JP3358094B2 - レーザープラズマｘ線源 - Google Patents
レーザープラズマｘ線源Info
- Publication number
- JP3358094B2 JP3358094B2 JP06843793A JP6843793A JP3358094B2 JP 3358094 B2 JP3358094 B2 JP 3358094B2 JP 06843793 A JP06843793 A JP 06843793A JP 6843793 A JP6843793 A JP 6843793A JP 3358094 B2 JP3358094 B2 JP 3358094B2
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線露光装置、Ｘ線顕
微鏡、Ｘ線分析装置等に用いられるＸ線源に関するもの
である。
微鏡、Ｘ線分析装置等に用いられるＸ線源に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線源として、標的物質にレーザー光を
照射して該標的物質をプラズマ化し、このプラズマから
Ｘ線を発生させるレーザープラズマＸ線源が知られてい
る。また、標的物質を帯状に形成してこれを巻き取りな
がらレーザー光を照射する場合もあった。図６、７に示
すように、従来のレーザープラズマＸ線源においては、
標的物質を帯状に形成したテープ状の標的を用いる場
合、このテープ状標的の走行中に標的のレーザー光軸方
向の位置が変動しないように、またテープ状標的を交換
した後でも標的の位置が変化しないように、レーザー光
が通過できるスリットの開いている押さえ板と標的物質
の飛散物質が通過できるスリットの開いている押さえ板
とによって挟み込むように構成されていた。
照射して該標的物質をプラズマ化し、このプラズマから
Ｘ線を発生させるレーザープラズマＸ線源が知られてい
る。また、標的物質を帯状に形成してこれを巻き取りな
がらレーザー光を照射する場合もあった。図６、７に示
すように、従来のレーザープラズマＸ線源においては、
標的物質を帯状に形成したテープ状の標的を用いる場
合、このテープ状標的の走行中に標的のレーザー光軸方
向の位置が変動しないように、またテープ状標的を交換
した後でも標的の位置が変化しないように、レーザー光
が通過できるスリットの開いている押さえ板と標的物質
の飛散物質が通過できるスリットの開いている押さえ板
とによって挟み込むように構成されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】テープ状の標的物質ま
たは標的物質が被覆されたテープ状の基板が金属などの
材料で形成されている場合、レーザー光を照射すると標
的または基板の照射位置には穴があき、その穴の周囲に
はレーザー光照射方向およびその反対方向に向かってバ
リができてしまう。上記のような技術においては、テー
プ状の標的物質または基板を往復走行させて使用する場
合、前回の走行時にできたバリのため標的の位置決め用
の部材（例えば押さえ板）に引っかかったり、バリの厚
さのために標的の位置がずれてしまい、発生するプラズ
マすなわちＸ線源の位置がずれてしまうという問題があ
った。本発明は、このような問題を解決することを目的
とする。
たは標的物質が被覆されたテープ状の基板が金属などの
材料で形成されている場合、レーザー光を照射すると標
的または基板の照射位置には穴があき、その穴の周囲に
はレーザー光照射方向およびその反対方向に向かってバ
リができてしまう。上記のような技術においては、テー
プ状の標的物質または基板を往復走行させて使用する場
合、前回の走行時にできたバリのため標的の位置決め用
の部材（例えば押さえ板）に引っかかったり、バリの厚
さのために標的の位置がずれてしまい、発生するプラズ
マすなわちＸ線源の位置がずれてしまうという問題があ
った。本発明は、このような問題を解決することを目的
とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的のために、本発
明では、第１に、帯状に形成された標的物質を巻取るた
めのモータと、該標的物質をプラズマ化するためのレ−
ザ−と、該標的物質のレ−ザ−光軸方向の位置が変動し
