JP3356966B2 - Transparent conductive film, method of manufacturing the same, and display device - Google Patents

Transparent conductive film, method of manufacturing the same, and display device

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JP3356966B2
JP3356966B2 JP17742697A JP17742697A JP3356966B2 JP 3356966 B2 JP3356966 B2 JP 3356966B2 JP 17742697 A JP17742697 A JP 17742697A JP 17742697 A JP17742697 A JP 17742697A JP 3356966 B2 JP3356966 B2 JP 3356966B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、特に陰極線管やプ
ラズマディスプレイなどの表示面に用いて優れた帯電防
止効果と電磁波遮蔽効果とを有し、透過画像の色相が自
然で、耐塩水性、耐酸化性、耐紫外線性などの耐久性に
も優れた透明導電膜とその製造方法、およびこの透明導
電膜を表示面に形成した表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention has an excellent antistatic effect and an excellent electromagnetic wave shielding effect particularly when used on a display surface of a cathode ray tube, a plasma display or the like, and has a natural hue of a transmitted image, a salt water resistance and an acid resistance. The present invention relates to a transparent conductive film excellent in durability such as chemical resistance and ultraviolet resistance, a method for manufacturing the same , and a display device having the transparent conductive film formed on a display surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、TVブラウン管やコンピュータの
ディスプレイなどとして用いられている陰極線管は、赤
色、緑色、青色に発光する蛍光面に電子ビームを射突さ
せることによって文字や画像を表示面に映し出すもので
あるから、この表示面に発生する静電気により埃が付着
して視認性が低下する他、電磁波を輻射して環境に影響
を及ぼす惧れがある。また最近、壁掛けテレビなどとし
ての応用が進められているプラズマディスプレイにおい
ても、静電気の発生や電磁波輻射の可能性が指摘されて
いる。
2. Description of the Related Art At present, a cathode ray tube used as a TV cathode ray tube or a computer display projects characters and images on a display surface by projecting an electron beam on a phosphor screen emitting red, green and blue light. Therefore, there is a fear that dust adheres to the display surface due to static electricity generated on the display surface to lower visibility, and that the environment is affected by radiating electromagnetic waves. Recently, it has been pointed out that a plasma display, which is being applied to a wall-mounted television or the like, may generate static electricity or emit electromagnetic waves.

【0003】これらの問題を解決するため、従来は、表
示装置の表示面上に、銀、金などの微粒子を液中に分散
させた塗布液を塗布し乾燥するか、またはスパッタ法や
蒸着法によって、導電性の透明金属薄膜を形成し、この
透明金属薄膜の上層および/または下層に、これとは屈
折率が異なる透明薄膜を積層して電磁波遮蔽、帯電防
止、ならびに反射防止を図っている。
In order to solve these problems, conventionally, a coating liquid in which fine particles such as silver and gold are dispersed in a liquid is applied to a display surface of a display device and dried, or a sputtering method or a vapor deposition method is used. Thus, a conductive transparent metal thin film is formed, and a transparent thin film having a different refractive index from that of the transparent metal thin film is laminated on the upper and / or lower layers of the transparent metal thin film so as to shield electromagnetic waves, prevent charging, and prevent reflection. .

【0004】例えば特開平8−77832号公報には、
電磁波遮蔽効果と反射防止効果に優れた透明導電膜とし
て、平均粒径2〜200nmの少なくとも銀を含む金属
微粒子による透明金属薄膜と、これと屈折率が異なる透
明被膜とからなるものが提案されている。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-77832 discloses that
As a transparent conductive film excellent in an electromagnetic wave shielding effect and an antireflection effect, a transparent metal thin film made of a metal fine particle containing at least silver having an average particle diameter of 2 to 200 nm and a transparent film having a different refractive index from the transparent metal thin film have been proposed. I have.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの方法
では、電磁波遮蔽効果は期待できるものの、金属の光透
過スペクトルに依存して透過光の特定波長に吸収が生
じ、導電膜が着色し、透過画像の色相が不自然に変化す
るという問題、膜表面を金属片などで擦りつけるスクラ
ッチ強度試験によりキズが発生し易いという問題、なら
びに塩水中に3日以上浸漬すると導電膜の表面抵抗値が
上昇し電磁波遮蔽効果が低下するので、海岸など塩霧の
影響を受け易い場所での使用には注意を要するなどの問
題が解決されなかった。本発明は、上記の課題を解決す
るためになされたものであって、従ってその目的は、透
明度が高く電磁波遮蔽効果および帯電防止効果に優れ、
透過画像の色相が自然で、耐塩水性に代表される耐久性
にも優れ、更にはスクラッチ強度も改善された透明導電
とその製造方法、およびこの透明導電膜が表示面に形
成された表示装置を提供することにある。
However, in these methods, although an electromagnetic wave shielding effect can be expected, absorption occurs at a specific wavelength of the transmitted light depending on the light transmission spectrum of the metal, and the conductive film is colored, and The problem that the color of the image changes unnaturally, the problem that the film surface is easily scratched by a scratch strength test in which the film surface is rubbed with a metal piece, and the surface resistance of the conductive film increases when immersed in salt water for 3 days or more. However, since the electromagnetic wave shielding effect is reduced, the problem that attention must be paid to use in a place susceptible to salt fog, such as a seashore, has not been solved. The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and therefore, the object thereof is to have high transparency and excellent electromagnetic wave shielding effect and antistatic effect,
Transparent conductive film with natural hue of transmitted image, excellent durability represented by salt water resistance, and improved scratch strength, method for producing the same , and display device having the transparent conductive film formed on a display surface Is to provide.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明は、次の様な透明導電膜とその製造方法お
よび表示装置を提供する。 すなわち、本発明の透明導電
膜は、平均粒径が50nm以下のルテニウム微粒子を含
む塗料を表示面に塗布することにより形成され、ルテニ
ウム微粒子を10重量%以上含有する透明導電層を有す
ことを特徴とする。 前記塗料は、平均粒径が100n
m以下のシリカ微粒子を前記ルテニウム微粒子に対して
1重量%〜60重量%含有したものであることが好まし
い。 前記塗料は、平均粒径が50nm以下の金微粒子お
よび/または平均粒径が50nm以下の銀微粒子を含有
したものであることが好ましい。 前記透明導電層は、前
記塗料を塗布した後、150℃〜250℃の温度で焼付
けることにより形成したものであることが好ましい。
記透明導電層の上層および/または下層には、前記透明
導電層の屈折率とは異なる屈折率を有する透明薄膜
層以上設けてなることが好ましい。前記透明薄膜は、M
(OR) m n (式中、MはSiであり、RはC 1 〜C 4
アルキル基であり、mは1〜4の整数であり、nは0〜
3の整数であり、かつm+nは4である)で表される化
合物を用いて形成されたSiO 2 膜であることが好まし
い。前記透明導電膜の最外層には、凹凸を有する透明薄
膜が設けられていることが好ましい。前記透明導電膜の
少なくとも1層には、着色材が含有されていることが好
ましい。前記透明導電膜の少なくとも1層は透明導電層
であり、この透明導電層における前記着色材の配合量
は、前記ルテニウム微粒子の含有量に対して20重量%
以下であることが好ましい。 前記着色材のモル吸光係数
は10より大であることが好ましい。 本発明の透明導電
膜の製造方法は、ルテニウム微粒子及びシリカ微粒子を
含有してなる透明導電層を有する透明導電膜の製造方法
であって、平均粒径が50n m以下のルテニウム微粒子
と、該ルテニウム微粒子に対して1重量%〜60重量%
の平均粒径が100nm以下のシリカ微粒子とを含む塗
料を塗布した後、150℃〜250℃の温度で焼付ける
ことを特徴とする。 前記塗料は、平均粒径が50nm以
下の金微粒子および/または平均粒径が50nm以下の
銀微粒子を含有することが好ましい。 本発明の表示装置
は、本発明の透明導電膜が表示面上に形成されたもので
あることが好ましい。
In order to solve the above problems , the present invention provides the following transparent conductive film, a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing the same.
And a display device. That is, the transparent conductive material of the present invention
The film contains ruthenium fine particles having an average particle size of 50 nm or less.
Is formed by applying paint on the display surface.
And a transparent conductive layer containing 10% by weight or more of fine particles of aluminum . The coating has an average particle size of 100 n.
m or less of the silica fine particles with respect to the ruthenium fine particles.
Preferably, it contains 1% to 60% by weight.
No. The coating material includes fine gold particles having an average particle size of 50 nm or less.
And / or contains silver fine particles having an average particle size of 50 nm or less
It is preferable that they are obtained. The transparent conductive layer is
After applying the paint, bake at a temperature of 150 ° C to 250 ° C
It is preferable that the film is formed by cutting. Previous
The upper and / or lower layer of the serial transparent conductive layer, a transparent thin film having a refractive index different from the refractive index of the transparent conductive layer 1
It is preferable to provide at least two layers. The transparent thin film is made of M
(OR) m R n (where M is Si and R is C 1 -C 4 )
M is an integer of 1 to 4;
An integer of 3 and m + n is 4)
Preferably, it is a SiO 2 film formed using a compound.
No. It is preferable that a transparent thin film having irregularities is provided on the outermost layer of the transparent conductive film. Of the transparent conductive film
It is preferable that at least one layer contains a coloring material. At least one layer of the transparent conductive film is a transparent conductive layer
And the blending amount of the coloring material in the transparent conductive layer.
Is 20% by weight based on the content of the ruthenium fine particles.
The following is preferred. Molar extinction coefficient of the coloring material
Is preferably greater than 10. Transparent conductive of the present invention
The method for producing a film comprises the steps of:
Method for producing transparent conductive film having transparent conductive layer containing
And ruthenium fine particles having an average particle size of 50 nm or less.
And 1 to 60% by weight based on the ruthenium fine particles.
Containing silica fine particles having an average particle size of 100 nm or less.
After applying the ingredients, bake at a temperature of 150 ° C to 250 ° C
It is characterized by the following. The paint has an average particle size of 50 nm or less.
Lower gold fine particles and / or an average particle size of 50 nm or less
It preferably contains silver fine particles. Display device of the present invention
Is a transparent conductive film of the present invention formed on the display surface.
Preferably, there is.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を具体
的に説明する。本発明者らは、表示装置の表示面に優れ
た反射防止効果と電磁波遮蔽効果とを付与すべく、金属
微粒子を含有する塗料を塗布することにより形成される
透明導電膜について鋭意研究の結果、金属微粒子として
ルテニウムを用いることが透過画像の色相の自然さ、耐
塩水性に代表される化学的安定性、および経済性の観点
からきわめて有効であることを見いだし本発明に到達し
た。このルテニウム微粒子は、これをコロイド状に分散
した水性液を表示装置の表示面に塗布することにより、
容易に均一な厚みの透明導電膜を形成することができ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be specifically described below. The present inventors have conducted intensive studies on a transparent conductive film formed by applying a paint containing metal fine particles to impart an excellent antireflection effect and an electromagnetic wave shielding effect to the display surface of the display device, As fine metal particles
The present inventors have found that the use of ruthenium is extremely effective from the viewpoint of naturalness of hue of a transmission image, chemical stability represented by salt water resistance, and economic efficiency, and reached the present invention. The ruthenium fine particles are applied to the display surface of a display device by applying an aqueous liquid in which this is dispersed in a colloidal form,
A transparent conductive film having a uniform thickness can be easily formed.

