JP3381830B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JP3381830B2
JP3381830B2 JP21257797A JP21257797A JP3381830B2 JP 3381830 B2 JP3381830 B2 JP 3381830B2 JP 21257797 A JP21257797 A JP 21257797A JP 21257797 A JP21257797 A JP 21257797A JP 3381830 B2 JP3381830 B2 JP 3381830B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
integrated circuit
circuit element
connection terminal
layer
interposer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP21257797A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH1140692A (ja
Inventor
勝房 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui High Tech Inc
Original Assignee
Mitsui High Tech Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui High Tech Inc filed Critical Mitsui High Tech Inc
Priority to JP21257797A priority Critical patent/JP3381830B2/ja
Publication of JPH1140692A publication Critical patent/JPH1140692A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3381830B2 publication Critical patent/JP3381830B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、絶縁性部材に導体
回路を積層したインターポーザを構成部材とする半導体
装置に係る。特に、集積回路素子の電極パット面側とそ
の反対面側に、集積回路素子の電極パッドと外部配線基
板の接続パッドと間に電気的導通回路を形成するインタ
ーポーザをそれぞれ設けた半導体装置の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】情報処理機器の高速化に伴い、半導体装
置の作動に超高周波を用いるようになってきている。そ
のためポリイミド基板に微細な間隔で形成された導体回
路パターンの複数のビーム・リード(電送路)を超高周
波信号が電送される際に、隣接する前記ビーム・リード
に信号が漏れてしまうクロストーク現象を生じるという
問題があった。このような問題点を解決するために、絶
縁性基板の一例であるポリイミドテープ基板に形成され
た導体回路パターンの反対面に、導電性部材の金属薄板
からなる導電プレーン(支持基板)を固着し、この導体
回路パターンの所定の前記導体リードと前記導電プレー
ンとを貫通孔を介して接続し、放熱及び接地機能を備え
た半導体装置が提案されている。(特願9−22161
参照)
【0003】この方式の半導体装置は、表面に複数の電
極パッドを設けた集積回路素子の主面側に接合されてお
り、絶縁性部材層の前記電極パッド面側には、複数のリ
ード・ビームが配列された第1の導体回路パターン層
を、他面側には、接地・放熱機能を備えた導電性プレー
ン層を備え、さらに、前記リード・ビームの一端部に
は、前記集積回路素子の電極パッドに電気的に接続され
る内部接続端子パッドを、前記リード・ビームの他端部
には、円形皿状にデイプレスされた集積回路素子搭載部
の周辺にファン・アウト状に配置され、外部導通回路を
形成する外部接続端子ランドを設けたインターポーザ
と、前記インターポーザの内部接続端子パッドと集積回
路素子の電極パッドとをビーム・リードボンディング
(ワイヤレスボンデング方式)で接続された集積回路素
子と、前記集積回路素子搭載部に封止樹脂を充填して前
記集積回路素子を封止する樹脂封止部と、第1の導体回
路パターン層の一端部を被覆し、前記外部接続端子ラン
ドに対応する複数のビア・ホールを設けたソルダ・レジ
スト層と、前記ビア・ホールを介して外部接続端子ラン
ドに接続され、外部配線パターン側に突出した半田ボー
ル叉はバンプから成る外部接続端子とを具備した構成と
されるものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
半導体装置にあっては、導電性プレーン層を有するイン
