JP3350331B2 - 光学用フイルムの製造方法 - Google Patents

光学用フイルムの製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置などに
使用される光学用フイルムの製造方法に関する。さらに
詳しくは流延製膜法によって得られるフイルムまたはシ
ートの乾燥熱処理によって、液晶表示装置の光学補償素
子や高分子液晶等の光学層をその上に形成して用いる光
学補償フイルム用基板として用いる、光学用フイルムの
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】光学用フイルムは、プラスチック液晶セ
ル用基板や位相差補償板用フイルムに利用されている。
こうしたフイルムは流延法により製造することで、ゲル
状物や熱劣化物等の異物が極めて少なく、また厚み斑が
小さくなる。
【0003】しかし流延法によってフイルムを製造する
と、キャスティングの支持体より剥離された直後のフイ
ルムは、20重量%程度の溶媒を含有する場合がある。
この溶媒含有フイルムは、実用上問題にならない程度に
なるまで十分に、後工程で乾燥処理することが必要とな
る。なぜなら残留溶媒は、その可塑化効果によりガラス
転移温度を低下させポリマー本来の耐熱性を充分に発揮
させなかったり、フイルムの加工工程において蒸発溶媒
が種々の悪影響をするなどの課題を生じさせるからであ
る。
【0004】ところで、キャスティング支持体より剥離
された直後のフイルムについて、そのレタデーションや
遅相軸の分布をフイルム面内で見ると、これらの特性値
はバラツキが大きく光学的には不均一である。この不均
一さはフイルムを支持体から剥離する時の張力斑や乾燥
斑等から生じる。
【0005】そこでこのようなフイルムから、制御され
た光学特性を持つフイルムを製造するためには、充分に
加熱乾燥して残留溶媒を取り除くと同時に、高分子鎖を
配向させたり、弛緩させたりする操作が必要となる。
【0006】支持体より剥離した溶媒含有フイルムを加
熱乾燥処理する時の挙動を、自由長下で仔細に見ると、
加熱初期に残留溶媒が急速に失われてフイルムの幅、長
さ並びに厚み方向の寸法が数%収縮する。この処理によ
って、溶媒がフイルムから蒸発するための寸法収縮と分
子鎖の配向暖和が同時に起こる。このように自由長下で
加熱処理されたフイルムは、充分な乾燥と熱弛緩により
光学的には極めて等方性の特性を示すようになる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな乾燥と配向暖和、並びに配向処理を連続した工程で
実施し、所望の光学特性値を持つ均一なフイルムを実際
に製造しようとすれば、各種の課題が発生して効率的に
その製膜を実施できないのが現状である。
【0008】すなわち従来から知られた光学的に位相差
を持つフイルムの製造技術、例えば特開昭63−189
804号公報、特開平2−89006号公報、特開平2
−191904号公報、特開平4−204503号公報
に記載された技術は、1/2あるいは1/4のλ板等の
ように比較的大きなレタデーション値を持つフイルムの
製造技術であって、比較的小さなレターデーション値を
持つフイルムの製造には適用できない。
【0009】また遅相軸のバラツキも小さい範囲に抑え
ることは従来の技術では極めて難しい。比較的大きなレ
ターデーション値を得るためには、延伸配向の倍率を高
目に設定するので遅相軸のバラツキを小さくすることが
可能であるが、低レターデーションの場合には公知技術
の延長ではこれは困難である。
【0010】ところで特開平6−194646号公報に
は、2枚の電極基板間にTN型液晶を狭持してなる液晶
セルと、その両側に配置した2枚の偏光素子の間に光学
補償素子を配置するTN型液晶表示素子において、光学
補償素子の面内屈折率をnx,nyとした時に、10n
m≦(nx−ny)×d≦70nmの条件を満たす光学
補償素子を少なくとも1枚配置したことを特徴とするT
N型液晶表示素子が提案され、そのフイルムの製造方法
も開示されている。すなわち比較的低レターデーション
値のフイルムの製造技術が開示されている。
【0011】その中では、固有複屈折率が0.02を越
える素材についてはガラス転移温度(Tg)+20℃以
上の温度で、配向暖和を十分に進めながら延伸すること
が、低レターデーション値のフイルムを高精度で作るた
めに望ましいとされ、横一軸延伸,アンバランス二軸延
伸が好ましいとされている。
【0012】光学補償フイルム用基板として有用なポリ
カーボネートは、その固有複屈折率が0.02を越え
る。しかしポリカーボネートをTg+20℃のような温
度で処理すると、ポリカーボネート同士が接触により粘
着したり、搬送ロールに粘着したりして、効率的にフイ
ルムを製造するのが難しいばかりでなく、遅相軸の狭い
範囲での制御が極めて難しくなるなどの課題がある。
【0013】その一方で、フイルム面内の主屈折率をn
xとny、フイルム厚み方向の主屈折率をnzとし、フ
イルムの厚さをdとしたときに、10nm≦(nx−n
y)×d≦70nm、かつ−5°≦遅相軸角度≦5°、
さらに[(nx+ny)/2−nz]×d≦30nmと
なる光学特性を有する光学用フイルムが望まれている。
【0014】本発明はかかる課題を解決して、そうした
好ましい光学特性を有する光学用フイルムを、生産性良
く得ることを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の光学用フイルム
の製造方法は、フイルム面内の主屈折率をnxとny、
フイルム厚み方向の主屈折率をnzとし、フイルムの厚
さをdとしたときに、10nm≦(nx−ny)×d≦
70nm、かつ−5°≦遅相軸角度≦5°、さらに
[(nx+ny)/2−nz]×d≦30nmとなる光
学特性を有する光学用フイルムを、ポリカーボネートの
流延製膜法により製造する方法において、ポリカーボネ
ートの溶媒含有フイルムをキャスティング支持体より剥
離した後、次の4段階の工程を連続的に経てフイルムを
室温にまで冷却する際に、第1工程では、雰囲気温度が
15〜40℃のもとで、フイルムの搬送方向に張力を1
平方cm当たり5〜15kgかけつつ、2〜4分間搬送
し、第2工程ではピンテンターにフイルムを送り込み、
ポリカーボネートのガラス転移温度であるTgに対し
て、雰囲気温度がTg−25〜Tg−10℃のもとで、
ピンテンターのレール幅をフイルム幅よりも2.5〜
7.5%縮小させた状態で、ピンクリップによリフイル
ム幅方向の両縁部を把持しながら、フイルム幅方向の断
面が懸垂線を描く状態で、2〜6分間搬送し、第3工程
ではロール懸垂型乾燥機にフイルムを送り込み、雰囲気
温度がTg−10〜Tg℃のもとで、1平方cm当たり
0.5〜1.5kgの張力をかけつつ、30〜90分間
搬送し、そして第4工程ではフイルムを室温まで冷却す
ることを特徴としている。
【0016】すなわち本発明の光学用フイルムの製造方
法としては、支持体より剥がしたフイルムを、先ず第1
の工程では、所定の張力をかけ高分子鎖を引き揃える。
第2の工程では、フイルム幅方向に張力を極力かけない
ようにして乾燥させ、前段で生じせしめたフイルムの流
れ方向への高分子鎖の配向を保持したまま搬送し乾燥す
る。さらに第3の工程では、流れ方向に比較的弱い張力
をかけつつ加熱乾燥し、分子鎖を弛緩させ配向を低下さ
せる。そして第4の工程として室温まで冷却する。これ
らの工程を経ることによって、必要な光学特性を持つフ
イルムを連続した工程で生産性良く製造できる。
【0017】より詳しく言えば、ポリカーボネートの流
延製膜法により光学用フイルムを製造するには、まずポ
リカーボネートを溶媒に溶解して、キャスティングドラ
ムやキャスティングベルト等の支持体上に流延する。こ
れを含有溶媒量が15〜20重量%程度になる時点で支
持体上から引き剥がす。そして支持体より剥離した溶媒
含有フイルムを、次の第1〜第4の工程によって連続的
に処理する。
【0018】まず第1の工程においては、雰囲気温度1
5〜40℃の環境下で、溶媒含有フイルムに所定の張力
を流れ方向にかけつつ搬送する。この際溶媒のある程度
の蒸発とポリカーボネート分子鎖の引き揃えが起こる。
ただしこの際に張力が1平方cm当たり5kgより小さ
い値では、必要なポリカーボネート分子鎖の引き揃えが
起こらない。また逆に張力が1平方cm当たり15kg
より大きな値では、フイルムのレターデーションが高く
なり過ぎる。
【0019】なお張力をかける方法としては、2対のニ
ップロール間を通膜する方法や、キャスティングフイル
ムのベルトからの剥離ロールとピンテンター入口のフイ
ルムガイドロールとの間に、複数本の自由回転ロールと
張力制御装置とを配設して実施する方法等をとることが
できる。
【0020】こうした第1工程においてフイルムを2〜
4分間搬送することにより、フイルム中での残留溶媒濃
度を10〜15重量%にすることができる。
【0021】次いで第2工程としてフイルムを、ピンテ
ンターに送り込み両端をピンシートで把持固定し加熱し
つつ搬送する。この際に加熱温度並びにピンテンターレ
ールの縮小率を所定の値とする。ここでピンテンターの
レール幅縮小率が2.5%より小さいと、フイルムの収
縮応力により、得られるフイルムのレターデーション値
が必要な範囲を越えてしまう上、前工程で処理した分子
鎖の引き揃えの効果が消失してしまう。あるいは縮小率
が7.5%を越えると、フイルムの平坦性が悪くなり、
しわの発生等が生じ次工程での乾燥熱処理で走行不安定
などのトラブルを起こす。
【0022】こうした第2工程においてフイルムを2〜
6分間搬送することにより、フイルム中での残留溶媒濃
度を3〜5重量%にすることができる。
【0023】さらに第3工程においては、ロール懸垂型
乾燥機にこのフイルムを通して、所定の温度・張力で処
理する。ここで処理温度がTg−10℃よりも低い場合
には、張力を低く(例えば1平方cm当たり0.5kg
に)設定しても、ロール懸垂型乾燥熱処理によるフイル
ム縦方向の弛緩が起こり難く、レターデーションを目標
の値にできなくなる。また張力を1平方cm当たり1.
kgを越えてかけた場合にも、レターデーションを目
標の値にできなくなる。
【0024】こうした第3工程においてフイルムを30
〜90分間搬送することにより、フイルム中での残留溶
媒濃度を0.05〜0.3重量%にすることができる。
【0025】そして最後には第4工程としてフイルムを
室温まで冷却して巻きとる。
【0026】本発明のポリカーボネートフイルムの厚み
は、光学補償フイルム製造プロセスや他の位相差板や液
晶セルとの貼り合わせ工程におけるハンドリング性やレ
ターデーション値を考慮すると、50〜150μmが好
ましい。
【0027】また本発明で用いられるポリカーボネート
は、主としてビスフェノールがカーボネート結合に結合
されている芳香族系ポリカーボネートの総称で、その製
造法は特には限定されないが、一般にはホスゲン法ある
いはジフェニルカーボネート法により製造される。用い
られるビスフェノールとしてはビスフェノールAが代表
的である。
【0028】そしてビスフェノールAに対して共重合比
5〜30mol%でパーヒドロイソホロン骨格からなる
ビスフェノール成分を共重合させたポリカーボネートが
好ましい。あるいはまた、ビスフェノールAに対して共
重合比5〜30mol%でフルオレン骨格からなるビス
フェノール成分を共重合させた芳香族ポリカーボネート
も好ましい。
【0029】これらのポリカーボネートの平均分子量は
30000以上である。30000未満であるとフイル
ムの力学的強度が弱く好ましくない。また分子量の上限
は100000である。これ以上になると溶液が高粘度
になりすぎて製膜性が著しく損なわれるので好ましくな
い。
【0030】本発明のポリカーボネート樹脂には、必要
に応じて例えばトリフェニルフォスファイト、トリス
(ノニルフェニル)フォスファイト、ジステアリルペン
タエリスリトールジフォスファイト、ジフェニルハイド
ロジェンフォスファイト、イルガノックス1076〔ス
テアリル−β−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕等のような安定
剤、例えば2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
3’,5’−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾト
リアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オークト
キシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−ヒドロキシ−
4−オクトキシベンゾフェノン等のような耐候剤,着色
剤,帯電防止剤,離型剤,滑剤等の添加剤をフイルムの
透明性を損なわない範囲で加えてもよい。
【0031】また本発明において、ポリカーボネート溶
液に用いる溶媒は、ポリカーボネートを溶解してかつ低
沸点であれば良い。例えば塩化メチレン、1,2−ジク
ロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、クロロベ
ンゼン等のハロゲン系溶媒、1,3−ジオキソラン、
1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エー
テル系溶媒、アニソール等の芳香族エーテル系溶媒、シ
クロヘキサノン等のケトン系溶媒等を用いることができ
る。これらのうち、溶解性、溶液安定性、製膜性の観点
からは、塩化メチレン、1,3−ジオキソラン、1,4
−ジオキサンが特に好ましい。
【0032】そして溶液濃度は、ポリカーボネートの分
子量にも依存するが、10〜35重量%、好ましくは1
2〜30重量%の範囲が用いられる。濃度がこの上限を
越えると、溶液の安定性が落ちたり、溶液粘度が高くな
り過ぎて、均一製膜が困難になるため好ましくない。ま
た下限を下回ると、キャスト工程で外部擾乱による影響
を受けやすく、そのために表面均一性が低下して好まし
くない。
【0033】なお後述する実施例・比較例においては、
フイルムの特性の測定・評価は下記のように行った。
【0034】(1)レターデーション,遅相軸の角度並
びに屈折率の測定:(nx−ny)×d、[(nx+n
y)/2−nz]×d、並びに遅相軸の角度の測定は通
常使用されている複屈折測定装置によって簡便に決定す
ることができる。例えば、新王子製紙(株)製の商品名
「KOBRA−21ADH」や日本分光(株)製の商品
名「M−150」によって、3次元の屈折率を得ること
ができる。
【0035】ここで(nx−ny)×dや[(nx+n
y)/2−nz]×dを決定するに必要な、3次元屈折
率の測定方法について詳しく説明する。3次元屈折率は
アッベ屈折率計などによっても測定可能であるが、測定
精度の観点から複屈折測定装置によって決定することが
好ましい。
【0036】まず高分子フイルムを3次元屈折率楕円体
であると仮定して、リターデーション値の入射角依存性
から計算で求めることができる。すなわち、上記の屈折
率nx,ny,nzを用いると次の関係式が成り立つ。
【0037】
【数1】
【0038】
【数2】
【0039】そこで高分子フイルムの平均の屈折率n=
(nx+ny+nz)/3を決定した後、入射角θにお
けるリターデーションであるR(θ)値を入射角θを変
えて測定し、屈折率nx,ny,nzを決定する。な
お、△n(θ)は入射角θにおける複屈折率、dは膜厚
である。なおnについては、文献値を使用することもで
きる。
【0040】本発明では新王子製紙(株)製の複屈折率
測定装置(商品名「KOBRA−21ADH」)を用い
て、波長590nmにおいて測定した。遅相軸の方向は
フイルム流れ方向を基準とした。フイルム幅1100m
mのサンプルより幅方向に40mm間隔でサンプリング
し測定を実施した。これより(nx−ny)×dにより
表されるレターデーション、遅相軸の角度、並びに
[(nx+ny)/2−nz]×dの値を求めた。
【0041】(2)ポリカーボネートの分子量の測定:
濃度0.5g/dlのジクロロメタン溶液中20℃での
粘度測定から求めた粘度平均分子量で表した。
【0042】(3)Tgの測定:所定量のサンプルを3
00℃まで加熱して室温まで冷却した。さらに昇温速度
10℃/分で加熱しDSC曲線を描きその変曲点より求
めた。
【0043】
【実施例1〜3】ホスゲンとビスフェノールAの縮合に
よって得られた平均分子量38000のポリカーボネー
ト(ガラス転移温度Tgは156℃であった)を、メチ
レンクロライドに溶解し20重量%の溶液とした。これ
をスチールベルト上に流延し、乾燥して連続的に剥ぎ取
った。得られたフイルムは、メチレンクロライド濃度は
15重量%であり、厚みが約109μmであった(実施
例1)。
【0044】ビスフェノールAとパーヒドロイソホロン
骨格を有するビスフェノールとをホスゲン法を用いて共
重合し、平均分子量35000の芳香族ポリカーボネー
ト樹脂を得た。共重合比はビスフェノールA成分に対し
てパーヒドロイソホロン骨格を有するビスフェノールが
15mol%であり、ガラス転移点温度Tgは172℃
であった。該ポリマーをメチレンクロライドに溶解し2
0重量%の溶液とした。これをスチールベルト上に流延
し、乾燥して連続的に剥ぎ取った。得られたフイルム
は、メチレンクロライドの濃度が17重量%であり、厚
みが110μmであった(実施例2)。
【0045】ビスフェノールAとフルオレン骨格を有す
るビスフェノールとをホスゲン法を用いて共重合し、平
均分子量36000の芳香族ポリカーボネート樹脂を得
た。共重合比はビスフェノールA成分に対してフルオレ
ン骨格を有するビスフェノールが16mol%であり、
ガラス転移温度Tgは175℃であった。該ポリマーを
メチレンクロライドに20重量%溶解し、スチールベル
ト上に流延し、乾燥して剥ぎ取った。得られたフイルム
は、メチレンクロライドの濃度が17%重量%であり、
厚みが110μmであった(実施例3)。
【0046】これらのフイルムをそれぞれ剥ぎ取り直後
に第1工程として、25℃の雰囲気温度下でロールに通
して、フイルムに1平方cm当たり9kgの張力をかけ
つつ、3分間搬送した。
【0047】この後ピンテンターによりフイルム幅方向
の両端を把持し搬送した。この際ピンテンターの雰囲気
温度をTg−20℃とし、レール幅の縮小率を5%とし
た。ピンテンター内におけるフイルム滞留時間は6分で
あった。さらにこのフイルムを懸垂型熱処理機に送り込
み、フイルムの張力を1平方cm当たり0.6kgと
し、雰囲気温度をTg−5℃とし乾燥熱処理した。フイ
ルムの滞留時間は約1.5時間であった。得られたフイ
ルムの厚みは、実施例1〜3のいずれも100μmで幅
は1100mmであった。
【0048】こうして得られたフイルムの特性は、実施
例1では(nx−ny)×d=19〜22nm、遅相軸
角度=−3〜3°、[(nx+ny)/2−nz]×d
=27〜30nmであった。また実施例2では(nx−
ny)×d=20〜24nm、遅相軸角度=−3〜3
°、[(nx+ny)/2−nz]×d=28〜30n
mであった。また実施例3では(nx−ny)×d=1
9〜23nm、遅相軸角度=−3〜3°、[(nx+n
y)/2−nz]×d=27〜30nmであった。
【0049】このように得られたフイルムは、(nx−
ny)×d、遅相軸の角度、[(nx+ny)/2−n
z]×d、いずれも面内での均一性に優れたものであっ
た。
【0050】
【実施例4】ホスゲンとビスフェノールAの縮合によっ
て得られた平均分子量38000のポリカーボネート
(ガラス転移温度Tgは156℃であった)を、1,3
−ジオキソランに溶解し、20重量%の溶液とした。こ
れをスチールベルト上に流延し、乾燥した後に連続的に
剥ぎ取った。この時のフイルム中の1,3−ジオキソラ
ン濃度は15重量%であった。またフイルムの厚みは7
7μmであった。
【0051】このフイルムを剥ぎ取り直後に第1工程と
して、25℃の雰囲気温度下でロールに通して、フイル
ムに1平方cm当たり9kgの張力をかけつつ3分間搬
送した。
【0052】この後第2工程として、ピンテンターによ
りフイルム幅方向の両端を把持しつつ搬送した。この際
ピンテンターの雰囲気温度は135℃とし、レール幅の
縮小率を5%とした。ピンテンター中におけるフイルム
の滞留時間は6分とした。
【0053】さらに第3工程として、フイルムを懸垂型
熱処理機に送り込み、フイルムに1平方cm当たり0.
6kgの張力をかけつつ搬送した。この際に、雰囲気温
度は148℃とし、また滞留時間は1.5時間とした。
【0054】最後に室温まで冷却して、厚みは75μm
で幅1100mmのフイルムを作成した。
【0055】得られたフイルムの特性値は、(nx−n
y)×d=22〜25nm、遅相軸の角度=−3°〜3
°、[(nx+ny)/2−nz]×d=24〜27n
mであった。
【0056】
【比較例1】ホスゲンとビスフェノールAの縮合によっ
て得られた平均分子量38000のポリカーボネート
(ガラス転移温度Tgは156℃であった)を、メチレ
ンクロライドに溶解し20重量%の溶液とした。これを
スチールベルト上に流延し、連続的に剥ぎ取った。この
時のフイルム中のメチレンクロライド濃度は18重量%
であった。フイルムの厚みは109μmであった。
【0057】第1工程として剥ぎ取り直後のキャストフ
イルムを、雰囲気温度25℃下でロール間に通し、フイ
ルムに1平方cm当たり4kgの張力をかけつつ、3分
間搬送した。
【0058】この後第2工程として、ピンテンターによ
りフイルム幅方向の両端を把持しつつ搬送した。この際
ピンテンターの雰囲気温度を85℃とし、レール幅の縮
小率を3.5%とした。まピンテンター中におけるフイ
ルムの滞留時間は6分とした。
【0059】さらに第3工程として、このフイルムを懸
垂型熱処理機に送り込み、フイルムに1平方cm当たり
3kgの張力をかけつつ搬送した。この際に、雰囲気温
度は145℃とし、また滞留時間は約1.5時間とし
た。
【0060】最後に室温まで冷却して、厚み100μm
で幅1100mmのフイルムを作成した。
【0061】得られたフイルムの(nx−ny)×d=
25〜35nmであったが、遅相軸の角度=−10°〜
11°でありフイルム面内の分布が大きく不均一なもの
であった。
【0062】
【比較例2】ホスゲンとビスフェノールAの縮合によっ
て得られた分子量38000のポリカーボネート(ガラ
ス転移温度Tgは156℃であった)を、メチレンクロ
ライドに溶解し20重量%の溶液とした。これをスチー
ルベルト上に流延し連続的に剥ぎ取った。この時のフイ
ルム中のメチレンクロライド濃度は15重量%であっ
た。フイルムの厚みは109μmであった。
【0063】第1工程として剥ぎ取り直後のキャストフ
イルムを、雰囲気温度25℃下でロール間に通し、フイ
ルムに1平方cm当たり9kgの張力をかけつつ、3分
間搬送した。
【0064】この後第2工程として、ピンテンターによ
りフイルム幅方向の両端を把持しつつ搬送した。この際
ピンテンターの雰囲気温度を130℃とし、レール幅の
縮小率を5%とした。まピンテンター中におけるフイル
ムの滞留時間は6分とした。
【0065】さらに第3工程として、このフイルムを懸
垂型熱処理機に送り込み、フイルムに1平方cm当たり
0.6kgの張力をかけつつ搬送した。この際に、雰囲
気温度は140℃とし、また滞留時間は約1.5時間と
した。
【0066】最後に室温まで冷却して、厚み100μm
で幅1100mmのフイルムを作成した。
【0067】得られたフイルムの特性値は(nx−n
y)×d=10〜18nm、遅相軸の角度=−7°〜7
°、[(nx+ny)/2−nz]×d=50〜65n
mであった。すなわち遅相軸の角度と[(nx+ny)
/2−nz]×dについてバラツキが大きく均一性がよ
くなかった。
【0068】
【発明の効果】本発明のポリカーボネートフイルムはレ
ターデーション,遅相軸光学異法性がフイルムの全面に
添って制御されており厚み斑が小さくフラッ性にも極
めて優れている等の利点がある。
【0069】また、透明性,耐熱性にも優れる。従って
液晶装置用の各種フイルム基板として用いた時に特に優
れた効果を発揮するものである。特にTN型液晶表示装
置の光学補償素子や、高分子液晶等の光学層をその上に
形成している光学補償フイルム用基板として用いる場合
に優れた効果を発揮する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI B29L 11:00 B29L 11:00 (56)参考文献 特開 平7−256664(JP,A) 特開 平9−5521(JP,A) 特開 平8−50206(JP,A) 特開 平7−299828(JP,A) 特開 平6−235816(JP,A) 特開 平9−230143(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B29C 41/46 B29C 41/48 B29C 41/24 G02B 5/30

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フイルム面内の主屈折率をnxとny、
    フイルム厚み方向の主屈折率をnzとし、フイルムの厚
    さをdとしたときに、10nm≦(nx−ny)×d≦
    70nm、かつ−5°≦遅相軸角度≦5°、さらに
    [(nx+ny)/2−nz]×d≦30nmとなる光
    学特性を有する光学用フイルムを、ポリカーボネートの
    流延製膜法により製造する方法において、ポリカーボネ
    ートの溶媒含有フイルムをキャスティング支持体より剥
    離した後、次の4段階の工程を連続的に経てフイルムを
    室温にまで冷却する際に、第1工程では、雰囲気温度が
    15〜40℃のもとで、フイルムの搬送方向に張力を1
    平方cm当たり5〜15kgかけつつ、2〜4分間搬送
    し、第2工程ではピンテンターにフイルムを送り込み、
    ポリカーボネートのガラス転移温度であるTgに対し
    て、雰囲気温度がTg−25〜Tg−10℃のもとで、
    ピンテンターのレール幅をフイルム幅よりも2.5〜
    7.5%縮小させた状態で、ピンクリップによリフイル
    ム幅方向の両縁部を把持しながら、フイルム幅方向の断
    面が懸垂線を描く状態で、2〜6分間搬送し、第3工程
    ではロール懸垂型乾燥機にフイルムを送り込み、雰囲気
    温度がTg−10〜Tg℃のもとで、1平方cm当たり
    0.5〜1.5kgの張力をかけつつ、30〜90分間
    搬送し、そして第4工程ではフイルムを室温まで冷却す
    ることを特徴とする光学用フイルムの製造方法。
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