樹脂５部、ｐ−トルエンスルホン
酸（アミノ樹脂の硬化剤）１部、熱可塑性樹脂として、
アクリル樹脂（三菱レーヨン（株）製ダイヤナールＢＲ
−８５）６０部、環化ゴム２０部、及び紫外線硬化型プ
レポリマーとして、ポリウレタンメタクリレート８部を
トルエン１１０部、メチルエチルケトン６００部、メチ
ルイソブチルケトン７０部及びシクロヘキサノン４０部
からなる混合溶媒に加え、十分に混和して、表面保護用
透明樹脂層のための樹脂溶液を調製した。これを上記離
型剤層の上にグラビアコーターを用いて塗布し、１６０
〜１７０℃の温度で焼き付け、硬化させて、厚さ1.０μ
ｍの表面保護用透明樹脂層を形成した。

【００７０】（内部保護用透明樹脂層の形成）熱硬化性
樹脂として、メラミン樹脂（５０％溶液）５０部、メラ
ミン−尿素共縮合樹脂（５０％溶液）５５部、リン酸
（アミノ樹脂の硬化剤）５部、熱可塑性樹脂として、ロ
ジン変性マレイン酸樹脂（荒川化学工業（株）製マルキ
ード３３）４４部、ポリエステルジオール（ロジン化合
物）６部、環化ゴム６部、セルロースアセテートブチレ
ート３８部、ロジン変性フェノール樹脂（荒川化学工業
（株）製タマノール３４０）１２部、石油系樹脂（ヤス
ハラケミカル（株）製テルペン−フェノール共重合体）
４部、柔軟剤（又は可塑剤）として、トルエンスルホン
エチルアミド１２部を染料オラゾールオレンジＧ（チバ
・スペシャルティ・ケミカルズ社製）６部とバリファー
ストイエロー４１２０（オリエント化学工業（株）製）
１２部と共に、トルエン１２０部、酢酸エチル１８０
部、イソプロピルアルコール５０部、メチルエチルケト
ン４００部及びシクロヘキサノン１００部からなる混合
溶媒に加え、十分に混練混和した。これを上記表面保護
用透明樹脂層上にグラビアコーターにて塗布し、１６０
〜１７０℃の温度で焼き付け、硬化させて、厚さ1.０μ
ｍの黄色の内部保護用透明樹脂層を形成した。

【００７１】（ホログラム層の形成）ホログラム層を形
成するための微細な凹凸模様像を有するニッケル製シム
版からなるスタンパーを備えたエンボスロールに表面温
度１４０〜１６０℃を有せしめ、圧力５ｋｇ／ｃｍ² に
て上記内部保護用透明樹脂層に連続式エンボス加工する
ことによって、内部保護用透明樹脂層の表面にレリーフ
型のホログラム層を複製した。

【００７２】（インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜
の形成）前述したような高周波励起プラズマを用いる活
性化反応性蒸着装置において、上述したようにして、離
型剤、表面保護用透明樹脂層、内部保護用透明樹脂層及
びホログラム層を形成したポリエチレンテレフタレート
フィルムからなる蒸着用基材を巻出し側にセットし、巻
取り側につないだ。真空ポンプを用いて装置の上室を到
達真空度５×１０^-3〜３×１０^-3Ｔｏｒｒまで排気する
と共に、下室側を到達真空度１×１０^-4〜1.５×１０^-4
Ｔｏｒｒまで排気した。

【００７３】そこで、先ず、下室の高周波誘導加熱用コ
イル（周波数１０ＫＨｚ）を備えた蒸発源坩堝内の金属
インジウムを徐々に加熱し、２１００〜２２００℃程度
まで達せしめて、金属インジウムが蒸発するのを確認し
た後、上記蒸着用の巻取り基材を−５℃から５℃の間の
範囲に冷却した冷却ロールを経て、１２０ｍ／分の速度
で走行させ、巻取り側に巻取りながら、蒸着用基材上に
金属インジウムを蒸着させた。かくして得られた蒸着フ
ィルムを膜厚測定装置（日本真空（株）製ファダム式膜
厚測定装置、ハロゲン球波長５６５ｎｍ、５０〜１００
０Åの膜厚の測定が可能である。）に導き、蒸着膜厚を
測定して、蒸着膜厚が３５０〜３７０Åとなるように、
上記蒸発源坩堝の高周波誘導加熱用コイルの出力、即
ち、金属インジウムの蒸発速度を調整した。