ターポーザを備えた構成としているので、半導体装置の
放熱性、電気特性(寄生電流の拡散)の向上の要求には
対応できるが、外部接続端子(半田ボールまたはバン
プ)が集積回路素子搭載部の外周に配置されるファン・
アウト状のエリア・アレイ構造であるため小型・軽量化
に対応することのできないという問題があった。本発明
は、上記の実情に鑑みてなされたもので、半導体装置の
放熱性及び電気特性の向上に対応できると共に、半導体
装置の小型・軽量化の要求に対応することのできる半導
体装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成する請求項1記載の半導体装置は、表面に複数の電極
パッドを設けた集積回路素子の主面側に接合されてお
り、第1の絶縁性部材層の前記電極パッド面側に、複数
のリード・ビームを有し、該リード・ビームの一端部に
前記集積回路素子の電極パッドに電気的に接続された内
部接続端子パッドを設け、前記リード・ビームの他端部
に凹形状に形成された集積回路素子搭載キャビティの周
縁部に沿って配置され、外部導通回路を形成する中間接
続端子ランドを設けた第1の導体回路パターン層を、前
記第1の絶縁性部材層の他面側に、接地・放熱機能を備
えた金属薄板からなる導電性プレーン層を積層した3層
構造の第1のインターポーザと、集積回路素子表面の所
定位置に複数の電極パットを有し、該電極パッドと前記
第1のインターポーザの内部接続端子パッドとをリード
・ボンデングで接続された集積回路素子と、前記集積回
路素子の主面と反対面側に接合されており、第2の絶縁
性部材層の外部配線基板面側に、一端部に集積回路素子
搭載部領域範囲にグリッド・アレイ状に配置してなる外
部接続端子ランドを、他端部に接続端子リードを設けた
複数のリード・ビームが配列された第2の導体回路パタ
ーン層を備え、前記第2の絶縁性部材層に前記接続端子
リードを露出する電気的接続領域を設けた2層構造の第
2のインターポーザと、前記集積回路素子搭載キャビテ
ィに封止樹脂を充填し、前記集積回路素子、前記接続端
子リードなどを被覆保護した樹脂封止部と、前記第2の
インターポーザの前記外部配線基板面側に、前記外部接
続端子ランドに対応する複数のビア・ホールを設け、前
記第2の導体回路パターン層を被覆保護する第3の絶縁
性部材層と、前記第3の絶縁性部材層に露呈した前記外
部接続端子ランドのそれぞれに接続されて外部配線基板
面側に突出した半田ボールまたはバンプとを具備する構
成とすることで達成される。かかる構成によれば、第2
のインターポーザに形成された第2の導体回路パターン
層のリードビームが、集積回路素子の搭載領域部内にグ
リッド・アレイ状に配置された外部接続端子ランドに延
在連接された構成とされているので、外部接続端子がフ
ァン・インまたはファン・イン/ファン・イン状に配置
されているので集積回路素子の外形に近いパッケージサ
イズに実装面積を縮小することができる。
【0006】また、請求項2記載の半導体装置は、請求
項1記載の半導体装置において、前記内部接続端子パッ
ドは、前記集積回路素子搭載キャビティ内にシェル状に
突出した集積回路素子搭載部に設けられた構成とするこ
とで達成される。かかる構成にすれば、前記内部接続端
子パッドが突出した状態となり集積回路素子の搭載を容
易に行うことができる。
【0007】また、請求項3記載の半導体装置は、請求
項1記載の半導体装置において、前記第1のインターポ
ーザの集積回路素子搭載キャビティに沿って設けた中間
接続端子ランドが千鳥状に配置されてなる構成とするこ
とで達成される。かかる構成にすれば、中間接続端子ラ
ンド間の間隔が広くなり、第2のインターポーザの接続
端子との接続が容易になると共に、接続時の短絡を防止
することができる。
【0008】さらに、請求項4記載の半導体装置は、請
求項1、2のいずれかに記載の半導体装置において、前
記導電性プレーン層の厚みが0.1mm〜0.25mm
であることを特徴とするものである。かかる構成にすれ
ば集積回路素子搭載部の窪みを形成が容易になり、集積
回路素子搭載部の捻れや歪みの発生を防止することがで
きる。
【0009】
【発明の実施の形態】続いて、添付した図面に基づき本
発明の実施の態様の一例について詳細に説明する。ここ
で、図1は本発明の実施の態様の一例に係るファン・イ
ンタイプの半導体装置の構成を示す断面図、図2は本発
明の実施の態様の一例に係る半導体装置の構成部材であ
る第1のインタポーザを示す断面図、図3は第1のイン
タポーザの第1の導体回路パターンを示す平面図、図4
は本発明の実施の態様の一例に係る半導体装置の構成部
材である第2のインタポーザを示す断面図、図5は第2
のインタポーザの第2の導電回路パターンを示す平面図
である。
【0010】本発明の実施の形態に係る半導体装置10
は、図1、2、3に示すように、第1の絶縁性部材層1
1の一例であるポリイミドテープ層には、該第1の絶縁
