JP3377153B2 - Ｘｙステージの制御方法および装置 - Google Patents

Ｘｙステージの制御方法および装置

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JP3377153B2
JP3377153B2 JP02490596A JP2490596A JP3377153B2 JP 3377153 B2 JP3377153 B2 JP 3377153B2 JP 02490596 A JP02490596 A JP 02490596A JP 2490596 A JP2490596 A JP 2490596A JP 3377153 B2 JP3377153 B2 JP 3377153B2
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、一定速度で駆動
する区間を目標軌跡に持つようなＸＹステージ、例えば
走査型半導体露光投影装置のＸＹステージの制御に有効
な走査目標軌跡生成装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】２次元平面上の精密位置決めにはＸＹス
テージが一般によく用いられる。半導体露光投影装置で
は、ウエハ上の露光位置を所望の位置に動かすために、
ウエハステージとしてＸＹステージが利用される。一定
速度で走査を行なう走査型半導体露光投影装置の場合に
は、露光区間においてレチクルステージとウエハステー
ジを高精度に同期させる制御が必要である。また、露光
量を一定に保つ必要があるために、いずれのステージも
一定速度で走査することが重要である。
【０００３】露光区間で一定速度を維持するためには、
ＸＹステージを加速して、露光区間に達する前にあらか
じめ定められた整定条件が満たされ、露光区間中も整定
条件を維持しなければならない。この整定条件は、露光
量のコントラストなどの諸条件から決定される。条件の
例としては、ＸＹステージが速度制御によって動作して
いる場合には、目標速度とＸＹステージの速度の偏差が
一定時間ある許容範囲内にあることが、挙げられる。
【０００４】ところが、一般にＸＹステージの制御特性
は、ＸＹ座標値によって変化するため、過渡応答も変化
して加速整定時間がウエハ上の各露光位置によってばら
ついてしまう。加速整定時間の最大値に合わせて目標軌
跡を決めると、ウエハ全体を走査するのに時間がかかっ
てしまい、スループットに悪影響を及ぼす。そこでこの
特性変化を補償するために、ＸＹ座標系をインデックス
とするゲインテーブルを用い、ＸＹステージの場所に応
じてゲインを変える方法がよく用いられる。あるいは適
応制御を適用して制御特性の変化を吸収するような手法
も用いられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ゲイン
テーブルを用いたとしても制御特性の変化を完全に吸収
することは不可能であり、ＸＹステージが整定条件を満
たすまでの時間である整定時間のばらつきは除去しきれ
ない。この問題は適応制御によってある程度は補償でき
るが、制御系が複雑になるという欠点がある。
【０００６】本発明の目的は、この従来技術の問題点に
鑑み、簡単な構成で整定時間のばらつきによる問題を解
決し、効率的なＸＹステージの制御が行なえるようにす
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明では、１つの走査区間が加速、整定待ち、および
定速走行の各区間を含む複数の走査区間を有し、前記整
定待ち区間における整定時間を各走査区間で所定の値と
した目標軌跡に基づいて位置または速度目標値を生成
し、この目標値に従ってＸＹステージを駆動するＸＹス
テージ制御方法または装置において、前記目標軌跡を、
テーブルに記憶した各走査区間毎の整定時間に基づいて
修正することを特徴とする。
【０００８】前記目標軌跡の修正は例えば、ある走査区
間に対応するテーブルの整定時間が前記所定の整定時間
より大きい場合は、それらの差の時間にＸＹステージが
移動する距離の分だけ１つ前の走査区間の最終目標位置
をその走査区間の開始位置から遠ざけ、前記ある走査区
間に対応するテーブルの整定時間が前記一定の整定時間