【００７４】次に、上記蒸発源の上方に設けた高周波励
起プラズマ生成用電極コイルに高周波発振器（出力２Ｋ
Ｗ、周波数１3.５６ＭＨｚ）からマッチングボックスを
経て高周波電圧を印加すると共に、その反射波が２０〜
３０Ｗの範囲でマッチングがとれるように設定し、この
高周波励起プラズマ生成用電極コイルの上方に設けたプ
ラズマ生成用アルゴンガス導入管からアルゴンガスを一
定の割合（0.１Ｌ／分）で導入し、同様に、この高周波
励起プラズマ生成用電極コイルの上方に設けた反応性ガ
スである酸素ガスの導入管から酸素を一定の割合（例え
ば、0.２Ｌ／分）で導入し、プラズマを生成させると共
に、このプラズマ中で酸素とインジウム蒸気をイオン化
して、これらの間で反応させて、インジウムに対して所
定量の酸化インジウムを生成させ、これらを上記蒸着用
基材上にインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜として
蒸着させた。

【００７５】このようにして得られたインジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィルムは、これを
光透過率計（東洋電子（株）製、赤外発光ダイオード
（発光波長９１０ｎｍ））に導き、波長９１０ｎｍの光
に対して、蒸着用基材（基準フィルム）の光透過率を１
００％としたときの光透過率を測定し、この光透過率が
１１〜１２％となるように前記酸素ガスシャワー口から
の下室中への酸素導入量を調節することによって、酸化
インジウム（Ｉｎ₂Ｏ_x ）のｘ値が1.０〜1.３の範囲に
あると共に、インジウム／酸化インジウム重量比が９５
／５〜９３／７の範囲にあるインジウム／酸化インジウ
ム複合蒸着膜を形成するようにインジウムの酸化反応を
制御した。

【００７６】このようにして、最終的に、酸素の導入量
を0.１５Ｌ／分として、酸素分圧を一定に保持しなが
ら、膜厚３５０〜３７０Å、上記光透過率計による波長
９１０ｎｍの光透過率１１〜１２％のインジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜を蒸着用基材上に連続的に形成
し、蒸着フィルムを得て、これを巻取り側に巻き取っ
た。

【００７７】このようにして得た複合蒸着膜について、
ＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分析）スペクトロメーター
（（株）島津製作所製、ＥＳＣＡ−３４００）を用いて
分析した結果、酸化インジウムのｘ値（Ｉｎ₂Ｏ_x にお
けるｘの値）が1.０〜1.３の範囲にあり、インジウム／
酸化インジウム重量比が９５／５〜９３／７の範囲にあ
ることを確認した。

【００７８】（接着アンカー層の形成）次に、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体樹脂２５部、アクリル樹脂２０
部及びセルロースアセテートブチレート樹脂（ＣＡＢ）
５部を酢酸エチル１５０部、メチルエチルケトン１００
部及びトルエン５０部からなる混合溶媒に加え、十分に
混和した。これをグラビアコーターにて上記複合蒸着膜
上に塗布し、１３０〜１５０℃の温度で乾燥して、膜厚
0.５μｍの接着アンカー層を形成した。

【００７９】（接着剤層の形成）塩素化ポリプロピレン
樹脂（不揮発分３０％溶液）１００部、エチレン−酢酸
ビニル共重合体樹脂（不揮発分３０％溶液）１００部、
エチルセルローズ（不揮発分１００％）１０部、ロジン
変性マレイン酸樹脂（不揮発分１００％）３０部、充填
剤シリカゲル（日本アエロジル（株）製２００）５部、
ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物球状微粒子
（（株）日本触媒製エポスターＭＳ）１０部をトルエン
２５０部、酢酸エチル３００部、酢酸メチル２００部、
メチルエチルケトン１５０部及びメタノール５０部から
なる混合溶媒に加えて十分に混和し、これをリバースコ
ーターにて上記接着アンカー層上に塗布し、１２０〜１
５０℃の温度で乾燥して、膜厚2.５μｍの接着剤層を形
成し、かくして、本発明による電磁波透過性金属蒸着ホ
ログラム転写材を得た。

【００８０】（転写層の形成）このようにして得た電磁
波透過性金属蒸着ホログラム転写材を用いて、食品包装
用ラベル紙の表面に連続熱転写を行なって（熱刻印温度
１３０℃、刻印圧力１０トン／インチ（熱板プレート面
積１０００ｍｍ×７００ｍｍ角）、熱転写枚数１枚／
秒）、美麗で高輝度を有する３号金色の金属光沢ホログ
ラムを有する転写層を得た。

【００８１】この転写層の表面の光沢度を日本電色工業
（株）製グロスメーターＶＧＳ−ＳＥＮＳＯＲを用い
て、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に従って測定したところ（入
射角度４５度）、９６1.２０であった。

【００８２】（絵柄模様層の形成）次に、この転写層の
表面に紫外線硬化型のオフセットインキ又はシルクスク
リーンインキを用いてそれぞれ絵柄模様状を印刷し、紫
外線硬化させて、紫外線硬化型インキによる印刷絵柄模
様層を形成した。

【００８３】（転写層表面の印刷層の摩擦堅牢度の評
価）このようにして形成した絵柄模様層の摩擦堅牢度を
染色物摩擦堅牢度試験機にて調べた結果、布帛付５００
ｇ、２００回の摩擦に耐え、かくして、耐摩耗性や耐摩
擦傷性、更に、爪による引っ掻き、擦過試験にも耐え、
しかも、耐溶剤性と耐薬品性にもすぐれていることが確
認された。

【００８４】（転写層の電磁波透過性の評価）このよう
に表面に紫外線硬化型インキによる印刷層を有する転写
層を電子レンジ内に置き、これにマイクロ波を照射した
ところ、放電、熱収縮、燃焼等の不都合を生じなかっ
た。また、高感度異物検出機（ニッカ電測（株）製Ｙ−
１５００）による検査においても、異物金属の混入とし
て誤認検知されることがなかった。更に、前記転写材を
用いて、塩化ビニル樹脂製レザー基材面に高周波ウェル
ダー機で転写層を転写したが、この際にも、転写層に放
電や熱収縮等の不都合は起こらなかった。

【００８５】（その他のインジウム／酸化インジウム複
合蒸着膜の製造）蒸着用基材上への前記インジウム／酸
化インジウム複合蒸着膜の製造において、当初のインジ
ウム蒸着膜の厚みを３５０〜３７０Åとし、次に、イン
ジウム／酸化インジウム複合蒸着膜の光透過率を１４〜
１５％とすることによって、酸化インジウムのｘ値（Ｉ
ｎ₂Ｏ_x におけるｘの値）が1.０〜1.５の範囲にあり、
インジウム／酸化インジウム重量比が９０／１０〜８７
／１３の範囲にあるインジウム／酸化インジウム複合蒸
着膜を得ることができた。

【００８６】また、当初のインジウム蒸着膜の厚みを４
５０〜５００Åとし、次に、インジウム／酸化インジウ
ム複合蒸着膜の光透過率を１８〜２０％とすることによ
って、酸化インジウムのｘ値（Ｉｎ₂Ｏ_x におけるｘの
値）が1.０〜1.９の範囲にあり、インジウム／酸化イン
ジウム重量比が８３／１７〜８０／２０の範囲にあるイ
ンジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を得ることができ
た。

【００８７】実施例２ （離型剤層の形成）変性シリコーン樹脂２部、ポリエチ
レンワックス２部、酸化ポリエチレンワックス５部、エ
チレン−アクリル共重合体樹脂５部、アクリル樹脂２部
をトルエン８０部、キシレン２０部及びメチルエチルケ
トン１００部からなる混合溶媒に加え、十分に混和し、
これを基材である幅６７０ｍｍ、厚さ１２μｍの透明な
ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面上にグラビ
アコーターを用いて塗布し、１３０〜１５０℃の範囲の
温度で乾燥して、厚さ0.５μｍの離型剤層を形成した。

【００８８】（表面保護用透明樹脂層の形成）次に、熱
硬化性樹脂として、メラミン−アクリル共縮合樹脂２０
部、メラミン−尿素共縮合樹脂２０部、ウレタン樹脂１
０部、イソシアネート樹脂（ウレタン樹脂硬化剤、武田
薬品工業（株）製タケネートＡ−５）１０部、アクリル
変性シリコーン樹脂１０部、アミノ変性シリコーン樹脂
１０部、ｐ−トルエンスルホン（アミノ樹脂硬化剤）１
部、熱可塑性樹脂として、アクリル樹脂（三菱レーヨン
（株）製ダイヤナールＢＲ−８０）５０部、石油樹脂
（ヤスハラケミカル（株）製ＹＳポリスター２１３０）
３０部、ロジン変性マレイン酸樹脂（日立化成ポリマー
（株）製テスポール１１５４）４０部、及び紫外線硬化
型プレポリマーとして、ポリウレタン−メタクリレート
１３部をトルエン１１０部、メチルエチルケトン６００
部、メチルイソブチルケトン７０部及びシクロヘキサノ
ン４０部からなる混合溶媒に加え、十分に混和して、表
面保護用透明樹脂層のための樹脂溶液を調製した。これ
を上記離型剤層の上にグラビアコーターを用いて塗布
し、１６０〜１７０℃の温度で焼き付け、硬化させて、
厚さ1.０μｍの表面保護用透明樹脂層を形成した。