性部材層11の集積回路素子12の電極パッド13面側
に複数のリード・ビーム14が配列された第1の導体回
路パターン層15と他面側に接地・放熱機能を備えた導
電性プレーン層16とが積層されており、(図2参照)
さらに、前記複数のリード・ビーム14のそれぞれの一
端部に前記集積回路素子の電極パッド13に電気的に接
続する内部接続端子パッド17を備え、前記複数のリー
ド・ビーム14のそれぞれの他端部に外部導通回路を形
成する複数の中間接続端子ランド18を備えると共に、
中央部分に集積回路素子搭載キャビティ19の窪みと前
記内部接続端子パッド17を前記集積回路素子搭載キャ
ビティ側に突出せしめた半導体素子搭載部20を設けた
構成の第1のインターポーザ21を配備している。(図
2参照)ここで前記中間接続端子ランド18は、前記集
積回路素子搭載キャビティ19を取り囲むようにその周
縁部22に沿って配列されている。(図3参照)
【0011】そして、前記集積回路素子搭載キャビティ
19の集積回路素子搭載部20に、表面に複数の電極パ
ット13を設けた集積回路素子12が搭載され、前記集
積回路素子12の電極パット13と前記集積回路素子搭
載部20の内部接続端子パッド17と間をビームボンデ
ィングで電気的導通回路を形成すると共に、第1のイン
ターポーザ21は集積回路素子12の主面側に絶縁性接
着剤23の一例であるエラストマー系接着剤を介して固
着されている。(図2参照)
【0012】図1、4、5に示すように、第2の絶縁性
部材層24一例であるポリイミドテープ層25には、該
第2の絶縁性部材層24の集積回路素子12の反対面側
に複数のリード・ビーム25が配列された第2の導体回
路パターン層26が積層されており、(図4参照)さら
に、前記複数のリード・ビーム25のそれぞれの一端部
に外部接続端子ランド26aを備え、前記複数のリード
・ビーム25のそれぞれの他端部に前記中間接続端子ラ
ンド18に対応する位置に配置されると共に、第2の絶
縁性部材層24に設けられた接続領域部27に露出した
接続端子リード28を備えた構成の第2のインターポー
ザ29を配備している。(図4参照)ここで、前記外部
接続端子ランド26aは、前記集積回路素子搭載キャビ
ティ19の領域範囲にグリッド・アレイ状に配置されて
いる。そして前記ビームリード25が前記集積回路素子
搭載キャビティ19の領域方向に延在して前記外部接続
端子ランド26aに接続されている。(図5参照)そし
て、該接続端子リード28を前記第1のインターポーザ
21の中間接続端子ランド18に接続して前記第1のイ
ンターポーザ21と第2のインターポーザ29間に電気
的導通回路を形成すると共に、絶縁性接着剤30の一例
であるエラストマー系接着剤を介して前記集積回路素子
12の主面の反対面側に固着されている。(図4参照)
【0013】前記集積回路素子搭載キャビティ19内に
封止用エラストマ系樹脂を充填し、前記集積回路素子1
2、前記接続端子リード28、第1の導体回路パターン
層15を封止した樹脂封止部31を有する。
【0014】前記第2のインターポーザ29の外部配線
基板面側には、前記外部接続端子ランド26aを露呈す
るビァ・ホール32を設けた第3の絶縁性部材層33の
一例であるソルダレジスト層で被覆保護されている。こ
こで、前記第3の絶縁性部材層33をドライフィルムフ
ォトレジスト層で被覆保護することもできる。
【0015】そして、前記第3の絶縁性部材層33のビ
ァ・ホール32に露呈した外部接続端子ランド26aに
接続し、外部配線基板側に突出した外部接続端子34の
一例である半田ボールが形成されている。ここで、前記
外部接続端子34を半田バンブで形成されたものであっ
てもよい。
【0016】本発明の半導体装置は、図1に示すよう
に、前記集積回路素子12の電極パット13と外部配線
基板の接続パッドとの間に電気的導通回路を形成する第
1のインターポーザ21と第2のインターポーザ29を
具備した構成とされたものである。
【0017】
【発明の効果】請求項1、2、3、4記載の半導体装置
は、第2のインターポーザに形成された第2の導体回路
パターン層のリードビームが、集積回路素子の搭載領域
部内に延在し、集積回路素子の搭載領域部内にグリッド
・アレイ状に配置された外部接続端子ランドに連接さ
れ、外部接続端子がファン・イン状に配置されているの
で、集積回路素子の外形に近いパッケージサイズに小型
化・軽量化することができる。また、請求項2の半導体
装置は、前記内部接続端子パッドは、前記集積回路素子
搭載キャビティ内にシェル状に突出した集積回路素子搭
載部に設けられた構成としているので、前記内部接続端
子パッドが突出した状態となり集積回路素子の搭載を容
易に行うことができる。また、請求項3記載の半導体装
置は、前記第1のインターポーザの集積回路素子搭載部
に隣接して設けた中間接続端子ランドが千鳥状に配置さ
れた構成としているので、中間接続端子ランド間の間隔
が集積回路素子の電極パッドの間隔よりも広くなり、第