【0008】平均粒径が50nm以下の少なくともルテ
ニウム微粒子を含有する塗料を塗布して得られ、ルテニ
ウム微粒子10重量%以上含有する透明導電膜が表示面
上に形成された本発明の表示装置は、本発明の目的であ
る優れた帯電防止効果・電磁波遮蔽効果を有すると共
に、可視光の特定波長に吸収が少ないので透過画像に与
える色相の乱れがなく、また塩水に対しても実用上十分
なレベルの耐性を有することがわかった。
[0008] At least lute having an average particle size of 50 nm or less
Obtained by applying a coating material containing the onium microparticles, Ruteni
The display device of the present invention in which a transparent conductive film containing 10% by weight or more of fine particles of aluminum is formed on the display surface has not only an excellent antistatic effect and an electromagnetic wave shielding effect as the object of the present invention but also a specific wavelength of visible light It was found that there was no disturbance in hue given to the transmission image because of low absorption, and that it had a practically sufficient level of resistance to salt water.

【0009】平均粒径が50nm以下のルテニウム微粒
を含む塗料を基材上に塗布し、乾燥後に150℃〜2
50℃の温度で焼き付けて成膜すると、金属微粒子の平
均粒径が50nm以下であるために、焼付け温度が前記
のように低いにもかかわらず、金属粒子が互いに融合
し、少なくとも部分的に連続した金属薄膜を形成する。
このために本発明の透明導電膜にあっては、単に金属微
粒子が接触することによって得られるよりも遥かに高い
導電性が得られ、その結果として帯電防止効果・電磁波
遮蔽効果が優れているばかりでなく、透明性も高い透明
導電膜が得られる。
Ruthenium fine particles having an average particle size of 50 nm or less
Applying a paint containing child onto a substrate, 0.99 ° C. to 2 after drying
When the film is formed by baking at a temperature of 50 ° C., since the average particle diameter of the metal fine particles is 50 nm or less, the metal particles fuse with each other and are at least partially continuous despite the low baking temperature as described above. The formed metal thin film is formed.
For this reason, in the transparent conductive film of the present invention, much higher conductivity than that obtained by simply contacting the metal fine particles is obtained, and as a result, the antistatic effect and the electromagnetic wave shielding effect are excellent. Instead, a transparent conductive film having high transparency can be obtained.

【0010】帯電防止機能に加えて電磁波遮蔽効果を発
揮させるために必要な透明導電膜の導電性能は下記の式
1によって表される。 S=50+10log(1/ρf)+1.7t√(f/ρ) …式1 式中、 S(dB) ;電磁波遮蔽効 ρ(Ω-cm) ;導電膜の体積固有抵 f(MHz) ;電磁波周波 t(cm) ;導電膜の膜厚 である。ここで膜厚tは、光透過率の観点から1μm
(1×10-4cm)以下程度とすることが好ましいの
で、式1において膜厚tを含む項を無視すれば電磁波
遮蔽効果Sは近似的に下記の式2で表すことができる。 S=50+10log(1/ρf) …式2
The conductive property of the transparent conductive film required to exhibit an electromagnetic wave shielding effect in addition to the antistatic function is represented by the following equation (1). S = 50 + 10 log in (1 / ρf) + 1.7t√ ( f / ρ) ... Equation 1 set, S (dB); an electromagnetic wave shielding effect ρ (Ω-cm); conductive specific volume resistance f (MHz) ; electromagnetic wave frequency t (cm); a film thickness of the conductive film. Here, the thickness t is 1 μm from the viewpoint of light transmittance.
(1 × 10 −4 cm) or less , the electromagnetic wave shielding effect S can be approximately expressed by the following equation 2 by ignoring the term including the film thickness t in the equation 1. S = 50 + 10log (1 / ρf) Equation 2

【0011】ここで、S(dB)は、値が大きいほど電磁
波遮蔽効果が大きい。一般に、電磁波遮蔽効果は、S>
30dBであれば有効、更にS>60dBであれば優良とみ
なされる。また、規制対象となる電磁波の周波数は一般
に10kHz〜1000MHzの範囲とされるので、透明導電
膜の導電性としては、10Ω-cm以下の体積固有抵抗
値(ρ)が必要になる。すなわち、透明導電膜の体積固
有抵抗値(ρ)は、より低いほうが、より広範な周波数
の電磁波を有効に遮蔽することができることになる。こ
の条件を充たすために、透明導電膜にはルテニウム微粒
を10重量%以上含有させる必要がある。ルテニウム
微粒子の含有量が10重量%未満では導電性が低下し、
実質的な電磁波遮蔽効果を得ることが困難になる。
Here, as the value of S (dB) increases, the electromagnetic wave shielding effect increases. Generally, the electromagnetic wave shielding effect is S>
If it is 30 dB, it is considered to be effective, and if S> 60 dB, it is considered to be excellent. In addition, since the frequency of the electromagnetic wave to be regulated is generally in the range of 10 kHz to 1000 MHz, the conductivity of the transparent conductive film requires a volume resistivity (ρ) of 10 3 Ω-cm or less. That is, the lower the volume specific resistance value (ρ) of the transparent conductive film, the more effectively electromagnetic waves of a wider range of frequencies can be shielded. To satisfy this condition, the transparent conductive film must contain ruthenium fine particles.
Child it is necessary to contain more than 10 wt%. ruthenium
If the content of the fine particles is less than 10% by weight, the conductivity is reduced,
It becomes difficult to obtain a substantial electromagnetic wave shielding effect.

【0012】前記の条件を充たした上で、透明導電膜の
膜厚は、透明性および反射防止性を考慮すると、200
nm以下とすることが好ましい。得られた透明導電膜
は、平滑な被膜であっても、凹凸状の網目構造を有する
被膜であってもよい。
After satisfying the above conditions, the thickness of the transparent conductive film should be 200 in consideration of transparency and antireflection properties.
nm or less is preferable. The obtained transparent conductive film may be a smooth film or a film having an uneven network structure.

【0013】本発明の透明導電膜に用いる金属として
は、ルテニウムが好ましい。白金族金属の中でもルテニ
ウムは比較的安価であり、化学的安定性が高く実用上十
分な耐塩水性を有し、色相面においても400nm〜7
00nmの可視光域に特定波長の光吸収ピークが存在し
ないため、透過画像が不自然に着色せず、しかも成膜時
には金属微粒子が融合し易いので、高い透明性を維持し
ながら導電性を一層向上させることができる。
As the metal used for the transparent conductive film of the present invention,
Is preferably ruthenium. Rutheni among platinum group metals
Is relatively inexpensive, has high chemical stability, has sufficient salt water resistance for practical use, and has a hue surface of 400 nm to 7 nm.
Since there is no light absorption peak of a specific wavelength in the visible light region of 00 nm, the transmitted image is not unnaturally colored, and the metal fine particles are easily fused at the time of film formation, so that the conductivity is further improved while maintaining high transparency. Can be improved.

【0014】本発明の透明導電膜は、前記のルテニウム
に加えて他の金属、例えば銀、金、銅、ニッケルなどを
含んでいてもよい。特に銀は、コロイド状分散液として
比較的容易かつ安価に入手可能であり、導電性が高く帯
電防止性・電磁波遮蔽性に優れているので、導電性を維
持しながら透明導電膜のコストを更に引き下げたい場合
には有効である。銀は透明導電膜の導電材として単独で
用いると耐塩水性が悪いために耐久性がないが、ルテニ
ウムと共に用いると、成膜時の焼付け温度で合金化し、
化学的に安定な導電材となる。
The transparent conductive film of the present invention may contain other metals such as silver, gold, copper, nickel and the like in addition to the above-mentioned ruthenium . In particular, silver is relatively easily and inexpensively available as a colloidal dispersion, and has high conductivity and excellent antistatic properties and electromagnetic wave shielding properties. It is effective when you want to lower. Not durable due to poor salt water resistance when used alone as the conductive material of the silver transparent conductive film but, Ruteni
When used together with aluminum, it alloys at the baking temperature during film formation,
It becomes a chemically stable conductive material.

【0015】これらルテニウム以外の金属をルテニウム
と共に用いる場合は、ルテニウム微粒子と前記の金属微
粒子とを共に含有する塗料として、またはルテニウム微
粒子を含有する塗料とは別個の塗料として、平均粒径が
50nm以下の前記金属微粒子を含有する塗料を基材に
塗布することにより透明導電膜を形成することができ
る。
When a metal other than ruthenium is used together with ruthenium , it may be used as a paint containing both ruthenium fine particles and the above-mentioned metal fine particles, or as a ruthenium fine particle.
A transparent conductive film can be formed by applying a paint containing the metal fine particles having an average particle diameter of 50 nm or less to a substrate as a paint separate from the paint containing particles.

【0016】前記のルテニウム微粒子に加えて、平均粒
径100nm以下のシリカ微粒子を該ルテニウム微粒子
に対して1重量%〜60重量%の範囲内で含有する塗料
を用いると、得られた透明導電膜の膜強度が著しく向上
し、スクラッチ強度が高い透明導電膜が得られる。ま
た、透明導電膜にシリカ微粒子を含有させることによっ
て、その上層および/または下層にこの透明導電膜の屈
折率とは異なる屈折率を有する透明薄膜を1層以上設け
る場合に、透明薄膜のシリカ系バインダー成分との相溶
性が良いために双方の膜の密着性が向上する利点もあ
り、スクラッチ強度がいっそう改善される。シリカ微粒
子は、膜強度の向上と導電性とを両立させる観点から、
ルテニウム微粒子に対して20重量%〜40重量%の範
囲内で含有させることが好ましい。
In addition to the above-mentioned ruthenium fine particles , a paint containing silica fine particles having an average particle diameter of 100 nm or less in the range of 1% by weight to 60% by weight based on the ruthenium fine particles is obtained. The film strength of the transparent conductive film thus improved is remarkably improved, and a transparent conductive film having high scratch strength can be obtained. When the transparent conductive film contains silica fine particles, when one or more transparent thin films having a refractive index different from the refractive index of the transparent conductive film are provided in an upper layer and / or a lower layer thereof, a silica-based transparent thin film is used. Since the compatibility with the binder component is good, there is also an advantage that the adhesion between both films is improved, and the scratch strength is further improved. Silica fine particles, from the viewpoint of both improving the film strength and conductivity,
It is preferable that the content be in the range of 20% by weight to 40% by weight based on the ruthenium fine particles .

【0017】本発明の透明導電膜は、前記の成分の他
に、膜強度や導電性の向上を目的として、必要なら他の
成分、例えばケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、セ
リウム、チタン、イットリウム、亜鉛、マグネシウム、
インジウム、錫、アンチモン、ガリウムなどの酸化物、
複合酸化物、または窒化物、特にインジウムや錫の酸化
物、複合酸化物または窒化物を主成分とする無機性の微
粒子や、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、ブチラール樹脂、紫
外線硬化樹脂などの有機系合成樹脂、ケイ素、チタン、
ジルコニウムなどの金属アルコキシドの加水分解物、ま
たはシリコーンモノマー、シリコーンオリゴマーなどの
有機・無機系バインダー成分などを含んでいてもよい。
In the transparent conductive film of the present invention, in addition to the above-mentioned components, other components such as silicon, aluminum, zirconium, cerium, titanium, yttrium, zinc, and the like may be used for the purpose of improving the film strength and conductivity. magnesium,
Oxides such as indium, tin, antimony and gallium,
Composite oxides or nitrides, especially oxides of indium or tin, inorganic fine particles mainly composed of composite oxides or nitrides, polyester resins, acrylic resins, epoxy resins, melamine resins, urethane resins, butyral resins , Organic synthetic resins such as ultraviolet curable resins, silicon, titanium,
It may contain a hydrolyzate of a metal alkoxide such as zirconium, or an organic / inorganic binder component such as a silicone monomer or silicone oligomer.

【0018】前記の少なくともルテニウム微粒子を含む
塗料を基材上に塗布するには、スピンコート法、ロール
コート法、スプレー法、バーコート法、ディップ法、メ
ニスカスコート法、グラビア印刷法などの通常の薄膜塗
布技術がいずれも使用可能である。この内、スピンコー
ト法は、短時間で均一な厚みの薄膜を形成することがで
きるので特に好ましい塗布法である。塗布後、塗膜を乾
燥し、150℃〜250℃で焼付けることによって、基
材の表面に透明導電層が形成される。
In order to apply the above-mentioned paint containing at least ruthenium fine particles on a substrate, a usual method such as spin coating, roll coating, spraying, bar coating, dipping, meniscus coating, gravure printing, etc. Any of the thin film coating techniques can be used. Of these, spin coating is a particularly preferred coating method because a thin film having a uniform thickness can be formed in a short time. After the application, the coating film is dried and baked at 150 ° C. to 250 ° C. to form a transparent conductive layer on the surface of the substrate.

【0019】本発明の透明導電膜は、前記の透明導電層
の上層および/または下層に、透明導電層の屈折率とは
異なる屈折率を有する透明薄膜が1層以上設けられてな
ることが好ましい。これによって、透明導電膜の界面に
おける外光反射を除去または軽減することができる。
The transparent conductive film of the present invention is preferably provided with at least one transparent thin film having a refractive index different from that of the transparent conductive layer in the upper and / or lower layer of the transparent conductive layer. . Thus, external light reflection at the interface of the transparent conductive film can be removed or reduced.

【0020】透明薄膜は、単に多層薄膜における界面反
射を防止するのみならず、表示装置の表示面に用いたと
き表面を外力から保護する効果も期待されるため、実用
上十分な強度を有する透明薄膜を透明導電層の上層に設
けることが好ましい。
The transparent thin film is expected to not only prevent interfacial reflection in the multilayer thin film, but also to protect the surface from external force when used for the display surface of a display device. Preferably, a thin film is provided on the transparent conductive layer.

【0021】透明薄膜を形成する素材としては、例えば
ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ブチ
ラール樹脂などの熱可塑性、熱硬化性、または光・電子
線硬化性樹脂;ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコ
ニウムなどの金属アルコキシドの加水分解物;シリコー
ンモノマーまたはシリコーンオリゴマーなどが単独で、
または混合して用いられる。
Materials for forming the transparent thin film include, for example, thermoplastic, thermosetting, or photo and electron beam curable resins such as polyester resin, acrylic resin, epoxy resin, and butyral resin; silicon, aluminum, titanium, zirconium, etc. Hydrolyzate of metal alkoxide; silicone monomer or silicone oligomer alone,
Alternatively, they are used in combination.

【0022】特に好ましい透明薄膜は、膜の表面硬度が
高く、屈折率が比較的低いSiO2の薄膜である。この
SiO2 薄膜を形成し得る素材の例としては、例えば下
式 M(OR)m n (式中、MはSiであり、RはC1 〜C4 のアルキル基
であり、mは1〜4の整数であり、nは0〜3の整数で
あり、かつm+nは4である)で表される化合物、また
はその部分加水分解物の1種またはそれ以上の混合物を
挙げることができる。この化合物の例として、特にテト
ラエトキシシラン(Si(OC254 )は、薄膜形成
性、透明性、透明導電層との接合性、膜強度および反射
防止性能の観点から好適に用いられる。
A particularly preferred transparent thin film is a SiO 2 thin film having a high surface hardness and a relatively low refractive index. As an example of a material that can form this SiO 2 thin film, for example, the following formula: M (OR) m R n (where M is Si, R is a C 1 -C 4 alkyl group, and m is 1 And n is an integer of 0 to 3, and m + n is 4.) or a mixture of one or more partial hydrolysates thereof. As an example of this compound, particularly, tetraethoxysilane (Si (OC 2 H 5 ) 4 ) is suitably used from the viewpoints of thin film formation, transparency, bonding with a transparent conductive layer, film strength, and antireflection performance. .

【0023】前記の透明薄膜は、透明導電膜と異なる屈
折率に設定できるのであれば、各種樹脂、金属酸化物、
複合酸化物、または窒化物など、または焼付けによって
これらを生成することができる前駆体などを含んでいて
もよい。
The above-mentioned transparent thin film can be made of various resins, metal oxides,
It may contain a composite oxide, a nitride, or the like, or a precursor capable of producing them by baking.

【0024】透明薄膜の形成は、透明導電膜の形成に用
いた方法と同様に、前記の成分を含む塗布液(透明薄膜
用塗料)を均一に塗布して成膜する方法によって行うこ
とができる。塗布は、スピンコート法、ロールコート
法、スプレー法、バーコート法、ディップ法、メニスカ
スコート法、グラビア印刷法などの通常の薄膜塗布技術
がいずれも使用可能である。この内、スピンコート法
は、短時間で均一な厚みの薄膜を形成することができる
ので特に好ましい塗布法である。塗布後、塗膜を乾燥
し、150℃〜250℃で焼付けることによって透明薄
膜が得られる。
The formation of the transparent thin film can be carried out by a method of uniformly applying a coating liquid (paint for a transparent thin film) containing the above-mentioned components and forming a film in the same manner as the method used for forming the transparent conductive film. . For coating, any of ordinary thin film coating techniques such as spin coating, roll coating, spraying, bar coating, dipping, meniscus coating, and gravure printing can be used. Of these, spin coating is a particularly preferred coating method because a thin film having a uniform thickness can be formed in a short time. After coating, the coating film is dried and baked at 150 ° C. to 250 ° C. to obtain a transparent thin film.

【0025】一般に、多層薄膜における界面反射防止能
は、薄膜の屈折率と膜厚、および積層薄膜数により決定
されるため、本発明の透明導電膜においても、積層膜数
を考慮して透明導電膜および透明薄膜の厚みを適宜設計
することにより、効果的な反射防止効果が得られる。反
射防止能を有する多層膜では、防止しようとする反射光
の波長をλとするとき、2層構成の反射防止膜であれば
基材側から高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれλ/
4,λ/4、またはλ/2,λ/4の光学的膜厚とする
ことによって効果的に反射を防止することができる。ま
た3層構成の反射防止膜であれば基材側から中屈折率
層、高屈折率層および低屈折率層の順にλ/4,λ/
2,λ/4の光学的膜厚とすることが有効とされる。
In general, the antireflection ability at the interface of a multilayer thin film is determined by the refractive index and thickness of the thin film and the number of laminated thin films. By appropriately designing the thickness of the film and the transparent thin film, an effective antireflection effect can be obtained. In a multilayer film having antireflection ability, when the wavelength of reflected light to be prevented is λ, if the antireflection film has a two-layer structure, the high refractive index layer and the low refractive index layer are respectively λ from the substrate side. /
By setting the optical film thickness to 4, λ / 4, or λ / 2, λ / 4, reflection can be effectively prevented. In the case of a three-layer antireflection film, λ / 4 and λ / are used in order of the medium refractive index layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer from the substrate side.
An optical film thickness of 2, λ / 4 is effective.

【0026】特に、製造上の容易さや経済性を考慮する
と、透明導電層の上層に、屈折率が比較的低く、ハード
コート性を兼ね備えたSiO2 膜(屈折率1.46)を
λ/4の膜厚で形成することが好適である。
In particular, considering the ease of manufacture and economy, an SiO 2 film (refractive index: 1.46) having a relatively low refractive index and having a hard coat property is formed on the transparent conductive layer at λ / 4. It is preferable that the film is formed to have a film thickness.

【0027】透明導電層を含む2層以上からなる本発明
の透明導電膜は、透明導電層および前記の透明薄膜の焼
付けを順次に行ってもよく、または同時に行ってもよ
い。例えば透明導電膜用塗料を表示装置の表示面に塗布
し、その上層に透明薄膜用塗料を塗布し、乾燥後に15
0℃〜250℃の温度で一括焼き付けることによって、
透明導電層と透明薄膜とを同時に形成し、低反射透明導
電膜を形成してもよい。
In the transparent conductive film of the present invention comprising two or more layers including a transparent conductive layer, the baking of the transparent conductive layer and the transparent thin film may be performed sequentially or simultaneously. For example, a paint for a transparent conductive film is applied to the display surface of a display device, a paint for a transparent thin film is applied thereon, and after drying, 15
By baking at a temperature of 0 ° C to 250 ° C,
The transparent conductive layer and the transparent thin film may be simultaneously formed to form a low-reflection transparent conductive film.

【0028】前記透明導電膜の最外層には、凹凸を有す
る透明薄膜を設けることが好ましい。この凹凸を有する
透明薄膜は、透明導電膜の表面反射光を散乱させ、表示
面に優れた防眩性を与える効果がある。
It is preferable to provide a transparent thin film having irregularities on the outermost layer of the transparent conductive film. The transparent thin film having the irregularities scatters light reflected on the surface of the transparent conductive film, and has an effect of giving excellent antiglare properties to the display surface.

【0029】本発明の透明導電膜の少なくとも何れか1
層には、着色材が含有されていてもよい。この着色材
は、透過画像のコントラストの向上や、透過光、反射光
の色彩調整のために用いられる。この着色材としては、
例えばモノアゾピグメント、キナクリドン、アイアンオ
キサイド・エロー、ジスアゾピグメント、フタロシアニ
ングリーン、フタロシアニンブルー、シアニンブルー、
フラバンスロンエロー、ジアンスラキノリルレッド、イ
ンダンスロンブルー、チオインジゴボルドー、ペリノン
オレンジ、ペリレンスカーレット、ペリレンレッド17
8、ペリレンマルーン、ジオキサジンバイオレット、イ
ソインドリンエロー、ニッケルニトロソエロー、マダー
レーキ、銅アゾメチンエロー、アニリンブラック、アル
カリブルー、亜鉛華、酸化チタン、弁柄、酸化クロム、
鉄黒、チタンエロー、コバルトブルー、セルリアンブル
ー、コバルトグリーン、アルミナホワイト、ビリジア
ン、カドミウムエロー、カドミウムレッド、朱、リトポ
ン、黄鉛、モリブデートオレンジ、クロム酸亜鉛、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、鉛白、群
青、マンガンバイオレット、コバルトバイオレット、エ
メラルドグリーン、紺青、カーボンブラックなどの有機
および無機顔料、ならびにアゾ染料、アントラキノン染
料、インジゴイド染料、フタロシアニン染料、カルボニ
ウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、キノリン染
料、ニトロ染料、ニトロソ染料、ベンゾキノン染料、ナ
フトキノン染料、ナフタルイミド染料、ペリノン染料な
どの染料を挙げることができる。これらの着色材は単独
で、または2種以上を組み合わせて用いることができ
る。
At least one of the transparent conductive films of the present invention
The layer may contain a coloring material. This coloring material is used for improving the contrast of a transmitted image and adjusting the color of transmitted light and reflected light. As this coloring material,
For example, monoazo pigment, quinacridone, iron oxide yellow, disazo pigment, phthalocyanine green, phthalocyanine blue, cyanine blue,
Flavanthrone yellow, dianthraquinolyl red, indanthrone blue, thioindigo bordeaux, perinone orange, perylene scarlet, perylene red 17
8, perylene maroon, dioxazine violet, isoindoline yellow, nickel nitroso yellow, madder lake, copper azomethine yellow, aniline black, alkali blue, zinc white, titanium oxide, red iron oxide, chrome oxide,
Iron black, titanium yellow, cobalt blue, cerulean blue, cobalt green, alumina white, viridian, cadmium yellow, cadmium red, vermilion, lithopone, graphite, molybdate orange, zinc chromate, calcium sulfate, barium sulfate, calcium carbonate, lead Organic and inorganic pigments such as white, ultramarine, manganese violet, cobalt violet, emerald green, navy blue, and carbon black, as well as azo dyes, anthraquinone dyes, indigoid dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, quinoline dyes, and nitro dyes Dyes such as dyes, nitroso dyes, benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes, naphthalimide dyes and perinone dyes can be mentioned. These coloring materials can be used alone or in combination of two or more.

【0030】用いる着色材の種類と量は、対応する透明
導電膜の光学的な膜特性に対応して適宜選択されるべき
である。透明性薄膜の吸光度Aは、一般的には下記の式
で表される。 A=log10(I0 /I)=εCD 式中、I0 ;入射光、I;透過光、C;色濃度、D;光
距離、ε;モル吸光係数である。
The type and amount of the coloring material to be used should be appropriately selected according to the optical film characteristics of the corresponding transparent conductive film. The absorbance A of the transparent thin film is generally represented by the following equation. A = log 10 (I 0 / I) = εCD where I 0 is incident light, I is transmitted light, C is color density, D is light distance, and ε is molar extinction coefficient.

【0031】本発明の透明導電膜では、一般にモル吸光
係数がε>10の着色材が用いられる。また、着色材の
配合量は、使用する着色材のモル吸光係数に依存して変
わるが、一般に、着色材を配合した積層膜および単層膜
の吸光度Aが0.0004〜3abs.の範囲内となるよう
な量であることが好ましい。これらの条件が満たされな
い場合は透明度および/または反射防止効果が低下す
る。上記着色材を透明導電層に配合する場合、その配合
量は、金属の含有量に対して20重量%以下、特に10
重量%以下とすることが好ましい。10重量%を越える
と、導電性の低下が認められ、20重量%を越えると、
電磁波遮蔽効果に支障を来すことになる。
In the transparent conductive film of the present invention, a coloring material having a molar absorption coefficient ε> 10 is generally used. The amount of the coloring material varies depending on the molar extinction coefficient of the coloring material used. Generally, the absorbance A of the laminated film and the single-layer film containing the coloring material is in the range of 0.0004 to 3 abs. Preferably, the amount is such that If these conditions are not satisfied, the transparency and / or the antireflection effect will decrease. When the coloring material is blended in the transparent conductive layer, the blending amount is 20% by weight or less, particularly 10% by weight, based on the metal content.
% By weight or less. If it exceeds 10% by weight, a decrease in conductivity is observed.
This will hinder the electromagnetic wave shielding effect.

【0032】本発明の表示装置は、前記の何れかの透明
導電膜が表示面上に形成されてなっている。この表示装
置は、表示面の帯電が防止されているので画像表示面に
埃などが付着せず、電磁波が遮蔽されるので各種の電磁
波障害が防止され、光透過性に優れているので画像が明
るく、透過画像の色相が自然であり、膜厚が均一なので
表示面の外観が良好であり、しかも耐塩水性が高いので
塩霧に曝されるような環境にあっても耐久性が高い。ま
た透明導電層の他に、前記の透明薄膜および/または凹
凸を有する透明薄膜が形成されていれば、外光に対する
反射防止効果および/または防眩効果も得られる。
In the display device of the present invention, any one of the transparent conductive films described above is formed on a display surface. This display device prevents the charging of the display surface, so that dust and the like do not adhere to the image display surface, shields electromagnetic waves, prevents various types of electromagnetic wave interference, and is excellent in light transmissivity. It is bright, the hue of the transmitted image is natural, the film thickness is uniform, the appearance of the display surface is good, and the salt water resistance is high, so the durability is high even in an environment exposed to salt fog. If the transparent thin film and / or the transparent thin film having irregularities are formed in addition to the transparent conductive layer, an antireflection effect and / or an antiglare effect for external light can be obtained.

【0033】[0033]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例によって限定されるもの
ではない。実施例および比較例に共通の原液として、下
記のものを調製した。 (ルテニウム水性ゾル)0.15ミリモル/lの塩化ル
テニウムを含む水溶液と、0.024ミリモル/lの水
素化ホウ素ナトリウム水溶液とを混合し、得られたコロ
イド状分散液を濃縮し、0.198モル/lのルテニウ
ム微粒子を含む水性ゾルを得た。ルテニウム微粒子の平
均粒径は20nmであった。 (パラジウム水性ゾル)0.15ミリモル/lの塩化パ
ラジウムを含む水溶液と、0.024ミリモル/lの水
素化ホウ素ナトリウム水溶液とを混合し、得られたコロ
イド状分散液を濃縮し、0.189モル/lのパラジウ
ム微粒子を含む水性ゾルを得た。パラジウム微粒子の平
均粒径は10nmであった。 (銀水性ゾル)クエン酸ナトリウム二水和物(14
g)、硫酸第一鉄(7.5g)を溶解させた水溶液(6
0g)を5℃に保持した状態で、これに硝酸銀(2.5
g)を溶解した水溶液(25g)を加え、赤褐色の銀ゾ
ルを得た。この銀ゾルを遠心分離により水洗して不純物
イオンを除去した後、純水を加えて0.185モル/l
の銀微粒子を含む水性ゾルを得た。銀微粒子の平均粒径
は10nmであった。 (コロイダルシリカ) 日本化学工業社製「シリカドール30」 (透明薄膜塗料A)テトラエトキシシラン(0.8g)
と0.1N塩酸(0.8g)とエチルアルコール(9
8.4g)とを混合し、均一な溶液とした。 (凹凸透明薄膜塗料B)テトラエトキシシラン(3.0
g)と0.1N塩酸(10g)とエチルアルコール(8
7.0g)とを混合し、均一な溶液とした。
EXAMPLES The present invention will now be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The following were prepared as stock solutions common to Examples and Comparative Examples. (Ruthenium aqueous sol) An aqueous solution containing 0.15 mmol / l ruthenium chloride and a 0.024 mmol / l aqueous sodium borohydride solution were mixed, and the obtained colloidal dispersion was concentrated to 0.198 mmol / l. An aqueous sol containing mol / l of ruthenium fine particles was obtained. The average particle size of the ruthenium fine particles was 20 nm. (Palladium aqueous sol) An aqueous solution containing 0.15 mmol / l palladium chloride and a 0.024 mmol / l aqueous sodium borohydride solution were mixed, and the obtained colloidal dispersion was concentrated to 0.189 mmol / l. An aqueous sol containing mol / l palladium fine particles was obtained. The average particle size of the palladium fine particles was 10 nm. (Silver aqueous sol) sodium citrate dihydrate (14
g) and an aqueous solution (6 g) in which ferrous sulfate (7.5 g) is dissolved.
0 g) was kept at 5 ° C., and silver nitrate (2.5 g) was added thereto.
An aqueous solution (25 g) in which g) was dissolved was added to obtain a red-brown silver sol. The silver sol was washed with water by centrifugation to remove impurity ions, and then added with pure water to obtain 0.185 mol / l.
An aqueous sol containing silver fine particles was obtained. The average particle size of the silver fine particles was 10 nm. (Colloidal silica) "Silica Doll 30" manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd. (Transparent thin film coating A) Tetraethoxysilane (0.8 g)
And 0.1 N hydrochloric acid (0.8 g) and ethyl alcohol (9
8.4 g) to obtain a uniform solution. (Uneven transparent thin film paint B) tetraethoxysilane (3.0
g), 0.1 N hydrochloric acid (10 g) and ethyl alcohol (8
7.0 g) to obtain a uniform solution.

【0034】(実施例1)透明導電膜塗料の調製 : ルテニウム水性ゾル 40g イソプロピルアルコール 10g コロイダルシリカ 0.8g エチルアルコール 49.2g 上記の成分を混合し、得られた混合液を超音波分散機
(BRANSON ULTRASONICS社製「ソニファイヤー45
0」)で分散し、透明導電膜塗料を調製した。塗料中の
SiO2 /Ru重量比は30/100であった。
(Example 1) Preparation of transparent conductive film paint : Ruthenium aqueous sol 40 g Isopropyl alcohol 10 g Colloidal silica 0.8 g Ethyl alcohol 49.2 g The above components were mixed, and the resulting mixture was mixed with an ultrasonic disperser ( "Sonifire 45" manufactured by BRANSON ULTRASONICS
0 ") to prepare a transparent conductive film paint. The SiO 2 / Ru weight ratio in the paint was 30/100.

【0035】成膜:上記の透明導電膜塗料をブラウン管
の表示面にスピンコーターを用いて塗布し、乾燥後、こ
の塗布面に前記の透明薄膜塗料Aを、同様にスピンコー
ターを用いて塗布し、このブラウン管を乾燥機に入れ、
150℃で1時間焼付け処理して低反射透明導電膜を形
成することにより、反射防止、高導電膜を有する実施例
1の陰極線管を作成した。
Film formation : The above-mentioned transparent conductive film paint A is applied to the display surface of a cathode ray tube using a spin coater, and after drying, the above-mentioned transparent thin film paint A is applied to the display surface of the cathode ray tube similarly using a spin coater. , Put this CRT in the dryer,
By baking at 150 ° C. for 1 hour to form a low-reflection transparent conductive film, the cathode ray tube of Example 1 having an antireflection and high-conductive film was prepared.

【0036】(実施例2)透明導電膜塗料の調製 : ルテニウム水性ゾル 40g イソプロピルアルコール 10g コロイダルシリカ 0.8g エチルアルコール 49.2g 上記の成分を混合し、実施例1と同様に処理して透明導
電膜塗料を調製した。塗料中のSiO2 /Ru重量比は
30/100であった。
(Example 2) Preparation of transparent conductive film paint : Ruthenium aqueous sol 40 g Isopropyl alcohol 10 g Colloidal silica 0.8 g Ethyl alcohol 49.2 g The above components were mixed and treated in the same manner as in Example 1 to obtain a transparent conductive film. A membrane coating was prepared. The SiO 2 / Ru weight ratio in the paint was 30/100.

【0037】成膜:上記の透明導電膜塗料をブラウン管
の表示面にスピンコーターを用いて塗布し、乾燥後、こ
の塗布面に前記の透明薄膜塗料Aを、同様にスピンコー
ターを用いて塗布し、更に透明性凹凸層を形成するため
に前記の凹凸透明薄膜塗料Bをスプレーにて噴霧、積層
し、このブラウン管を乾燥機に入れて、150℃で1時
間焼付け処理して最外層に透明性凹凸層が形成された3
層構成の透明導電膜を形成することにより、防眩性、反
射防止、高導電膜を有する実施例2の陰極線管を作成し
た。
Film formation : The above-mentioned transparent conductive film paint is applied to the display surface of a cathode ray tube using a spin coater, and after drying, the above-mentioned transparent thin film paint A is applied to this display surface similarly using a spin coater. Further, in order to form a transparent uneven layer, the above-mentioned uneven transparent thin film paint B is sprayed and laminated by a spray, and the cathode ray tube is placed in a drier and baked at 150 ° C. for 1 hour to obtain a transparent outermost layer. 3 with uneven layer formed
By forming a transparent conductive film having a layer structure, a cathode ray tube of Example 2 having an antiglare property, antireflection, and a high conductive film was prepared.

【0038】(参考例) 透明導電膜塗料の調製 : パラジウム水性ゾル 40g イソプロピルアルコール 10g コロイダルシリカ 0.8g エチルアルコール 49.2g 上記の成分を混合し、実施例1と同様に処理して透明導
電膜塗料を調製した。塗料中のSiO/Pd重量比
は30/100であった。成膜 : 上記の透明導電膜塗料を用い、実施例1と同様に処理し
て反射防止、高導電膜を有する参考例の陰極線管を作成
した。
(Reference Example) Preparation of transparent conductive film paint : aqueous palladium sol 40 g isopropyl alcohol 10 g colloidal silica 0.8 g ethyl alcohol 49.2 g The above components were mixed and treated in the same manner as in Example 1 to obtain a transparent conductive film. A paint was prepared. The SiO 2 / Pd weight ratio in the paint was 30/100. Film formation : Using the above-mentioned transparent conductive film paint, the same treatment as in Example 1 was performed to prepare a cathode ray tube of a reference example having an antireflection and high conductive film.

【0039】(実施例3) 透明導電膜塗料の調製 : ルテニウム水性ゾル 38g 銀水性ゾル 2g イソプロピルアルコール 10g コロイダルシリカ 0.8g エチルアルコール 49.2g 上記の成分を混合し、実施例1と同様に処理して透明導
電膜塗料を調製した。塗料中のSiO/(Ru+A
g)重量比は30/100であった。成膜 : 上記の透明導電膜塗料を用い、実施例1と同様に処理し
て反射防止、高導電膜を有する実施例3の陰極線管を作
成した。
(Example 3) Preparation of transparent conductive film paint : aqueous ruthenium sol 38 g silver aqueous sol 2 g isopropyl alcohol 10 g colloidal silica 0.8 g ethyl alcohol 49.2 g The above components were mixed and treated in the same manner as in Example 1. Thus, a transparent conductive film paint was prepared. SiO 2 / (Ru + A in the coating
g) The weight ratio was 30/100. Film formation : Using the above-mentioned transparent conductive film paint, the same treatment as in Example 1 was performed to prepare a cathode ray tube of Example 3 having an antireflection and high conductive film.

【0040】(実施例4) 透明導電膜塗料の調製 : ルテニウム水性ゾル 40g イソプロピルアルコール 10g エチルアルコール 50g 上記の成分を混合し、実施例1と同様に処理して透明導
電膜塗料を調製した。成膜 : 上記の透明導電膜塗料を用い、実施例1と同様に処理し
て反射防止、高導電膜を有する実施例4の陰極線管を作
成した。
Example 4 Preparation of Transparent Conductive Film Paint : Ruthenium Aqueous Sol 40 g Isopropyl Alcohol 10 g Ethyl Alcohol 50 g The above components were mixed and treated in the same manner as in Example 1 to prepare a transparent conductive film paint. Film formation : Using the above-mentioned transparent conductive film paint, the same treatment as in Example 1 was carried out to prepare a cathode ray tube of Example 4 having an antireflection and high conductive film.

【0041】(比較例1)透明導電膜塗料の調製 : 銀水性ゾル 40g イソプロピルアルコール 10g エチルアルコール 50g 上記の成分を混合し、実施例1と同様に処理して透明導
電膜塗料を調製した。 成膜 :上記の透明導電膜塗料を用い、実施例1と同様に
処理して反射防止、高導電膜を有する比較例1の陰極線
管を作成した。
(Comparative Example 1)Preparation of transparent conductive film paint : Aqueous silver sol 40 g isopropyl alcohol 10 g ethyl alcohol 50 g
An electrocoat was prepared. Film formation : Using the above transparent conductive film paint, as in Example 1.
Cathode ray of Comparative Example 1 having anti-reflection and high conductive film after treatment
A tube was created.

【0042】(比較例2)透明導電膜塗料の調製 : 銀水性ゾル 40g コロイダルシリカ 0.8g イソプロピルアルコール 10g エチルアルコール 49.2g 上記の成分を混合し、実施例1と同様に処理して透明導
電膜塗料を調製した。塗料中のSiO2 /Ag重量比は
30/100であった。成膜 :上記の透明導電膜塗料を用い、実施例1と同様に
処理して反射防止、高導電膜を有する比較例2の陰極線
管を作成した。
(Comparative Example 2) Preparation of transparent conductive film paint : silver aqueous sol 40 g colloidal silica 0.8 g isopropyl alcohol 10 g ethyl alcohol 49.2 g The above components were mixed and treated in the same manner as in Example 1 to obtain a transparent conductive film. A membrane coating was prepared. The SiO 2 / Ag weight ratio in the paint was 30/100. Film formation : Using the above-mentioned transparent conductive film paint, the same treatment as in Example 1 was carried out to prepare a cathode ray tube of Comparative Example 2 having an anti-reflection and high conductive film.

【0043】(比較例3)透明導電膜塗料の調製 : アンチモンドープ酸化スズ微粉末 1.5g (住友大阪セメント社製、平均粒径0.01μm) カーボンブラック 0.3g (三菱化学社製、「MA-100」) イソプロピルアルコール 10g ブチルセロソルブ 10g 純水 78.2g 上記の成分を混合し、実施例1と同様に処理して透明導
電膜塗料を調製した。 成膜 :上記の透明導電膜塗料を用い、実施例1と同様に
処理して反射防止、高導電膜を有する比較例3の陰極線
管を作成した。
(Comparative Example 3)Preparation of transparent conductive film paint : Antimony-doped tin oxide fine powder 1.5 g (Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., average particle size 0.01 μm) Carbon black 0.3 g (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., “MA-100”) Isopropyl alcohol 10 g Butyl cellosolve 10 g Pure water 78. 2 g The above components were mixed, treated in the same manner as in Example 1, and transparent
An electrocoat was prepared. Film formation : Using the above transparent conductive film paint, as in Example 1.
Cathode ray of Comparative Example 3 having anti-reflection treated and high conductive film
A tube was created.