【００８９】（内部保護用透明樹脂層の形成）熱硬化性
樹脂として、メラミン樹脂（５０％溶液）５０部、アク
リルポリオール樹脂（６０％溶液）５０部、ポリイソシ
アネート樹脂（日本ポリウレタン工業（株）製コロネー
トＬ）１０部、熱可塑性樹脂として、ポリエステルジオ
ール（ロジン化合物）２２０部、セルロースアセテート
ブチレート１６５部、アクリル樹脂（三菱レーヨン
（株）製ダイアナールＢＲ−８０）５５部、ロジン変性
フェノール樹脂（荒川化学工業（株）製タマノール３４
０）４４部、柔軟剤（又は可塑剤）として、Ｎ−ブチル
ベンゼンスルホンアミド７５部を青色染料サビニールブ
ルーＧＬＳ（クラリアントジャパン（株）製）１００部
と共にトルエン９６３部、酢酸エチル７５部、酢酸ブチ
ル１００部、シクロヘキサノン１００部及びメチルエチ
ルケトン１１００部からなる混合溶媒に加え、十分に混
練、混和し、これを上記表面保護用透明樹脂層上にグラ
ビアコーターにて塗布し、１６０〜１７０℃の温度で焼
き付け、硬化させて、厚さ1.０μｍの青色の内部保護用
透明樹脂層を形成した。

【００９０】（インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜
の形成）前述したような電子線酸化陽極プラズマを用い
る活性化反応性蒸着装置において、上述したようにし
て、離型剤、表面保護用透明樹脂層、内部保護用透明樹
脂層及びホログラム層を形成したポリエチレンテレフタ
レートフィルムからなる蒸着用基材を巻出し側にセット
し、巻取り側につないだ。真空ポンプを用いて装置の上
室を到達真空度５×１０^-3〜３×１０^-3Ｔｏｒｒまで排
気すると共に、下室側を到達真空度１×１０^-4〜1.５×
１０^-4Ｔｏｒｒまで排気した。

【００９１】そこで、先ず、下室の高周波誘導加熱用コ
イル（周波数１０ＫＨｚ）を備えた蒸発源坩堝内の金属
インジウムを徐々に加熱し、２１００〜２２００℃程度
まで達せしめて、金属インジウムが蒸発するのを確認し
た後、上記蒸着用基材を−５℃から５℃の間の範囲に冷
却した冷却ロールを経て、１２０ｍ／分の速度で走行さ
せながら、巻取り側に巻き取って、基材上に金属インジ
ウムを蒸着させた。このインジウム蒸着フィルムの蒸着
膜厚を前記膜厚測定装置で測定して、蒸着膜厚が４００
Åとなるように、上記蒸発源坩堝の高周波誘導加熱用コ
イルの出力、即ち、金属インジウムの蒸発速度を調整し
た。

【００９２】次に、射線が上記蒸発源の上方を横切るよ
うに設けたホロカソード式電子線プラズマ照射銃（ＨＣ
Ｄ電子銃、出力電圧３０ＫＷ／台）のカソード電極３台
から反対側のＨＣＤ電子銃のアノード電極に向けて電子
線を照射すると共に、上記ＨＣＤ電子銃のカソード電極
の内部からアルゴンガスを一定の割合（0.１Ｌ／分）で
導入し、同時に、前記蒸発源の上方に設けた酸素ガスシ
ャワー口から酸素ガスを一定の割合（例えば、0.２Ｌ／
分）で導入して、ＨＣＤ電子銃のカソード電極からアノ
ード電極の間の空間に空間放電プラズマを生成させ、こ
の空間放電プラズマ領域中で酸素とインジウム蒸気をイ
オン化して、これらの間で反応させて、インジウムに対
して所定量の酸化インジウムを生成させ、これらを上記
蒸着用基材上にインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜
として蒸着させた。

【００９３】このようにして得られたインジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜を有する蒸着フィルムは、これを
前記光透過率計に導き、蒸着膜の波長９１０ｎｍの光透
過率を測定し、この光透過率が１４〜１５％となるよう
に前記酸素ガスシャワーからの下室中への酸素導入量を
調節することによって、酸化インジウム（Ｉｎ₂Ｏ_x）の
ｘ値が1.０〜1.５の範囲にあると共に、インジウム／酸
化インジウム重量比が９０／１０〜８７／１３の範囲に
あるインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を形成する
ようにインジウムの酸化反応を制御した。

【００９４】このようにして、最終的に、酸素の導入量
を0.２Ｌ／分として、酸素分圧を一定に保持しながら、
膜厚が３８０〜４００Å、上記光透過率計による波長９
１０ｎｍの光透過率が１４〜１５％のインジウム／酸化
インジウム複合蒸着膜を蒸着用基材上に連続的に形成
し、蒸着フィルムを得て、これを巻取り側に巻き取っ
た。

【００９５】このようにして得た複合蒸着膜について、
ＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分析）スペクトロメーター
（（株）島津製作所製、ＥＳＣＡ−３４００）を用いて
分析した結果、酸化インジウムのｘ値（Ｉｎ₂Ｏ_x にお
けるｘの値）が1.０〜1.５の範囲にあり、インジウム／
酸化インジウム重量比が９０／１０〜８７／１３の範囲
にあることを確認した。

【００９６】（ホログラム層の形成）ホログラム層を形
成するための微細な凹凸模様像を有するニッケル製シム
版からなるスタンパーを備えたエンボスシリンダーに表
面温度１４０〜１６０℃を有せしめ、圧力５ｋｇ／ｃｍ
² にて上記インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜に連
続式エンボス加工することによって、複合蒸着膜にレリ
ーフ型のホログラム層を複製した。

【００９７】（接着アンカー層と接着剤層の形成）更
に、上記ホログラム層を有する複合蒸着膜上に、前記実
施例１と同様にして、接着アンカー層と接着剤層とを積
層して、本発明による電磁波透過性金属蒸着ホログラム
転写材を得た。

【００９８】（転写層の特性）上記転写材からの青色の
転写層の表面の光沢度を日本電色工業（株）製グロスメ
ーターＶＧＳ−ＳＥＮＳＯＲを用いて、ＪＩＳ Ｚ ８
７４１に従って測定したところ（入射角度４５度）、９
６1.３０であった。

【００９９】（絵柄模様層の形成）次に、この転写層の
表面に紫外線硬化型オフセットインキ又はスクリーンイ
ンキを用いてそれぞれ絵柄模様状を印刷し、紫外線硬化
させて、紫外線硬化型インキによる印刷絵柄模様層を形
成した。

【０１００】（印刷転写材の表面の摩擦堅牢度の評価）
このようにして形成した絵柄模様層の摩擦堅牢度を染色
物摩擦堅牢度試験機にて調べた結果、布帛付５００ｇ、
２００回の摩擦に耐え、かくして、耐摩耗性や耐摩擦傷
性、更に、爪による引っ掻き、擦過試験にも耐え、しか
も、耐溶剤性と耐薬品性にもすぐれていることが確認さ
れた。

【０１０１】（電磁波透過性の評価）このように表面に
紫外線硬化型インキによる印刷面を有する転写材を電子
レンジ内に置き、これにマイクロ波を照射したところ、
放電、熱収縮、燃焼等の不都合を生じなかった。また、
高感度異物検出機による検査においても、異物金属の混
入として誤認検知されることがなかった。更に、塩化ビ
ニル樹脂製レザー基材面に転写材から高周波ウェルダー
機で転写層を転写したが、この際に、放電や熱収縮等の
不都合は起こらなかった。

【０１０２】実施例３ 実施例１と同様にして、基材上に雛型剤層と表面保護用
透明樹脂層を順次に形成した。次いで、上記表面保護用
透明樹脂層上に次のようにして、内部保護用透明樹脂層
を形成した。即ち、先ず、紫外線硬化型樹脂のモノマー
として、エチレングリコールジアクリレート１０部、オ
リゴマーとして、メラミンアクリレート１０部、熱硬化
性樹脂として、メラミン−尿素共縮合樹脂２２部、硬化
剤としてリン酸モノブチル２部、熱可塑性樹脂として、
ロジン誘導体樹脂８０部、ポリエステルジオール（ロジ
ン誘導体）１０部、セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ）６０部、ロジン変性フェノール樹脂２０部、
石油系樹脂（エスコレッツ１２０５、エッソケミカル社
製）６部、光増感剤として、ベンゾフェノン0.５部、柔
軟剤（又は可塑剤）として、トルエンスルホンメチルア
ミド２５部を染料バリファーストレッド１３０８（オリ
エント化学工業（株）製）２８部とオラゾールオレンジ
Ｇ（チバスペシャルティケミカルズ社製）１２部と共
に、トルエン２２０部、酢酸エチル１８０部、イソブロ
ピルアルコール５０部、メチルエチルケトン４００部及
びシクロヘキサノン１００部からなる混合溶媒に加え、
十分に混練混和した。これを上記表面保護用透明樹脂層
上にグラビアコーターにて塗布し、１６０〜１７０℃の
温度で焼き付け、硬化させた後、更に、紫外線硬化型樹
脂用高圧水銀ランプ（出力８０Ｗ／ｃｍ）にて紫外線照
射し、硬化させて、厚さ1.０μｍの赤色の内部保護用透
明樹脂層を形成した。

【０１０３】次に、上記内部保護用透明樹脂層上に実施
例１と同様にして、ホログラム層を形成した。その後、
更に、酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜
1.９の範囲の数である。）で表わされると共に、上記複
合蒸着膜のインジウム／酸化インジウム重量比が９５／
５〜８０／２０の範囲にあるインジウム／酸化インジウ
ム複合蒸着膜と接着アンカー層と接着剤層を積層して、
本発明による電磁波透過性金属蒸着ホログラム転写材を
得た。

【０１０４】実施例４ 実施例１と同様にして、基材上に離型剤層、表面保護用
透明樹脂層、内部保護用透明樹脂層及びインジウム／酸
化インジウム複合蒸着膜を順次に形成した。但し、内部
保護用透明樹脂層上にホログラム層を形成しなかった。

【０１０５】次いで、上記複合蒸着膜上に実施例１と同
様にしてホログラム層を形成した後、更に、接着アンカ
ー層と接着剤層を積層して、本発明による電磁波透過性
金属蒸着ホログラム転写材を得た。

【０１０６】（転写層の形成）このようにして得た電磁
波透過性金属蒸着ホログラム転写材を用いて、食品包装
用ラベル紙の表面に連続熱転写を行なって（熱刻印温度
１３０℃、刻印圧力１０トン／インチ（熱板プレート面
積１０００ｍｍ×７００ｍｍ角）、熱転写枚数１枚／
秒）、美麗で高輝度を有する赤色の金属光沢ホログラム
を有する転写層を得た。

【０１０７】この赤色の転写層の表面の光沢度を日本電
色工業（株）製グロスメーターＶＧＳ−ＳＥＮＳＯＲを
用いて、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に従って測定したところ
（入射角度４５度）、９６1.２０であった。

【０１０８】（絵柄模様層の形成）次に、この転写層の
表面に紫外線硬化型のオフセットインキ又はシルクスク
リーンインキを用いてそれぞれ絵柄模様状を印刷し、紫
外線硬化させて、紫外線硬化型インキによる印刷絵柄模
様層を形成した。

【０１０９】（転写層表面の印刷層の摩擦堅牢度の評
価）このようにして形成した絵柄模様層の摩擦堅牢度を
染色物摩擦堅牢度試験機にて調べた結果、布帛付５００
ｇ、２００回の摩擦に耐え、かくして、耐摩耗性や耐摩
擦傷性、更に、爪による引っ掻き、擦過試験にも耐え、
しかも、耐溶剤性と耐薬品性にもすぐれていることが確
認された。

【０１１０】（転写層の電磁波透過性の評価）このよう
に表面に紫外線硬化型インキによる印刷層を有する転写
層を電子レンジ内に置き、これにマイクロ波を照射した
ところ、放電、熱収縮、燃焼等の不都合を生じなかっ
た。また、高感度異物検出機（ニッカ電測（株）製Ｙ−
１５００）による検査においても、異物金属の混入とし
て誤認検知されることがなかった。更に、前記転写材を
用いて、塩化ビニル樹脂製レザー基材面に高周波ウェル
ダー機で転写層を転写したが、この際にも、転写層に放
電や熱収縮等の不都合は起こらなかった。

【０１１１】比較例１ （金属蒸着ホログラム転写材の調製）実施例１におい
て、インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜に代えて、
島状構造を有するように、スズからなる厚み３３０〜３
５０Åの蒸着膜を形成した以外は、実施例１と同様にし
て、金色の金属蒸着ホログラムを有する転写材を得た。

【０１１２】（転写層の形成）この転写材を用いて、実
施例１と同様にして、食品包装用ラベル紙に熱転写を行
なった。転写層は、黒ずみ、斑の金色であり、美麗感の
ないものであった。

【０１１３】（電磁波透過性の評価）次に、この食品包
装用ラベル紙を電子レンジ内に置き、これにマイクロ波
を２分間照射したところ、転写層は、マイクロ波の照射
後１分で放電が発生し、転写層の表面には絶縁破壊した
微細な線状模様が多数発生した。

【０１１４】

【発明の効果】以上のように、本発明による電磁波透過
性金属蒸着ホログラム転写材は、金属蒸着膜として、酸
化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範
囲の数である。）で表わされると共に、上記複合蒸着膜
のインジウム／酸化インジウム重量比が９５／５〜８０
／２０の範囲にあるインジウム／酸化インジウム複合蒸
着膜を有するので、高輝度を有し、更に、ホログラム層
を有するので、美麗で眩惑的でさえある金属光沢を有す
ると共に、十分な絶縁性（即ち、電磁波透過性）と耐膜
性強度を有する転写層を与えることができる。

【０１１５】特に、本発明による転写材は、絶縁性が高
いので、例えば、３００ＭＨｚから３００ＧＨｚにわた
るマイクロ波に対して高い電磁波透過性を有し、このよ
うな高周波を照射しても、放電、熱収縮、燃焼等の不都
合を起こさず、また、高感度異物検出機による検査にお
いても、異物金属の混入として誤認検知されることがな
いので、例えば、食品用のラベル紙、包装紙、包装容器
等の包装材に金属光沢を有する転写層を転写するために
好適に用いることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】は、本発明による電磁波透過性金属蒸着ホログ
ラム転写材の好ましい一実施例を示す。

【図２】は、本発明による電磁波透過性金属蒸着ホログ
ラム転写材の好ましい別の一実施例を示す。

【図３】は、本発明による転写材を用いて被転写体に転
写層を転写した後、その表面（表面保護用透明樹脂層）
上に活性エネルギー線硬化型印刷インキによる印刷層を
形成した転写層を示す。

【図４】は、本発明による転写材を製造するための高周
波励起プラズマを用いる活性化反応性蒸着装置を示す略
図である。

【図５】は、本発明による転写材を製造するための電子
線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着装置を示
す略図である。

【符号の説明】

１…基材 ２…離型剤層 ３…表面保護用透明樹脂層 ４…ホログラム層 ５…内部保護用透明樹脂層 ６…インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜 ７…接着アンカー層 ８…接着剤層 ９…転写層 １０…被転写体 Ｐ…印刷層 １１…蒸着用基材 １２…高周波励起プラズマを用いる活性化反応性蒸着装
置 １３…上室 １４…巻出し側 １５…冷却ロール １６…巻取り側 １７…隔壁 １８…下室 １９…スリット ２０…高周波誘導加熱用コイル ２１…蒸発源坩堝 ２２…光透過率計 ２３…膜厚測定器 ２４…高周波励起プラズマ生成用電極コイル ２５…アルゴンガスのシャワー口 ２６…酸素ガスのシャワー口 ２７…蒸着フィルム ３１…ホロカソード式電子線プラズマ照射銃カソード電
極 ３２…ホロカソード式電子銃アノード電極 Ｖ…インジウム蒸気流 Ｄ…空間放電プラズマ領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中山 洋一郎 京都市南区上鳥羽馬廻し５ 株式会社ニ ッカテクノ内 (56)参考文献 特開 昭61−292181（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−191595（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−279330（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−80980（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B44C 1/165 - 1/17 C23C 14/08 G03H 1/18 - 1/20 B32B 9/00

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材上に離型剤層と内部保護用透明樹脂層
   とをこの順序で積層してなる蒸着用基材と、この蒸着用
   基材上にインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜と接着
   剤層をこの順序にて有し、上記内部保護用透明樹脂層と
   複合蒸着膜の少なくとも一方の表面にホログラム層が形
   成されてなる金属蒸着ホログラム転写材において、上記
   インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜の形成に際し
   て、上記蒸着用基材を高周波励起プラズマ又は電子線酸
   化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸着装置の真空槽
   に案内し、真空下に上記真空槽への酸素の導入量を調節
   して、インジウムの酸化反応を制御することによって、
   インジウムに対して所定の割合で酸化インジウムを生成
   させて、これをインジウムと共に上記蒸着用基材の内部
   保護用透明樹脂層上に２５０〜５００Åの範囲の所定の
   膜厚に至るまで蒸着させ、かくして、酸化インジウムが
   Ｉｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範囲の数であ
   る。）で表わされ、インジウム／酸化インジウム重量比
   が９５／５〜８０／２０の範囲にあり、インジウムの正
   方晶と酸化インジウムの立方晶との複合晶からなり、そ
   の厚みが２５０〜５００Åの範囲にある絶縁性のインジ
   ウム／酸化インジウム複合蒸着膜としたものであること
   を特徴とする電磁波透過性金属蒸着ホログラム転写材。
2. 【請求項２】離型剤層と内部保護用透明樹脂層との間に
   変性シリコーン樹脂を含む表面保護用透明樹脂層を有す
   る請求項１に記載の電磁波透過性金属蒸着ホログラム転
   写材。
3. 【請求項３】接着剤層に隣接して接着アンカー層を有す
   る請求項１に記載の電磁波透過性金属蒸着ホログラム転
   写材。
4. 【請求項４】酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘは
   1.０〜1.５の範囲の数である。）で表わされる請求項１
   に記載の電磁波透過性金属蒸着ホログラム転写材。
5. 【請求項５】変性シリコーン樹脂がジメチルポリシロキ
   サン骨格を有するアクリル変性シリコーン樹脂、ポリエ
   ーテル変性シリコーン樹脂又はアミノ変性シリコーン樹
   脂である請求項２に記載の電磁波透過性金属蒸着ホログ
   ラム転写材。
6. 【請求項６】基材上に離型剤層と内部保護用透明樹脂層
   をこの順序で積層して、蒸着用基材を得る工程と、この
   蒸着用基材の内部保護用透明樹脂層上に高周波励起プラ
   ズマ又は電子線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性
   蒸着法にてインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を積
   層する工程と、この蒸着膜上に接着剤層を積層する工程
   とをこの順序で含む電磁波透過性金属蒸着ホログラム転
   写材の製造方法において、上記内部保護用透明樹脂層上
   にホログラムを形成する工程と上記複合蒸着膜上にホロ
   グラムを形成する工程の少なくとも一つの工程を含むと
   共に、上記インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜の形
   成に際して、上記蒸着用基材を上記装置の真空槽に案内
   し、真空下に上記真空槽への酸素の導入量を調節して、
   インジウムの酸化反応を制御することによって、インジ
   ウムに対して所定の割合で酸化インジウムを生成させ
   て、これをインジウムと共に上記蒸着用基材の内部保護
   用透明樹脂層上に２５０〜５００Åの範囲の所定の膜厚
   に至るまで蒸着させ、かくして、酸化インジウムがＩｎ
   ₂Ｏ_x （式中、ｘは1.０〜1.９の範囲の数である。）で
   表わされ、インジウム／酸化インジウム重量比が９５／
   ５〜８０／２０の範囲にあり、インジウムの正方晶と上
   記酸化インジウムの立方晶との複合晶からなり、その厚
   みが２５０〜５００Åの範囲にある絶縁性のインジウム
   ／酸化インジウム複合蒸着膜を形成することを特徴とす
   る電磁波透過性金属蒸着ホログラム転写材の製造方法。
7. 【請求項７】請求項６に記載の方法において、内部保護
   用透明樹脂層上にホログラムを形成した後、このホログ
   ラム上にインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を積層
   する電磁波透過性金属蒸着ホログラム転写材の製造方
   法。
8. 【請求項８】請求項６に記載の方法において、内部保護
   用透明樹脂層上にインジウム／酸化インジウム複合蒸着
   膜を積層した後、この複合蒸着膜上にホログラムを形成
   する電磁波透過性金属蒸着ホログラム転写材の製造方
   法。
9. 【請求項９】離型剤層と内部保護用透明樹脂層との間に
   変性シリコーン樹脂を含む表面保護用透明樹脂層を積層
   する請求項６から８のいずれかに記載の電磁波透過性金
   属蒸着ホログラム転写材の製造方法。
10. 【請求項１０】インジウム／酸化インジウム複合蒸着膜
    と接着剤層との間に接着アンカー層を積層する請求項６
    から８のいずれかに記載の電磁波透過性金属蒸着ホログ
    ラム転写材の製造方法。
11. 【請求項１１】酸化インジウムがＩｎ₂Ｏ_x （式中、ｘ
    は1.０〜1.５の範囲の数である。）で表わされる請求項
    ６から８のいずれかに記載の電磁波透過性金属蒸着ホロ
    グラム転写材の製造方法。
12. 【請求項１２】変性シリコーン樹脂がジメチルポリシロ
    キサン骨格を有するアクリル変性シリコーン樹脂、ポリ
    エーテル変性シリコーン樹脂又はアミノ変性シリコーン
    樹脂である請求項９に記載の電磁波透過性金属蒸着ホロ
    グラム転写材の製造方法。
13. 【請求項１３】請求項１から５のいずれかに記載の電磁
    波透過性金属蒸着ホログラム転写材から転写された転写
    層を備えていることを特徴とする食品包装材。
14. 【請求項１４】請求項１から５のいずれかに記載の電磁
    波透過性金属蒸着ホログラム転写材から転写された転写
    層を備えていることを特徴とする食品包装材用ラベル
    紙。
15. 【請求項１５】基材上に離型剤層と活性エネルギー硬化
    型樹脂を含む表面保護用透明樹脂層と内部保護用透明樹
    脂層とをこの順序で積層して、蒸着用基材を得、この蒸
    着用基材の内部保護用透明樹脂層上に高周波励起プラズ
    マ又は電子線酸化陽極プラズマを用いる活性化反応性蒸
    着法にてインジウム／酸化インジウム複合蒸着膜を積層
    し、この際、上記内部保護用透明樹脂層上にホログラム
    を形成し、及び／又は上記複合蒸着膜上にホログラムを
    形成すると共に、上記インジウム／酸化インジウ ム複合
    蒸着膜の形成に際して、上記蒸着用基材を上記装置の真
    空槽に案内し、真空下に上記真空槽への酸素の導入量を
    調節して、インジウムの酸化反応を制御することによっ
    て、インジウムに対して所定の割合で酸化インジウムを
    生成させて、これをインジウムと共に上記蒸着用基材の
    内部保護用透明樹脂層上に２５０〜５００Åの範囲の所
    定の膜厚に至るまで蒸着させ、かくして、酸化インジウ
    ムがＩｎ ₂ Ｏ _x （式中、ｘは1.０〜1.９の範囲の数であ
    る。）で表わされ、上記複合蒸着膜のインジウム／酸化
    インジウム重量比が９５／５〜８０／２０の範囲にあ
    り、インジウムの正方晶と上記酸化インジウムの立方晶
    との複合晶からなり、その厚みが２５０〜５００Åの範
    囲にある絶縁性のインジウム／酸化インジウム複合蒸着
    膜を形成して、電磁波透過性金属蒸着ホログラム転写材
    を得、次いで、この転写材から金属蒸着ホログラム転写
    層を被転写体に転写した後、この転写層の表面に活性エ
    ネルギー硬化型インキにて印刷を行い、次いで、活性エ
    ネルギー線を照射して、活性エネルギー硬化型インキと
    共に上記表面保護用透明樹脂層中の活性エネルギー硬化
    型樹脂を硬化させ、印刷層と表面保護用透明樹脂層と一
    体化させることを特徴とする印刷層を備えた電磁波透過
    性金属蒸着ホログラム転写層の形成方法。