2のインターポーザの接続端子との接続が容易になると
共に、接続時の短絡を防止することができる。さらに、
請求項4記載の半導体装置は、第1の絶縁性部層に積層
された前記導電性プレーン層の厚みを0.1mm〜0.
25mm範囲で構成されているので、集積回路素子搭載
キャビティの形成や集積回路素子搭載部の突起の形成が
容易になり、集積回路素子搭載部の捻れや歪みの発生を
防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の態様の一例に係るファン・イン
タイプの半導体装置の構成を示す断面図である。
【図2】本発明の実施の態様の一例に係る半導体装置の
構成部材である第1のインタポーザの構成を示す断面図
である。
【図3】図2に示す第1のインタポーザに設けた第1の
導体回路パターンを示す平面図である。
【図4】本発明の実施の態様の一例に係る半導体装置の
構成部材である第2のインタポーザの構成を示す断面図
である。
【図5】図4に示す第2のインタポーザに設けた第2の
導電回路パターンを示す平面図である。
【符号の説明】
10 半導体装置 11 第1の絶縁性部材層 12 集積回路素子 13 電極パッド 14 リード・ビーム 15 第1の導体回路パターン層 16 導電性プレーン層 17 内部接続端子パッド 18 中間接続端子ランド 19 集積回路素子搭載キャビティ 20 半導体素子搭載部 21 第1のインターポーザ 22 周縁部 23 絶縁性接着剤 24 第2の絶縁性部材層 25 リード・ビーム 26 第2の導体回路パターン層 26a 外部接続端子ランド 27 接続領域部 28 接続端子リード 29 第2のインターポーザ 30 絶縁性接着剤 31 樹脂封止部 32 ビァ・ホール 33 第3の絶縁性部材層 34 外部接続端子
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/12

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面に複数の電極パッドを設けた集積回
    路素子の主面側に接合されており、 第1の絶縁性部材層の前記電極パッド面側に、複数のリ
    ード・ビームを有し、該リード・ビームの一端部に前記
    集積回路素子の電極パッドに電気的に接続された内部接
    続端子パッドを設け、前記リード・ビームの他端部に凹
    状に形成された集積回路素子搭載キャビティの周縁部に
    沿って配置され、外部導通回路を形成する中間接続端子
    ランドを設けた第1の導体回路パターン層を、前記第1
    の絶縁性部材層の他面側に、接地・放熱機能を備えた金
    属薄板からなる導電性プレーン層を積層した凹形状に形
    成された3層構造の第1のインターポーザと、 集積回路素子表面の所定位置に複数の電極パットを有
    し、該電極パッドと前記第1のインターポーザの内部接
    続端子パッドとをリード・ボンデングで接続された集積
    回路素子と、 前記集積回路素子の主面と反対面側に接合されており、 第2の絶縁性部材層の外部配線基板面側に、複数のリー
    ド・ビームを有し、その一端部に集積回路素子搭載部の
    領域範囲にグリッド・アレイ状に配置してなる外部接続
    端子ランドを、複数のリード・ビームの他端部に接続端
    子リードを設けた第2の導体回路パターン層を備え、前
    記第2の絶縁性部材層に前記接続端子リードを露出する
    電気的接続領域を設けた2層構造の第2のインターポー
    ザと、 前記集積回路素子搭載キャビティに封止樹脂を充填し、
    前記集積回路素子、前記接続端子リードなどを被覆保護
    した樹脂封止部と、 前記第2のインターポーザの前記外部配線基板面側に、
    前記外部接続端子ランドに対応する複数のビア・ホール
    を設け、前記第2の導体回路パターン層を被覆保護する
    第3の絶縁性部材層と、 前記第3の絶縁性部材層に露呈した前記外部接続端子ラ
    ンドのそれぞれに接続されて外部配線基板面側に突出し
    た半田ボールまたはバンプとを具備する構成としたこと
    を特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記内部接続端子パッドは、前記集積回
    路素子搭載キャビティ内にシェル状に突出した集積回路
    素子搭載部に設けられていることを特徴とする請求項1
    記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記第1のインターポーザの集積回路素
    子搭載キャビティに沿って設けた中間接続端子ランドが
    千鳥状に配置されてなることを特徴とする請求項1記載
    の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記導電性プレーン層の厚みが0.1m
