JP3373713B2 - 空気抜きシステムを有するフォトレジスト供給システム - Google Patents
空気抜きシステムを有するフォトレジスト供給システムInfo
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- JP3373713B2 JP3373713B2 JP00922096A JP922096A JP3373713B2 JP 3373713 B2 JP3373713 B2 JP 3373713B2 JP 00922096 A JP00922096 A JP 00922096A JP 922096 A JP922096 A JP 922096A JP 3373713 B2 JP3373713 B2 JP 3373713B2
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B9/02—Cleaning pipes or tubes or systems of pipes or tubes
- B08B9/027—Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B9/02—Cleaning pipes or tubes or systems of pipes or tubes
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- B08B9/032—Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages by the mechanical action of a moving fluid, e.g. by flushing
- B08B9/0321—Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages by the mechanical action of a moving fluid, e.g. by flushing using pressurised, pulsating or purging fluid
- B08B9/0327—Cleaning the internal surfaces; Removal of blockages by the mechanical action of a moving fluid, e.g. by flushing using pressurised, pulsating or purging fluid the fluid being in the form of a mist
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特にフォトレジス
ト供給システムにおける液体搬送導管から空気を抜き取
るシステムに関するものである。具体的には、空気抜き
処理後に導管内に存在する残留レジストによる汚染の可
能性を低下させるための空気抜きシステム、およびその
他の改良に関するものである。
ト供給システムにおける液体搬送導管から空気を抜き取
るシステムに関するものである。具体的には、空気抜き
処理後に導管内に存在する残留レジストによる汚染の可
能性を低下させるための空気抜きシステム、およびその
他の改良に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】フォトレジスト供給システムは、集積回
路を製造する際に必要なフォトグラフィック工程を備え
た装置にフォトレジストを供給するために用いられる。
かかるシステムにおいて共通する問題点は、フォトレジ
ストから放出されるか、あるいはボトル切り替え時など
において他の経路からシステムに混入される過剰な空
気、窒素、もしくは他の気体をいかにして処理するかと
いうことである。ミクロガス泡はキーフィルター要素を
塞いでしまい、あるいはシステムにより吸い上げられた
レジストを泡立たせ、供給されるレジストの質を損なう
可能性がある。大量の気体が混入することで、全体とし
てレジストの流れが妨げられかねない。いずれにせよ、
システムから過剰の気体を取り除くためには、手動によ
る冗長な操作が必要であり、それらの操作は成功しない
のが常であった。
路を製造する際に必要なフォトグラフィック工程を備え
た装置にフォトレジストを供給するために用いられる。
かかるシステムにおいて共通する問題点は、フォトレジ
ストから放出されるか、あるいはボトル切り替え時など
において他の経路からシステムに混入される過剰な空
気、窒素、もしくは他の気体をいかにして処理するかと
いうことである。ミクロガス泡はキーフィルター要素を
塞いでしまい、あるいはシステムにより吸い上げられた
レジストを泡立たせ、供給されるレジストの質を損なう
可能性がある。大量の気体が混入することで、全体とし
てレジストの流れが妨げられかねない。いずれにせよ、
システムから過剰の気体を取り除くためには、手動によ
る冗長な操作が必要であり、それらの操作は成功しない
のが常であった。
【０００３】既知のフォトレジスト供給システムとし
て、マサチューセッツ州、HollistonにあるIwaki Walch
em社で製造されたＰＤＳ−１０００があり、図１に図示
されているＰＤＳ−１３００の自動空気抜きモジュール
を備えている。Iwaki社のシステムでは、ボトルを自動
的に切り替え、ガス抜き操作を行うことで、これらの問
題をある程度解決しようとしているが、解決されない問
題点が残る。
て、マサチューセッツ州、HollistonにあるIwaki Walch
em社で製造されたＰＤＳ−１０００があり、図１に図示
されているＰＤＳ−１３００の自動空気抜きモジュール
を備えている。Iwaki社のシステムでは、ボトルを自動
的に切り替え、ガス抜き操作を行うことで、これらの問
題をある程度解決しようとしているが、解決されない問
題点が残る。
【０００４】図１に示されるように、Iwaki社のシステ
ムは、一対のレジストボトルＢ１、Ｂ２を備えており、
これらのレジストボトルＢ１、Ｂ２はそれぞれ常時開バ
ルブＢＶ１および常時閉バルブＢＶ２を介してトラップ
タンクＴに接続されている。トラップタンクＴには約１
０分間供給できるだけのレジストが確保されており、レ
ジストはポンプＰにより集積回路製造システムの一部で
ある回転ユニットＳＵに供給される。
ムは、一対のレジストボトルＢ１、Ｂ２を備えており、
これらのレジストボトルＢ１、Ｂ２はそれぞれ常時開バ
ルブＢＶ１および常時閉バルブＢＶ２を介してトラップ
タンクＴに接続されている。トラップタンクＴには約１
０分間供給できるだけのレジストが確保されており、レ
ジストはポンプＰにより集積回路製造システムの一部で
ある回転ユニットＳＵに供給される。
【０００５】第１ボトルＢ１が空になると、トラップタ
ンクＴにおけるレジストレベルが下がり、トラップタン
クＴ内に空気が入り込む。レジストがなくなっていき、
センサーＳ２がレジストを検出しなくなり、現在トラッ
プタンクＴの上部に空気が入っていることを示す。そし
て信号を発してバルブＢＶ１、バルブＢＶ２をそれぞれ
閉開し、第２ボトルＢ２からのレジスト吸入が始まる。
空のボトルＢ１とその供給系路、あるいはボトルＢ２へ
つながっている空の供給系路の双方から空気が入り込む
可能性がある。
ンクＴにおけるレジストレベルが下がり、トラップタン
クＴ内に空気が入り込む。レジストがなくなっていき、
センサーＳ２がレジストを検出しなくなり、現在トラッ
プタンクＴの上部に空気が入っていることを示す。そし
て信号を発してバルブＢＶ１、バルブＢＶ２をそれぞれ
閉開し、第２ボトルＢ２からのレジスト吸入が始まる。
空のボトルＢ１とその供給系路、あるいはボトルＢ２へ
つながっている空の供給系路の双方から空気が入り込む
可能性がある。
【０００６】レジスト水準がトラップタンクＴの底部に
達した時点で緊急機能停止操作を開始させるため、それ
を検知するセンサーＳ３が備えられている。レジストか
ら放出されるあらゆる気体のみならず、ボトルおよびそ
れらに結合されている導管からシステムに入り込む空気
を抜くため、空気抜きサイクルが開始される。通常閉空
気式バルブＡＶ４が開き、トラップタンクＴからの過剰
な空気とフォトレジストの吸引を可能にする。バルブＡ
Ｖ４はトラップタンクＴの真上に位置している。空気抜
きサイクルを駆動させるための真空を発生させる真空発
生器Ｖは、ソレノイドバルブＳＶ５により制御されたユ
ーティリティ空気ラインから加圧された空気を受け取
る。（以後ＡＶは空気式バルブを、ＳＶはソレノイド式
バルブをそれぞれ表すものとする。）真空発生器Ｖは、
チェックバルブとニードルバルブの組み合わせを備えて
おり、この組み合わせにより速度制御器ＳＣが形成され
ている。１ミリ径のオリフィスを有するベンチュリ管を
備えたインジェクタによって真空チャンバ内に真空が発
生し、それによってバルブＡＶ４を経てトラップタンク
Ｔから真空ラインＶＬを通じて過剰な空気やレジストが
吸引される。加圧された空気は、通常は閉じているがこ
の用途のために開いているバルブＡＶ１を通じて真空発
生器Ｖから排気される。図中の丸印で囲まれた数個のプ
ラス記号とマイナス記号は、真空発生器Ｖ内における正
圧と負圧の存在を示している。
達した時点で緊急機能停止操作を開始させるため、それ
を検知するセンサーＳ３が備えられている。レジストか
ら放出されるあらゆる気体のみならず、ボトルおよびそ
れらに結合されている導管からシステムに入り込む空気
を抜くため、空気抜きサイクルが開始される。通常閉空
気式バルブＡＶ４が開き、トラップタンクＴからの過剰
な空気とフォトレジストの吸引を可能にする。バルブＡ
Ｖ４はトラップタンクＴの真上に位置している。空気抜
きサイクルを駆動させるための真空を発生させる真空発
生器Ｖは、ソレノイドバルブＳＶ５により制御されたユ
ーティリティ空気ラインから加圧された空気を受け取
る。（以後ＡＶは空気式バルブを、ＳＶはソレノイド式
バルブをそれぞれ表すものとする。）真空発生器Ｖは、
チェックバルブとニードルバルブの組み合わせを備えて
おり、この組み合わせにより速度制御器ＳＣが形成され
ている。１ミリ径のオリフィスを有するベンチュリ管を
備えたインジェクタによって真空チャンバ内に真空が発
生し、それによってバルブＡＶ４を経てトラップタンク
Ｔから真空ラインＶＬを通じて過剰な空気やレジストが
吸引される。加圧された空気は、通常は閉じているがこ
の用途のために開いているバルブＡＶ１を通じて真空発
生器Ｖから排気される。図中の丸印で囲まれた数個のプ
ラス記号とマイナス記号は、真空発生器Ｖ内における正
圧と負圧の存在を示している。
【０００７】トラップタンクＴ及びトラップタンクＴと
新ボトルＢ２間のラインから過剰な気体を取り除くため
の空気抜きサイクルにおいて、過剰な気体及びレジスト
は真空によってラインＶＬの中へ吸引される。真空チャ
ンバ内にあるセンサーＳ１により第２ボトルＢ２から吸
入された新たなフォトレジストが検知されると、バルブ
ＡＶ１を閉じ、真空発生器Ｖを止めるとともに、バルブ
ＡＶ４を閉じることによって空気抜きサイクルは終了す
る。ラインＶＬ及び導管Ｃはレジストで一杯となり、そ
れによって過剰な空気及び気体が抜き取られる。
新ボトルＢ２間のラインから過剰な気体を取り除くため
の空気抜きサイクルにおいて、過剰な気体及びレジスト
は真空によってラインＶＬの中へ吸引される。真空チャ
ンバ内にあるセンサーＳ１により第２ボトルＢ２から吸
入された新たなフォトレジストが検知されると、バルブ
ＡＶ１を閉じ、真空発生器Ｖを止めるとともに、バルブ
ＡＶ４を閉じることによって空気抜きサイクルは終了す
る。ラインＶＬ及び導管Ｃはレジストで一杯となり、そ
れによって過剰な空気及び気体が抜き取られる。
【０００８】上記一連の空気抜き操作が行われている
間、通常開ドレンバルブＡＶ３は閉じている。通常の操
作の際にもドレンバルブＡＶ３は閉じている。以下に述
べるドレンサイクルの間のみバルブＡＶ３が開かれる。
間、通常開ドレンバルブＡＶ３は閉じている。通常の操
作の際にもドレンバルブＡＶ３は閉じている。以下に述
べるドレンサイクルの間のみバルブＡＶ３が開かれる。
【０００９】一連の空気抜き操作の後、システムから過
剰なレジストを取り除くために一連のドレン操作が行わ
れる。バルブＡＶ３が開かれ、バルブＳＶ５を介してユ
ーティリティ空気ラインから加圧された空気が入り込
む。バルブＡＶ１が閉じられているため、真空は発生し
ない。代わりに、空気によって真空チャンバが加圧され
るとラインＶＬ、ドレンラインＤＬ、バルブＡＶ３を通
してレジストが逆流し、ドレンされる。
剰なレジストを取り除くために一連のドレン操作が行わ
れる。バルブＡＶ３が開かれ、バルブＳＶ５を介してユ
ーティリティ空気ラインから加圧された空気が入り込
む。バルブＡＶ１が閉じられているため、真空は発生し
ない。代わりに、空気によって真空チャンバが加圧され
るとラインＶＬ、ドレンラインＤＬ、バルブＡＶ３を通
してレジストが逆流し、ドレンされる。
【００１０】Iwaki社のシステムでは、ドレンバルブＡ
Ｖ３の流入口とその一端が接続されているバルブＡＶ２
が備えられているが、流出口とのつながりも明確な機能
も有していない。
Ｖ３の流入口とその一端が接続されているバルブＡＶ２
が備えられているが、流出口とのつながりも明確な機能
も有していない。
【００１１】表１は前記ステップをより詳細に示したも
のである。
のである。
【００１２】
【表１】
【００１３】なお、同表において、
・ＡＶ１、４は通常閉バルブ、ＡＶ３は常時開バルブ、
・センサーＳ３がオフなら、コントローラーはまた薬品
残留アラームを送る（停止信号を送る）、 ・バルブＡＶ２は使用されない、 ・操作の全ての段階においてソレノイドバルブＳＶ５が
開いているため、気圧は約０．５キロキログラムまで下
がる。この気圧ロスを補うため、気圧は４．５〜５キロ
グラムに設定されている、 ・コントローラーの時間設定、 Ｔ１：真空チャンバ加圧時間、 Ｔ２：予備アラーム及びレジストボトル切り換えのため
の遅延時間、 Ｔ３：タンク充填時間（１００〜３００秒間）、 Ｔ４：使用されない（FILTER AIR VENT）、 ステップ１はレジスト供給における通常の操作を表して
おり、空気抜きモジュールの”待機モード”を意味して
いる。ステップ１において、Iwaki社のシステムでは、
バルブＡＶ１に空気が供給され、開いた状態に維持され
ている。Iwaki社システムにおけるこの特徴は望ましく
ない。なぜなら、バルブＡＶ１が開いていることによ
り、不適当な時点で真空が誤って発生し、あるいは加圧
された気体がバルブＡＶ１の下流側の排気マニホールド
からモジュールへ流れ込む可能性が生まれるからであ
る。
残留アラームを送る（停止信号を送る）、 ・バルブＡＶ２は使用されない、 ・操作の全ての段階においてソレノイドバルブＳＶ５が
開いているため、気圧は約０．５キロキログラムまで下
がる。この気圧ロスを補うため、気圧は４．５〜５キロ
グラムに設定されている、 ・コントローラーの時間設定、 Ｔ１：真空チャンバ加圧時間、 Ｔ２：予備アラーム及びレジストボトル切り換えのため
の遅延時間、 Ｔ３：タンク充填時間（１００〜３００秒間）、 Ｔ４：使用されない（FILTER AIR VENT）、 ステップ１はレジスト供給における通常の操作を表して
おり、空気抜きモジュールの”待機モード”を意味して
いる。ステップ１において、Iwaki社のシステムでは、
バルブＡＶ１に空気が供給され、開いた状態に維持され
ている。Iwaki社システムにおけるこの特徴は望ましく
ない。なぜなら、バルブＡＶ１が開いていることによ
り、不適当な時点で真空が誤って発生し、あるいは加圧
された気体がバルブＡＶ１の下流側の排気マニホールド
からモジュールへ流れ込む可能性が生まれるからであ
る。
【００１４】さらにステップ１では、Iwaki社システム
で通常開バルブであるバルブＡＶ３を閉じるために、連
続して気圧がバルブＡＶ３に加えられる。
で通常開バルブであるバルブＡＶ３を閉じるために、連
続して気圧がバルブＡＶ３に加えられる。
【００１５】ステップ２では、センサーＳ２がレジスト
を検出しなくなり、トラップタンクＴの上部の空気を検
知する。空気インジェクタバルブＳＶ５が開かれ、真空
発生器Ｖに空気が入り込む。同様にトラップタンクバル
ブＡＶ４も開かれ、検知された空気を抜き取るための空
気抜きサイクルが開始する。またセンサーＳ２から出力
される信号により、ボトルＢ１からＢ２への切り替えが
始まる。ところが、センサーＳ２から出力される信号が
時間Ｔ２（ここでは３０秒間）だけ持続しない場合に
は、ボトルの切り替えが行われない。つまり第１ボトル
が実際には空になっていない場合、少量の空気が検知さ
れることによってボトルの切り替えが開始されるのを防
止している。
を検出しなくなり、トラップタンクＴの上部の空気を検
知する。空気インジェクタバルブＳＶ５が開かれ、真空
発生器Ｖに空気が入り込む。同様にトラップタンクバル
ブＡＶ４も開かれ、検知された空気を抜き取るための空
気抜きサイクルが開始する。またセンサーＳ２から出力
される信号により、ボトルＢ１からＢ２への切り替えが
始まる。ところが、センサーＳ２から出力される信号が
時間Ｔ２（ここでは３０秒間）だけ持続しない場合に
は、ボトルの切り替えが行われない。つまり第１ボトル
が実際には空になっていない場合、少量の空気が検知さ
れることによってボトルの切り替えが開始されるのを防
止している。
【００１６】表１に示される残りのステップは、先だっ
て説明されており、表の注釈からも自明であろう。
て説明されており、表の注釈からも自明であろう。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】Iwaki社のＰＤＳ−１
０００型システムについては、従来技術として知られて
いる文献によって具体化することができる。本システム
は何点かの重大な欠陥を有している。ユーティリティ空
気ラインからの加圧された空気によって真空チャンバか
らレジストを押し出し、真空ラインＶＬ、ドレンライン
ＤＬ、バルブＡＶ３を通して再びレジストがドレンされ
るドレンサイクルが終了した後も、バルブＡＶ４からド
レンラインＤＬと真空ラインＶＬとの接続点まで約８〜
１０インチ（２０〜２５ｃｍ）に渡って伸びている導管
部Ｃ及び／または他のラインの内部でレジストが残留し