ないように該標的物質を保持するための保持手段と、を
有するレーザープラズマＸ線源であって、前記保持手段
が略コの字型の押さえ板を有し、該押さえ板が前記標的
物質と接触する接触部の間隔が照射されるレ−ザ−光の
光径よりも大きいことを特徴とする、レーザープラズマ
Ｘ線源とした。また、第２として帯状に形成された標的
物質を巻取るためのモータと、該標的物質をプラズマ化
するためのレ−ザ−と、該標的物質のレ−ザ−光軸方向
の位置が変動しないように該標的物質を保持するための
保持手段と、を有するレーザープラズマＸ線源であっ
て、前記保持手段が櫛型の押さえ板を有し、該押さえ板
が前記標的物質と接触する接触部の間隔が照射されるレ
−ザ−光の光径よりも大きいことを特徴とする、レーザ
ープラズマＸ線源とした。さらに、第３に上記第１又は
第２の手段を用いたレーザープラズマX線源において、
前記保持手段が、前記標的物質に張力を与えることで該
押さえ板に前記標的物質を押し付けて該物質を保持する
ことを特徴とするレーザープラズマX線源。
明では、第１に、帯状に形成された標的物質を巻取るた
めのモータと、該標的物質をプラズマ化するためのレ−
ザ−と、該標的物質のレ−ザ−光軸方向の位置が変動し
ないように該標的物質を保持するための保持手段と、を
有するレーザープラズマＸ線源であって、前記保持手段
が略コの字型の押さえ板を有し、該押さえ板が前記標的
物質と接触する接触部の間隔が照射されるレ−ザ−光の
光径よりも大きいことを特徴とする、レーザープラズマ
Ｘ線源とした。また、第２として帯状に形成された標的
物質を巻取るためのモータと、該標的物質をプラズマ化
するためのレ−ザ−と、該標的物質のレ−ザ−光軸方向
の位置が変動しないように該標的物質を保持するための
保持手段と、を有するレーザープラズマＸ線源であっ
て、前記保持手段が櫛型の押さえ板を有し、該押さえ板
が前記標的物質と接触する接触部の間隔が照射されるレ
−ザ−光の光径よりも大きいことを特徴とする、レーザ
ープラズマＸ線源とした。さらに、第３に上記第１又は
第２の手段を用いたレーザープラズマX線源において、
前記保持手段が、前記標的物質に張力を与えることで該
押さえ板に前記標的物質を押し付けて該物質を保持する
ことを特徴とするレーザープラズマX線源。
【０００５】
【作用】本発明では、押さえ板が標的にできたバリに当
たらないように抉られているので、押さえ板に引っかか
ったり、バリの厚みのためにプラズマ生成位置か変動し
ない。そのため、Ｘ線の発生位置を一定にすることがで
きる。本発明では、テープ状の標的物質または基板を挟
み込む押さえ板をそれぞれ凹形状にし、標的の走行方向
に平行にかつ走行方向と直行する方向の標的の両端を挟
み込む構造としてある。また、標的を挟み込む押さえ板
を櫛形として、標的の走行方向に平行に、少なくともレ
ーザー光の集光径よりは離して、複数の位置で標的を挟
み込む構造とし、レーザー光が標的を挟み込んでいる部
所の間に照射されるようにした。さらに、凹形または櫛
形の押さえ板を１つのみ用い、テープ状標的をバネなど
によって張力を与え押さえ板に押しつけるようにした。
たらないように抉られているので、押さえ板に引っかか
ったり、バリの厚みのためにプラズマ生成位置か変動し
ない。そのため、Ｘ線の発生位置を一定にすることがで
きる。本発明では、テープ状の標的物質または基板を挟
み込む押さえ板をそれぞれ凹形状にし、標的の走行方向
に平行にかつ走行方向と直行する方向の標的の両端を挟
み込む構造としてある。また、標的を挟み込む押さえ板
を櫛形として、標的の走行方向に平行に、少なくともレ
ーザー光の集光径よりは離して、複数の位置で標的を挟
み込む構造とし、レーザー光が標的を挟み込んでいる部
所の間に照射されるようにした。さらに、凹形または櫛
形の押さえ板を１つのみ用い、テープ状標的をバネなど
によって張力を与え押さえ板に押しつけるようにした。
【０００６】
【実施例１】本発明の第一の実施例を図１、図２に示
す。図２は図１のスリット部の断面をＤの方向から見た
ものである。基板１上に標的押さえ板２が固定されてい
る。押さえ板３は、同じく基板１上に固定されている部
材４に取り付けられたバネ７によって、押さえ板２に向
かって押しつけられている。テープ状標的５は、テープ
面の法線方向に動かないように押さえ板２および３によ
ってテープの幅方向の両端で挟み込まれている。標的５
の厚さは、数μｍから数100 μｍである。テープ状標的
５はモーター駆動により回転するリール（図には示して
いない）によって巻取られ、図中のＡまたはＢどちらの
方向へも移動することができる。押さえ板２、３および
部材４にはレーザー光やレーザー光照射時に標的から吹
き出す飛散粒子（イオンや微小粒子）１１が通過できる
ようにスリットが設けられている。基板１はテープ状標
的５を往復させて使用できるように移動ステージ（図に
は示していない）に取り付けられ、Ｃ方向に移動できる
ようになっている。図１に示す状態はテープ状標的５を
Ａ方向に巻取りながらレーザー光６を照射してＸ線を発
生させてテープ状標的５を全て巻取り終わった後、基板
１をＣ方向に少なくとも以前のレーザー照射によりでき
た穴に当たらないだけの距離を移動させ、さらにテープ
状標的５をＢ方向に巻取りながらレーザー光を照射して
いるところである。この時、Ａ方向へ巻取りながらレー
ザー照射したときに生じたテープ状標的５上のバリ８
が、押さえ板２、３に当たらないように押さえ板２、３
を略コの字型に削って、テープ状標的５の幅方向の両端
部のみで標的５を押さえるようにした。
す。図２は図１のスリット部の断面をＤの方向から見た
ものである。基板１上に標的押さえ板２が固定されてい
る。押さえ板３は、同じく基板１上に固定されている部
材４に取り付けられたバネ７によって、押さえ板２に向
かって押しつけられている。テープ状標的５は、テープ
面の法線方向に動かないように押さえ板２および３によ
ってテープの幅方向の両端で挟み込まれている。標的５
の厚さは、数μｍから数100 μｍである。テープ状標的
５はモーター駆動により回転するリール（図には示して
いない）によって巻取られ、図中のＡまたはＢどちらの
方向へも移動することができる。押さえ板２、３および
部材４にはレーザー光やレーザー光照射時に標的から吹
き出す飛散粒子（イオンや微小粒子）１１が通過できる
ようにスリットが設けられている。基板１はテープ状標
的５を往復させて使用できるように移動ステージ（図に
は示していない）に取り付けられ、Ｃ方向に移動できる
ようになっている。図１に示す状態はテープ状標的５を
Ａ方向に巻取りながらレーザー光６を照射してＸ線を発
生させてテープ状標的５を全て巻取り終わった後、基板
１をＣ方向に少なくとも以前のレーザー照射によりでき
た穴に当たらないだけの距離を移動させ、さらにテープ
状標的５をＢ方向に巻取りながらレーザー光を照射して
いるところである。この時、Ａ方向へ巻取りながらレー
ザー照射したときに生じたテープ状標的５上のバリ８
が、押さえ板２、３に当たらないように押さえ板２、３
を略コの字型に削って、テープ状標的５の幅方向の両端
部のみで標的５を押さえるようにした。
【０００７】本実施例では標的押さえ板３を標的押さえ
板２に押しつけるためにバネの弾性力を使用したが、こ
の他に静電力や磁力等を利用して押さえつけるようにし
ても良い。なお、図１には示していないが、レーザー光
が標的押さえ板２、３および部材４のスリットを通るこ
とができるように、またレーザーの焦点位置に標的５が
位置するように調整する移動ステージが設けられている
ものとする。
板２に押しつけるためにバネの弾性力を使用したが、こ
の他に静電力や磁力等を利用して押さえつけるようにし
ても良い。なお、図１には示していないが、レーザー光
が標的押さえ板２、３および部材４のスリットを通るこ
とができるように、またレーザーの焦点位置に標的５が
位置するように調整する移動ステージが設けられている
ものとする。
【０００８】
【実施例２】本発明の第２の実施例を図３、４に示す。
図４は図３のレーザー光導入孔部１３の断面をＤの方向
から見たものである。基板１上に標的押さえ板９が固定
されている。押さえ板１０は、同じく基板１上に固定さ
れている部材４に取り付けられたバネ７によって、押さ
え板９に向かって押しつけられている。本実施例では押
さえ板を櫛状にして、レーザー光が照射される極近傍で
テープ状標的の移動方向に平行にテープ状標的を挟み込
むようにした。レーザー光は、押さえ板９、１０によっ
て挟み込まれている部分の間（以下、レーザー光照明可
能領域と呼ぶ）に入射し、テープ状標的５を照明するよ
うに調整されている。図３に示した状態は、まずテープ
状標的５をＡ方向に巻取りながらレーザー光を最上部の
レーザー光照明可能領域に照明してＸ線を発生させ、テ
ープ状標的５の巻取りが終了した後、基板１の下に取り
付けられた移動ステージ（図には示していない）によ
り、レーザー光が次のレーザー光照明可能領域に入射す
るように基板１をＣ方向に移動させ、今度は逆にＢ方向
にテープ状標的を巻取りながらレーザー光６を照射して
いるところである。押さえ板９にはレーザー光が通過で
きるようにレーザー導入孔がレーザー光照明可能領域の
数だけ開けられている（図では４箇所としてある）。押
さえ板１０および部材４にはテープ状標的５から放出さ
れる飛散粒子１１がレーザー照射方向とは反対側に通り
抜けられるように貫通穴またはスリットが設けられてい
る。
図４は図３のレーザー光導入孔部１３の断面をＤの方向
から見たものである。基板１上に標的押さえ板９が固定
されている。押さえ板１０は、同じく基板１上に固定さ
れている部材４に取り付けられたバネ７によって、押さ
え板９に向かって押しつけられている。本実施例では押
さえ板を櫛状にして、レーザー光が照射される極近傍で
テープ状標的の移動方向に平行にテープ状標的を挟み込
むようにした。レーザー光は、押さえ板９、１０によっ
て挟み込まれている部分の間（以下、レーザー光照明可
能領域と呼ぶ）に入射し、テープ状標的５を照明するよ
うに調整されている。図３に示した状態は、まずテープ
状標的５をＡ方向に巻取りながらレーザー光を最上部の
レーザー光照明可能領域に照明してＸ線を発生させ、テ
ープ状標的５の巻取りが終了した後、基板１の下に取り
付けられた移動ステージ（図には示していない）によ
り、レーザー光が次のレーザー光照明可能領域に入射す
るように基板１をＣ方向に移動させ、今度は逆にＢ方向
にテープ状標的を巻取りながらレーザー光６を照射して
いるところである。押さえ板９にはレーザー光が通過で
きるようにレーザー導入孔がレーザー光照明可能領域の
数だけ開けられている（図では４箇所としてある）。押
さえ板１０および部材４にはテープ状標的５から放出さ
れる飛散粒子１１がレーザー照射方向とは反対側に通り
抜けられるように貫通穴またはスリットが設けられてい
る。
【０００９】このようにすると前回のテープ状標的巻取
り時に発生したバリ８は、押さえ板９、１０が櫛状であ
るため押さえ板に当たることない。従って、バリ８が押
さえ板に引っかかってテープ状標的の走行が止まった
り、テープ状標的の位置がレーザー光軸方向に変動して
しまうことがない。またこの場合、テープ状標的５を押
さえる場所が、レーザー光が照射される位置の極近傍に
する事ができるため、テープ状標的のシワ等の影響を低
減でき、レーザー光軸方向の位置精度が実施例１の場合
よりも向上する。
り時に発生したバリ８は、押さえ板９、１０が櫛状であ
るため押さえ板に当たることない。従って、バリ８が押
さえ板に引っかかってテープ状標的の走行が止まった
り、テープ状標的の位置がレーザー光軸方向に変動して
しまうことがない。またこの場合、テープ状標的５を押
さえる場所が、レーザー光が照射される位置の極近傍に
する事ができるため、テープ状標的のシワ等の影響を低
減でき、レーザー光軸方向の位置精度が実施例１の場合
よりも向上する。
【００１０】本実施例では標的押さえ板１０を標的押さ
え板９に押しつけるのにバネの弾性力を使用したが、こ
の他に静電力や磁力等を利用して押さえつけるようにし
ても良い。なお、図３には示していないがレーザー光が
標的押さえ板９、１０および部材４の貫通孔やスリット
を通ることができるように、またレーザーの焦点位置に
標的５が位置するように調整する移動ステージが取り付
けられているものとする。
え板９に押しつけるのにバネの弾性力を使用したが、こ
の他に静電力や磁力等を利用して押さえつけるようにし
ても良い。なお、図３には示していないがレーザー光が
標的押さえ板９、１０および部材４の貫通孔やスリット
を通ることができるように、またレーザーの焦点位置に
標的５が位置するように調整する移動ステージが取り付
けられているものとする。
【００１１】以上の実施例ではテープ状標的５を２つの
押さえ板によって挟み込むことによってレーザー光がテ
ープ状標的に当たるレーザー光軸方向の位置を固定して
いたが、図５に示すようにテープ状標的に適当な張力を
与えて押さえ板１２に押しつけるようにしてもよい。こ
の場合、押さえ板は１つ設けるだけで済み、図５に示す
ように押さえ板１２は基板１に固定され、テープ状標的
が当たる部分は、走行がスムーズになるように緩やかに
湾曲する。押さえ板１２のレーザー光が照射されるとこ
ろは、上述のようにテープ状標的の走行方向に平行にコ
の字形または櫛状に削られている。（図では櫛形になっ
ている。）また、押さえ板１２のレーザー光が照射され
るところには、標的から発生する飛散粒子を通過させる
ために貫通穴が開けられている。テープ状標的は、弛ま
ずに常に押さえ板１２に接しており、しかもシワになら
ないようにバネなどの任意の手段で適当な力で引っ張ら
れている。また、上記各実施例ではテープ状標的に垂直
にレーザー光が入射しているが、この入射方向は任意で
よい。
押さえ板によって挟み込むことによってレーザー光がテ
ープ状標的に当たるレーザー光軸方向の位置を固定して
いたが、図５に示すようにテープ状標的に適当な張力を
与えて押さえ板１２に押しつけるようにしてもよい。こ
の場合、押さえ板は１つ設けるだけで済み、図５に示す
ように押さえ板１２は基板１に固定され、テープ状標的
が当たる部分は、走行がスムーズになるように緩やかに
湾曲する。押さえ板１２のレーザー光が照射されるとこ
ろは、上述のようにテープ状標的の走行方向に平行にコ
の字形または櫛状に削られている。（図では櫛形になっ
ている。）また、押さえ板１２のレーザー光が照射され
るところには、標的から発生する飛散粒子を通過させる
ために貫通穴が開けられている。テープ状標的は、弛ま
ずに常に押さえ板１２に接しており、しかもシワになら
ないようにバネなどの任意の手段で適当な力で引っ張ら
れている。また、上記各実施例ではテープ状標的に垂直
にレーザー光が入射しているが、この入射方向は任意で
よい。
【００１２】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、テープ状
標的を走行方向に平行に、かつテープの幅方向の両端で
挟み込んでいるので、テープ状標的を往復走行させて使
用する場合、前回の走行時にレーザー光の照射によって
標的上にできたバリがテープ状標的押さえ板に当たらな
い。そのため、テープ状標的が押さえ板に引っかかって
走行の停止や標的の位置が不安定になることがない。ま
た、図３、４に示す実施例ではテープ状標的を押さえ込
むのがレーザー照射位置の極近傍であるため、標的の歪
みやシワの影響を受けにくく、テープ状標的のレーザー
光軸方向の位置精度が良くなるという利点がある。さら
に図５の実施例によれば押さえ板を１つで済ませること
ができる。
標的を走行方向に平行に、かつテープの幅方向の両端で
挟み込んでいるので、テープ状標的を往復走行させて使
用する場合、前回の走行時にレーザー光の照射によって
標的上にできたバリがテープ状標的押さえ板に当たらな
い。そのため、テープ状標的が押さえ板に引っかかって
走行の停止や標的の位置が不安定になることがない。ま
た、図３、４に示す実施例ではテープ状標的を押さえ込
むのがレーザー照射位置の極近傍であるため、標的の歪
みやシワの影響を受けにくく、テープ状標的のレーザー
光軸方向の位置精度が良くなるという利点がある。さら
に図５の実施例によれば押さえ板を１つで済ませること
ができる。
【図１】は、本発明による装置の第１の実施例の斜視図
である。
である。
【図２】は、図１のレーザー光導入用スリット部の断面
図である。
図である。
【図３】は、本発明の第２の実施例の斜視図である。
【図４】は、図３のレーザー光導入孔における断面図で
ある。
ある。
【図５】は、第３の実施例の斜視図である。
【図６】は、従来例の構成を示す斜視図である。
【図７】は、図６のレーザー光導入用スリット部の断面
図である。
図である。
１ 基板 ２ テープ状標的押さえ板 ３ テープ状標的押さえ板 ４ 部材 ５ テープ状標的 ６ レーザー光 ７ バネ ８ バリ ９ テープ状標的押さえ板 １０ テープ状標的押さえ板 １１ 飛散粒子 １２ テープ状標的押さえ板 １３ レーザー光導入孔 １４ 穴
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G21K 5/08 H05G 2/00
Claims (3)
- 【請求項１】 帯状に形成された標的物質を巻取るため
のモータと、 該標的物質をプラズマ化するためのレ−ザ−と、 該標的物質のレ−ザ−光軸方向の位置が変動しないよう
に該標的物質を保持するための保持手段と、 を有するレーザープラズマＸ線源であって、 前記保持手段が略コの字型の押さえ板を有し、該押さえ
板が前記標的物質と接触する接触部の間隔が照射される
レ−ザ−光の光径よりも大きいことを特徴とする、 レーザープラズマＸ線源。 - 【請求項２】 帯状に形成された標的物質を巻取るため
のモータと、 該標的物質をプラズマ化するためのレ−ザ−と、 該標的物質のレ−ザ−光軸方向の位置が変動しないよう
に該標的物質を保持するための保持手段と、 を有するレーザープラズマＸ線源であって、 前記保持手段が櫛型の押さえ板を有し、該押さえ板が前
記標的物質と接触する接触部の間隔が照射されるレ−ザ
−光の光径よりも大きいことを特徴とする、 レーザープラズマＸ線源。 - 【請求項３】請求項１または２に記載のレーザープラズ
マX線源において、 前記保持手段が、前記標的物質に張力を与えることで該
押さえ板に前記標的物質を押し付けて該物質を保持する
ことを特徴とするレーザープラズマX線源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06843793A JP3358094B2 (ja) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | レーザープラズマｘ線源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06843793A JP3358094B2 (ja) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | レーザープラズマｘ線源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06281799A JPH06281799A (ja) | 1994-10-07 |
| JP3358094B2 true JP3358094B2 (ja) | 2002-12-16 |
Family
ID=13373690
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06843793A Expired - Lifetime JP3358094B2 (ja) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | レーザープラズマｘ線源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3358094B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3385644B2 (ja) * | 1993-03-26 | 2003-03-10 | 株式会社ニコン | レーザープラズマｘ線源 |
| JP4641139B2 (ja) * | 2002-12-10 | 2011-03-02 | 財団法人電力中央研究所 | 高エネルギー粒子の発生方法および高エネルギー粒子発生装置 |
| JP5429951B2 (ja) * | 2007-04-27 | 2014-02-26 | ギガフォトン株式会社 | Ｅｕｖ光発生装置におけるターゲット供給装置 |
-
1993
- 1993-03-26 JP JP06843793A patent/JP3358094B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06281799A (ja) | 1994-10-07 |
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