    m〜0.25mmであることを特徴とする請求項1、2
    のいずれか記載の半導体装置。
JP21257797A 1997-07-22 1997-07-22 半導体装置 Expired - Fee Related JP3381830B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21257797A JP3381830B2 (ja) 1997-07-22 1997-07-22 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21257797A JP3381830B2 (ja) 1997-07-22 1997-07-22 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1140692A JPH1140692A (ja) 1999-02-12
JP3381830B2 true JP3381830B2 (ja) 2003-03-04

Family

ID=16625013

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21257797A Expired - Fee Related JP3381830B2 (ja) 1997-07-22 1997-07-22 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3381830B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH1140692A (ja) 1999-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7211900B2 (en) Thin semiconductor package including stacked dies
KR100546374B1 (ko) 센터 패드를 갖는 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법
US5640047A (en) Ball grid assembly type semiconductor device having a heat diffusion function and an electric and magnetic shielding function
KR100252731B1 (ko) 반도체 디바이스 및 반도체 디바이스용 패키지
JP3480950B2 (ja) 半導体装置と半導体装置用フイルムキャリア
US6194778B1 (en) Semiconductor package with improved cross talk and grounding, and method of manufacturing same
KR20050090882A (ko) 방열판을 갖는 반도체 패키지 및 그를 이용한 적층 패키지
US6046495A (en) Semiconductor device having a tab tape and a ground layer
US6037656A (en) Semiconductor integrated circuit device having short signal paths to terminals and process of fabrication thereof
JP3877095B2 (ja) 半導体装置
JP3381830B2 (ja) 半導体装置
JP2973646B2 (ja) ベアチップlsiの実装構造
KR100400826B1 (ko) 반도체패키지
TWI791658B (zh) 具有電磁干擾屏蔽層的半導體封裝
US5307559A (en) Method of providing a capacitor within a semiconductor device package
US20020005579A1 (en) Semiconductor apparatus and frame used for fabricating the same
JP3838907B2 (ja) 半導体装置
JP2756791B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP3797761B2 (ja) 半導体装置
JP3841135B2 (ja) 半導体装置、回路基板及び電子機器
KR100646474B1 (ko) 반도체패키지 및 그 제조방법
JP3645701B2 (ja) 半導体装置
KR0173930B1 (ko) 리드 프레임을 이용한 볼 그리드 어레이 패키지
JP2630294B2 (ja) 混成集積回路装置およびその製造方法
JPH10209364A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees