JP3378376B2 - 光制御型半導体光スイッチ - Google Patents

光制御型半導体光スイッチ

Info

Publication number
JP3378376B2
JP3378376B2 JP24845194A JP24845194A JP3378376B2 JP 3378376 B2 JP3378376 B2 JP 3378376B2 JP 24845194 A JP24845194 A JP 24845194A JP 24845194 A JP24845194 A JP 24845194A JP 3378376 B2 JP3378376 B2 JP 3378376B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
light
waveguide
coupler
optical path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP24845194A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0887038A (ja
Inventor
信夫 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP24845194A priority Critical patent/JP3378376B2/ja
Priority to US08/526,384 priority patent/US5754714A/en
Priority to FR9510751A priority patent/FR2724778B1/fr
Publication of JPH0887038A publication Critical patent/JPH0887038A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3378376B2 publication Critical patent/JP3378376B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光制御型の半導体
光スイッチに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体レーザ,低損失光ファイ
バ,光ファイバ増幅器,高速集積回路などのオプトエレ
クトロニクス関連技術の発展により、毎秒10ギガビッ
トという大量の情報を長距離伝送することが可能となっ
た。来るべきマルチメディア時代においては、一般の末
端利用者も高精細映像情報など大量の情報をリアルタイ
ムで利用することになるので、さらに大容量の情報を伝
送・処理できるインフラストラクチャーの構築が必要と
なる。
【0003】しかし、高速集積回路技術の発展にもかか
わらず、毎秒数十ギガビット以上の情報を処理する電子
装置は、配線遅延の問題,消費電力の問題,製造・実装
コストの問題などで非常に高価なものになってしまう。
このため、電子的に一度に扱えないような大量の情報を
光にのせたまま処理する新しい光ルーティング技術への
期待が高まっている。その実現には、数ps以下の高速
・高繰り返しスイッチングを実現できる、光制御型の超
高速光ルーティング・スイッチ(ルータ)の開発が重要
である。
【0004】これまでに提案されている光制御型超高速
光スイッチで技術的に最も進んでいるのは、非線形光ル
ープミラー(NOLM)やKerrシャッタに代表され
る、光ファイバの非線形性(Kerr効果)を利用した
光スイッチである。しかし、光ファイバを用いた非線形
光スイッチは一般に、サイズが大きい、音響振動の影響
に敏感で安定性に難がある、高価などの問題がある。ま
た、光論理素子として用いるには、一段当たりの遅延時
間が長すぎるという問題もあった。
【0005】実用性の観点では、半導体光導波路を用い
た非線形光スイッチに期待がかけられている。しかし、
半導体非線形光スイッチには、非共鳴波長においては非
線形性が小さすぎてスイッチングに必要なエネルギーが
大きくなり過ぎるという問題があり、共鳴波長近辺にお
いては比較的大きな非線形性が得られるもののキャリア
寿命で繰り返しが制限されてしまう上、吸収も大きいと
いう問題があった。従って、高速性と効率の両立できる
光制御型の半導体光スイッチは未だ実現されていない。
【0006】この問題を解決する一つの可能性として、
活性透明光導波路中の非線形性が注目されている(例え
ば、C.T.Hultgren, et al., Appl. Phys. Lett., vol.5
9, pp.635-637, 1991 、C.T.Hultgren, et al., Appl.
Phys. Lett., vol.61, pp.2767-2768, 1992 など)。こ
れは、進行波型半導体レーザ増幅器を、バイアス電流と
光波長を利得と損失が平衡する条件に設定して使うもの
である。
【0007】図13に、上記文献に示されている、励起
光パルス(パルス幅440fs)を透過させた後の透過
プローブ光パルスの位相の時間変化を示す。プローブ光
の位相変化は内部の屈折率変化に比例している。(a)
では利得領域にバイアスされており、強い励起光が入射
するとその増幅にキャリアが消費されるため、利得の飽
和が起こる。逆に、損失領域にバイアスされた(c)の
場合は、強い励起光パルスで励起されたキャリアによ
り、損失の飽和が起こる。いずれの場合も、飽和の回復
時間はキャリア寿命のオーダーである。このため、屈折
率変化には元の値まで回復するのに数nsを要する成分
が大きく重畳し、安定な高速繰り返し動作を実現するこ
とができない。
【0008】これに対して、(b)の透明条件では利得
飽和も損失飽和も生じないため、遅い屈折率変化成分が
現れず、高速の屈折率変化のみを利用することができ
る。また、損失が電流注入による誘導放出利得により補
償されているので、挿入損失も小さく抑えることがで
き、多段接続にも有利である。
【0009】高速の屈折率変化は、最初の大きな負の屈
折率変化成分とその直後に生じる正の屈折率変化成分と
に分離することができる。最初の負の屈折率変化は、二
光子吸収(TPA)や自由キャリア吸収などによるキャ
リアの励起によると考えられている。高エネルギー状態
に励起されたキャリアは、1ps以内にフォノンや他の
キャリアとの衝突でエネルギーを失い、低エネルギー状
態に緩和する。このとき、キャリアの平均温度が上昇す
ること(キャリア・ヒーティング)により、正の屈折率
変化が生じるものと考えられている。暖められたキャリ
アは、さらにフォノンとの衝突でエネルギーを失い、数
ps以内には元の状態に戻る。従って、高速の屈折率変
化のみを利用できれば、数百Gbpsの高速繰り返し動
作が実現できるとされている。
【0010】二光子吸収は、非共鳴波長での非線形性の
主たる要因と考えられている。非共鳴波長では十分大き
な非線形性が得られないが、この例では入射光が共鳴波
長であるため、比較的大きな非線形性が実現されてい
る。文献(K.L.Hall et al., Appl. Phys. Lett., vol.