より小さい場合は、それらの差の時間にＸＹステージが
移動する距離の分だけ１つ前の走査区間の最終目標位置
をその走査区間の開始位置に近づけることにより行うこ
とができる。
【０００９】あるいは、前記目標軌跡の修正は、ある走
査区間に対応するテーブルの整定時間が前記所定の整定
時間より大きい場合は、それらの差の時間にＸＹステー
ジが移動する距離の分だけその走査区間の開始位置をそ
の走査区間の最終目標位置から遠ざけ、その走査区間に
対応するテーブルの整定時間が前記所定の整定時間より
小さい場合は、それらの差の時間にＸＹステージが移動
する距離の分だけその走査区間の開始位置をその走査区
間の最終目標位置に近づけることにより行うこともでき
る。
【００１０】ここで、前記整定時間とは例えば、所定の
時間、ＸＹステージの位置または速度と位置または速度
目標値との誤差が所定の値よりも小さいという条件を満
たすまでに要する時間である。あるいは、所定の時間、
ＸＹステージの位置または速度と位置または速度目標値
との誤差の移動平均値が所定の値よりも小さいという条
件を満たすまでに要する時間である。
【００１１】なお、前記修正した目標軌跡に基づいてＸ
Ｙステージを駆動した場合の整定時間を計測し、これを
対応する前記テーブルの整定時間と比較した結果に応じ
てＸＹステージを緊急停止するようにしてもよい。
【００１２】さらに本発明では、各走査区間ごとの整定
時間を走査駆動時に計測し、この値を代入することによ
って前記テーブルの走査区間毎の整定時間を修正するの
が好ましい。
【００１３】この修正は、例えば、各走査区間ごとの整
定時間を走査駆動時に計測し、この値に所定の値を加え
たものを代入することによって行なうことができる。あ
るいは、前記各計測値が対応する前記テーブルの各整定
時間を含む所定の範囲を越えた値である場合にその値を
代入することによって行うことができる。さらには、各
走査区間ごとの整定時間を走査駆動時に所定回数計測し
てその平均値を求め、この平均値に応じて前記テーブル
の走査区間毎の整定時間を修正するようにしてもよい。
【００１４】前記テーブルは、各走査区間毎の整定時間
に応じた値を含む開区間を指し示すインデックスのテー
ブルを有するものであってもよい。この場合、各走査区
間ごとの整定時間を走査駆動時に計測し、この値に所定
の値を加えた加算値が、対応する前記開区間の上限の値
よりも大きい場合、あるいは対応する前記開区間の下限
の値よりも小さい場合に、その加算値を含む開区間を指
し示すインデックスを代入することにより前記テーブル
を修正することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
［実施形態１］図１は、本発明の第１の実施形態に係る
走査型半導体製造装置におけるＸＹステージ制御装置の
ブロック図である。同図において、３はデータ等の格納
を行なうメモリ、１はメモリ３に格納されたＸＹステー
ジの２次元平面上の目標軌跡、２はメモリ３に格納され
た走査区間毎のあらかじめ測定された整定時間を走査順
に並べた整定時間テーブル、２２は目標軌跡１およびテ
ーブル２に基づいてＸＹステージの走査区間の走査開始
位置を算出する走査開始位置生成手段、５はＸステージ
の現在時刻での目標位置を生成するＸ軸位置目標値生成
手段、６はＹステージの現在時刻での目標位置を生成す
るＹ軸位置目標値生成手段、７はＸ軸位置偏差とＹ軸位
置偏差から整定判定を行なう整定判定手段、１１はＸ軸
コントローラ、１２はＹ軸コントローラ、１３はＸ軸ド
ライバ、１４はＹ軸ドライバ、１５はＸ軸アクチュエー
タ、１６はＹ軸アクチュエータ、１７は駆動対象である
Ｘステージ、１８は駆動対象であるＹステージ、１９は
Ｘステージ１７とＹステージ１８とから構成されるＸＹ
ステージ、２０はＸステージ１７の位置を検出する手段
であるＸ軸レーザ干渉計、２１はＹステージ１８の位置
を検出する手段であるＹ軸レーザ干渉計である。
【００１６】以上のように構成されたＸＹステージ制御
装置の動作について説明する。
【００１７】Ｘステージ１７の位置がＸ軸レーザ干渉計
２０によって検出され、この位置とＸ軸位置目標値生成
手段５の生成したＸ軸位置目標値との偏差がＸ軸コント
ローラ１１へ入力される。Ｘ軸コントローラ１１は制御
演算を行ない、演算結果をＸ軸ドライバ１３へ出力す
る。Ｘ軸ドライバ１３はデジタル／アナログ変換を行な
い、さらに電流増幅を行なってＸ軸アクチュエータ１５
を駆動し、Ｘ軸アクチュエータ１５と機械的に接続され
ているＸステージ１７を駆動する。
【００１８】Ｙ軸についてもＸ軸と同様である。Ｙステ
ージ１８の位置がＹ軸レーザ干渉計２１によって検出さ
れ、この位置とＹ軸位置目標値生成手段６の生成したＹ
軸位置目標値との偏差がＹ軸コントローラ１２へ入力さ
れる。Ｙ軸コントローラ１２は制御演算を行ない、演算
結果をＹ軸ドライバ１４へ出力する。Ｙ軸ドライバ１４
はデジタル／アナログ変換を行ない、さらに電流増幅を
行なってＹ軸アクチュエータ１６を駆動し、Ｙ軸アクチ
ュエータ１６と機械的に接続されているＹステージ１８
を駆動する。結果として、ＸＹステージ１９を所望の位
置に制御することができる。
【００１９】Ｘ軸位置目標値生成手段５は、メモリ３に
格納されている目標加速度、目標速度および目標位置
と、走査開始位置生成手段２２の算出したＸ軸走査開始
位置とから数１式に従って現在時刻におけるＸ軸位置目
標値を計算する。
【００２０】
【数１】 Ｙ軸位置目標値生成手段６は、メモリ３に格納されてい
る目標加速度、目標速度および目標位置と、走査開始位
置生成手段２２の算出したＹ軸走査開始位置とから数２
式に従って現在時刻におけるＹ軸位置目標値を計算す
る。
【００２１】
【数２】 図２は、位置目標値生成手段５、６が生成する台形状速
度パターンの目標位置を示したものである。図２には目
標位置パターンの速度成分と加速度成分を同時に示して
いる。
【００２２】目標軌跡１は、整定時間がすべての走査区
間で同じ値Ｔs であるとしてあらかじめ生成してメモリ
３に格納したものである。図３は、目標軌跡１を２次元
平面上にプロットしたものの一部を示している。図中、
Ｓn はｎ番目の走査区間の走査開始位置、Ｅn はｎ番目
の走査終了位置を示す。走査区間は加速、整定待ち、露
光、空走および減速の各要素で構成される。露光中、Ｘ
Ｙステージ１９は一定速度を維持するように制御が行な
われる。整定時間テーブル２は、すべての走査区間につ
いてＸＹステージ１９の整定時間ｔn （ｎ＝１〜Ｎ，Ｎ
は走査区間の総数）をあらかじめ計測した結果をメモリ
３に格納したものである。
【００２３】走査開始位置生成手段２２は数３式に従っ
て目標軌跡の修正を行なう。
【００２４】
【数３】 ただし、σは１以上の実数である安全係数、Ｖs は走査
速度である。
【００２５】正方向に走査する場合は、Ｖs ＞０である
から、ｔn ＞Ｔs の場合は、数３式の右辺第２項は正と
なり、新たな走査開始位置Ｓn は負方向すなわち走査終
了位置から遠ざける方向に修正され、ｔn ＜Ｔs の場合
は、数３式の右辺第２項は負となり、新たな走査開始位
置Ｓn は正方向すなわち走査終了位置に近づく方向に修
正される。負方向に走査する場合は、Ｖs ＜０であるか
ら、ｔn ＞Ｔs の場合は、数３式の右辺第２項は負とな
り、新たな走査開始位置Ｓn は正方向すなわち走査終了
位置から遠ざける方向に修正され、ｔn ＜Ｔs の場合
は、数３式の右辺第２項は正となり、新たな走査開始位
置Ｓn は負方向すなわち走査終了位置に近づく方向に修
正される。図４は、右方向を正として、正方向への走査
で、かつ、ｔn ＞Ｔs の場合の目標軌跡の修正を２次元
平面上で例示したものである。
【００２６】走査開始位置生成手段２２、Ｘ軸位置目標
値生成手段５、Ｙ軸位置目標値生成手段６、Ｘ軸コント
ローラ１１、Ｙ軸コントローラ１２および整定判定手段
７は、図示しないＣＰＵのアルゴリズムとして実現して
いる。
【００２７】この装置によって、テーブル２の値として
格納された実際の整定時間とあらかじめ定めた整定時間
が一致しない場合には、その分加速開始位置をずらすこ
とによって、ＸＹステージ１９が完全に整定した状態で
露光を行なうことができ、ウエハ全面スキャンに必要な
時間を短縮することができる。
【００２８】なお上述では、図３のような走査目標軌跡
を用いているが、図５のように、露光が終わった時点で
スキャン方向に垂直な方向への移動を開始するような目
標軌跡を使用しても構わない。
【００２９】また上述では、位置制御系を構成している
が、加速・定速・減速開始部分で速度制御系を構成し
て、減速終了部分で位置制御系に切り替えるような構成
であってもよい。この場合には、目標速度とＸＹステー
ジ１９の速度の偏差が一定時間ある許容範囲内にある、
という整定判定条件を用いる。
【００３０】また、さらに、実際の整定時間がテーブル
２の値に比べてあらかじめ定めた許容範囲を越えて大き
いかあるいは小さい場合には、何らかの異常が起こった
ものと判断してＸＹステージ１９を緊急停止するような
制御方法を用いることもできる。
【００３１】［実施形態２］図６は、本発明の第２の実
施形態に係る走査型半導体製造装置におけるＸＹステー
ジ制御装置のブロック図である。この装置は、図１のも
のに対し、整定判定手段７の出力に基づいて整定時間を
求める整定時間計測手段８、この整定時間を求める際に
使用するタイマ９、整定時間計測手段８が計測する整定
時間に基づいてテーブル２の値を修正するテーブル修正
手段をさらに備える。目標軌跡修正手段４は図１のもの
の走査開始位置生成手段２２と同じ機能を有する。その
他の構成は図１のものと同じである。
【００３２】ここでは、テーブル２は、テーブル修正手
段１０によって計算された整定時間ｔn の値を格納す
る。そしてこの値を参照し、実施形態１の場合と同様に
して、目標値軌跡修正手段４は数４式に従って走査開始
位置Ｓn の修正を行い、修正したＸ軸位置目標値および
Ｙ軸位置目標値をＸ軸位置目標値生成手段５およびＹ軸
位置目標値生成手段６へ出力する。なお、数４式は、安
全係数σを有していない点のみ、数３式と異なる。
【００３３】
【数４】 テーブル２の整定時間ｔn の修正は次のようにして行
う。すなわち、整定判定手段７は、Ｘ軸位置制御偏差と
Ｙ軸位置制御偏差との両方が所定時間、所定範囲内に収
まっているかどうかを監視して整定判定を行ない、その
判定結果を整定時間計測手段８に伝達する。整定時間計
測手段８は、加速終了時にタイマ９を“０”にセット
し、整定判定手段７によってＸＹステージ１９が整定し
たと判定されるまでの時間を計測する。テーブル修正手
段１０は、ｎ番目の走査区間について（ｎ＝１〜Ｎ，Ｎ
は走査区間の総数）、整定時間計測手段８によって計測
された整定時間を用い、過去Ｍ回（Ｍは所定の自然数）
の整定時間計測値の平均値Ｔanに所定の値Ｔt を加えた
値Ｔenとテーブル２の要素Ｔbnとの大小比較を行ない、
Ｔen＞ＴbnあるいはＴen＜Ｔbn−Ｔr （Ｔr は所定のし
きい値）ならばＴenをテーブル２の値ｔn に代入するこ
とによってテーブルの値を修正する。
【００３４】なお、この場合も、目標軌跡修正手段４、
Ｘ軸位置目標値生成手段５、Ｙ軸位置目標値生成手段
６、整定判定手段７、整定時間計測手段８、タイマ９、
テーブル修正手段１０、Ｘ軸位置コントローラ１１およ
びＹ軸位置コントローラ１２は図示しないＣＰＵのアル
ゴリズムとして実現している。
【００３５】この装置によれば、実施形態１の場合と同
様にウエハ全面スキャンに必要な時間を短縮することが
できることに加え、ＸＹステージ１９などの制御特性が
変化し整定時間が変動しても、それに応じた目標軌跡の
修正が行なわれるため、露光区間では必ずＸＹステージ
１９を整定させることができ、露光の失敗を防止するこ
とができる。
【００３６】［実施形態３］本実施形態では、テーブル
２に時間値を格納する代わりに、開区間を指し示すイン
デックスを格納する。この場合、開区間は、整定時間の
取り得る値の範囲を覆うことができるようにあらかじめ
定める。そして、計測した整定時間の値にしきい値を加
算した結果が現在のインデックスの指す開区間の下限よ
りも小さい場合には、加算結果を含む開区間の中で現在
の開区間の下限の次に小さな下限を持つ開区間を指すイ
ンデックスをテーブル２に格納する。加算結果が現在の
インデックスの指す開区間の上限よりも大きな場合に
は、加算結果を含む開区間の中で現在の開区間の上限の
次に大きな上限を持つ開区間を指すインデックスをテー
ブル２に格納する。それ以外の場合には、テーブル２の
内容の更新を行なわない。加算結果が現在のインデック
スの指す開区間の上限よりも大きな場合のインデックス
の更新の様子を図７に示す。本実施形態では、目標軌跡
修正手段４はｔn としてインデックスの指す開区間の上
限の値を使用して走査開始位置Ｓn の修正をし、これを
すべての走査区間に対して行なう。これによって、整定
時間の細かい変動があっても目標軌跡の修正は行なわれ
ないので、計算量が実施形態１や２の場合よりも少なく
て済むという利点がある。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
あらかじめ一定の整定時間を仮定して生成した走査目標
軌跡を実際の整定時間テーブルの値を用いて修正するよ
うにしたため、複雑なコントローラを構成することなく
簡単なアルゴリズムの追加によって、走査に必要な時間
を短縮化するとともに、走査区間でＸＹステージが完全
に整定した状態にすることができる。
【００３８】また、あらかじめ整定時間を仮定して生成
した走査目標軌跡に対して、走査を行なうごとに整定時
間を計測し、あらかじめ仮定した整定時間とのずれを、
走査目標軌跡を修正して吸収するので、制御特性の変化
に対応することができる。また、走査目標軌跡の自動調
整も可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施形態に係る走査型半導体
製造装置におけるＸＹステージ制御装置のブロック図で
ある。
【図２】 図１の装置における位置目標値生成手段が生
成する台形状速度パターンの目標位置を示す図である。
【図３】 図１の装置における走査目標軌跡をＸＹステ
ージのＸＹ平面上で示す図である。
【図４】 図１の装置における目標軌跡の修正を説明す
る図である。
【図５】 図１の装置における他の走査目標軌跡をＸＹ
ステージのＸＹ平面上で示す図である。
【図６】 本発明の第２の実施形態に係る走査型半導体
製造装置におけるＸＹステージ制御装置のブロック図で
ある。
【図７】 加算結果が現在のインデックスの指す開区間
の上限よりも大きな場合のインデックスの更新の様子を
示す図である。
【符号の説明】
１：目標軌跡、２：整定時間テーブル、３：メモリ、
４：目標軌跡修正手段、５：Ｘ軸位置目標値生成手段、
６：Ｙ軸位置目標値生成手段、７：整定判定手段、８：
整定時間計測手段、９：タイマ、１０：テーブル修正手
段、１１：Ｘ軸位置コントローラ、１２：Ｙ軸位置コン
トローラ、１３：Ｘ軸ドライバ、１４：Ｙ軸ドライバ、
１５：Ｘ軸アクチュエータ、１６：Ｙ軸アクチュエー
タ、１７：Ｘステージ、１８：Ｙステージ、１９：ＸＹ
ステージ、２０：Ｘ軸レーザ干渉計、２１：Ｙ軸レーザ
干渉計、２２：走査開始位置生成手段。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１６Ｂ ５１８ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/20 G03F 9/00 G12B 5/00 G05D 3/00

Claims (13)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 １つの走査区間が加速、整定待ち、およ
    び定速走行の各区間を含む複数の走査区間を有し、前記
    整定待ち区間における整定時間を各走査区間で所定の値
    とした目標軌跡に基づいて位置または速度目標値を生成
    し、この目標値に従ってＸＹステージを駆動するＸＹス
    テージ制御方法において、前記目標軌跡を、テーブルに
    記憶した各走査区間毎の整定時間に基づいて修正するこ
    とを特徴とするＸＹステージ制御方法。
  2. 【請求項２】 前記目標軌跡の修正は、ある走査区間に
    対応するテーブルの整定時間が前記所定の整定時間より
    大きい場合は、それらの差の時間にＸＹステージが移動
    する距離の分だけ１つ前の走査区間の最終目標位置をそ
    の走査区間の開始位置から遠ざけ、前記ある走査区間に
    対応するテーブルの整定時間が前記所定の整定時間より
    小さい場合は、それらの差の時間にＸＹステージが移動
    する距離の分だけ１つ前の走査区間の最終目標位置をそ
    の走査区間の開始位置に近づけることにより行うことを
    特徴とする請求項１記載のＸＹステージ制御方法。
  3. 【請求項３】 前記目標軌跡の修正は、ある走査区間に
    対応するテーブルの整定時間が前記所定の整定時間より
    大きい場合は、それらの差の時間にＸＹステージが移動
    する距離の分だけその走査区間の開始位置をその走査区
    間の最終目標位置から遠ざけ、その走査区間に対応する
    テーブルの整定時間が前記所定の整定時間より小さい場
    合は、それらの差の時間にＸＹステージが移動する距離
    の分だけその走査区間の開始位置をその走査区間の最終
    目標位置に近づけることにより行うことを特徴とする請
    求項１記載のＸＹステージ制御方法。
  4. 【請求項４】 前記整定時間は、所定の時間、ＸＹステ
    ージの位置または速度と位置または速度目標値との誤差
    が所定の値よりも小さいという条件を満たすまでに要す
    る時間であることを特徴とする請求項１〜３記載のＸＹ
    ステージ制御方法。
  5. 【請求項５】 前記整定時間は、所定の時間、ＸＹステ
    ージの位置または速度と位置または速度目標値との誤差
    の移動平均値が所定の値よりも小さいという条件を満た
    すまでに要する時間であることを特徴とする請求項１〜
    ３記載のＸＹステージ制御方法。
  6. 【請求項６】 前記修正した目標軌跡に基づいてＸＹス
    テージを駆動した場合の整定時間を計測し、これを対応
    する前記テーブルの整定時間と比較した結果に応じてＸ
    Ｙステージを緊急停止することを特徴とする請求項１〜
    ５記載のＸＹステージ制御方法。
  7. 【請求項７】 各走査区間ごとの整定時間を走査駆動時
    に計測し、この値を代入することによって前記テーブル
    の走査区間毎の整定時間を修正することを特徴とする請
    求項１〜６記載のＸＹステージ制御方法。
  8. 【請求項８】 各走査区間ごとの整定時間を走査駆動時
    に計測し、この値に所定の値を加えたものを代入するこ
    とによって前記テーブルの走査区間毎の整定時間を修正
    することを特徴とする請求項１〜６記載のＸＹステージ
    制御方法。
  9. 【請求項９】 各走査区間ごとの整定時間を走査駆動時
    に計測し、この各値が対応する前記テーブルの各整定時
    間を含む所定の範囲を越えた値である場合にその値を代
    入することによって対応する前記テーブルの整定時間を
    修正することを特徴とする請求項１〜６記載のＸＹステ
    ージ制御方法。
  10. 【請求項１０】 各走査区間ごとの整定時間を走査駆動
    時に所定回数計測してその平均値を求め、この平均値に
    応じて前記テーブルの走査区間毎の整定時間を修正する
    ことを特徴とする請求項１〜６記載のＸＹステージ制御
    方法。
  11. 【請求項１１】 前記テーブルは、各走査区間毎の整定
    時間に応じた値を含む開区間を指し示すインデックスの
    テーブルを有し、各走査区間ごとの整定時間を走査駆動
    時に計測し、この値に所定の値を加えた加算値が、対応
    する前記開区間の上限の値よりも大きい場合、あるいは
    対応する前記開区間の下限の値よりも小さい場合に、そ
    の加算値を含む開区間を指し示すインデックスを代入す
    ることにより前記テーブルを修正することを特徴とする
    請求項１記載のＸＹステージ制御方法。
  12. 【請求項１２】 １つの走査区間が加速、整定待ち、お
    よび定速走行の各区間を含む複数の走査区間を有し、前
    記整定待ち区間における整定時間を各走査区間で所定の
    値とした目標軌跡に基づいて位置または速度目標値を生
    成し、この目標値に従ってＸＹステージを駆動するＸＹ
    ステージ制御装置において、前記目標軌跡を、テーブル
    に記憶した各走査区間毎の整定時間に基づいて修正する
    手段を有することを特徴とするＸＹステージ制御装置。
  13. 【請求項１３】 各走査区間ごとの整定時間を走査駆動
    時に計測する手段と、この値に基づいて前記テーブルの
    走査区間毎の整定時間を修正する手段とを備えることを
    特徴とする請求項１２記載のＸＹステージ制御装置。
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