JP3377976B2 - 平行光放射装置 - Google Patents
平行光放射装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学式ロータリエ
ンコーダ等の光学系センサに用いられる平行光放射装置
に関する。
ンコーダ等の光学系センサに用いられる平行光放射装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、光学式ロータリエンコーダにお
いては、各々微細なスリットを有する固定スリット板及
び可動スリット板により構成される光シャッタに向けて
平行光が照射され、これを通過する光が受光素子により
検出される。可動スリット板の回転に伴って、受光素子
の検出する光信号は、光通過時に所定の値となり、遮断
時にはほぼ０となる。このような光学式ロータリエンコ
ーダに用いられている従来の平行光放射装置は、ＬＥＤ
から放射された光をコリメータレンズによって平行化す
ることにより、平行光を得る構成である。
いては、各々微細なスリットを有する固定スリット板及
び可動スリット板により構成される光シャッタに向けて
平行光が照射され、これを通過する光が受光素子により
検出される。可動スリット板の回転に伴って、受光素子
の検出する光信号は、光通過時に所定の値となり、遮断
時にはほぼ０となる。このような光学式ロータリエンコ
ーダに用いられている従来の平行光放射装置は、ＬＥＤ
から放射された光をコリメータレンズによって平行化す
ることにより、平行光を得る構成である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の平行光放射装置においては、ＬＥＤの発光
径が、実際には無視し得ない一定の大きさを有している
ため、コリメータレンズを通した光に非平行光が含まれ
る。かかる品質の良くない平行光を上記光学式ロータリ
エンコーダに用いると、光シャッタに対して法線方向か
らの入射が確保されない。その結果、光洩れによるバッ
クグラウンドノイズが受光素子の出力レベルを全体的に
押し上げる。これにより、Ｓ／Ｎ比が悪くなって分解能
が低下する。ＬＥＤの発光径を製造上の極限まで小さく
すれば、平行精度は多少改善されるが、それでもまだ十
分ではない。また、発光径の低下と共に光強度や寿命も
低下するという弊害もあって、小さくするだけでは得策
といえない。また、従来の平行光放射装置では、ＬＥＤ
の発光部がコリメータレンズの焦点位置に正確に一致し
て配置されていることが必要である。しかしながら実際
には、ＬＥＤやコリメータレンズの取付誤差により、±
０．２ｍｍ程度のデフォーカス量（焦点位置のずれ）が
生じる。また、ＬＥＤの個体差により、ＬＥＤ取付後の
発光部の位置がコリメータレンズの光軸から３０μｍ程
度ずれることもある。これらの場合には、コリメータレ
ンズを通しても光の平行性は確保されず、高精度な平行
光は得られない。
ような従来の平行光放射装置においては、ＬＥＤの発光
径が、実際には無視し得ない一定の大きさを有している
ため、コリメータレンズを通した光に非平行光が含まれ
る。かかる品質の良くない平行光を上記光学式ロータリ
エンコーダに用いると、光シャッタに対して法線方向か
らの入射が確保されない。その結果、光洩れによるバッ
クグラウンドノイズが受光素子の出力レベルを全体的に
押し上げる。これにより、Ｓ／Ｎ比が悪くなって分解能
が低下する。ＬＥＤの発光径を製造上の極限まで小さく
すれば、平行精度は多少改善されるが、それでもまだ十
分ではない。また、発光径の低下と共に光強度や寿命も
低下するという弊害もあって、小さくするだけでは得策
といえない。また、従来の平行光放射装置では、ＬＥＤ
の発光部がコリメータレンズの焦点位置に正確に一致し
て配置されていることが必要である。しかしながら実際
には、ＬＥＤやコリメータレンズの取付誤差により、±
０．２ｍｍ程度のデフォーカス量（焦点位置のずれ）が
生じる。また、ＬＥＤの個体差により、ＬＥＤ取付後の
発光部の位置がコリメータレンズの光軸から３０μｍ程
度ずれることもある。これらの場合には、コリメータレ
ンズを通しても光の平行性は確保されず、高精度な平行
光は得られない。
【０００４】上記のような従来の問題点に鑑み、本発明
は、高精度な平行光を放射する平行光放射装置を提供す
ることを目的とする。
は、高精度な平行光を放射する平行光放射装置を提供す
ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の平行光放射装置
は、光源と、前記光源から放射された光のうち実質的に
光軸に対する平行光のみを抽出してこれを集光する選択
集光部と、前記選択集光部により焦点に収束してから拡
がる光を平行化するコリメート部とを備えたものである
（請求項１）。上記のように構成された平行光放射装置
では、選択集光部によって、光源から放射された光のう
ち実質的に光軸に対する平行光のみが集光され、焦点に
極小スポットの二次光源が形成される。この二次光源か
ら再び拡がる光を、コリメート部が平行化して放射す
る。
は、光源と、前記光源から放射された光のうち実質的に
光軸に対する平行光のみを抽出してこれを集光する選択
集光部と、前記選択集光部により焦点に収束してから拡
がる光を平行化するコリメート部とを備えたものである
（請求項１）。上記のように構成された平行光放射装置
では、選択集光部によって、光源から放射された光のう
ち実質的に光軸に対する平行光のみが集光され、焦点に
極小スポットの二次光源が形成される。この二次光源か
ら再び拡がる光を、コリメート部が平行化して放射す
る。
【０００６】また、本発明の平行光放射装置は、半導体
光源と、前記半導体光源の発光径に対して十分に大きな
距離を隔てて、前記半導体光源の光軸上の前方に配置さ
れた集光部と、前記集光部の周囲に配置され、前記集光
部に入射する光以外の光に対する全反射面を構成する遮
光部と、前記集光部の焦点位置より光軸上の前方に配置
され、当該焦点位置を焦点とするコリメート部とを備え
たものであってもよい（請求項２）。上記のように構成
された平行光放射装置では、半導体光源から放射される
光のうち集光部に入射する光は実質的に光軸と平行であ
る。また、集光部に入射する光以外の光は、遮光部の存
在により全反射し、排除される。従って、実質的に平行
光のみが集光部により集光され、焦点に極小スポットの
二次光源が形成される。この二次光源から再び拡がる光
を、コリメート部が平行化して放射する。
光源と、前記半導体光源の発光径に対して十分に大きな
距離を隔てて、前記半導体光源の光軸上の前方に配置さ
れた集光部と、前記集光部の周囲に配置され、前記集光
部に入射する光以外の光に対する全反射面を構成する遮
光部と、前記集光部の焦点位置より光軸上の前方に配置
され、当該焦点位置を焦点とするコリメート部とを備え
たものであってもよい（請求項２）。上記のように構成
された平行光放射装置では、半導体光源から放射される
光のうち集光部に入射する光は実質的に光軸と平行であ
る。また、集光部に入射する光以外の光は、遮光部の存
在により全反射し、排除される。従って、実質的に平行
光のみが集光部により集光され、焦点に極小スポットの
二次光源が形成される。この二次光源から再び拡がる光
を、コリメート部が平行化して放射する。
【０００７】上記平行光放射装置（請求項２）におい
て、集光部、遮光部及びコリメート部は一体化された光
学ユニットを構成しているものであってもよい（請求項
３）この場合、集光部、遮光部及びコリメート部の三者
間の位置関係が一定であり、取付誤差が排除される。ま
た、位置関係の調整が不要である。
て、集光部、遮光部及びコリメート部は一体化された光
学ユニットを構成しているものであってもよい（請求項
３）この場合、集光部、遮光部及びコリメート部の三者
間の位置関係が一定であり、取付誤差が排除される。ま
た、位置関係の調整が不要である。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施形態によ
る平行光放射装置を示す断面図である。図において、透
明な樹脂を成形してなるレンズ体１は、ハッチングを付
した断面形状部分の中心線を光軸Ａとする複合光学要素
であり、左方には中空部分を有している。当該レンズ体
１の右端側には非球面レンズを構成するコリメータ部１
ａが形成され、内部の左端側には円錐状の遮光部１ｂが
形成されている。図２は、図１におけるＢ部の拡大図で
あり、遮光部１ｂは光軸Ａの周りに頂角θ（９０度）を
成している。また、遮光部１ｂの円錐形における頂部１
ｃは、光軸Ａに直交する直径ｄ１の円形平面となってお
り、この平面上に直接、集光部としてのフレネルゾーン
プレート（以下、ＦＺＰという。）２が、半導体微細加
工技術等を用いて形成されている。なお、ＦＺＰ２は、
レンズに比べて微小な寸法のものを製作することが容易
であり、また、輪帯の設計により、任意の焦点距離を得
ることができる。このようにして、コリメータ部１ａ
と、遮光部１ｂと、集光部としてのＦＺＰ２とを備えて
一体化された光学ユニットが形成されている。なお、遮
光部１ｂとＦＺＰ２とによって、選択集光部が構成され
ている。
る平行光放射装置を示す断面図である。図において、透
明な樹脂を成形してなるレンズ体１は、ハッチングを付
した断面形状部分の中心線を光軸Ａとする複合光学要素
であり、左方には中空部分を有している。当該レンズ体
１の右端側には非球面レンズを構成するコリメータ部１
ａが形成され、内部の左端側には円錐状の遮光部１ｂが
形成されている。図２は、図１におけるＢ部の拡大図で
あり、遮光部１ｂは光軸Ａの周りに頂角θ（９０度）を
成している。また、遮光部１ｂの円錐形における頂部１
ｃは、光軸Ａに直交する直径ｄ１の円形平面となってお
り、この平面上に直接、集光部としてのフレネルゾーン
プレート（以下、ＦＺＰという。）２が、半導体微細加
工技術等を用いて形成されている。なお、ＦＺＰ２は、
レンズに比べて微小な寸法のものを製作することが容易
であり、また、輪帯の設計により、任意の焦点距離を得
ることができる。このようにして、コリメータ部１ａ
と、遮光部１ｂと、集光部としてのＦＺＰ２とを備えて
一体化された光学ユニットが形成されている。なお、遮
光部１ｂとＦＺＰ２とによって、選択集光部が構成され
ている。
【０００９】図１において、上記レンズ体１の左端側に
は、ＬＥＤ３を支持する円筒状の支持部１ｄが形成され
ている。ＬＥＤ３は、円盤状で、裾が鍔状に広がった取
付台３ａと、この取付台３ａの右端面の中心に取り付け
られた発光部３ｂと、この発光部３ｂと電気的に接続さ
れたリード部３ｃとを備えている。取付台３ａがレンズ
体１の支持部１ｄに内嵌されることにより、ＬＥＤ３は
レンズ体１に固定されている。ＬＥＤ３がレンズ体１に
固定された状態において、発光部３ｂの光軸は上記光学
ユニットの光軸Ａと一致する。上記発光部３ｂの直径ｄ
２すなわち発光径は、ＦＺＰ２の直径ｄ１とほぼ同じで
あり、本例では５０μｍとする。
は、ＬＥＤ３を支持する円筒状の支持部１ｄが形成され
ている。ＬＥＤ３は、円盤状で、裾が鍔状に広がった取
付台３ａと、この取付台３ａの右端面の中心に取り付け
られた発光部３ｂと、この発光部３ｂと電気的に接続さ
れたリード部３ｃとを備えている。取付台３ａがレンズ
体１の支持部１ｄに内嵌されることにより、ＬＥＤ３は
レンズ体１に固定されている。ＬＥＤ３がレンズ体１に
固定された状態において、発光部３ｂの光軸は上記光学
ユニットの光軸Ａと一致する。上記発光部３ｂの直径ｄ
２すなわち発光径は、ＦＺＰ２の直径ｄ１とほぼ同じで
あり、本例では５０μｍとする。
【００１０】図３は、図１の一部をさらに拡大した断面
図に光の進路を記載したものである。上記の構成によ
り、発光部３ｂ、ＦＺＰ２、遮光部１ｂ、コリメータ部
１ａは光軸Ａを共有し、ＦＺＰ２は発光部３ｂの光軸上
の前方に距離Ｌを隔てた位置に配置されている。この距
離Ｌは、発光部３ｂの直径ｄ２やＦＺＰ２の直径ｄ１に
対して十分に大きい（２０倍〜５０倍程度）。また、遮
光部１ｂはＦＺＰ２の周囲に配置され、光軸Ａに対して
４５度傾斜した円錐状斜面を構成している。コリメータ
部１ａはＦＺＰ２の焦点位置（焦点Ｆ）よりさらに光軸
上の前方に配置され、当該焦点位置を当該コリメータ部
１ａ自身の焦点としている。すなわち、図３において、
ＦＺＰ２の焦点距離をｆ１、コリメータ部１ａの焦点距
離をｆ２、コリメータ部１ａの有効光束径をｄ３、コリ
メータ部１ａの主点Ｐから有効光束の最外周位置までの
距離をｈとすると、 （ｆ２＋ｈ）／ｆ１＝ｄ３／ｄ２ となる。
図に光の進路を記載したものである。上記の構成によ
り、発光部３ｂ、ＦＺＰ２、遮光部１ｂ、コリメータ部
１ａは光軸Ａを共有し、ＦＺＰ２は発光部３ｂの光軸上
の前方に距離Ｌを隔てた位置に配置されている。この距
離Ｌは、発光部３ｂの直径ｄ２やＦＺＰ２の直径ｄ１に
対して十分に大きい（２０倍〜５０倍程度）。また、遮
光部１ｂはＦＺＰ２の周囲に配置され、光軸Ａに対して
４５度傾斜した円錐状斜面を構成している。コリメータ
部１ａはＦＺＰ２の焦点位置（焦点Ｆ）よりさらに光軸
上の前方に配置され、当該焦点位置を当該コリメータ部
１ａ自身の焦点としている。すなわち、図３において、
ＦＺＰ２の焦点距離をｆ１、コリメータ部１ａの焦点距
離をｆ２、コリメータ部１ａの有効光束径をｄ３、コリ
メータ部１ａの主点Ｐから有効光束の最外周位置までの
距離をｈとすると、 （ｆ２＋ｈ）／ｆ１＝ｄ３／ｄ２ となる。
【００１１】上記遮光部１ｂは、発光部３ｂから放射さ
れる光に対して全反射面を構成している。すなわち、発
光部３ｂから放射された光のうち、ＦＺＰ２に入射しな
かった光はすべて遮光部１ｂに入射して全反射し、レン
ズ体１の外へ出る。一方、発光部３ｂから放射された光
のうち、ＦＺＰ２に入射する光には、光軸Ａに対して理
想的な平行性を有する平行光と、若干光軸Ａに対して角
度を有するものとが含まれている。しかしながら、前述
のように、両者間の距離Ｌは、発光部３ｂの直径ｄ２及
びＦＺＰ２の直径ｄ１より十分に大きいため、上記角度
は非常に小さいものとなり、無視しうる。従って、ＦＺ
Ｐ２に入射する光は、実質的にすべて平行光である。こ
れらの平行光は、ＦＺＰ２のレンズ作用により焦点Ｆに
収束する。平行光のみが収束することにより、この焦点
Ｆにおいて光は、極小スポットの二次光源を形成する。
この二次光源から再び拡がった光は、コリメータ部１ａ
により平行化され、レンズ体１の右端側から外部に放射
される。このようにして、高精度な平行光束を得ること
ができる。また、発光部３ｂの大きさに相当する平行光
がＦＺＰ２によって集光されるため、ピンホールにより
平行光を抽出する場合等と比較して、焦点Ｆにおける光
強度が高い。従って、最終的に放射される平行光も、高
い光強度を有する。
れる光に対して全反射面を構成している。すなわち、発
光部３ｂから放射された光のうち、ＦＺＰ２に入射しな
かった光はすべて遮光部１ｂに入射して全反射し、レン
ズ体１の外へ出る。一方、発光部３ｂから放射された光
のうち、ＦＺＰ２に入射する光には、光軸Ａに対して理
想的な平行性を有する平行光と、若干光軸Ａに対して角
度を有するものとが含まれている。しかしながら、前述
のように、両者間の距離Ｌは、発光部３ｂの直径ｄ２及
びＦＺＰ２の直径ｄ１より十分に大きいため、上記角度
は非常に小さいものとなり、無視しうる。従って、ＦＺ
Ｐ２に入射する光は、実質的にすべて平行光である。こ
れらの平行光は、ＦＺＰ２のレンズ作用により焦点Ｆに
収束する。平行光のみが収束することにより、この焦点
Ｆにおいて光は、極小スポットの二次光源を形成する。
この二次光源から再び拡がった光は、コリメータ部１ａ
により平行化され、レンズ体１の右端側から外部に放射
される。このようにして、高精度な平行光束を得ること
ができる。また、発光部３ｂの大きさに相当する平行光
がＦＺＰ２によって集光されるため、ピンホールにより
平行光を抽出する場合等と比較して、焦点Ｆにおける光
強度が高い。従って、最終的に放射される平行光も、高
い光強度を有する。
【００１２】また、上記のように、距離Ｌが発光部３ｂ
の直径ｄ２及びＦＺＰ２の直径ｄ１より十分に大きい関
係を構築することによって、実質的に平行光のみを抽出
する構成によれば、距離Ｌを十分に確保すれば発光径を
さほど小さくしなくてもよいことになる。このため、本
例のように、発光径５０μｍのＬＥＤ３の採用が可能と
なる。なお、発光径５０μｍ以下のＬＥＤも製造可能で
あるが、光強度や寿命の低下があるので、現状のＬＥＤ
では、発光径５０μｍ程度のものを採用することが好ま
しいと考えられる。
の直径ｄ２及びＦＺＰ２の直径ｄ１より十分に大きい関
係を構築することによって、実質的に平行光のみを抽出
する構成によれば、距離Ｌを十分に確保すれば発光径を
さほど小さくしなくてもよいことになる。このため、本
例のように、発光径５０μｍのＬＥＤ３の採用が可能と
なる。なお、発光径５０μｍ以下のＬＥＤも製造可能で
あるが、光強度や寿命の低下があるので、現状のＬＥＤ
では、発光径５０μｍ程度のものを採用することが好ま
しいと考えられる。
【００１３】また、コリメータ部１ａ及び遮光部１ｂ
は、樹脂で一体成形されており、ＦＺＰ２はその上に直
接形成された要素であるため、これらの位置関係は常に
一定に保たれる。従って、取付誤差を排除することがで
きる。一方、ＬＥＤ３はレンズ体１に嵌めこまれるた
め、取付誤差が生じる可能性はあるが、発光部３ｂとＦ
ＺＰ２との距離が変化しても、その間の光は平行光若し
くは平行光とみなせる光であるため、ＦＺＰ２の焦点位
置は変わらない。従って、仮にＬＥＤ３の取付誤差が生
じたとしても、何ら影響を受けることなく、コリメータ
部１ａから平行光を放射することができる。また、仮に
発光部３ｂの位置が光軸Ａと直交する方向にずれたとし
ても、ＦＺＰ２に入射する光は平行光若しくは平行光と
みなせる光であることに変わりがない。従って、この場
合にも、コリメータ部１ａから平行光を放射することが
できる。
は、樹脂で一体成形されており、ＦＺＰ２はその上に直
接形成された要素であるため、これらの位置関係は常に
一定に保たれる。従って、取付誤差を排除することがで
きる。一方、ＬＥＤ３はレンズ体１に嵌めこまれるた
め、取付誤差が生じる可能性はあるが、発光部３ｂとＦ
ＺＰ２との距離が変化しても、その間の光は平行光若し
くは平行光とみなせる光であるため、ＦＺＰ２の焦点位
置は変わらない。従って、仮にＬＥＤ３の取付誤差が生
じたとしても、何ら影響を受けることなく、コリメータ
部１ａから平行光を放射することができる。また、仮に
発光部３ｂの位置が光軸Ａと直交する方向にずれたとし
ても、ＦＺＰ２に入射する光は平行光若しくは平行光と
みなせる光であることに変わりがない。従って、この場
合にも、コリメータ部１ａから平行光を放射することが
できる。
【００１４】なお、上記実施形態においては、全反射に
より不要な光を排除する遮光部１ｂを設けたが、これに
代えて、平行光が入射する領域以外に遮光マスクを設け
ることにより遮光する構成を採用することも可能であ
る。但し、遮光マスクを設けるには、そのための別工程
が必要であり、また、マスクの形成精度を確保すること
が必ずしも容易ではない。その点、レンズ体１の一部と
して形成される遮光部１ｂは、別工程を必要とせず、遮
光面の精度確保も容易である。また、上記実施形態では
ＬＥＤ３を光源としたが、レーザダイオード等の他の半
導体光源を用いてもよい。ロータリエンコーダ等の小型
機器に限らず、大型の平行光放射装置に適用する場合に
は、他の光源を用いることも可能である。さらに、集光
部としてＦＺＰ２を用いたが、バイナリゾーンプレート
を用いることも可能である。
より不要な光を排除する遮光部１ｂを設けたが、これに
代えて、平行光が入射する領域以外に遮光マスクを設け
ることにより遮光する構成を採用することも可能であ
る。但し、遮光マスクを設けるには、そのための別工程
が必要であり、また、マスクの形成精度を確保すること
が必ずしも容易ではない。その点、レンズ体１の一部と
して形成される遮光部１ｂは、別工程を必要とせず、遮
光面の精度確保も容易である。また、上記実施形態では
ＬＥＤ３を光源としたが、レーザダイオード等の他の半
導体光源を用いてもよい。ロータリエンコーダ等の小型
機器に限らず、大型の平行光放射装置に適用する場合に
は、他の光源を用いることも可能である。さらに、集光
部としてＦＺＰ２を用いたが、バイナリゾーンプレート
を用いることも可能である。
【００１５】
【発明の効果】以上のように構成された本発明は以下の
効果を奏する。請求項１の平行光放射装置によれば、実
質的に光軸に対する平行光のみを集光した極小スポット
の二次光源が形成され、この二次光源から再び拡がる光
を平行化して放射するので、正確な平行光を放射するこ
とができる。また、集光によって形成された二次光源は
光強度が高いため、放射される平行光も高い光強度を有
する。
効果を奏する。請求項１の平行光放射装置によれば、実
質的に光軸に対する平行光のみを集光した極小スポット
の二次光源が形成され、この二次光源から再び拡がる光
を平行化して放射するので、正確な平行光を放射するこ
とができる。また、集光によって形成された二次光源は
光強度が高いため、放射される平行光も高い光強度を有
する。
【００１６】請求項２の平行光放射装置によれば、集光
部に入射する光以外の光は全反射により排除され、実質
的に光軸に対する平行光のみを集光した極小スポットの
二次光源から再び拡がる光を平行化して放射するので、
正確な平行光を放射することができる。また、集光によ
って形成された二次光源は光強度が高いため、放射され
る平行光も高い光強度を有する。
部に入射する光以外の光は全反射により排除され、実質
的に光軸に対する平行光のみを集光した極小スポットの
二次光源から再び拡がる光を平行化して放射するので、
正確な平行光を放射することができる。また、集光によ
って形成された二次光源は光強度が高いため、放射され
る平行光も高い光強度を有する。
【００１７】請求項３の平行光放射装置によれば、集光
部、遮光部及びコリメート部の三者間の位置関係が一定
であり、取付誤差が排除されるので、取付誤差に基づく
平行光の精度低下を防止して、一定品質の平行光を提供
することができる。また、位置関係の調整が不要である
ため、製造が容易である。
部、遮光部及びコリメート部の三者間の位置関係が一定
であり、取付誤差が排除されるので、取付誤差に基づく
平行光の精度低下を防止して、一定品質の平行光を提供
することができる。また、位置関係の調整が不要である
ため、製造が容易である。
【図１】本発明の一実施形態による平行光放射装置を示
す断面図である。
す断面図である。
【図２】図１のＢ部の拡大図である。
【図３】図１の一部をさらに拡大した断面図に光の進路
を記載したものである。
を記載したものである。
１ レンズ体
１ａ コリメート部
１ｂ 遮光部
２ ＦＺＰ（フレネルゾーンプレート）
３ ＬＥＤ
３ｂ 発光部
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平８−29735（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−139367（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 27/30
Claims (3)
- 【請求項１】光源と、 前記光源から放射された光のうち実質的に光軸に対する
平行光のみを抽出してこれを集光する選択集光部と、 前記選択集光部により焦点に収束してから拡がる光を平
行化するコリメート部とを備えたことを特徴とする平行
光放射装置。 - 【請求項２】半導体光源と、 前記半導体光源の発光径に対して十分に大きな距離を隔
てて、前記半導体光源の光軸上の前方に配置された集光
部と、 前記集光部の周囲に配置され、前記集光部に入射する光
以外の光に対する全反射面を構成する遮光部と、 前記集光部の焦点位置より光軸上の前方に配置され、当
該焦点位置を焦点とするコリメート部とを備えたことを
特徴とする平行光放射装置。 - 【請求項３】前記集光部、遮光部及びコリメート部は一
体化された光学ユニットを構成している請求項２記載の
平行光放射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000036949A JP3377976B2 (ja) | 2000-02-15 | 2000-02-15 | 平行光放射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000036949A JP3377976B2 (ja) | 2000-02-15 | 2000-02-15 | 平行光放射装置 |
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