ている可能性がある。次回の真空サイクルにおいてこの
残留レジストが泡立ち、ミストとなってバルブＡＶ４の
動きを妨げ、バルブＡＶ４が完全に開き、真空の発生が
減少するのを防止し、その結果真空サイクルを妨げるか
減速させる結果となる。Iwaki社のシステムにおいて発
生する詰まりや他の機能不良のため、一連の空気抜き操
作が定められた時間内に終了しない場合、システムは自
動的に停止するため、手動により再始動させなくてはな
らない。
０００型システムについては、従来技術として知られて
いる文献によって具体化することができる。本システム
は何点かの重大な欠陥を有している。ユーティリティ空
気ラインからの加圧された空気によって真空チャンバか
らレジストを押し出し、真空ラインＶＬ、ドレンライン
ＤＬ、バルブＡＶ３を通して再びレジストがドレンされ
るドレンサイクルが終了した後も、バルブＡＶ４からド
レンラインＤＬと真空ラインＶＬとの接続点まで約８〜
１０インチ（２０〜２５ｃｍ）に渡って伸びている導管
部Ｃ及び／または他のラインの内部でレジストが残留し
ている可能性がある。次回の真空サイクルにおいてこの
残留レジストが泡立ち、ミストとなってバルブＡＶ４の
動きを妨げ、バルブＡＶ４が完全に開き、真空の発生が
減少するのを防止し、その結果真空サイクルを妨げるか
減速させる結果となる。Iwaki社のシステムにおいて発
生する詰まりや他の機能不良のため、一連の空気抜き操
作が定められた時間内に終了しない場合、システムは自
動的に停止するため、手動により再始動させなくてはな
らない。
【００１８】さらにバルブＡＶ１が詰まり、その流入口
にかかる圧力が高まると、真空チャンバの上部に空気が
入り込むことによって、トラップタンクＴを経て供給ボ
トルＢ２まで空気が逆流する可能性がある。かかる現象
によって、Iwaki社のシステムから全てのレジストが完
全に除去されてしまう可能性もある。
にかかる圧力が高まると、真空チャンバの上部に空気が
入り込むことによって、トラップタンクＴを経て供給ボ
トルＢ２まで空気が逆流する可能性がある。かかる現象
によって、Iwaki社のシステムから全てのレジストが完
全に除去されてしまう可能性もある。
【００１９】Iwaki社の装置が稼働している間、バルブ
ＡＶ１の詰まりはほぼ毎日発生するため、システムを停
止し、溶媒か洗浄剤を用いてバルブＡＶ１を洗浄する必
要がある。バルブＡＶ１の詰まりは、機能停止時間の拡
大、生産量の縮小を招くため、フォトレジスト供給シス
テムの効率を損なう結果をもたらす重大な問題点であ
る。
ＡＶ１の詰まりはほぼ毎日発生するため、システムを停
止し、溶媒か洗浄剤を用いてバルブＡＶ１を洗浄する必
要がある。バルブＡＶ１の詰まりは、機能停止時間の拡
大、生産量の縮小を招くため、フォトレジスト供給シス
テムの効率を損なう結果をもたらす重大な問題点であ
る。
【００２０】Iwaki社のシステムのさらなる問題点は、
バルブＡＶ３が通常開バルブであることに起因する。バ
ルブＡＶ３は図１の空気抜きモジュールが待機モード、
つまり通常のレジスト供給操作にある場合のみ、閉じら
れる。通常の装置では、複数の空気抜きモジュールが一
つのドレンマニホールドに対して連動している。第１モ
ジュールのドレンバルブＡＶ３に加わるパワーが誤って
失われると、バルブＡＶ３は開く。したがって他のモジ
ュールにおいてドレンサイクルが稼働している場合、第
２モジュールのドレンバルブＡＶ３から放出されるレジ
スト及び／または空気が、誤って開いている第１モジュ
ールのバルブＡＶ３に逆流する。この一連の現象の結
果、手動による洗浄または空気抜きやドレンを行うた
め、第１モジュールを停止する必要が生まれる。
バルブＡＶ３が通常開バルブであることに起因する。バ
ルブＡＶ３は図１の空気抜きモジュールが待機モード、
つまり通常のレジスト供給操作にある場合のみ、閉じら
れる。通常の装置では、複数の空気抜きモジュールが一
つのドレンマニホールドに対して連動している。第１モ
ジュールのドレンバルブＡＶ３に加わるパワーが誤って
失われると、バルブＡＶ３は開く。したがって他のモジ
ュールにおいてドレンサイクルが稼働している場合、第
２モジュールのドレンバルブＡＶ３から放出されるレジ
スト及び／または空気が、誤って開いている第１モジュ
ールのバルブＡＶ３に逆流する。この一連の現象の結
果、手動による洗浄または空気抜きやドレンを行うた
め、第１モジュールを停止する必要が生まれる。
【００２１】Iwaki社のシステムのさらなる欠点は、真
空発生器において１ミリ径の大型のオリフィスを使用す
ることである。Iwaki社のシステムにおいて、ベンチュ
リ管のオリフィスを１ミリ径にすることにより、たとえ
Iwaki社の仕様にしたがって空気ラインが備えられてい
ても、基準となる主空気ラインに対して過剰な圧力低下
が起こる。かかる圧力低下により、全てのバルブの機能
不良を招く恐れがある。
空発生器において１ミリ径の大型のオリフィスを使用す
ることである。Iwaki社のシステムにおいて、ベンチュ
リ管のオリフィスを１ミリ径にすることにより、たとえ
Iwaki社の仕様にしたがって空気ラインが備えられてい
ても、基準となる主空気ラインに対して過剰な圧力低下
が起こる。かかる圧力低下により、全てのバルブの機能
不良を招く恐れがある。
【００２２】したがって、本発明の全体的な目的は、Iw
aki社のシステムにみられる不都合な点を回避するフォ
トレジスト供給システムを提供することである。
aki社のシステムにみられる不都合な点を回避するフォ
トレジスト供給システムを提供することである。
【００２３】さらなる目的は、空気抜きサイクルが終了
した後にも、Iwaki社のシステムにしばしば残留してい
ると分かっている過剰なレジストによって引き起こされ
る汚濁の可能性を防止または低下させることである。
した後にも、Iwaki社のシステムにしばしば残留してい
ると分かっている過剰なレジストによって引き起こされ
る汚濁の可能性を防止または低下させることである。
【００２４】もう１つの目的は、例えばIwaki社のシス
テムの空気抜きサイクルにおいて取り除くことのできな
かった残留レジストのミストによって引き起こされる、
Iwaki社のシステムの排気バルブＡＶ１に対する汚濁に
よる予想影響を低下させることである。
テムの空気抜きサイクルにおいて取り除くことのできな
かった残留レジストのミストによって引き起こされる、
Iwaki社のシステムの排気バルブＡＶ１に対する汚濁に
よる予想影響を低下させることである。
【００２５】さらにもう１つの目的は、ドレンバルブＡ
Ｖ３が誤って開き、ドレンマニホールドから廃気及び／
またはレジストが流入する可能性を低下させることであ
る。
Ｖ３が誤って開き、ドレンマニホールドから廃気及び／
またはレジストが流入する可能性を低下させることであ
る。
【００２６】さらなる目的は、Iwaki社のシステムにお
いて、空気バルブへ供給するために主空気ラインにかか
る圧力の望ましくない低下を回避することである。
いて、空気バルブへ供給するために主空気ラインにかか
る圧力の望ましくない低下を回避することである。
【００２７】
【課題を解決するための手段】上記で述べられた目的
は、開示された本発明とその請求項記載の発明によって
達成することができる。
は、開示された本発明とその請求項記載の発明によって
達成することができる。
【００２８】請求項１の発明は、レジスト供給源からレ
ジストを受け取り、前記レジストを供給するためのトラ
ップタンクと、前記トラップタンクに関連して設けら
れ、前記トラップタンク内の過剰な気体を検知し、それ
に対して信号を発生させるセンサーと、真空ラインを介
して前記トラップタンクに接続されており、前記センサ
ー信号に応じて前記真空ラインに真空を発生させ、前記
レジスト供給源からレジストを吸引することによって前
記トラップタンクおよび前記真空ラインにレジストを充
填することで、前記トラップタンクから過剰気体を取り
除く真空発生器と、を備えるフォトレジスト供給システ
ムであって、前記真空発生器が、通過する空気の流れに
対応し、前記真空ライン上に真空を発生させるために配
置されたベンチュリ管と、前記ベンチュリ管の下流側に
ある流出口に接続され、前記空気の流れを制御する排気
バルブと、前記排気バルブの下流側に設けられ、前記排
気バルブを介して空気を吸引することで、前記ベンチュ
リ管を通過する前記空気の流れを形成することによって
前記真空ライン上に前記真空を発生させるための第２真
空発生器とを備えるようにしている。
ジストを受け取り、前記レジストを供給するためのトラ
ップタンクと、前記トラップタンクに関連して設けら
れ、前記トラップタンク内の過剰な気体を検知し、それ
に対して信号を発生させるセンサーと、真空ラインを介
して前記トラップタンクに接続されており、前記センサ
ー信号に応じて前記真空ラインに真空を発生させ、前記
レジスト供給源からレジストを吸引することによって前
記トラップタンクおよび前記真空ラインにレジストを充
填することで、前記トラップタンクから過剰気体を取り
除く真空発生器と、を備えるフォトレジスト供給システ
ムであって、前記真空発生器が、通過する空気の流れに
対応し、前記真空ライン上に真空を発生させるために配
置されたベンチュリ管と、前記ベンチュリ管の下流側に
ある流出口に接続され、前記空気の流れを制御する排気
バルブと、前記排気バルブの下流側に設けられ、前記排
気バルブを介して空気を吸引することで、前記ベンチュ
リ管を通過する前記空気の流れを形成することによって
前記真空ライン上に前記真空を発生させるための第２真
空発生器とを備えるようにしている。
【００２９】請求項２の発明は、前記第２真空発生器
が、真空を発生させ、前記排気バルブを通じて空気を吸
引するために設置された第２ベンチュリ管を備えるよう
にしている。
が、真空を発生させ、前記排気バルブを通じて空気を吸
引するために設置された第２ベンチュリ管を備えるよう
にしている。
【００３０】請求項３の発明は、前記第２ベンチュリ管
が０．５ミリ径のオリフィスを備えるようにしている。
が０．５ミリ径のオリフィスを備えるようにしている。
【００３１】請求項４の発明は、前記第２真空発生器
が、約４．５〜５キログラムの公称圧力を有する加圧さ
れた空気を受け取り、前記加圧された空気を前記ベンチ
ュリ管を介して通過させて前記真空ライン上に前記真空
を発生させる流入口を備え、前記第２ベンチュリ管が前
記公称圧力を受ける間、前記公称圧力が約４キログラム
またはそれ以上に維持されるようにしている。
が、約４．５〜５キログラムの公称圧力を有する加圧さ
れた空気を受け取り、前記加圧された空気を前記ベンチ
ュリ管を介して通過させて前記真空ライン上に前記真空
を発生させる流入口を備え、前記第２ベンチュリ管が前
記公称圧力を受ける間、前記公称圧力が約４キログラム
またはそれ以上に維持されるようにしている。
【００３２】請求項５の発明は、前記真空ラインからレ
ジスト及び／または気体を受け取るために接続されたド
レンラインと、前記ドレンラインとドレンとの間の連絡
を制御するためのドレンバルブをさらに備え、前記ドレ
ンバルブが、エネルギーが加わることによって開かれる
場合を除き前記ドレンと前記ドレンラインとの間の連絡
をブロックするために通常閉として設定され、前記ベン
チュリ管は、上流側に流入口を備え、空気源から加圧さ
れた空気を受け取り、前記加圧された空気を送り込むこ
とによって前記真空ライン、前記ドレンラインおよび前
記ドレンバルブを通じて前記ドレンまでレジストを押し
戻すようにしている。
ジスト及び／または気体を受け取るために接続されたド
レンラインと、前記ドレンラインとドレンとの間の連絡
を制御するためのドレンバルブをさらに備え、前記ドレ
ンバルブが、エネルギーが加わることによって開かれる
場合を除き前記ドレンと前記ドレンラインとの間の連絡
をブロックするために通常閉として設定され、前記ベン
チュリ管は、上流側に流入口を備え、空気源から加圧さ
れた空気を受け取り、前記加圧された空気を送り込むこ
とによって前記真空ライン、前記ドレンラインおよび前
記ドレンバルブを通じて前記ドレンまでレジストを押し
戻すようにしている。
【００３３】請求項６の発明は、前記トラップタンク
が、導管によって前記真空ラインと前記ドレンラインと
の接続点へ接続されるトラックタンクバルブを備え、前
記真空ライン及び導管が、外部導管とその内部に内部導
管を有し、前記外部導管と内部導管の間に環状空間が存
在し、前記内部導管は前記真空発生器と前記トラップタ
ンクの間を間断なく伸びており、前記ドレンラインは前
記環状空間と直結しているが、前記内部導管とは直接接
続されておらず、前記トラップタンクバルブが閉じてい
る間、前記真空ラインを通って押し戻された前記レジス
ト及び／または気体が前記内部導管を通って前記トラッ
プタンクバルブに運ばれ、前記環状空間を通って前記ド
レンラインまで運ばれた後、前記ドレンへ押し出される
ようにしている。
が、導管によって前記真空ラインと前記ドレンラインと
の接続点へ接続されるトラックタンクバルブを備え、前
記真空ライン及び導管が、外部導管とその内部に内部導
管を有し、前記外部導管と内部導管の間に環状空間が存
在し、前記内部導管は前記真空発生器と前記トラップタ
ンクの間を間断なく伸びており、前記ドレンラインは前
記環状空間と直結しているが、前記内部導管とは直接接
続されておらず、前記トラップタンクバルブが閉じてい
る間、前記真空ラインを通って押し戻された前記レジス
ト及び／または気体が前記内部導管を通って前記トラッ
プタンクバルブに運ばれ、前記環状空間を通って前記ド
レンラインまで運ばれた後、前記ドレンへ押し出される
ようにしている。
【００３４】請求項７の発明は、レジスト供給源からレ
ジストを受け取り、前記レジストを供給するためのトラ
ップタンクと、前記トラップタンクに関連して設けら
れ、前記トラップタンク内の過剰な気体を検知し、それ
に対して信号を発生させるセンサーと、真空ラインを介
して前記トラップタンクに接続されており、前記センサ
ー信号に応じて前記真空ラインに真空を発生させ、前記
レジスト供給源からレジストを吸引することによって前
記トラップタンクおよび前記真空ラインにレジストを充
填することで、前記トラップタンクから過剰気体を取り
除く真空発生器と、前記真空ラインからのレジスト及び
／または気体を受け取るため接続されたドレンライン
と、前記ドレンラインとドレンとの間の連絡を制御する
ためのドレンバルブを備えるフォトレジスト供給システ
ムであって、前記真空発生器が、上流側に設けられ、空
気源から加圧された空気を受け取り、前記加圧された空
気を送り込むことによって前記真空ライン、前記ドレン
ラインおよび前記ドレンバルブを通じて前記ドレンまで
レジストを押し戻す流入口を備え、前記トラップタンク
が、導管によって前記真空ラインと前記ドレンラインと
の接続点へ接続されるトラックタンクバルブを備え、前
記真空ライン及び導管が、外部導管とその内部に内部導
管を有し、前記外部導管と内部導管の間に環状空間が存
在し、前記内部導管は前記真空発生器と前記トラップタ
ンクの間を間断なく伸びており、前記ドレンラインが前
記環状空間と直結しているが、前記内部導管とは直接接
続されておらず、前記トラップタンクバルブが閉じてい
る間、前記真空ラインを通って押し戻された前記レジス
ト及び／または気体が前記内部導管を通って前記トラッ
プタンクバルブに運ばれ、前記環状空間を通って前記ド
レンラインまで運ばれた後前記ドレンへ押し出されるよ
うにしている。
ジストを受け取り、前記レジストを供給するためのトラ
ップタンクと、前記トラップタンクに関連して設けら
れ、前記トラップタンク内の過剰な気体を検知し、それ
に対して信号を発生させるセンサーと、真空ラインを介
して前記トラップタンクに接続されており、前記センサ
ー信号に応じて前記真空ラインに真空を発生させ、前記
レジスト供給源からレジストを吸引することによって前
記トラップタンクおよび前記真空ラインにレジストを充
填することで、前記トラップタンクから過剰気体を取り
除く真空発生器と、前記真空ラインからのレジスト及び
／または気体を受け取るため接続されたドレンライン
と、前記ドレンラインとドレンとの間の連絡を制御する
ためのドレンバルブを備えるフォトレジスト供給システ
ムであって、前記真空発生器が、上流側に設けられ、空
気源から加圧された空気を受け取り、前記加圧された空
気を送り込むことによって前記真空ライン、前記ドレン
ラインおよび前記ドレンバルブを通じて前記ドレンまで
レジストを押し戻す流入口を備え、前記トラップタンク
が、導管によって前記真空ラインと前記ドレンラインと
の接続点へ接続されるトラックタンクバルブを備え、前
記真空ライン及び導管が、外部導管とその内部に内部導
管を有し、前記外部導管と内部導管の間に環状空間が存
在し、前記内部導管は前記真空発生器と前記トラップタ
ンクの間を間断なく伸びており、前記ドレンラインが前
記環状空間と直結しているが、前記内部導管とは直接接
続されておらず、前記トラップタンクバルブが閉じてい
る間、前記真空ラインを通って押し戻された前記レジス
ト及び／または気体が前記内部導管を通って前記トラッ
プタンクバルブに運ばれ、前記環状空間を通って前記ド
レンラインまで運ばれた後前記ドレンへ押し出されるよ
うにしている。
【００３５】請求項８の発明は、前記真空発生器が、通
過する空気の流れに対応し、前記真空ライン上に真空を
発生させるために配置されたベンチュリ管と、前記ベン
チュリ管の下流側にある流出口に接続され、前記空気の
流れを制御する排気バルブと、前記排気バルブの下流側
に設けられ、前記排気バルブを介して空気を吸引し、前
記ベンチュリ管を通過する前記空気の流れを形成するこ
とによって前記真空ライン上に前記真空を発生させるた
めの第２真空発生器を備えるようにしている。
過する空気の流れに対応し、前記真空ライン上に真空を
発生させるために配置されたベンチュリ管と、前記ベン
チュリ管の下流側にある流出口に接続され、前記空気の
流れを制御する排気バルブと、前記排気バルブの下流側
に設けられ、前記排気バルブを介して空気を吸引し、前
記ベンチュリ管を通過する前記空気の流れを形成するこ
とによって前記真空ライン上に前記真空を発生させるた
めの第２真空発生器を備えるようにしている。
【００３６】請求項９の発明は、前記ドレンバルブが、
エネルギーが加わることによって開かれる場合を除き、
前記ドレンと前記ドレンラインとの間の連絡をブロック
するために通常閉として設定されるようにしている。
エネルギーが加わることによって開かれる場合を除き、
前記ドレンと前記ドレンラインとの間の連絡をブロック
するために通常閉として設定されるようにしている。
【００３７】
【作用】本発明の第１の側面によると、周知のシステム
（図１）に対して、図１のバルブＡＶ１（排気バルブ）
の下流側に第２真空発生器が付加されている。Iwaki社
システムにおける元の真空発生器は一連の空気抜き操作
の間使用されない。元のユーティリティー空気ラインか
ら発生する正圧は一連のドレン操作の間のみ用いられ
る。下記で述べるように、第２真空発生器から発生する
真空は、バルブＡＶ１から上流方向へ向かって加えられ
る正圧としてではなく、バルブＡＶ１から下流方向へ向
かって加えられる負圧として用いられる。したがって、
もはや真空チャンバ内に空気が入り込み、万一バルブＡ
Ｖ１が詰まった場合でも、レジストと空気がトラップタ
ンクを通過して供給ボトルまで逆流する可能性はない。
正圧は空気抜きシステムから抜き取られる。
（図１）に対して、図１のバルブＡＶ１（排気バルブ）
の下流側に第２真空発生器が付加されている。Iwaki社
システムにおける元の真空発生器は一連の空気抜き操作
の間使用されない。元のユーティリティー空気ラインか
ら発生する正圧は一連のドレン操作の間のみ用いられ
る。下記で述べるように、第２真空発生器から発生する
真空は、バルブＡＶ１から上流方向へ向かって加えられ
る正圧としてではなく、バルブＡＶ１から下流方向へ向
かって加えられる負圧として用いられる。したがって、
もはや真空チャンバ内に空気が入り込み、万一バルブＡ
Ｖ１が詰まった場合でも、レジストと空気がトラップタ
ンクを通過して供給ボトルまで逆流する可能性はない。
正圧は空気抜きシステムから抜き取られる。
【００３８】本発明の第２の側面によると、トラップタ
ンク、ドレンそして真空チャンバを相互連結させるため
に、一本の外部導管の内部に一本または一本以上の第２
内部導管を含む二重または多重配管が用いられる。レジ
ストは、二重または多重配管を通過して、真空チャンバ
から完全に吸い取られ、トラップタンクからドレンバル
ブへ運ばれる。次の空気抜きサイクルが始まる時、バブ
ル化する残留レジストは存在せず、ミストを形成するこ
とはない。
ンク、ドレンそして真空チャンバを相互連結させるため
に、一本の外部導管の内部に一本または一本以上の第２
内部導管を含む二重または多重配管が用いられる。レジ
ストは、二重または多重配管を通過して、真空チャンバ
から完全に吸い取られ、トラップタンクからドレンバル
ブへ運ばれる。次の空気抜きサイクルが始まる時、バブ
ル化する残留レジストは存在せず、ミストを形成するこ
とはない。
【００３９】本発明の第３の側面によると、図１のドレ
ンバルブＡＶ３の代わりに、通常閉として設定されてい
るが一連のドレン操作の間のみ開かれるバルブ（後で詳
説するバルブＡＶ３′）が用いられる。ライン（後で詳
説するラインＶＬ）からの吸引によってドレンマニホー
ルドから廃物が吸い取られる恐れがあるため、空気抜き
サイクルの稼働中バルブＡＶ３′は閉じられている。し
たがって、加わるパワーが誤って失われてもドレンバル
ブは開かず、共通のドレンマニホールドを通って他のモ
ジュールからレジスト及び／または空気が逆流すること
はない。
ンバルブＡＶ３の代わりに、通常閉として設定されてい
るが一連のドレン操作の間のみ開かれるバルブ（後で詳
説するバルブＡＶ３′）が用いられる。ライン（後で詳
説するラインＶＬ）からの吸引によってドレンマニホー
ルドから廃物が吸い取られる恐れがあるため、空気抜き
サイクルの稼働中バルブＡＶ３′は閉じられている。し
たがって、加わるパワーが誤って失われてもドレンバル
ブは開かず、共通のドレンマニホールドを通って他のモ
ジュールからレジスト及び／または空気が逆流すること
はない。
【００４０】本発明の第４の側面は、Iwaki社のシステ
ムにおいて１ミリ径のオリフィスが用いられているのに
対して、真空発生器で０．５ミリ径のオリフィスが用い
られている点である。０．５ミリ径のオリフィスを用い
ることによって、Iwaki社システムの仕様書によるとこ
ろの加圧された空気を供給する主ラインにかかる圧力の
低下を縮小することができる。さらに空気はよりゆっく
りとシステムから抜き取られるが、これによって存在し
ているかもしれないフォトレジストの抜き取られる量が
少なくなる。
ムにおいて１ミリ径のオリフィスが用いられているのに
対して、真空発生器で０．５ミリ径のオリフィスが用い
られている点である。０．５ミリ径のオリフィスを用い
ることによって、Iwaki社システムの仕様書によるとこ
ろの加圧された空気を供給する主ラインにかかる圧力の
低下を縮小することができる。さらに空気はよりゆっく
りとシステムから抜き取られるが、これによって存在し
ているかもしれないフォトレジストの抜き取られる量が
少なくなる。
【００４１】
【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施例を図２に
示す。図１の構成と同一の働きをする構成には同一の参
照符号を付しており、これらの説明は省略する。
示す。図１の構成と同一の働きをする構成には同一の参
照符号を付しており、これらの説明は省略する。
【００４２】Iwaki社のシステムでは、数個のバルブを
空気式バルブＡＶとしているが、効率面または経済面を
考慮すればソレノイド式バルブで代用する方が望まし
い。例えばバルブＡＶ４とＡＶ１は常に都合良く同一の
状態にあるため、本実施例ではこれら２つのバルブは共
通する（図２の括弧で示された）一つのソレノイドバル
ブＳＶ４で代用されている。通常のレジスト供給操作の
間、バルブＡＶ１が開くことにより前述の不都合が生じ
るIwaki社のシステムに比べ、ここに進歩が認められ
る。同様にドレンバルブＡＶ３′もソレノイドバルブで
代用する方が望ましい。
空気式バルブＡＶとしているが、効率面または経済面を
考慮すればソレノイド式バルブで代用する方が望まし
い。例えばバルブＡＶ４とＡＶ１は常に都合良く同一の
状態にあるため、本実施例ではこれら２つのバルブは共
通する（図２の括弧で示された）一つのソレノイドバル
ブＳＶ４で代用されている。通常のレジスト供給操作の
間、バルブＡＶ１が開くことにより前述の不都合が生じ
るIwaki社のシステムに比べ、ここに進歩が認められ
る。同様にドレンバルブＡＶ３′もソレノイドバルブで
代用する方が望ましい。
【００４３】ソレノイドバルブＳＶ１は、元の真空発生
器Ｖへの加圧された空気の供給を制御している。前記の
通り、本実施例において元の真空発生器Ｖは、ドレンサ
イクルを駆動させるためだけに用いられている。
器Ｖへの加圧された空気の供給を制御している。前記の
通り、本実施例において元の真空発生器Ｖは、ドレンサ
イクルを駆動させるためだけに用いられている。
【００４４】本実施例において、従来技術システムでの
バルブＳＶ５に相当するバルブは、第２真空発生器へ加
圧された空気を供給するために使用される。さらに、相
互に異なる空気抜きモジュールからの数個のバルブＳＶ
５、本実施例では３個が設定されているが、互いに平行
に真空発生器Ｖ′と接続される。それに対応して、真空
発生器Ｖ′からの真空に応じてそれぞれのモジュールか
ら３個のバルブＡＶ１が備えられる。
バルブＳＶ５に相当するバルブは、第２真空発生器へ加
圧された空気を供給するために使用される。さらに、相
互に異なる空気抜きモジュールからの数個のバルブＳＶ
５、本実施例では３個が設定されているが、互いに平行
に真空発生器Ｖ′と接続される。それに対応して、真空
発生器Ｖ′からの真空に応じてそれぞれのモジュールか
ら３個のバルブＡＶ１が備えられる。
【００４５】したがって本実施例では、空気抜きサイク
ルが稼働している間、排気バルブＡＶ１には負圧だけが
存在することになる。万一バルブＡＶ１の詰まりが発生
しても、Iwaki社のシステムのように加圧された空気が
真空チャンバに流れ込み、真空ラインＶＬへ逆流するこ
とはない。
ルが稼働している間、排気バルブＡＶ１には負圧だけが
存在することになる。万一バルブＡＶ１の詰まりが発生
しても、Iwaki社のシステムのように加圧された空気が
真空チャンバに流れ込み、真空ラインＶＬへ逆流するこ
とはない。
【００４６】以上のように、常時開バルブとして設定さ
れているIwaki社のシステムとは異なり、本実施例にお
いてドレンバルブＡＶ３′は常時閉である。したがっ
て、たとえドレンバルブにかかるパワーが失われバルブ
が誤って開いた場合でも、不利益な影響を受けることは
ない。
れているIwaki社のシステムとは異なり、本実施例にお
いてドレンバルブＡＶ３′は常時閉である。したがっ
て、たとえドレンバルブにかかるパワーが失われバルブ
が誤って開いた場合でも、不利益な影響を受けることは
ない。
【００４７】改良された操作の一連を表２に示すが、こ
れも同様に表の注釈または前述の説明から自明であろ
う。
れも同様に表の注釈または前述の説明から自明であろ
う。
【００４８】
【表２】
【００４９】（操作または待機モードの）全ての段階に
おいて、センサーＳ３がオフの状態ならば、コントロー
ラーはアラームを送ることになっている。
おいて、センサーＳ３がオフの状態ならば、コントロー
ラーはアラームを送ることになっている。
【００５０】Ｔ１：加圧時間、
Ｔ２：予備アラーム、
Ｔ３：アラーム、
Ｔ４：使用されない、バルブＳＶ４はバルブＡＶ１，Ａ
Ｖ４両方を駆動する。
Ｖ４両方を駆動する。
【００５１】本発明のさらなる側面を図３ないし図８に
示す。図３ないし図５に示されるように、真空チャン
バ、ドレンバルブＡＶ３′、そしてトラップタンクバル
ブＡＶ４を相互接続するために二重導管が用いられてい
る。例えば外部導管Ｃ１の外径を４ミリ、内径を３ミリ
とする。内部導管の外径は２ミリで内径は１．５ミリと
なる。もちろんこれらの値はあくまでも有用な寸法の一
例に過ぎない。導管Ｃ１とＣ２の間には環状の空間がで
きる。
示す。図３ないし図５に示されるように、真空チャン
バ、ドレンバルブＡＶ３′、そしてトラップタンクバル
ブＡＶ４を相互接続するために二重導管が用いられてい
る。例えば外部導管Ｃ１の外径を４ミリ、内径を３ミリ
とする。内部導管の外径は２ミリで内径は１．５ミリと
なる。もちろんこれらの値はあくまでも有用な寸法の一
例に過ぎない。導管Ｃ１とＣ２の間には環状の空間がで
きる。
【００５２】図４が示すように、真空（空気抜き）サイ
クルにおいて、レジストはトラップタンクから吸入さ
れ、外部導管Ｃ１と内部導管Ｃ２双方を通って導管Ｃと
ラインＶＬを経由した後、真空チャンバまで運ばれる。
図４に示されるように、ドレンラインＤＬは外部導管Ｃ
１のみと連結しており、内部導管Ｃ２とは連結していな
い。
クルにおいて、レジストはトラップタンクから吸入さ
れ、外部導管Ｃ１と内部導管Ｃ２双方を通って導管Ｃと
ラインＶＬを経由した後、真空チャンバまで運ばれる。
図４に示されるように、ドレンラインＤＬは外部導管Ｃ
１のみと連結しており、内部導管Ｃ２とは連結していな
い。
【００５３】図５にドレンサイクルを示す。加圧された
空気が真空チャンバから押し出され、外部導管Ｃ１、内
部導管Ｃ２双方を通ってラインＶＬへ流れる。真空チャ
ンバ及びラインＶＬの導管Ｃ１、Ｃ２の間に生じる環状
空間にあるレジストは、図５の矢印Ｆ１、Ｆ２で示され
るようにそのままドレンされる。しかし、内部導管Ｃ２
はドレンバルブＡＶ３′と直結していないため、真空チ
ャンバとラインＶＬから内部導管Ｃ２に流れ込むレジス
トは、矢印Ｆ３で示されるように導管Ｃ２内でバルブＡ
Ｖ３′を通過し、都合良くトラップタンクバルブＡＶ４
の手前１〜２ミリの地点に流れる。バルブＡＶ４が閉じ
ているため、矢印Ｆ５で示されるようにレジストはその
方向を変換し、矢印Ｆ６が示すように外部導管Ｃ１を通
って折り返しドレンバルブＡＶ３′まで流れる。
空気が真空チャンバから押し出され、外部導管Ｃ１、内
部導管Ｃ２双方を通ってラインＶＬへ流れる。真空チャ
ンバ及びラインＶＬの導管Ｃ１、Ｃ２の間に生じる環状
空間にあるレジストは、図５の矢印Ｆ１、Ｆ２で示され
るようにそのままドレンされる。しかし、内部導管Ｃ２
はドレンバルブＡＶ３′と直結していないため、真空チ
ャンバとラインＶＬから内部導管Ｃ２に流れ込むレジス
トは、矢印Ｆ３で示されるように導管Ｃ２内でバルブＡ
Ｖ３′を通過し、都合良くトラップタンクバルブＡＶ４
の手前１〜２ミリの地点に流れる。バルブＡＶ４が閉じ
ているため、矢印Ｆ５で示されるようにレジストはその
方向を変換し、矢印Ｆ６が示すように外部導管Ｃ１を通
って折り返しドレンバルブＡＶ３′まで流れる。
【００５４】この配置により、トラップタンクからドレ
ンラインＤＬとラインＶＬの接続点まで伸びている導管
Ｃから全てのレジストを効果的に押し出すことができ
る。
ンラインＤＬとラインＶＬの接続点まで伸びている導管
Ｃから全てのレジストを効果的に押し出すことができ
る。
【００５５】図６ないし図８はさらに別の改良例を示す
図である。この配置は、特にドレンサイクルにおいて図
３ないし図５の配置よりも利点を有している。外部導管
Ｃ１と内部導管Ｃ２の寸法及びそれらの配置は、図３な
いし図５が示すものと同一である。しかし、真空チャン
バとドレンラインＤＬ間の環状空間がブロックされてい
る。外径３ミリ、内径２ミリを有する第３の導管Ｃ３
は、外部導管Ｃ１と内部導管Ｃ２との間の環状空間に隙
間なく収まるため、この空間をブロックするには都合が
よい。なおブロックする際には他の適切な部材を使用す
ることも可能である。
図である。この配置は、特にドレンサイクルにおいて図
３ないし図５の配置よりも利点を有している。外部導管
Ｃ１と内部導管Ｃ２の寸法及びそれらの配置は、図３な
いし図５が示すものと同一である。しかし、真空チャン
バとドレンラインＤＬ間の環状空間がブロックされてい
る。外径３ミリ、内径２ミリを有する第３の導管Ｃ３
は、外部導管Ｃ１と内部導管Ｃ２との間の環状空間に隙
間なく収まるため、この空間をブロックするには都合が
よい。なおブロックする際には他の適切な部材を使用す
ることも可能である。
【００５６】図７が示す真空サイクルの配置において、
レジストは実質上内部導管Ｃ２のみを通ってトラップタ
ンクから真空チャンバへと吸引される。図８にドレンサ
イクルを示す。ドレンサイクルが稼働している間、加圧
された空気によって真空チャンバからレジストが押し出
されるが、実質上今回も内部導管Ｃ２のみを通ってトラ
ップタンクバルブＡＶ４の周辺まで運ばれる。バルブＡ
Ｖ４が閉じているため、レジストはその流れを変え、外
部導管Ｃ１と内部導管Ｃ２の間の環状空間を通ってトラ
ップタンクからドレンへ運ばれる。さらに本実施例で
は、両導管に存在する残留レジストは実質上全てドレン
される。気圧は全て内部導管Ｃ２を通って加えられるの
であり、図３ないし図５に示される実施例のように即座
にドレンバルブＡＶ３′に対して加わらないため、より
高いドレン効率が得られる。
レジストは実質上内部導管Ｃ２のみを通ってトラップタ
ンクから真空チャンバへと吸引される。図８にドレンサ
イクルを示す。ドレンサイクルが稼働している間、加圧
された空気によって真空チャンバからレジストが押し出
されるが、実質上今回も内部導管Ｃ２のみを通ってトラ
ップタンクバルブＡＶ４の周辺まで運ばれる。バルブＡ
Ｖ４が閉じているため、レジストはその流れを変え、外
部導管Ｃ１と内部導管Ｃ２の間の環状空間を通ってトラ
ップタンクからドレンへ運ばれる。さらに本実施例で
は、両導管に存在する残留レジストは実質上全てドレン
される。気圧は全て内部導管Ｃ２を通って加えられるの
であり、図３ないし図５に示される実施例のように即座
にドレンバルブＡＶ３′に対して加わらないため、より
高いドレン効率が得られる。
【００５７】本発明のさらなる特徴は、Iwaki社のシス
テムでインジェクタのオリフィスが１ミリ径であるのに
対し、０．５ミリ径のオリフィスを備えている点であ
る。Iwaki社のシステムにおけるバルブは、時折変則的
に開閉することが知られている。本発明は、これら機能
不良はIwaki社のシステムで使用されている１ミリ径の
オリフィスに起因することを発見した。適切なバルブ操
作のためには、主空気ラインに加わる圧力を約４キログ
ラム以上に保つ必要があることが発明者によって発見さ
れた。Iwaki社のシステムはこの圧力を約４．５〜５キ
ログラムと明記しているものの、１ミリ径のオリフィス
を使用するによって主圧力は約０．５キログラムまで低
下する。したがって、加わる圧力は４キログラム以下に
低下し、機能不良を引き起こす。
テムでインジェクタのオリフィスが１ミリ径であるのに
対し、０．５ミリ径のオリフィスを備えている点であ
る。Iwaki社のシステムにおけるバルブは、時折変則的
に開閉することが知られている。本発明は、これら機能
不良はIwaki社のシステムで使用されている１ミリ径の
オリフィスに起因することを発見した。適切なバルブ操
作のためには、主空気ラインに加わる圧力を約４キログ
ラム以上に保つ必要があることが発明者によって発見さ
れた。Iwaki社のシステムはこの圧力を約４．５〜５キ
ログラムと明記しているものの、１ミリ径のオリフィス
を使用するによって主圧力は約０．５キログラムまで低
下する。したがって、加わる圧力は４キログラム以下に
低下し、機能不良を引き起こす。
【００５８】発明者はオリフィスのサイズを０．５ミリ
まで小さくし、圧力低下を減少させることによって機能
不良を回避できることを発見した。圧力低下が約０．１
キログラムに留まったことも観測されている。したがっ
て０．５ミリ径のオリフィスを使用することにより、主
圧力を４．４〜４．９キログラムに保つことができる。
まで小さくし、圧力低下を減少させることによって機能
不良を回避できることを発見した。圧力低下が約０．１
キログラムに留まったことも観測されている。したがっ
て０．５ミリ径のオリフィスを使用することにより、主
圧力を４．４〜４．９キログラムに保つことができる。
【００５９】小さいサイズのオリフィスを使用すること
のさらなる利点は、空気抜きサイクルにおける流れの速
度を弱めることにより、システム中に少しでも残留ミス
トが存在している場合、バルブＡＶ１に吸引され詰まり
の原因となるその残留物の量を減らすことである。