62, pp.1320-1322, 1993)に示されている数値を用いて
概算すると、パルス幅1ps以上の励起パルスの場合、
プローブ光にπシフトを与えるピーク・パワーはおおよ
そ5.2W/Lで与えられる。ここで、Lは単位をmm
で表した素子長である。従って、長さ10mmの素子を
用いれば、約500mWのピークパワーでスイッチング
が実現できることになる。このピークパワーは、高出力
の半導体パルス・レーザで実現可能な値である。しか
し、実用的にはさらにパワーを低く抑える必要がある。
【0011】このように、活性透明光導波路を用いれば
高速の光スイッチングが可能になるように思われるが、
実は二光子吸収で価電子帯から伝導帯に電子が励起され
ているため、その蓄積により動作速度が制限されてしま
う。即ち、二光子吸収で発生した高エネルギーの電子と
正孔は、数ps以内の短い間にはそれぞれ伝導帯の底近
傍と価電子帯の頂点近傍まで緩和するが、この状態でも
キャリアが過剰に励起されていることには変わりがな
い。一発のパルスにより励起されるキャリアの数は少な
いが、高速繰り返しで多数のキャリアが蓄積すると吸収
の飽和が生じるため、励起パターンに依存してキャリア
寿命(〜ns)程度の時定数の特性変動が生じてしまう
ことになる。
【0012】一方、活性透明光導波路を用いた光制御型
光スイッチにおいては、信号光と制御光の波長を共に利
得ピーク波長近傍に設定するのが雑音抑制の点で有利で
あるが、この場合両者の波長がほぼ同じであるため、信
号光の分離が困難という問題があった。また、活性透明
光導波路を用いたものに限らず、半導体光制御型光スイ
ッチには、出力光の消光比が十分大きくとれないという
致命的な問題もあった。これらの問題について、文献
(S.G.Lee et al.,Appl.Phys.Lett.,vol.64,pp.454-45
6,1994)に示されている透明活性導波路を用いた非線
形方向性結合器(NLDC)型光スイッチを例にとっ
て、以下に説明する。
【0013】図14は、n型GaAs基板上301上に
形成された従来例のNLDC光スイッチの断面構造図で
ある。活性層302はGaAs/AlGaAs多重量子
井戸からなり、n型AlGaAsクラッド層303とp
型AlGaAsクラッド層304に挟まれている。p型
AlGaAsクラッド層304の上にはp型GaAsコ
ンタクト層305が形成されている。p型AlGaAs
クラッド層304とp型GaAsコンタクト層305に
は、2つのストライプ状のメサ領域306a,306b
が形成されており、このメサ306a,306bにより
光導波路のチャンネルが規定されている。各メサの幅は
3μm、高さは0.9μm、メサの間隔は2μmであ
り、素子長さは1.3mmである。メサを含む上面には
電極307が、基板下部には電極308がそれぞれ形成
されており、活性層302への電流注入により入力光に
対してほぼ透明条件に設定できる。
【0014】入力光はパルス幅200fsのパルス光で
あり、信号光と制御光の区別はなく、入力光のエネルギ
ーにより出力チャンネルがスイッチされるようになって
いる。回復時間は1ps以下である。図15に各チャン
ネルへの出力比の入力エネルギー依存性を示す。破線は
TEモードに対する結果であり、出力比は1:3から
1.7:1の間で変化している。実線はTMモードに対
する結果であり、出力比は1:3から1.4:1の間で
変化している。両チャンネルの出力が等しくなるクロス
オーバー点はTEモードで6pJと報告されている。
【0015】この例では、0:1から1:0の間の完全
スイッチングが実現できていない。その一つの理由は、
素子長が方向性結合器の弱励起時の完全結合長の自然数
倍とずれているためである。しかし、仮にこのずれがな
く、弱励起時の出力比が0:1であったとしても、NL
DCでは1:0の出力を得ることはできない。この理由
は、各点の等価屈折率が光強度に依存し、しかも各チャ
ンネルが結合しているため、入力光強度に依存して光強
度比がチャンネルの各点で変化し、それに伴い結合の程
度も変化するため、方向性結合器としての均一性や対称
性が失われ、完全結合条件が成立しなくなるためであ
る。この問題は、非対称マッハツェンダ干渉計型の光ス
イッチにおいても同様であり、弱励起時と強励起時で各
分岐の導波特性が変化するため、強励起時の消光比を大
きくすることができない。
【0016】この文献には、時間応答の測定に当たって
ポンプ光とプローブ光の偏波を変えた例が述べられてい
る。この方法により制御光と信号光の分離は不可能では
ないが、例えば半導体では偏波分離光カプラの集積化は
困難であり、集積化された実用的な形で制御光と信号光
の分離機能を実現することは困難であった。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の光
制御型の半導体超高速光スイッチにおいては、高速かつ
高効率な光スイッチングを実現するに当たって、信号光
出力先の完全スイッチングが困難であり、さらに制御光
と信号光の分離が困難であるという問題があった。
【0018】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的とするところは、制御光と信号光を容易
に分離でき、しかも信号光の出力光の出力先をほぼ完全
にスイッチングできる光制御型半導体光スイッチを提供
することにある。
【0019】
【課題を解決するための手段】
(構成) 上記課題を解決するために本発明は、次のような構成を
採用している。
【0020】即ち本発明は、光制御型半導体光スイッチ
において、信号光を入力して第1の中間光路と第2の中
間光路に分岐する信号光分岐手段と、制御光を入力する
制御光入力導波路と、制御光入力導波路と第1の中間光
路とを第1の光導波路と第2の光導波路とに結合する第
1の光カプラと、第1の光導波路と第2の光導波路を第
3の中間光路と制御光出力光路とに結合する第2の光カ
プラと、第2の中間光路に分岐された光を伝搬させる参
照光路と、第3の中間光路と参照光路とを第1の信号光
出力光路と第2の信号光出力光路とに結合する出力光カ
プラとから構成され、第1の光カプラから第2の光カプ
ラまでの部分は制御光の有無に関わらず信号光を主とし
て第3の中間光路に出力する第1のマッハツェンダ干渉
計を構成しており、第1及び第2の信号光出力光路へ出
力される信号光は、第1の光導波路及び第2の光導波路
中における非線形光学効果により、制御光の有無に従っ
て第3の中間光路を伝搬する信号光の位相が変化し、そ
の結果として出力光カプラの主たる信号光出力先が切り
換わることを特徴とする。
【0021】ここで、本発明の望ましい実施態様として
は、次のものがあげられる。
【0022】(1) 信号光分岐手段はY分岐であってもか
まわないし、1:1光カプラであってもかまわない。第
1のマッハツェンダ干渉計が制御光の有無に関わらず信
号光を主として第3の中間光路に出力するようにするた
めには、第1及び第2の光カプラが1:1光カプラであ
り、かつ第1の光導波路と第2の光導波路が対称である
ことにより実現される。
【0023】(2) 第2の中間光路と参照光路の間に、第
1のマッハツェンダ干渉計と同様の第2のマッハツェン