【0044】(評価測定)陰極線管上に形成された低反
射透明導電膜の性能を下記の装置または方法で測定し、
また外観を目視により評価した。 表面抵抗 :三菱油化社製「ロレスタAP」(4端子
法) 電磁波遮蔽性:0.5MHz基準で前記式1により計算 耐塩水性 :塩水浸漬3日後の0.5MHz電磁波遮蔽
効果 スクラッチ試験:1kgの荷重下に、シャープペンシル
先端の金属部分で膜表面を擦り、傷の付き具合を目視に
より評価。 ○;傷なし △;やや傷付き ×;傷付き 透過率 :東京電色社製「Automatic Haze Meter HII
I DP」 ヘーズ :東京電色社製「Automatic Haze meter HII
I DP」 グロス :東京電色社製可変角度光沢計「MODEL TC-1
08D」入射角60゜ 透過率差 :日立製作所製「U-3500」形自記分光光度計
を用い、可視光領域での最大透過率と最小透過率との差
を求めた。(可視光領域における最大−最小透過率差が
小さいほど透過率がよりフラットになり、透過画像の色
相が鮮明となる。特に10%以下では、透過画像の色彩
が黒色に近づき、より高度な鮮明さを持つようにな
る。) 視感反射率:EG&G GAMMASCIENTIFIC社製「MODEL C-11」 反射色 :ミノルタカメラ社製「CR-300」 (CIE表色系を使用し、CIE色度図における白色点(x=
0.3137,y=0.3198)からのズレの距離を
Δx,Δyを用いて√(Δx2 +Δy2 )と表した。こ
れにより、√(Δx2 +Δy2 )の値がより「0」に近
いものほど反射色が白色、すなわち目に優しい自然光に
近いものとなる。) 視認性 :低反射性能、反射色、透過色を含む総合評
価 ○ ;良好 ○△;やや良好 △ ;可 △×;やや不良 × ;不良 以上の評価試験の内、物理化学的試験結果を表1に、光
学的試験結果を表2に示す。
(Evaluation Measurement) The performance of the low-reflection transparent conductive film formed on the cathode ray tube was measured by the following apparatus or method.
The appearance was visually evaluated. Surface resistance: "Loresta AP" (manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd.) (4-terminal method) Electromagnetic wave shielding property: Calculated by the above formula 1 based on 0.5 MHz. Under load, the membrane surface was rubbed with the metal part of the tip of a mechanical pencil, and the degree of scratching was visually evaluated. ○: no scratch △: slightly scratched ×: scratched Transmittance: "Automatic Haze Meter HII" manufactured by Tokyo Denshoku
IDP ”Haze:“ Automatic Haze meter HII manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.
IDP "Gross: Variable angle gloss meter" MODEL TC-1 "manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.
08D "Incident angle 60 ° Transmittance difference: The difference between the maximum transmittance and the minimum transmittance in the visible light region was determined using a" U-3500 "type self-recording spectrophotometer manufactured by Hitachi, Ltd. (The smaller the maximum-minimum transmittance difference in the visible light region, the flatter the transmittance and the sharper the hue of the transmitted image. Particularly, when the difference is 10% or less, the color of the transmitted image approaches black, and the higher the sharpness. Luminous reflectance: "MODEL C-11" manufactured by EG & G GAMMASCIENTIFIC Co., Ltd. Reflection color: "CR-300" manufactured by Minolta Camera Co. (White using CIE color system and CIE chromaticity diagram Point (x =
0.3137, y = 0.3198), and Δ (Δx 2 + Δy 2 ) using Δx and Δy. Thus, the closer the value of √ (Δx 2 + Δy 2 ) is to “0”, the whiter the reflection color becomes, that is, the closer to the natural light that is easy on the eyes. ) Visibility: Comprehensive evaluation including low reflection performance, reflection color, and transmission color ○: good ○ △; somewhat good △: acceptable △ ×; somewhat poor ×: poor Among the above evaluation tests, the physicochemical test results are shown. Table 1 shows the optical test results.

【0045】[0045]

【表1】 [Table 1]

【表2】 [Table 2]

【0046】表1の結果から、本発明に従い、ルテニウ
ムを含む透明導電膜を有する実施例1〜実施例4の陰極
線管は、表面抵抗が十分に小さいので優れた帯電防止効
果を有し、また0.5MHz電磁波遮蔽性が十分に高い
ので優れた電磁波遮蔽効果を有している。耐塩水性が高
いので、耐久性に優れている。実施例3は銀を含むが、
成膜時にルテニウムとの合金が形成され耐塩水性が低下
しない。実施例1〜実施例3は透明導電層がシリカ微粒
子を含むのでスクラッチ強度も良好である。
From the results in Table 1, according to the present invention, ruthenium
The cathode ray tubes of Examples 1 to 4 having a transparent conductive film containing a film have an excellent antistatic effect because the surface resistance is sufficiently small, and are excellent because the 0.5 MHz electromagnetic wave shielding property is sufficiently high. It has an electromagnetic wave shielding effect. High durability against salt water. Example 3 contains silver,
An alloy with ruthenium is formed during film formation, and the salt water resistance does not decrease. In Examples 1 to 3, since the transparent conductive layer contains fine silica particles, the scratch strength is also good.

【0047】表2の結果から、実施例1〜実施例4の陰
極線管は、実用的に十分な光透過率を有するので透過画
像が明るい。ヘーズも問題ないレベルであり透過画像の
コントラストが損なわれることはない。実施例2は最外
層に凹凸層が形成されているので、グロス値が低く、表
面反射が抑制され、外光の写り込みが軽減されている。
波長による透過率差が小さいので黒色がしまって見え、
透過画像の色相が鮮明である。実施例1〜実施例4は反
射防止用の透明薄膜が形成されているので視感反射率が
低く、視認性に優れている。反射色は白色点に近いの
で、透過画像が自然な色に見える。これらの光学的特性
の総合としての視認性評価は、比較例に比べて明らかに
優れたものとなった。
From the results shown in Table 2, the cathode ray tubes of Examples 1 to 4 have practically sufficient light transmittance, so that the transmitted images are bright. The haze is also at a satisfactory level, and the contrast of the transmitted image is not impaired. In Example 2, since the uneven layer is formed on the outermost layer, the gloss value is low, surface reflection is suppressed, and reflection of external light is reduced.
Because the difference in transmittance due to wavelength is small, it looks black
The hue of the transmitted image is clear. In Examples 1 to 4 , since a transparent thin film for anti-reflection is formed, the luminous reflectance is low and the visibility is excellent. Since the reflection color is close to the white point, the transmitted image looks natural. The visibility evaluation as a total of these optical characteristics was clearly superior to the comparative example.

【0048】これに対して、導電材としてアンチモンド
ープ酸化スズを用いた比較例3は、帯電防止効果と電磁
波遮蔽効果とが何れも劣る。比較例1、比較例2は導電
材として銀を用いているので初期の帯電防止効果と電磁
波遮蔽効果とは良好であるが耐塩水性が低く、耐久性が
ないことがわかる。比較例1、比較例2は銀に由来して
透過率差が大きく、透過画像の鮮明さが不足する。また
反射色にも偏りがあるため透過画像が不自然な色相に見
える。総合結果として、比較例1〜比較例3の視認性評
価は、実施例1〜実施例4に比べ劣るものとなった。
On the other hand, Comparative Example 3 using antimony-doped tin oxide as the conductive material is inferior in both antistatic effect and electromagnetic wave shielding effect. In Comparative Examples 1 and 2, since silver was used as the conductive material, the initial antistatic effect and the electromagnetic wave shielding effect were good, but the salt water resistance was low and the durability was not high. In Comparative Examples 1 and 2, the transmittance difference is large due to silver, and the clearness of the transmitted image is insufficient. Further, since the reflected color is also biased, the transmitted image looks unnatural hue. As an overall result, the visibility evaluation of Comparative Examples 1 to 3 was inferior to Examples 1 to 4 .