のさらなる利点は、空気抜きサイクルにおける流れの速
度を弱めることにより、システム中に少しでも残留ミス
トが存在している場合、バルブＡＶ１に吸引され詰まり
の原因となるその残留物の量を減らすことである。
【００６０】独自の実施例に関連して本発明を説明した
が、さらに多くの変化、改造や使用法を見いだすことは
当業者にとって自明であろう。したがって本発明は前述
した独自の例によって限定されるものではなく、特許請
求の範囲によってのみ定義される。
が、さらに多くの変化、改造や使用法を見いだすことは
当業者にとって自明であろう。したがって本発明は前述
した独自の例によって限定されるものではなく、特許請
求の範囲によってのみ定義される。
【００６１】
【発明の効果】この発明によれば、真空発生器のベンチ
ュリ管の下流側にある流出口に空気の流れを制御する排
気バルブが取り付けられるとともに、その排気バルブの
下流側に第２真空発生器を設け、排気バルブを介して空
気を吸引することで、ベンチュリ管を通過する空気の流
れを形成することによって真空ライン上に真空を発生さ
せるように構成しているので、第２真空発生器から発生
する真空は排気バルブから下流方向へ向かって加えられ
る負圧を発生させ、真空チャンバ内に空気が入り込み、
万一バルブＡＶ１が詰まった場合でも、レジストと空気
が逆流するのを防止することができる。このため、残留
レジストによって引き起こされる汚濁の可能性を防止ま
たは低下させることができる。
ュリ管の下流側にある流出口に空気の流れを制御する排
気バルブが取り付けられるとともに、その排気バルブの
下流側に第２真空発生器を設け、排気バルブを介して空
気を吸引することで、ベンチュリ管を通過する空気の流
れを形成することによって真空ライン上に真空を発生さ
せるように構成しているので、第２真空発生器から発生
する真空は排気バルブから下流方向へ向かって加えられ
る負圧を発生させ、真空チャンバ内に空気が入り込み、
万一バルブＡＶ１が詰まった場合でも、レジストと空気
が逆流するのを防止することができる。このため、残留
レジストによって引き起こされる汚濁の可能性を防止ま
たは低下させることができる。
【００６２】また、二重または多重配管によって、トラ
ップタンク、ドレンおよび真空チャンバを相互連結し
て、レジストを二重または多重配管を介して真空チャン
バから完全に吸い取り、トラップタンクからドレンバル
ブへ運ぶようにしているので、次の空気抜きサイクルが
始まる時、バブル化する残留レジスをは存在させず、ミ
ストの形成を防止している。
ップタンク、ドレンおよび真空チャンバを相互連結し
て、レジストを二重または多重配管を介して真空チャン
バから完全に吸い取り、トラップタンクからドレンバル
ブへ運ぶようにしているので、次の空気抜きサイクルが
始まる時、バブル化する残留レジスをは存在させず、ミ
ストの形成を防止している。
【００６３】また、ドレンバルブとして、通常閉として
設定されているが一連のドレン操作の間のみ開かれるバ
ルブを用いているので、加わるパワーが誤って失われて
もドレンバルブは開かず、共通のドレンマニホールドを
通って他のモジュールからレジスト及び／または空気が
逆流するのを防止することができる。
設定されているが一連のドレン操作の間のみ開かれるバ
ルブを用いているので、加わるパワーが誤って失われて
もドレンバルブは開かず、共通のドレンマニホールドを
通って他のモジュールからレジスト及び／または空気が
逆流するのを防止することができる。
【００６４】さらに、第２真空発生器において、０．５
ミリ径のオリフィスを用いているので、加圧された空気
を供給する主ラインにかかる圧力の低下を縮小すること
ができる。
ミリ径のオリフィスを用いているので、加圧された空気
を供給する主ラインにかかる圧力の低下を縮小すること
ができる。
【図１】従来のフォトレジスト供給システムの概略図を
示す図である。
示す図である。
【図２】本発明にかかるフォトレジスト供給システムの
一実施形態を示す図である。
一実施形態を示す図である。
【図３】本発明にかかるフォトレジスト供給システムの
改良例を示す図である。
改良例を示す図である。
【図４】図３のフォトレジスト供給システムの動作を示
す図である。
す図である。
【図５】図３のフォトレジスト供給システムの動作を示
す図である。
す図である。
【図６】本発明にかかるフォトレジスト供給システムの
別の改良例を示す図である。
別の改良例を示す図である。
【図７】図６のフォトレジスト供給システムの動作を示
す図である。
す図である。
【図８】図６のフォトレジスト供給システムの動作を示
す図である。
す図である。
ＡＶ 空気式バルブ
ＡＶ１ 排気バルブ
ＡＶ３′ ドレンバルブ
ＡＶ３ 開ドレンバルブ
ＡＶ４ トラップタンクバルブ
Ｂ１，Ｂ２ レジストボトル
Ｃ 導管
Ｃ１ 外部導管
Ｃ２ 内部導管
Ｃ３ 導管
ＤＬ ドレンライン
Ｓ１〜Ｓ３ センサー
ＳＵ 回転ユニット
ＳＶ１，ＳＶ４ ソレノイドバルブ
ＳＶ５ 空気インジェクタバルブ
Ｔ トラップタンク
Ｖ，Ｖ′ 真空発生器
ＶＬ 真空ライン
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平４−197434（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−70838（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−94517（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−205423（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−283184（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−273015（ＪＰ，Ａ)
実開 昭62−37923（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/027
F04F 5/20
G03F 7/16
Claims (9)
- 【請求項１】 レジスト供給源からレジストを受け取
り、前記レジストを供給するためのトラップタンクと、 前記トラップタンクに関連して設けられ、前記トラップ
タンク内の過剰な気体を検知し、それに対して信号を発
生させるセンサーと、 真空ラインを介して前記トラップタンクに接続されてお
り、前記センサー信号に応じて前記真空ラインに真空を
発生させ、前記レジスト供給源からレジストを吸引する
ことによって前記トラップタンクおよび前記真空ライン
にレジストを充填することで、前記トラップタンクから
過剰気体を取り除く真空発生器と、を備えるフォトレジ
スト供給システムにおいて、 前記真空発生器が、 通過する空気の流れに対応し、前記真空ライン上に真空
を発生させるために配置されたベンチュリ管と、 前記ベンチュリ管の下流側にある流出口に接続され、前
記空気の流れを制御する排気バルブと、 前記排気バルブの下流側に設けられ、前記排気バルブを
介して空気を吸引することで、前記ベンチュリ管を通過
する前記空気の流れを形成することによって前記真空ラ
イン上に前記真空を発生させるための第２真空発生器と
を備えることを特徴とする空気抜きシステムを有するフ
ォトレジスト供給システム。 - 【請求項２】 前記第２真空発生器が、真空を発生さ
せ、前記排気バルブを通じて空気を吸引するために設置
された第２ベンチュリ管を備えることを特徴とする請求
項１記載の空気抜きシステムを有するフォトレジスト供
給システム。 - 【請求項３】 前記第２ベンチュリ管が０．５ミリ径の
オリフィスを備えることを特徴とする請求項２記載の空
気抜きシステムを有するフォトレジスト供給システム。 - 【請求項４】 前記第２真空発生器が、約４．５〜５キ
ログラムの公称圧力を有する加圧された空気を受け取
り、前記加圧された空気を前記ベンチュリ管を介して通
過させて前記真空ライン上に前記真空を発生させる流入
口を備え、 前記第２ベンチュリ管が前記公称圧力を受ける間、前記
公称圧力が約４キログラムまたはそれ以上に維持される
ことを特徴とする請求項３記載の空気抜きシステムを有
するフォトレジスト供給システム。 - 【請求項５】 前記真空ラインからレジスト及び／また
は気体を受け取るために接続されたドレンラインと、前
記ドレンラインとドレンとの間の連絡を制御するための
ドレンバルブをさらに備え、 前記ドレンバルブは、エネルギーが加わることによって
開かれる場合を除き前記ドレンと前記ドレンラインとの
間の連絡をブロックするために通常閉として設定され、 前記ベンチュリ管は、上流側に流入口を備え、空気源か
ら加圧された空気を受け取り、前記加圧された空気を送
り込むことによって前記真空ライン、前記ドレンライン
および前記ドレンバルブを通じて前記ドレンまでレジス
トを押し戻すことを特徴とする請求項１記載の空気抜き
システムを有するフォトレジスト供給システム。 - 【請求項６】 前記トラップタンクは、導管によって前
記真空ラインと前記ドレンラインとの接続点へ接続され
るトラックタンクバルブを備え、 前記真空ライン及び導管は、外部導管とその内部に内部
導管を有し、前記外部導管と内部導管の間に環状空間が
存在し、前記内部導管は前記真空発生器と前記トラップ
タンクの間を間断なく伸びており、前記ドレンラインは
前記環状空間と直結しているが、前記内部導管とは直接
接続されておらず、 前記トラップタンクバルブが閉じている間、前記真空ラ
インを通って押し戻された前記レジスト及び／または気
体が前記内部導管を通って前記トラップタンクバルブに
運ばれ、前記環状空間を通って前記ドレンラインまで運
ばれた後、前記ドレンへ押し出されることを特徴とする
請求項５記載の空気抜きシステムを有するフォトレジス
ト供給システム。 - 【請求項７】 レジスト供給源からレジストを受け取
り、前記レジストを供給するためのトラップタンクと、 前記トラップタンクに関連して設けられ、前記トラップ
タンク内の過剰な気体を検知し、それに対して信号を発
生させるセンサーと、 真空ラインを介して前記トラップタンクに接続されてお
り、前記センサー信号に応じて前記真空ラインに真空を
発生させ、前記レジスト供給源からレジストを吸引する
ことによって前記トラップタンクおよび前記真空ライン
にレジストを充填することで、前記トラップタンクから
過剰気体を取り除く真空発生器と、 前記真空ラインからのレジスト及び／または気体を受け
取るため接続されたドレンラインと、 前記ドレンラインとドレンとの間の連絡を制御するため
のドレンバルブと、を備えるフォトレジスト供給システ
ムにおいて、 前記真空発生器は、上流側に設けられ、空気源から加圧
された空気を受け取り、前記加圧された空気を送り込む
ことによって前記真空ライン、前記ドレンラインおよび
前記ドレンバルブを通じて前記ドレンまでレジストを押
し戻す流入口を備え、 前記トラップタンクは、導管によって前記真空ラインと
前記ドレンラインとの接続点へ接続されるトラップタン
クバルブを備え、 前記真空ライン及び導管は、外部導管とその内部に内部
導管を有し、前記外部導管と内部導管の間に環状空間が
存在し、前記内部導管は前記真空発生器と前記トラップ
タンクの間を間断なく伸びており、前記ドレンラインは
前記環状空間と直結しているが、前記内部導管とは直接
接続されておらず、 前記トラップタンクバルブが閉じている間、前記真空ラ
インを通って押し戻された前記レジスト及び／または気
体が前記内部導管を通って前記トラップタンクバルブに
運ばれ、前記環状空間を通って前記ドレンラインまで運
ばれた後、前記ドレンへ押し出されることを特徴とする
空気抜きシステムを有するフォトレジスト供給システ
ム。 - 【請求項８】 前記真空発生器が、 通過する空気の流れに対応し、前記真空ライン上に真空
を発生させるために配置されたベンチュリ管と、 前記ベンチュリ管の下流側にある流出口に接続され、前
記空気の流れを制御する排気バルブと、 前記排気バルブの下流側に設けられ、前記排気バルブを
介して空気を吸引し、前記ベンチュリ管を通過する前記
空気の流れを形成することによって前記真空ライン上に
前記真空を発生させるための第２真空発生器と、を備え
ることを特徴とする請求項７記載の空気抜きシステムを
有するフォトレジスト供給システム。 - 【請求項９】 前記ドレンバルブは、エネルギーが加わ
ることによって開かれる場合を除き、前記ドレンと前記
ドレンラインとの間の連絡をブロックするために通常閉
として設定されていることを特徴とする請求項７記載の
空気抜きシステムを有するフォトレジスト供給システ
ム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/379,886 US5618348A (en) | 1995-01-27 | 1995-01-27 | Air elimination system |
| US08/379,886 | 1995-01-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08250412A JPH08250412A (ja) | 1996-09-27 |
| JP3373713B2 true JP3373713B2 (ja) | 2003-02-04 |
Family
ID=23499111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00922096A Expired - Fee Related JP3373713B2 (ja) | 1995-01-27 | 1996-01-23 | 空気抜きシステムを有するフォトレジスト供給システム |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5618348A (ja) |
| JP (1) | JP3373713B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW535216B (en) * | 1996-09-13 | 2003-06-01 | Tokyo Electron Ltd | Photoresist processing method and photoresist processing system |
| JP3890229B2 (ja) * | 2001-12-27 | 2007-03-07 | 株式会社コガネイ | 薬液供給装置および薬液供給装置の脱気方法 |
| EP1539637A4 (en) * | 2002-09-09 | 2010-07-28 | Gen Nanotechnology Llc | FLUID DELIVERY FOR MICROSCOPY PROBE SCAN |
| US20060130767A1 (en) | 2004-12-22 | 2006-06-22 | Applied Materials, Inc. | Purged vacuum chuck with proximity pins |
| US7699021B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-04-20 | Sokudo Co., Ltd. | Cluster tool substrate throughput optimization |
| US7798764B2 (en) | 2005-12-22 | 2010-09-21 | Applied Materials, Inc. | Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool |
| US7819079B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-10-26 | Applied Materials, Inc. | Cartesian cluster tool configuration for lithography type processes |
| US7651306B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-01-26 | Applied Materials, Inc. | Cartesian robot cluster tool architecture |
| JP5841007B2 (ja) * | 2012-05-28 | 2016-01-06 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎセミコンダクターソリューションズ | 薬液供給方法と基板処理装置 |
| US9446331B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-09-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | System and method for dispensing photoresist |
| SG11201506968QA (en) | 2013-03-15 | 2015-10-29 | Halton Group Ltd Oy | Water spray fume cleansing with demand-based operation |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5316181A (en) * | 1990-01-29 | 1994-05-31 | Integrated Designs, Inc. | Liquid dispensing system |
-
1995
- 1995-01-27 US US08/379,886 patent/US5618348A/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-01-23 JP JP00922096A patent/JP3373713B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| US5618348A (en) | 1997-04-08 |
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