ダ干渉計が構成されていること。即ち、第2の制御光入
力導波路と第2の中間光路を第3の光導波路と第4の光
導波路とに結合する第3の光カプラと、第3の光導波路
と第4の光導波路を参照光路と第2の制御光出力光路と
に結合する第4の光カプラとから構成される第2のマッ
ハツェンダ干渉計が、信号光分岐手段出力の第2の中間
光路と出力光カプラの参照光路入力の間に挿入されてお
り、第1のマッハツェンダ干渉計から構成される光路と
の対称性が確保されていることが好ましい。
【0024】(3) 第1の光導波路と第2の光導波路が、
電流注入手段を有する半導体活性導波路から構成されて
おり、この半導体活性導波路は制御光波長の微弱光に対
して利得が損失とほぼ平衡するようにバイアスされてい
ること。先に述べた第2のマッハツェンダ干渉計を有す
る光制御型光スイッチでは、第3の光導波路と第4の光
導波路が、それぞれ第1及び第2の光導波路と同じよう
に形成されていることが好ましい。
【0025】(4) 全体が半導体基板上にモノリシックに
形成されていること。
【0026】(5) 第1の光導波路中から第2の光カプラ
に入力される光と、第2の光導波路から第2の光カプラ
に入力される光と、の間の位相を調整する手段が設けら
れていること。
【0027】(6) 参照光路から出力光カプラに入力され
る光と、第3の中間光路から出力光カプラに入力される
光と、の間の位相を調整する手段が設けられているこ
と。
【0028】(作用) 本発明において、信号光分岐手段は、信号光を、制御光
と干渉することになる第1の中間光路への光と、参照光
となる第2の中間光路への光とに、1:1に分岐する。
第1の光カプラにおいて信号光は第1の光導波路と第2
の光導波路に1:1に分岐される。また、第1の制御光
入力導波路から制御光が信号に同期して入力された場
合、制御光も第1の光カプラにより第1の光導波路と第
2の光導波路に1:1に分岐される。この制御光がある
場合、第1の光導波路を伝搬する信号光は非線形光学効
果により位相がφシフトする。三次の非線形性の場合、
この位相変化は制御光パワーに比例する。このとき、第
2の光導波路を伝搬する信号光も位相がφシフトする。
【0029】このように、第2の光カプラに入力される
2つの光の位相の関係は制御光の有無に関わらず一定で
ある。第2の光カプラも第1の光カプラと同じ1:1カ
プラであるため、相反性の原理により、制御光の有無に
関わらず、信号光は第3の中間光路に出力される。一
方、制御光は制御光出力光路に分岐されることになる。
この結果、信号光と制御光の分離が計れることになる。
なお、ここで用いる信号光は制御光と比べて微弱であ
り、自分自身による位相シフトは無視できる。また、第
1の光カプラと第2の光カプラは非線形性の小さな受動
カプラを用いており、制御光の存在により分岐比は殆ど
変化しない。
【0030】第2の光カプラから第3の中間光路を通っ
て出力光カプラに入力される信号光は、第1の制御光入
力導波路から入射された制御光がある場合には、制御光
がない場合と比べてφだけ位相がシフトしている。一
方、第2の中間光路に分岐された参照信号光は、第1の
制御光入力導波路から入射された制御光の影響に関わら
ず一定の位相で参照光路から出力光カプラに入力され
る。
【0031】この結果、第3の中間光路から入力される
信号光と参照光路から入力される信号光の位相により、
出力光カプラから第1の出力光路に出力される信号と第
2の出力光路に出力される信号光の出力比が変化するこ
とになる。特に、制御光がない場合の出力先が第1の出
力光路になるように設定されており、制御光による位相
シフトφがπないしはπの奇数倍である場合、制御光が
ある場合の出力は第2の出力光路に完全に切り換えられ
る。このようにして、制御光の混入なしに信号光出力比
を0:1から1:0にほぼ完全に切り換えることが可能
となる。
【0032】但し、第1及び第2の光導波路と第1及び
第2の光カプラの存在により、第3の中間光路の信号光
と参照光路の信号光との間で強度やパルス幅広がりなど
に不一致が生じ、完全スイッチングができなくなる可能
性もある。このような場合でも、第1のマッハツェンダ
干渉計と同じ構造の第2のマッハツェンダ干渉計が参照
光路側に挿入されていれば、第3の中間光路から出力光
カプラに入力される信号光と参照光路から出力光カプラ
に入力される信号光を等価なものにすることができるの
で、完全スイッチングが保証される。ルータとして用い
る場合には第2のマッハツェンダ干渉計には第2の制御
光入力導波路から制御光を入射する必要がない。
【0033】第1及び第2の光導波路が半導体活性導波
路から構成され、この半導体活性導波路が、制御光波長
の微弱光に対して利得が損失とほぼ平衡するようにバイ
アスされている場合、キャリア寿命に制限されない高速
の光スイッチングが実現される。本発明の第1及び第2
の光導波路を半導体で構成する場合は光導波路部が長く
なるため、このような損失が小さく非線形性の大きい活
性透明光導波路の使用が極めて好ましい実施態様とな
る。この実施態様でさらに第3及び第4の光導波路を有
する場合について、これらも第1及び第2の光導波路と
同じ活性透明導波路とすることになる。
【0034】本発明の光制御型半導体光スイッチは、全
体が半導体基板上にモノリシックに形成されていると、
各マッハツェンダ干渉計の対称性を確保することが容易
になる。また、光導波路の接続点が減る上、温度変化な
どの影響なども各部が同じように感じるため、安定性や
信頼性が向上する。勿論、接続損失を小さくでき、小型
軽量化が計れ、製造・調整コストを低減できることはい
うまでもない。
【0035】なお、第1の光導波路と第2の光導波路の
微妙な対称性のずれがあると、第2の光カプラにおいて
信号光と制御光の分離が不完全になる。一方の光導波路
の位相を他方の光導波路の位相に対してシフトさせる手
段が挿入されていれば、対称性のずれを補償することが
可能となる。この関係は、第3の光導波路と第4の光導
波路により構成される第2のマッハツェンダ干渉計にお
いても同じである。また、第1のマッハツェンダ干渉計
と参照光路(又は第2のマッハツェンダ干渉計)から構
成される第3のマッハツェンダ干渉計においても同様で
ある。特に、信号光分岐手段が対称Y分岐で両方の光路
が完全に対称な場合、制御光が無い場合の第1の出力光
路と第2の出力光路に対する分岐比は1:1になってし
まうため、一方の光路のみ出力させるためには、一方の
位相を他方に対して最初からπ/2バイアスしておく必
要がある。位相調整手段は、例えば位相変調器を光導波
路に集積化したり、第2の制御光入力導波路からバイア
ス光を入力することで実現できる。
【0036】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
参照して説明する。
【0037】(参考例1) 図1は、本発明の第1の参考例に係わるマッハツェンダ
干渉計型光スイッチの構成を模式的に示す図である。
【0038】偏波保存ファイバ型1:1入力光カプラ1
と偏波保存ファイバ型1:1出力光カプラ2との間にマ
ッハツェンダ干渉計が構成されており、干渉計の第1の
分岐には、第1の偏波分離ファイバカプラ3、進行波型
半導体レーザ増幅器20、第2の偏波分離ファイバカプ
ラ4が挿入されており、第2の分岐にはLiNbO3
らなる強度変調器5と位相変調器6が挿入されている。
【0039】信号光は波長1.3μmの直線偏波のパル
ス光であり、入力光カプラ1の入力端子11から入射
し、出力光カプラ2の出力端子13,14から出射す
る。制御光は信号光とほぼ同一波長で、信号光と直交す
る直線偏波を有するパルス光である。制御光は第1の偏
波分離ファイバカプラ3から入射し、第2の偏波分離フ
ァイバカプラ4から出射する。信号光のピークパワは1
mW以下であり、制御光のピークパワーは約200mW
である。それぞれのパルス幅は2ps,5psである。
【0040】図2に、進行波型半導体レーザ増幅器20
の構造を模式的に示す。このレーザ増幅器は、p型Cd
Te基板21上に形成されたHg0.3 Cd0.7 Te活性
導波層22、n型CdTeクラッド層23からなり、ク
ラッド層23をストライプ状のメサ24にすることによ
り、光導波路が規定されている。メサ24の上部には電
極25が、基板下部には電極26が形成されている。光
導波路の入出射端面には反射防止膜27が形成されてい
る。電極25,26からの電流注入により、活性導波層
22は損失と利得が釣り合った活性透明状態にバイアス
されている。
【0041】強度変調器5は、出力光カプラ2において
第1と第2の分岐から入力される光強度が等しくなるよ
うに、第2の分岐の光強度を調整する。位相変調器6
は、制御光がない場合に信号出力が全て第1の出力端子
13から出射するように、第2の分岐の位相を調整す
る。
【0042】この状態で信号光パルスに同期して制御光
パルスが入射すると、活性透明状態にバイアスされたH
0.3 Cd0.7 Te活性導波層22中の非線形光学効果
により、信号光の位相が変化する。この変化の過程につ
いては次に説明する。出力端における位相変化が丁度π
になるように制御光パルス強度を調整しておくと、出力
光カプラ2の信号出力は出力端子14にスイッチされ
る。この動作速度は、従来技術の説明で述べたように2
ps以下と高速である。
【0043】図3に、Hg1-x Cdx Teのバンドギャ
ップEgとスピン軌道分離エネルギーΔ0 の組成依存性
を示す。Hg0.3 Cd0.7 TeではEg〜Δ0 となって
おり、その共鳴波長は約1.3μmである。この波長の
励起光がHg0.3 Cd0.7 Te活性透明光導波層22に
入射した場合を考える。透明状態にあるため、正味の禁
制帯間遷移は抑制されている。一方、価電子帯間の共鳴
吸収により正孔のスピン軌道分離帯への励起が生じる。
【0044】この系では、ブリルアン帯のΓ点付近にお
ける各価電子帯の有効質量はおおよそ0.4m0 で、差
が小さい(分散曲線が平行に近く結合状態密度が大き
い)ために吸収係数も大きい。従って、強い励起光によ
り効率的にホットな正孔が生成されることになる。正孔
のエネルギー分布の変化に伴って、屈折率が変化する。
このとき、重い正孔帯や軽い正孔帯の正孔が減少するた
め、利得も瞬間的に減少する。
【0045】図4に示すように、励起されたホットな正
孔は、キャリア間衝突やフォノンとの衝突により短時間
のうちにエネルギーを失っていく。ホット・キャリアの
バンド内緩和に要する時間は0.1ps以下である。こ
の緩和に伴って放出されるエネルギーにより、他のキャ
リアも暖められる(キャリア・ヒーティング)。このよ
うにしてホットな状態になったキャリアも、フォノンと
の衝突等により徐々にエネルギーを失い、1ps以内に
元の平衡状態に復帰する。即ち、励起パルスが入射され
ると直ちに大きな屈折率変化が起こるが、励起パルスが
なくなって約1psのうちには屈折率と透過率は元の値
に回復する。
【0046】厳密には、副次的に起こる二光子吸収のた
めキャリア密度も若干変化する。しかし、価電子帯間吸
収による非線形性が共鳴により増大しているので、従来
の活性透明光導波路と比べて小さな励起光パワーでスイ
ッチングでき、パワーの二乗に比例する二光子吸収の影
響を小さく抑えることができる。また、活性層22には
既に高密度の電子と正孔が存在しているため、ホットホ
ールの衝突電離によるキャリア発生も生じにくい。従っ
て、毎秒数百Gb/sの高速繰り返し動作時において
も、過剰に発生したキャリアの蓄積による時定数の長い
特性変動を小さく抑えることができ、パターン効果が生
じない。
【0047】このように本参考例によれば、バンド内光
吸収による非線形性が共鳴により増大しているので、従
来の活性透明導波路と比べて小さな励起子パワーでスイ
ッチングできる。また、禁制帯を越えてキャリアが励起
される二光子吸収の影響を小さく抑えることができるの
で、キャリア寿命に制限されない高繰り返しの高速光ス
イッチング動作を実現することができる。
【0048】(参考例2) 図5は、本発明の第2の参考例に係わる非線形方向性結
合器型の歪量子井戸半導体光スイッチの構成を模式的に
示す図、図6はその導波路に沿った断面構造を模式的に
示す図である。
【0049】この光スイッチは、n−InP基板31上
に形成されており、中央部にはメサ状の活性光導波路3
2a,32bが方向性結合器を形成している。両端部に
は活性光導波路32a,32bに接続されたメサ状の受
動光導波路33a,33b,33c,33dが形成され
ている。活性光導波路32には、基板31の上に、アン
ドープInGaAsP受動導波層34、薄いアンドープ
InPエッチストップ層35、InGaAs/歪AlA
s量子井戸層36、InGaAsP導波層37、p型I
nPクラッド層38、p型InGaAsPオーミック・
コンタクト層39が順に積層されている。受動光導波路
33は、基板31と半絶縁性InP層40でアンドープ
InGaAsP受動導波層34を挟んだ構成をしてい
る。
【0050】各活性光導波路32a,32bの上部と基
板1の下部には、それぞれオーミック電極41a,41
b,42が形成されている。図にはないが、電極41
a,41bは絶縁膜を介して形成されたパッドにそれぞ
れ接続され、ボンディングにより外部回路と接続されて
いる。入出射端面には反射防止コーティング43が施さ
れている。この全体は、下部電極42を介してヒートシ
ンクと接地を兼ねるCuマウントに搭載されている。
【0051】図7は、この活性光導波路32を構成する
歪量子井戸活性層36主要部の伝導帯バンド構造を模式
的に示す図である。この量子井戸層36は、薄いInG
aAs井戸層44が、薄い伸張歪AlAs障壁層45で
挟まれた基本構造を25周期積層した構造をしている。
この井戸の内部には2つのサブバンド46,47が存在
している。障壁層が薄いため、各井戸のサブバンド4
6,47はトンネリングで結合し、ミニバンドを形成し
ている。そのTMモード光に対するサブバンド間遷移エ
ネルギーーはおよそ0.8eV(共鳴波長1.55μ
m)である。このような大きなサブバンド間隔が実現で
きることは、(J.H.Smet et al., Appl. Phys. Lett.,
vol.64, pp.986-987, 1994)に示されている。
【0052】また、この活性光導波路32は、波長1.
55μmのTMモード光に対して透明、TEモード光に
対して若干利得を持つようにバイアスされている。この
ため、第1のサブバンド46にはトンネリングを介して
高密度の電子が注入されている。一方、第2のサブバン
ド47は通常空状態になっている。
【0053】波長1.55μmの弱い信号光パルスはT
Eモードで一方の活性透明光導波路32aに入射する。
励起光パルスが無い状態では、方向性結合器は完全結合
状態にあり、信号光パルスは33dに出射する。一方、
波長1.55μmの強い励起光パルスはTMモードで他
方の活性透明光導波路32bに入射する。強い励起光パ
ルスがあると、Kerr効果により活性透明光導波路3
2の屈折率が変化し、信号光の出力先は33cにスイッ
チされる。制御光は偏波カプラなどで信号光と分離する
ことができる。
【0054】この第2の参考例の動作も、第1の参考例
の動作と同様である。即ち、波長1.55μmの強い励
起光が一方の活性透明光導波路32に入射した場合、正
味のバンド間遷移が抑制されているのに対して、サブバ
ンド間の共鳴吸収により第1のサブバンド46から第2
のサブバンド47への励起が生じる。このサブバンド間
遷移はTMモード光に対して許容であり、また、一般に
サブバンド間遷移による非線形性は大きいので、大きな
屈折率変化が生じる(Kerr効果)ことになる。
【0055】第2のサブバンド47に励起された電子
は、キャリア間衝突やフォノンとの衝突により短時間の
うちにエネルギーを失っていく。サブバンド間やバンド
内の電子の緩和時間は0.1ps以下である。この緩和
に伴って暖められた他のキャリアも、フォノンとの衝突
等により徐々にエネルギーを失う。この緩和過程で電子
がL点やX点に散乱されると、Γ点に戻るのに1ps程
度を要するため、第1の参考例と比べて回復時間がやや
長くなるが、それでも励起パルスがなくなって数psの
内には元の状態に復帰する。このため、励起光パルスが
入ると瞬間的に大きな屈折率変化が生じるが、励起光パ
ルスが通り過ぎた後数ps以内に元の屈折率に戻る。
【0056】第2の参考例でも、励起光パワーが減らせ
るので、二光子吸収の影響を小さく抑えることができ
る。また、活性透明光導波層32には既に高密度の電子
と正孔が存在しているため、ホット・エレクトロンの衝
突電離によるキャリア発生も生じにくい。従って、毎秒
数百Gb/sの高速繰り返し動作時においても、過剰に
発生したキャリアの蓄積による時定数の長い特性変動を
小さく抑えることができ、パターン効果が生じない。
【0057】このように第2の参考例においても、従来
よりも高繰り返しの高速光スイッチング動作を、従来よ
り小さな励起エネルギーで実現することができる。
【0058】なお、上記の各参考例においては、歪超格
子や歪量子井戸を用いて禁制帯幅、価電子帯間吸収エネ
ルギー、サブバンド間の分離エネルギーなどを人工的に
変えることで、他波長での使用を可能にすることができ
る。また、歪により有効質量などの材料定数を制御して
非線形性を大きくするなどの応用も可能である。活性光
導波路の材料やスイッチの構成も適宜変更可能である。
例えば、第1の参考例の強度変調器や位相変調器は必須
なものではないし、マッハツェンダ干渉計の両方の分岐
に活性透明導波路が入っていてもよい。光スイッチ、光
カプラなどが半導体上にモノリシック集積化されていて
もよい。
【0059】(実施形態) 図8は、本発明の第1の実施形態に係わる光制御型光ス
イッチの構成を示す図である。この実施形態の光制御型
光スイッチは、n型InP基板101上にモノリシック
に形成されている。
【0060】第1の光カプラ111、第2の光カプラ1
12、第3の光カプラ113、第4の光カプラ114、
信号光分岐手段となる第5の光カプラ115、信号出力
光カプラとなる第6の光カプラ116の全ては、方向性
結合器型の1:1光カプラ(3dBカプラ)からなる。
【0061】入力光信号は入力導波路135から第5の
光カプラ115の一方の入力ポートに入力される。第5
の光カプラ115は、入力信号光を、第1の中間光導波
路(第1の中間光路)131と第2の中間光導波路(第
2の中間光路)132に1:1に分岐する。
【0062】第1の中間光導波路131と第1の制御光
入力光導波路141は、第1の光カプラ111により、
第1の光導波路121と、第1の光導波路と対称な構造
を有する第2の光導波路122とに接続されている。第
1の光導波路121と第2の光導波路122は、中央部
で交差して位置を入れ替えた後、第2の光カプラ112
により、第1の制御光出力導波路(第1の制御光出力光
路)143と第3の中間光導波路(第3の中間光路)1
33に結合されている。第1の光カプラ111から第2
の光カプラ112に至る部分は、第1のマッハツェンダ
干渉計151を構成している。
【0063】同様に、第2の中間光導波路132と第2
の制御光入力光導波路142は、第3の光カプラ113
により、第1の光導波路と同じ構造を有する第3の光導
波路123と、第2の光導波路と同じ構造を有する第4
の光導波路124とに接続され、これらの2つの光導波
路123,124は、第4の光カプラ114により、第
2の制御光出力導波路(第2の制御光出力光路)144
と第4の中間光導波路(参照光路)134に結合されて
いる。第3の光カプラ113から第4の光カプラ114
に至る部分は、第1の対称マッハツェンダ干渉計と同一
構成の第2のマッハツェンダ干渉計152を構成してい
る。
【0064】第3の中間光導波路133と第4の中間光
導波路134は、第6の光カプラ116により、第1の
出力光導波路(第1の信号光出力光路)136と第2の
出力光導波路(第2の信号光出力光路)137に結合し
ている。そして、第5の光カプラ115から第6の光カ
プラ116に至る全体が、第3のマッハツェンダ干渉計
を構成しており、この第3のマッハツェンダ干渉計は、
各分岐にそれぞれ第1のマッハツェンダ干渉計151と
第2のマッハツェンダ干渉計152を有する構成になっ
ている。
【0065】第1から第4の光導波路121,122,
123,124は、それぞれ合計長さ10mmの活性導
波路部161,162,163,164及び長さ500
μmの位相変調部171,172,173,174とを
有している。
【0066】図9(a)は、入力導波路135から第5
の光カプラ115、第1の中間光導波路131、第1の
光カプラ111、第1の光導波路121、第2の光カプ
ラ112、第3の中間光導波路133、及び第6の光カ
プラ116を経て、第1の出力導波路136に至る光路
の、導波路に沿った断面構造を模式的に示す図である。
この図では、光カプラにおける隣接チャンネルとの光結
合は無視して描いてある。第1の光導波路121の一部
は活性導波路部161、別の一部は位相変調部171と
なっている。構造の対称のため、他の分岐を通る信号光
も全く同じ断面構造の光導波路を通過することになる。
光導波路135,136,137,141,142,1
43,144の入出射端面には反射防止コーティング1
39が形成さけれおり、光ファイバにより外部と接続さ
れている。
【0067】基本的な導波路層構造は、クラッド層を兼
ねるn型InP基板101、波長1.2μm組成のアン
ドープInGaAsPからなる共通受動導波層102、
第1の導波路121の活性導波路部161のみに形成さ
れた波長1.55μm組成の活性導波層103、p型I
nPクラッド層104、p型InGaAsPオーミック
・コンタクト層105とからなる。基板下部には共通電
極106が形成されている。光カプラ115,111,