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明の透明導電膜は、平均粒径が50
nm以下の少なくともルテニウム微粒子を含む塗料を表
示面に塗布することにより形成され、ルテニウム微粒子
を10重量%以上含有する透明導電層を有するので、
れた帯電防止効果と電磁波遮蔽効果とを有し、かつ耐塩
水性が高い。またこの透明導電膜が形成された表示装置
は表示面の透明性が高く透過画像の色相が自然で鮮明で
ある。前記透明導電層が、平均粒径が100nm以下の
シリカ微粒子を前記ルテニウム微粒子に対して1重量%
〜60重量%含有したものであれば、高い膜強度を有す
る透明導電膜が得られる。透明導電層の上層および/ま
たは下層に、透明導電層の屈折率とは異なる屈折率を有
する透明薄膜を1層以上設けたものとすれば、低反射の
透明導電膜が得られる。また最外層に凹凸を有する透明
薄膜が設けられていれば、表面反射が抑制されコントラ
ストが高く視認性のよい透明導電膜が得られる。本発明
の表示装置は、前記の透明導電膜が表示面上に形成され
てなるものであるので、優れた帯電防止効果と電磁波遮
蔽効果とを有し、かつ耐塩水性が良好で耐久性があり、
表示面の透明性が高く、透過画像の色相が自然で鮮明で
あり、実用性の高い表示装置となる。
The transparent conductive film of the present invention has an average particle size of 50.
paint containing at least ruthenium microparticles
Ruthenium fine particles formed by applying to the display surface
Has a transparent conductive layer containing 10% by weight or more, has excellent antistatic effect and electromagnetic wave shielding effect, and has high salt water resistance. Further, the display device on which the transparent conductive film is formed has high transparency of the display surface, and the hue of the transmitted image is natural and clear. The transparent conductive layer has an average particle size of 100 nm or less.
1% by weight of silica fine particles based on the ruthenium fine particles
If the content is about 60% by weight , a transparent conductive film having high film strength can be obtained. If at least one transparent thin film having a refractive index different from the refractive index of the transparent conductive layer is provided on the upper layer and / or the lower layer of the transparent conductive layer, a low-reflection transparent conductive film can be obtained. In addition, when a transparent thin film having irregularities is provided on the outermost layer, a transparent conductive film with high contrast and high visibility can be obtained by suppressing surface reflection. Since the display device of the present invention is one in which the transparent conductive film is formed on a display surface, it has an excellent antistatic effect and an electromagnetic wave shielding effect, and has good salt water resistance and durability. ,
A display device with high transparency on the display surface, a natural and clear hue of the transmitted image, and high practicability is provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01J 29/28 H01J 29/28 (56)参考文献 特開 平8−77832(JP,A) 特開 平9−286936(JP,A) 特開 平10−188680(JP,A) 特開 平6−290870(JP,A) 特開 昭63−58323(JP,A) 特開 昭64−44742(JP,A) 特開 平6−119816(JP,A) 特開 昭61−118931(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01B 5/14 H01B 13/00 B05D 5/12 C09D 5/24 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H01J29 / 29 / H01J / 29/28 (56) References JP-A-8-77832 (JP, A) JP-A-9-286936 (JP) JP-A-10-188680 (JP, A) JP-A-6-290870 (JP, A) JP-A-63-58323 (JP, A) JP-A-64-44742 (JP, A) 6-119816 (JP, A) JP-A-61-118931 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01B 5/14 H01B 13/00 B05D 5/12 C09D 5 / twenty four

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 平均粒径が50nm以下のルテニウム微
粒子を含む塗料を表示面に塗布することにより形成さ
れ、ルテニウム微粒子を10重量%以上含有する透明導
電層を有することを特徴とする透明導電膜。
A ruthenium fine particle having an average particle size of 50 nm or less.
A transparent conductive film formed by applying a coating material containing particles to a display surface and having a transparent conductive layer containing 10% by weight or more of ruthenium fine particles .
【請求項2】 前記塗料は、平均粒径が100nm以下
のシリカ微粒子を前記ルテニウム微粒子に対して1重量
%〜60重量%含有してなることを特徴とする請求項1
記載の透明導電膜。
2. The coating material has an average particle size of 100 nm or less.
1 weight of the silica fine particles with respect to the ruthenium fine particles.
% To 60% by weight.
The transparent conductive film according to the above.
【請求項3】 前記塗料は、平均粒径が50nm以下の
金微粒子および/または平均粒径が50nm以下の銀微
粒子を含有してなることを特徴とする請求項1または2
記載の透明導電膜。
3. The coating material has an average particle size of 50 nm or less.
Gold fine particles and / or silver fine particles having an average particle size of 50 nm or less
3. The composition according to claim 1, further comprising particles.
The transparent conductive film according to the above.
【請求項4】 前記透明導電層は、前記塗料を塗布した
後、150℃〜250℃の温度で焼付けることにより形
成されてなることを特徴とする請求項1、2または3記
載の透明導電膜。
4. The transparent conductive layer is coated with the paint.
After baking at a temperature of 150-250 ° C
4. The method according to claim 1, 2 or 3, wherein
On the transparent conductive film.
【請求項5】 前記透明導電層の上層および/または下
層に、前記透明導電層の屈折率とは異なる屈折率を有す
る透明薄膜1層以上設けてなることを特徴とする請求
項1ないし4のいずれか1項記載の透明導電膜。
The upper and / or lower wherein said transparent conductive layer, characterized by comprising providing one or more layers of transparent thin film having a refractive index different from the refractive index of the transparent conductive layer according
Item 5. The transparent conductive film according to any one of Items 1 to 4 .
【請求項6】 前記透明薄膜は、M(OR) m n (式
中、MはSiであり、RはC 1 〜C 4 のアルキル基であ
り、mは1〜4の整数であり、nは0〜3の整数であ
り、かつm+nは4である)で表される化合物を用いて
形成されたSiO 2 膜であることを特徴とする請求項5
記載の透明導電膜。
6. The method according to claim 1, wherein the transparent thin film is formed of M (OR) m R n (formula
Wherein M is Si, and R is a C 1 -C 4 alkyl group.
M is an integer of 1 to 4 and n is an integer of 0 to 3
And m + n is 4)
6. A formed SiO 2 film.
The transparent conductive film according to the above.
【請求項7】 前記透明導電膜の最外層に、凹凸を有す
る透明薄膜が設けられてなることを特徴とする請求項1
ないし6のいずれか1項記載の透明導電膜。
7. An outermost layer of said transparent conductive film has irregularities.
2. A transparent thin film comprising:
7. The transparent conductive film according to any one of claims 6 to 6.
【請求項8】 前記透明導電膜の少なくとも1層には、
着色材が含有されてなることを特徴とする請求項1ない
し7のいずれか1項記載の透明導電膜。
8. At least one layer of the transparent conductive film includes:
2. The method according to claim 1, wherein a coloring material is contained.
8. The transparent conductive film according to claim 7.
【請求項9】 前記透明導電膜の少なくとも1層は透明
導電層であり、この透明導電層における前記着色材の配
合量は、前記ルテニウム微粒子の含有量に対して20重
量%以下であることを特徴とする請求項8記載の透明導
電膜。
9. At least one layer of the transparent conductive film is transparent.
A conductive layer, and the distribution of the coloring material in the transparent conductive layer.
The total amount is 20 weights based on the content of the ruthenium fine particles.
9. The transparent conductive material according to claim 8, wherein the amount is not more than%.
Electromembrane.
【請求項10】 前記着色材のモル吸光係数は10より
大であることを特徴とする請求項8または9記載の透明
導電膜。
10. The colorant has a molar extinction coefficient of more than 10.
10. Transparency according to claim 8 or 9, characterized in that it is large.
Conductive film.
【請求項11】 ルテニウム微粒子及びシリカ微粒子を
含有してなる透明導電層を有する透明導電膜の製造方法
であって、 平均粒径が50nm以下のルテニウム微粒子と、該ルテ
ニウム微粒子に対して1重量%〜60重量%の平均粒径
が100nm以下のシリカ微粒子とを含む塗料を塗布し
た後、150℃〜250℃の温度で焼付けることを特徴
とする透明導電膜の製造方法。
11. Ruthenium fine particles and silica fine particles
Method for producing transparent conductive film having transparent conductive layer containing
And ruthenium fine particles having an average particle size of 50 nm or less;
Average particle size of 1% by weight to 60% by weight based on the fine nickel particles
Is applied with a paint containing silica fine particles of 100 nm or less.
After baking, baking at a temperature of 150 ℃ ~ 250 ℃
A method for producing a transparent conductive film.
【請求項12】 前記塗料は、平均粒径が50nm以下
の金微粒子および/または平均粒径が50nm以下の銀
微粒子を含有することを特徴とする請求項11記載の透
明導電膜の製造方法。
12. The coating material has an average particle size of 50 nm or less.
Gold particles and / or silver having an average particle size of 50 nm or less
The transparent material according to claim 11, further comprising fine particles.
A method for producing a bright conductive film.
【請求項13】 請求項1ないし10のいずれか1項記
載の透明導電膜が表示面上に形成されたことを特徴とす
る表示装置。
13. The method according to claim 1, wherein:
The transparent conductive film is formed on the display surface.
Display device.
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