112,116のコンタクト層上には分岐比を1:1に
微調整するための逆バイアス電圧印加電極215、21
1、212、216が形成されている。
【0068】活性導波路部161のコンタクト層上に
は、活性導波路を透明条件にバイアスするための電流注
入電極261が形成されている。また、位相変調部17
1のコンタクト層上には、マッハツェンダ干渉計の位相
調整を行うための逆バイアス電極271が形成されてい
る。電極が形成された部分以外の光導波路は、コンタク
ト層105の全てとp型InPクラッド層104の大部
分が除去され、半絶縁性InP層107で埋め込まれて
おり、各上部電極は電気的にアイソレートされている。
【0069】図9(b)は、活性導波路部161,16
2,163,164を含む導波方向と垂直なX−Y断面
の構造を模式的に示す図である。各光導波路は幅2μm
のメサ108に加工されており、ポリイミド109によ
り平坦に埋め込まれている。図には示していないが、上
部の各電極はパッドに配線接続され、ポンディングワイ
ヤにより外部回路に接続されており、下部電極は放熱体
と接地を兼ねるCuブロックにAuSnハンダにより固
定されている。
【0070】ここで、第1の実施形態の光スイッチの動
作について説明する。例として、信号光がデータレート
100Gb/s、パルス幅1psのパルス例で、繰り返
し25GHz、パルス幅5psの台形状の制御光パルス
により4:1の光デマルチプレクシングを行う場合を考
える。制御光ピークパワーは、第1及び第2の光導波路
121,122において信号光の位相をπシフトさせる
ように約1Wに調整されている。図10に示すように、
信号光パルスが制御光パルスのピーク平坦部と重なるよ
うに、両パルスのタイミングが調整されているものとす
る。この光スイッチは活性透明導波路を用いているの
で、このような高速・高繰り返しのパルスにも十分応答
する。
【0071】ここで、第1から第4の光導波路の活性導
波路部161,162,163,164は、入力光波長
に対して透明条件になるようにバイアスされているもの
とする。また、光カプラ111,112,113,11
4,115,116は逆バイアス電圧印加により分岐比
が1:1になるように調整されており、マッハツェンダ
干渉計151,152,153は位相変調部171,1
72,173,174で位相補償されて完全に対称にな
っているものとする。各1:1光カプラ111,11
2,113,114,115,116において、チャン
ネルを乗り換えるクロス光はチャンネルを直進する光に
対して、位相がπ/2シフトすることに注意して動作を
考える。
【0072】まず、制御光が無い場合について考える。
信号光パルスは、光ファイバから入力導波路135に入
射し、第5の光カプラ115により第1のマッハツェン
ダ干渉計151に繋がる第1の中間導波路131と第2
のマッハツェンダ干渉計152に繋がる第2の中間導波
路132に1:1に分岐される。第1の中間導波路13
1に分岐した光は、第1の光カプラ111により第1の
光導波路121と第2の光導波路122に1:1に分岐
される。制御光がなく信号光は微弱であるため、活性導
波路部161,162では非線形光学効果による位相シ
フトは生じない。従って、第2の光カプラ112の入力
部において、第1の光導波路121から入力される光と
第2の光導波路122から入力される光の位相差は、第
1の光カプラ出力で与えられたπ/2に等しい。
【0073】この結果、第1のマッハツェンダ干渉計1
51の信号光出力は、全て第3の中間導波路133に結
合し、第1の制御光出力導波路143への出力は0にな
る。第2のマッハツェンダ干渉計152に分岐した信号
光も、全く同様にして第4の光カプラ114で全て第4
の中間導波路134に結合する。同様に、第3のマッハ
ツェンダ干渉計153の出力となる第6の光カプラ11
6に入力される2つの信号光の位相差は、入力部第5の
光カプラ115で与えられたπ/2のままである。この
結果、全ての信号光は第1の出力光導波路136に出力
されることになる。
【0074】次に、制御光が第1の制御光入力導波路1
41を介して第1の光カプラ111から第1のマッハツ
ェンダ干渉計151に入力された場合の動作を考える。
制御光は第1の光導波路121と第2の光導波路122
において、信号光の位相を等しくπシフトさせる。第1
のマッハツェンダ干渉計151は2つの分岐の同相位相
シフトに対して出力先を変えないので、信号光は制御光
が存在する場合でも第3の中間導波路133に出力され
る。一方、制御光は全て第1の制御光出力導波路143
に出力される。しかし、第3のマッハツェンダ干渉計1
53においては、第1のマッハツェンダ干渉計151を
含む分岐のみ位相がπシフトされているので、信号光出
力先は第2の信号光出力導波路137に切り換えられる
ことになる。
【0075】このように、本実施形態の構成によれば、
100Gb/sという超高速の信号光出力を0:1から
1:0にほぼ完全にスイッチングでき、制御光と信号光
の分離も計ることができる。
【0076】なお、本発明の構成は上記の実施形態に限
定されるものではない。例えば、第1と第2の光カプラ
の長さを、一方が完全結合長の1/2、他方が完全結合
長の3/2としておけば、前者のクロス光の位相シフト
がπ/2に対して後者のそれは−π/2となるので、交
差125を設ける必要がなくなる。或いは、第1の光導
波路121と第2の光導波路122の位相差がπとなる
ように予めバイアスしておいても、交差125をなくす
ことができる。
【0077】また、安定性や小型軽量化に目をつぶれ
ば、ファイバ型光カプラや光ファイバを組み合わせて
も、上記機能を実現することができる。
【0078】また、本発明は様々に変形、応用して使用
することができる。例えば、本発明の光スイッチでは、
制御光の再利用ができる。第1の実施形態の構成の光ス
イッチ180a,180b,180cを図11のように
3個カスケード接続し、各光スイッチへ入る制御光と信
号光のタイミングを遅延光導波路181a,181bで
10psずつずらしていくと、100Gb/sから25
Gb/s×4出力への光デマルチプレクシングができ
る。制御パルス光光源182、受信用高速導波型フォト
ダイオード183a,183b,183c,183dと
共に全体をモノリシックに集積化できる。
【0079】入力信号分岐手段に光カプラを用いた場
合、信号光を二入力とした応用も可能である。即ち、制
御光に従って、二入力信号の出力をクロス状態とバー状
態の間でスイッチできる。これにより、光制御型の超高
速光交換動作を実現できることになる。これは、例えば
光ATM交換のセルフルーティング・スイッチなどに応
用できる。
【0080】また、第2のマッハツェンダ干渉計を有す
る光スイッチでは、第1の制御光入力導波路から入力さ
れる第1の制御光と、第2の制御光入力導波路から入力
される第2の制御とにより光論理演算を行わせることも
可能である。第2のマッハツェンダ干渉計の出力信号光
位相が第2の制御光によりψ変化することにより、第3
のマッハツェンダ干渉計の出力光カプラにおける位相差
はφ−ψとなる。これを利用して、例えば第3のマッハ
ツェンダ干渉計出力において2つの制御光のエクスクル
ーシブORとその否定に相当する信号出力を得ることが
できる。この他に、第2の制御光を連続光として位相バ
イアスに使うことも可能である。
【0081】これまで、デジタルなルーティング・スイ
ッチ動作を仮定してきたが、制御光入力を連続的に変化
させれば、2つの出力の比を任意の値に調整することも
できる。この特性を利用して、超高速の光制御型光変調
器として用いることも可能である。本発明の第1の実施
形態の光スイッチをアナログ的な光変調器に応用した場
合の入力光パワーと出力の関係を、図12に示す。制御
光を二入力することで、信号光に対する複雑な変調動作
も実現できる。
【0082】その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲
で、種々変形して実施することができる。
【0083】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、消光
比が大きく信号光の出力光の出力先をほぼ完全にスイッ
チングすることができ、しかも制御光と信号光の分離が
可能な高速・高効率の光制御型半導体光スイッチを実現
することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の参考例に係わる光スイッチの構成を模式
的に示す図。
【図2】第1の参考例に用いた進行波型半導体レーザ増
幅器の構造を模式的に示す図。
【図3】HgCdTeのバンドギャップEgとスピン軌
道分離エネルギーΔ0 の組成x依存性を示す図。
【図4】HgCdTeにおける価電子帯間吸収と、その
緩和過程を説明するための図。
【図5】第2の参考例に係わる光スイッチの構成を模式
的に示す図。
【図6】第2の参考例における光導波路に沿った断面構
造を模式的に示す図。
【図7】第2の参考例における活性光導波路主要部の伝
導帯バンド構造を模式的に示す図。
【図8】第1の実施形態に係わる光制御型光スイッチの
構成を模式的に示す図。
【図9】第1の実施形態における導波方向の断面構造と
導波方向に垂直な断面構造を模式的に示す図。
【図10】第1の実施形態におけるパルスのタイミング
を示す図。
【図11】第1の実施形態の応用例の光デマルチプレク
サの構成を模式的に示す図。
【図12】第1の実施形態をアナログ光変調器に応用し
た場合の入出力の関係を示す図。
【図13】励起光パルス透過後の透過プローブ光パルス
の位相の時間変化を示す図。
【図14】従来例の非線形方向性結合器の断面構造を示
す図。
【図15】従来例の非線形方向性結合器の出力を示す
図。
【符号の説明】
1,2…光カプラ 3,4…偏波カプラ 5…強度変調器 6…位相変調器 20…半導体レーザ増幅器 21,31…半導体基板 22,36…活性層 25,26,41,42…電極 27,43…反射防止膜

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】信号光を入力して第1の中間光路と第2の
    中間光路に分岐する信号光分岐手段と、制御光を入力す
    る制御光入力導波路と、制御光入力導波路と第1の中間
    光路とを第1の光導波路と第2の光導波路とに結合する
    第1の光カプラと、第1の光導波路と第2の光導波路を
    第3の中間光路と制御光出力光路とに結合する第2の光
    カプラと、第2の中間光路に分岐された光を伝搬させる
    参照光路と、第3の中間光路と参照光路とを第1の信号
    光出力光路と第2の信号光出力光路とに結合する出力光
    カプラとから構成され、第1及び第2の光カプラは、信号光に対しても制御光に
    対しても1:1カプラであり、 第1の光カプラから第2
    の光カプラまでの部分は制御光の有無に関わらず信号光
    を主として第3の中間光路に出力する第1のマッハツェ
    ンダ干渉計を構成しており、 第3の中間光路から出力光カプラへ入力される信号光
    は、第1の光導波路及び第2の光導波路中における非線
    形光学効果により、制御光の有無に従って位相が変化
    し、その結果として出力光カプラの主たる信号光出力先
    が切り換わることを特徴とする光制御型半導体光スイッ
    チ。
  2. 【請求項2】第2の中間光路と前記参照光路との間に
    は、第2の中間光路とそれ以外の別の光路とを第3の光
    導波路と第4の光導波路とに結合する第3の光カプラ
    と、第3の光導波路と第4の光導波路とを前記参照光路
    とそれ以外の別の光路とに結合する第4の光カプラとが
    挿入されており、 第3の光カプラから第4の光カプラまでの部分は信号光
    を常に主として参照光路に出力する第2のマッハツェン
    ダ干渉計を構成していることを特徴とする請求項1記載
    の光制御型半導体光スイッチ。
  3. 【請求項3】信号光を入力して第1の中間光路と第2の
    中間光路に分岐する信号光分岐手段と、第1の制御光を
    入力する第1の制御光入力導波路と、第1の制御光入力
    導波路と第1の中間光路とを第1の光導波路と第2の光
    導波路とに結合する第1の光カプラと、第1の光導波路
    と第2の光導波路とを第3の中間光路と第1の制御光出
    力光路とに結合する第2の光カプラと、第2の制御光を
    入力する第2の制御光入力導波路と、第2の制御光入力
    導波路と第2の中間光路とを第3の光導波路と第4の光
    導波路とに結合する第3の光カプラと、第3の光導波路
    と第4の光導波路とを第4の中間光路と第2の制御光出
    力光路とに結合する第4の光カプラと、第3の中間光路
    と第4の中間光路とを第1の信号光出力光路と第2の信
    号光出力光路とに結合する出力光カプラとから構成さ
    れ、第1及び第2の光カプラは、信号光に対しても第1の制
    御光に対しても1:1カプラであり、 第1の光カプラか
    ら第2の光カプラまでの部分は制御光の有無に関わらず
    信号光を主として第3の中間光路に出力する第1のマッ
    ハツェンダ干渉計を構成しており、第3及び第4の光カ
    プラは、信号光に対しても第2の制御光に対しても1:
    1カプラであり、第3の光カプラから第4の光カプラま
    での部分は制御光の有無に関わらず信号光を主として第
    4の中間光路に出力する第2のマッハツェンダ干渉計を
    構成しており、 第3及び第4の中間光路から出力光カプラへ入力される
    信号光は、第1の光導波路,第2の光導波路,第3の光
    導波路及び第4の光導波路中における非線形光学効果に
    より、第1の制御光と第2の制御光の強弱に従って位相
    が変化し、その結果として出力光カプラの信号光出力比
    が変化することを特徴とする光制御型半導体光スイッ
    チ。
  4. 【請求項4】第1の光導波路から第2の光カプラに入力
    される光と、第2の光導波路から第2の光カプラに入力
    される光との間の位相差を調整する手段が設けられてい
    ることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の光制
    御型半導体光スイッチ。
  5. 【請求項5】前記参照光路から前記出力カプラに入力さ
    れる光と、第3の中間光路から前記出力カプラに入力さ
    れる光との間の位相差を調整する手段が設けられている
    ことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の光制御
    型半導体光スイッチ。
  6. 【請求項6】全体が半導体基板上にモノリシックに形成
    されていることを特徴とする請求項1〜5の何れかに記
    載の光制御型半導体光スイッチ。
JP24845194A 1994-09-17 1994-09-17 光制御型半導体光スイッチ Expired - Fee Related JP3378376B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24845194A JP3378376B2 (ja) 1994-09-17 1994-09-17 光制御型半導体光スイッチ
US08/526,384 US5754714A (en) 1994-09-17 1995-09-11 Semiconductor optical waveguide device, optical control type optical switch, and wavelength conversion device
FR9510751A FR2724778B1 (fr) 1994-09-17 1995-09-14 Dispositif a guide d'ondes optique a semiconducteurs, commutateur optique du type a commande optique et dispositif de converstion de longueur d'onde

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24845194A JP3378376B2 (ja) 1994-09-17 1994-09-17 光制御型半導体光スイッチ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0887038A JPH0887038A (ja) 1996-04-02
JP3378376B2 true JP3378376B2 (ja) 2003-02-17

Family

ID=17178334

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24845194A Expired - Fee Related JP3378376B2 (ja) 1994-09-17 1994-09-17 光制御型半導体光スイッチ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3378376B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7421200B2 (en) * 2004-12-09 2008-09-02 Intel Corporation Reduced loss ultra-fast semiconductor modulator and switch
JP4696264B2 (ja) * 2005-08-24 2011-06-08 独立行政法人情報通信研究機構 強度バランス機能を有する光fsk/ssb変調器
JP2012215692A (ja) * 2011-03-31 2012-11-08 Furukawa Electric Co Ltd:The 偏波分離素子および光集積素子
JP5859935B2 (ja) * 2012-09-10 2016-02-16 日本電信電話株式会社 高速カオス光信号生成光回路
JP5944845B2 (ja) * 2013-03-08 2016-07-05 日本電信電話株式会社 光信号バッファメモリ回路ならびに光信号バッファ方法
JP5944844B2 (ja) * 2013-03-08 2016-07-05 日本電信電話株式会社 光信号バッファメモリ回路ならびに光信号バッファ方法
JP6099144B2 (ja) * 2013-07-23 2017-03-22 日本電信電話株式会社 光スイッチ及び光スイッチシステム

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0887038A (ja) 1996-04-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5754714A (en) Semiconductor optical waveguide device, optical control type optical switch, and wavelength conversion device
JP6541898B2 (ja) 半導体光増幅器およびその製造方法、光位相変調器
Heck et al. Hybrid silicon photonic integrated circuit technology
US6795622B2 (en) Photonic integrated circuits
JP2809124B2 (ja) 光半導体集積素子およびその製造方法
Nagai et al. Multimode interference photonic switches (MIPS)
JP2008311536A (ja) 半導体光増幅装置、半導体光増幅システム及び半導体光集積素子
US6882758B2 (en) Current tuned Mach-Zehnder optical attenuator
JP4719115B2 (ja) 光集積素子及び波長変換方式
Asaka et al. Lossless electroabsorption modulator monolithically integrated with a semiconductor optical amplifier and a passive waveguide
JP3378376B2 (ja) 光制御型半導体光スイッチ
EP1191387B1 (en) Light-controlled light modulator
JP2019008179A (ja) 半導体光素子
JP2019079993A (ja) 半導体光素子
US7064891B2 (en) Optical wavelength converter with a semiconductor optical amplifier
JPH07191290A (ja) 半導体マッハツェンダ変調器およびその製造方法
JP3689038B2 (ja) 半導体光機能デバイス
JPH08184789A (ja) 偏波無依存波長フィルタ
EP1314333B1 (en) Integrated optical router and wavelength convertor matrix
US5394491A (en) Semiconductor optical switch and array of the same
JP3246703B2 (ja) 偏波変調可能な半導体レーザおよびこれを用いた光通信方式
US6356382B1 (en) Optical wavelength converter with active waveguide
JP3505509B2 (ja) 半導体発光素子と半導体発光装置及び半導体発光素子の変調方法
JP3490258B2 (ja) 半導体光素子及びこの偏波制御方法ならびに光集積回路
JP2971419B2 (ja) 光スイッチ

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071206

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081206

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091206

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees