JP3347248B2 - Developing device - Google Patents
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- JP3347248B2 JP3347248B2 JP31251295A JP31251295A JP3347248B2 JP 3347248 B2 JP3347248 B2 JP 3347248B2 JP 31251295 A JP31251295 A JP 31251295A JP 31251295 A JP31251295 A JP 31251295A JP 3347248 B2 JP3347248 B2 JP 3347248B2
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基板に対して現像
処理を行う現像装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a developing device for performing a developing process on a substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス
基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基
板等の表面に形成されたフォトリソグラフィー工程に使
用されるフォトレジストや、層間絶縁膜形成用の感光性
ポリイミド樹脂などの各種感光性樹脂膜へ所望のパター
ンを露光した後、当該基板表面に現像液を供給して、露
光パターンを現像するための現像装置が、従来から知ら
れている（例えば、特開平７−２３０１７３号公報参
照）。2. Description of the Related Art A photoresist used in a photolithography process formed on the surface of a semiconductor wafer, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a liquid crystal display device, a substrate for an optical disk, etc., and an interlayer insulating film. 2. Description of the Related Art A developing apparatus for exposing a desired pattern to various photosensitive resin films such as a photosensitive polyimide resin and supplying a developing solution to the surface of the substrate to develop the exposed pattern is conventionally known ( For example, see JP-A-7-230173).
【０００３】図３は、上記したような従来の現像装置の
構成の一例を示す外観斜視図である。図３において、従
来の現像装置は、概略的に言うと、現像すべき基板を載
置して回転させるための基板回転部１と、基板表面に現
像液を供給するための現像液供給部２と、カップ部１の
周囲に設けられ現像液やリンス液が外部に飛散するのを
防止するための昇降自在なスプラッシュガード３と、当
該スプラッシュガード３に関連して設けられ現像処理が
終了した基板に対してリンス液（例えば、純水）を供給
するためのリンス液供給部４とを備えている。なお、現
像液供給部２は、基板回転部１に載置された基板と平行
な面内で回動自在な回動アーム２１と、当該回動アーム
２１の先端に設けられ基板に対して現像液を吐出する現
像液吐出ノズル２２とを含む。また、基板回転部１，現
像液供給部２，スプラッシュガード３およびリンス液供
給部４は、一体的に構成された１つの共通ベース５上に
組み付けられている。FIG. 3 is an external perspective view showing an example of the configuration of a conventional developing device as described above. Referring to FIG. 3, a conventional developing device generally includes a substrate rotating unit 1 for mounting and rotating a substrate to be developed and a developing solution supply unit 2 for supplying a developing solution to the substrate surface. A splash guard 3 provided around the cup portion 1 for preventing the developing solution and the rinsing solution from scattering to the outside, and a substrate provided in connection with the splash guard 3 and having completed the developing process. A rinsing liquid supply unit 4 for supplying a rinsing liquid (for example, pure water) to the rinsing liquid. The developer supply unit 2 includes a rotating arm 21 that is rotatable in a plane parallel to the substrate placed on the substrate rotating unit 1, and a developing arm provided at the tip of the rotating arm 21 for developing the substrate. And a developer discharge nozzle 22 for discharging a liquid. Further, the substrate rotating unit 1, the developing solution supply unit 2, the splash guard 3 and the rinsing liquid supply unit 4 are assembled on one common base 5 integrally formed.
【０００４】図４は、従来の現像装置の構成の他の例を
示す外観斜視図である。図４において、基板回転部１
と、スプラッシュガード３と、リンス液供給部４は、第
１ベース５ａ上に組み込まれている。一方、現像液供給
部２は、第２ベース５ｂ上に組み込まれている。すなわ
ち、第２ベース５ｂ上に組み込まれた現像液供給部２
は、第１ベース５ａ上に組み込まれた基板回転部１，ス
プラッシュガード３およびリンス液供給部とは独立的
に、現像処理システムのフレームから取り外せるように
なっている。FIG. 4 is an external perspective view showing another example of the configuration of the conventional developing device. In FIG. 4, the substrate rotating unit 1
, The splash guard 3 and the rinsing liquid supply unit 4 are incorporated on the first base 5a. On the other hand, the developer supply unit 2 is incorporated on the second base 5b. That is, the developer supply unit 2 incorporated on the second base 5b
Can be detached from the frame of the development processing system independently of the substrate rotating unit 1, the splash guard 3, and the rinsing liquid supply unit incorporated on the first base 5a.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】図３に示す現像装置で
は、全ての構成要素が１つの共通ベース５上に組み付け
られているため、以下に示すような２つの問題点があっ
た。 （１）第１の問題点は、現像装置を、それを用いた現像
処理システムのフレームから取り外す場合に、現像装置
の各部につながっている配管および配線を全て取り外さ
なければならないということである。すなわち、メンテ
ナンス時に面倒な作業を必要とする。 （２）第２の問題点は、共通ベース５に対して各部の配
置を変えることができないため、基板回転部１と現像液
供給部２との位置を左右逆転したい場合は、図３とは各
部の並びが左右逆転された製品を予め準備しておく必要
があるということである。この場合、製品群全体として
の部品点数が増えるため、コストが上昇し、好ましくな
い。例えば、システム化された現像装置にあっては、シ
ステムの左端部または右端部に設けられたインデクサ内
に格納された基板を、搬送ロボットが取り出して搬送
し、自動的に基板回転部１に載置するように構成され
る。その際、インデクサが、システムの左端部に設けら
れるか、右端部に設けられるかに応じて、現像装置に対
して、基板が右側から左側に向けて搬送される場合と、
左側から右側に向けて搬送される場合とがある。図３に
示す現像装置では、正面から見て、基板回転部１に対し
て現像液供給部２が右側に配置されているが、基板の搬
送方向によっては、基板回転部１に対して現像液供給部
２が左側に配置される方が好ましい場合もある。図３に
示す現像装置において、このような要求に対応するため
には、各部の並びを左右逆転配置した製品を予め準備し
ておく他、方法がない。In the developing device shown in FIG. 3, since all components are assembled on one common base 5, there are two problems as described below. (1) The first problem is that when the developing device is detached from the frame of the developing system using the developing device, it is necessary to remove all the pipes and wires connected to each part of the developing device. That is, troublesome work is required at the time of maintenance. (2) The second problem is that the arrangement of each part with respect to the common base 5 cannot be changed. Therefore, when the positions of the substrate rotating unit 1 and the developer supply unit 2 are to be reversed left and right, FIG. This means that it is necessary to prepare a product in which the arrangement of each part is reversed left and right in advance. In this case, the number of parts in the entire product group increases, and the cost increases, which is not preferable. For example, in a systemized developing device, a transfer robot takes out a substrate stored in an indexer provided at a left end or a right end of the system, conveys the substrate, and automatically mounts the substrate on the substrate rotating unit 1. It is configured to be placed. At this time, depending on whether the indexer is provided at the left end or the right end of the system, the substrate is transported from the right to the left with respect to the developing device,
In some cases, the sheet is transported from the left side to the right side. In the developing device illustrated in FIG. 3, the developer supply unit 2 is disposed on the right side of the substrate rotating unit 1 when viewed from the front. In some cases, it is preferable that the supply unit 2 is disposed on the left side. In the developing device shown in FIG. 3, there is no method other than preparing a product in which the arrangement of each part is reversed left and right in order to respond to such a demand.
【０００６】一方、図４に示す構成の現像装置は、第２
ベース５ｂ上に組み込まれた現像液供給部２を、第１ベ
ース５ａ上に組み込まれた基板回転部１，スプラッシュ
ガード３およびリンス液供給部とは独立的に、現像処理
システムのフレームから取り外せるため、図３の現像装
置における上記（１）の問題点を、ある程度回避でき
る。しかしながら、図４に示す構成の現像装置におい
て、基板回転部１と現像液供給部２との位置を左右逆転
するためには、スプラッシュガード部３に対するリンス
液供給部４の取付位置を変更し、かつ各ベース５ａ，５
ｂの形状を変える必要がある。従って、基板回転部１と
現像液供給部２との位置を左右逆転したいという要求に
対しては、図３に示す現像装置と同様、各部が左右逆転
配置された１対の製品を予め準備しておく必要があり、
部品点数が増える。On the other hand, the developing device having the structure shown in FIG.
The developer supply unit 2 incorporated on the base 5b can be detached from the frame of the development processing system independently of the substrate rotating unit 1, the splash guard 3, and the rinsing liquid supply unit incorporated on the first base 5a. The problem (1) in the developing device of FIG. 3 can be avoided to some extent. However, in the developing device having the configuration shown in FIG. 4, in order to reverse the position of the substrate rotating unit 1 and the developing solution supply unit 2 from side to side, the mounting position of the rinsing solution supply unit 4 with respect to the splash guard unit 3 is changed. And each base 5a, 5
It is necessary to change the shape of b. Therefore, in response to a request to reverse the positions of the substrate rotating unit 1 and the developer supply unit 2 in the left-right direction, a pair of products in which the units are disposed in the left-right inverted direction is prepared in advance, as in the developing device shown in FIG. Need to be
The number of parts increases.
【０００７】それ故に、本発明の目的は、メンテナンス
性が良好であり、また各部の並びを左右逆転したいとい
う要求に対して、少ない部品点数で応えることのできる
現像装置を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a developing apparatus which has good maintainability and which can respond to a demand for reversing the arrangement of the parts from side to side with a small number of parts.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段および発明の効果】本発明
は、所望のパターンが露光された基板に対して、その表
面に現像液およびリンス液を順次供給することにより、
当該パターンを現像すると共に、現像後の基板を洗浄す
る装置であって、基板を載置し、当該載置された基板を
回転させる基板回転ユニットと、基板回転ユニットの近
傍に設けられ、そこに載置された基板に対して現像液を
供給する現像液供給ユニットと、基板回転ユニットの近
傍に設けられ、そこに載置された基板に対してリンス液
を供給するリンス液供給ユニットと、基板回転ユニット
の周囲を覆うように設けられ、基板に供給された現像液
またはリンス液が外部に飛散するのを防止するための飛
散防止ユニットと、基板回転ユニット，リンス液供給ユ
ニットおよび飛散防止ユニットを着脱自在に搭載するた
めの第１ベースと、第１ベースと分離可能に構成され、
現像液供給ユニットを着脱自在に搭載するための第２ベ
ースとを備え、基板回転ユニット，現像液供給ユニッ
ト，リンス液供給ユニットおよび飛散防止ユニットは、
それぞれが独立的に第１および第２ベースに対して取り
付けおよび取り外しが可能であり、さらに、基板回転ユ
ニット，現像液供給ユニット，リンス液供給ユニット，
飛散防止ユニットは、第１および第２ベースに対する取
り付け位置を変更することにより、各ユニットの並びを
左右逆転配置可能な形状に構成されていることを特徴と
する。According to the present invention, a developing solution and a rinsing solution are sequentially supplied to the surface of a substrate on which a desired pattern has been exposed.
A device that develops the pattern and cleans the developed substrate, wherein the substrate is mounted, and a substrate rotation unit that rotates the mounted substrate is provided in the vicinity of the substrate rotation unit. A developing solution supply unit that supplies a developing solution to the mounted substrate; a rinsing liquid supply unit that is provided near the substrate rotating unit and supplies a rinsing liquid to the substrate mounted thereon; A scattering prevention unit provided so as to cover the periphery of the rotation unit and for preventing the developer or rinsing liquid supplied to the substrate from scattering outside; and a substrate rotation unit, a rinsing liquid supply unit and a scattering prevention unit. A first base for detachably mounting, and a detachable first base;
A second base for detachably mounting the developer supply unit, wherein the substrate rotating unit, the developer supply unit, the rinsing liquid supply unit and the scattering prevention unit are
Each of them can be independently attached to and detached from the first and second bases. Further, a substrate rotation unit, a developer supply unit, a rinse liquid supply unit,
The scattering prevention unit is characterized in that the arrangement of each unit is changed to a left-right reversed arrangement by changing the attachment position with respect to the first and second bases.
【０００９】上記のように、本発明では、基板回転部，
現像液供給部，リンス液供給部および飛散防止部がそれ
ぞれユニット化され、各ユニットがそれぞれ独立的に第
１および第２ベースに対して取り付けおよび取り外しが
可能である。従って、部品交換や修理を、ユニット毎に
行うことができ、従来のようにメンテナンス時に装置全
体を取り外す必要がない。その結果、配管や配線を取り
外す手間が軽減され、メンテナンスが容易となる。ま
た、本発明では、第１および第２ベースに対する、基板
回転ユニット，現像液供給ユニット，リンス液供給ユニ
ットおよび飛散防止ユニットの取り付け位置を変更する
だけで、各ユニットの並びを左右逆転配置することがで
きる。従って、部品点数を増やすことなく、各部の並び
を左右逆転したいという要求に対して対応することがで
きる。As described above, in the present invention, the substrate rotating unit,
The developer supply unit, the rinsing liquid supply unit, and the scattering prevention unit are each unitized, and each unit can be independently attached to and detached from the first and second bases. Therefore, parts replacement and repair can be performed for each unit, and it is not necessary to remove the entire apparatus at the time of maintenance as in the related art. As a result, the labor for removing the piping and wiring is reduced, and maintenance is facilitated. Also, in the present invention, the arrangement of the units can be reversed left and right only by changing the mounting positions of the substrate rotation unit, the developer supply unit, the rinse liquid supply unit and the scattering prevention unit with respect to the first and second bases. Can be. Therefore, it is possible to respond to a request for reversing the arrangement of each part left and right without increasing the number of parts.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施形態に係
る現像装置の構成を示す外観斜視図である。なお、図１
（ａ）は、正面から見て、右側に現像液供給ユニット２
００が、左側に基板回転ユニット１００，スプラッシュ
ガードユニット３００およびリンス液供給ユニット４０
０が、配置された状態を示しており、図１（ｂ）は、正
面から見て、左側に現像液供給ユニット２００が、右側
に基板回転ユニット１００，スプラッシュガードユニッ
ト３００およびリンス液供給ユニット４００が、配置さ
れた状態を示している。本実施形態の特徴は、現像装置
に必須の構成要素である、基板回転部，現像液供給部，
スプラッシュガードおよびリンス液供給部が、それぞれ
ユニット化され、相互に独立的に、ベースまたはフレー
ムに対して組み込みおよび取り外し可能なように構成さ
れていることである。FIG. 1 is an external perspective view showing the structure of a developing device according to an embodiment of the present invention. FIG.
(A) is a developer supply unit 2 on the right side when viewed from the front.
00 is a substrate rotating unit 100, a splash guard unit 300 and a rinsing liquid supply unit 40 on the left side.
1 shows the arrangement state, and FIG. 1B shows the developer supply unit 200 on the left side and the substrate rotation unit 100, the splash guard unit 300, and the rinse liquid supply unit 400 on the right side when viewed from the front. Shows the arrangement state. The feature of this embodiment is that a substrate rotating unit, a developer supply unit,
The splash guard and the rinsing liquid supply unit are each unitized, and are configured so as to be incorporated into and detached from the base or the frame independently of each other.
【００１１】図１の現像装置について、より詳細に説明
すると、第１および第２ベース５００ａおよび５００ｂ
は、相互に分離可能に構成されている。また、第１ベー
ス５００ａは、表面および裏面の両方が使用可能に構成
されている。第１ベース５００ａ上には、そのほぼ中央
部に、基板回転ユニット１００が取り外し可能に設けら
れる。この基板回転ユニット１００は、現像すべき基板
（（半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶
表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板等）を載
置し、回転させるように構成されている。また、第１ベ
ース５００ａ上には、スプラッシュガードユニット３０
０が取り外し可能に設けられる。このスプラッシュガー
ドユニット３００は、基板回転ユニット１００を取り囲
むように配置された円筒状のカップ３０１と、このカッ
プ３０１を支持して昇降させるための昇降部３０２とを
含む。さらに、第１ベース５００ａの１つの角部には、
切り欠きが形成され、この切り欠きにはまり込むよう
に、リンス液供給ユニット４００が取り外し可能に設け
られる。このリンス液供給ユニット４００は、基板回転
ユニット１００に載置された基板と平行な面内で回動自
在な回動アーム４０１と、当該回動アーム４０１の先端
に設けられ基板に対してリンス液（純水等）を吐出する
リンス液吐出ノズル４０２とを含む。The developing device of FIG. 1 will be described in more detail. First and second bases 500a and 500b
Are configured to be separable from each other. The first base 500a is configured so that both the front surface and the back surface can be used. On the first base 500a, the substrate rotating unit 100 is detachably provided substantially at the center thereof. The substrate rotating unit 100 is configured to place and rotate a substrate to be developed (a semiconductor wafer, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a liquid crystal display device, a substrate for an optical disk, etc.). The splash guard unit 30 is provided on the first base 500a.
0 is provided detachably. The splash guard unit 300 includes a cylindrical cup 301 arranged so as to surround the substrate rotation unit 100, and an elevating unit 302 for supporting and elevating the cup 301. Further, at one corner of the first base 500a,
A notch is formed, and the rinsing liquid supply unit 400 is detachably provided so as to fit into the notch. The rinsing liquid supply unit 400 includes a rotating arm 401 rotatable in a plane parallel to the substrate placed on the substrate rotating unit 100, and a rinsing liquid A rinse liquid discharge nozzle 402 that discharges (pure water or the like).
【００１２】一方、第２ベース５００ｂ上には、基板に
対して現像液を供給するための現像液供給ユニット２０
０が取り外し可能に設けられる。この現像液供給ユニッ
ト２００は、基板回転ユニット１００に載置された基板
と平行な面内で回動自在な回動アーム２０１と、当該回
動アーム２０１の先端に設けられ基板に対して現像液を
吐出する現像液吐出ノズル２０２とを含む。On the other hand, a developer supply unit 20 for supplying a developer to the substrate is provided on the second base 500b.
0 is provided detachably. The developing solution supply unit 200 includes a rotating arm 201 rotatable in a plane parallel to the substrate placed on the substrate rotating unit 100, and a developing solution provided at a tip of the rotating arm 201 for developing a liquid with respect to the substrate. And a developer discharge nozzle 202 that discharges the developer.
【００１３】上記のような構成を有する現像装置におい
て、基板回転ユニット１００の上には、その表面に感光
性樹脂膜（フォトレジスト、感光性ポリイミド樹脂等）
が形成され、かつ所望パターンの露光が終了した基板
（半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表
示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板等）が載置
され、真空吸着等によって固定される。次に、基板回転
ユニット１００によって所定の回転数で基板が回転され
る。次に、回動アーム２０１が上昇、回動、下降し、基
板のほぼ中心位置直上に現像液吐出ノズル２０２が移動
される。次に、昇降部３０２によってカップ３０１が所
定高さまで上昇され、図示しない現像液タンクから現像
液吐出ノズル２０２に現像液が供給される。その結果、
現像液吐出ノズル２０２から現像液が吐出され、基板の
表面に供給される。このとき、基板は、回転しているた
め、供給された現像液は、基板の全体に広がる。次に、
基板の回転が停止され、現像効果を得るために所定時間
待機する。このとき、回動アーム２０１が、上昇、回
動、下降し、現像液吐出ノズル２０２が初期位置に復帰
する。以後、現像液吐出ノズル２０２は、次の現像処理
が開始されるまで、初期位置で待機する。In the developing device having the above configuration, a photosensitive resin film (photoresist, photosensitive polyimide resin, etc.) is formed on the surface of the substrate rotating unit 100 on the surface thereof.
Are formed and a substrate (a semiconductor wafer, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a liquid crystal display, a substrate for an optical disk, etc.) on which exposure of a desired pattern is completed is placed and fixed by vacuum suction or the like. . Next, the substrate is rotated at a predetermined rotation speed by the substrate rotation unit 100. Next, the rotating arm 201 is raised, rotated and lowered, and the developing solution discharge nozzle 202 is moved almost immediately above the center position of the substrate. Next, the cup 301 is raised to a predetermined height by the elevating unit 302, and the developing solution is supplied to the developing solution discharge nozzle 202 from a developing solution tank (not shown). as a result,
The developer is discharged from the developer discharge nozzle 202 and supplied to the surface of the substrate. At this time, since the substrate is rotating, the supplied developer spreads over the entire substrate. next,
The rotation of the substrate is stopped, and the process waits for a predetermined time to obtain a developing effect. At this time, the rotation arm 201 moves up, turns, and moves down, and the developer discharge nozzle 202 returns to the initial position. Thereafter, the developing solution discharge nozzle 202 waits at the initial position until the next developing process is started.
【００１４】上記のようにして、一連の現像処理が終了
すると、今度は回動アーム４０１が上昇、回動、下降
し、基板のほぼ中心位置直上にリンス液吐出ノズル４０
２が移動される。次に、図示しない純水タンクからリン
ス液吐出ノズル４０２にリンス液としての純水が供給さ
れる。その結果、リンス液吐出ノズル４０２から純水が
吐出され、基板の表面に供給される。このとき、基板
は、回転しているため、供給された純水は、基板の全体
に広がる。これによって、基板が洗浄される。基板の洗
浄処理が終了すると、必要に応じて、基板の乾燥処理が
行われる。When a series of development processing is completed as described above, the rotating arm 401 is raised, rotated and lowered, and the rinsing liquid discharge nozzle 40 is located almost immediately above the center of the substrate.
2 is moved. Next, pure water as a rinse liquid is supplied to a rinse liquid discharge nozzle 402 from a pure water tank (not shown). As a result, pure water is discharged from the rinsing liquid discharge nozzle 402 and supplied to the surface of the substrate. At this time, since the substrate is rotating, the supplied pure water spreads over the entire substrate. Thereby, the substrate is cleaned. After the substrate cleaning process is completed, a substrate drying process is performed as necessary.
【００１５】図２（ａ）は、図１（ａ）に対応する組み
込み状態での現像装置の平面図である。また、図２
（ｂ）は、図１（ｂ）に対応する組み込み状態での現像
装置の平面図である。FIG. 2A is a plan view of the developing device in an assembled state corresponding to FIG. 1A. FIG.
FIG. 2B is a plan view of the developing device in an assembled state corresponding to FIG.
【００１６】図１および図２から分かるように、図１
（ａ）および図２（ａ）の配置を取る現像装置も、図１
（ｂ）および図２（ｂ）の配置を取る現像装置も、全て
共通の部品を用いて構成されている。すなわち、本実施
形態の現像装置は、同一の部品を用いて、左右対称ない
ずれの現像装置も構成することができる。従って、ユー
ザから、図１（ａ）の配置構成または図１（ｂ）の配置
構成のいずれの納品要求があっても、少ない部品点数
で、そのような要求に対応することができる。As can be seen from FIGS. 1 and 2, FIG.
The developing device having the arrangement shown in FIG. 2A and FIG.
The developing devices having the arrangements shown in FIG. 2B and FIG. 2B are all configured using common components. That is, the developing device of the present embodiment can use the same components to form any symmetric developing device. Therefore, even if the user issues a delivery request of either the arrangement shown in FIG. 1A or the arrangement shown in FIG. 1B, such a request can be met with a small number of parts.
【００１７】また、本実施形態では、現像装置を構成す
る主要な構成要素が全てユニット化され、それぞれのユ
ニットが、ベースまたは現像システムのフレームから相
互に独立的に取り外すことができるため、メンテナンス
時において、いずれかのユニットを取り外す場合は、そ
れに付随する配管または配線を取り外せばよいため、従
来の現像装置に比べて、メンテナンス作業が容易とな
る。Further, in the present embodiment, all the main components constituting the developing device are unitized, and each unit can be detached from the base or the frame of the developing system independently of each other. In order to remove any one of the units, the piping or wiring associated with the unit may be removed, so that maintenance work is easier than in the conventional developing device.
【図１】本発明の一実施形態に係る現像装置の構成を示
す外観斜視図である。FIG. 1 is an external perspective view illustrating a configuration of a developing device according to an embodiment of the present invention.
【図２】図１に示す現像装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the developing device shown in FIG.
【図３】従来の現像装置構成の一例を示す外観斜視図で
ある。FIG. 3 is an external perspective view showing an example of a configuration of a conventional developing device.
【図４】従来の現像装置の構成の他の例を示す外観斜視
図である。FIG. 4 is an external perspective view showing another example of the configuration of the conventional developing device.
１００…基板回転ユニット ２００…現像液供給ユニット ３００…スプラッシュガードユニット ４００…リンス液供給ユニット ６…現像液吐出ノズル ５００ａ…第１ベース ５００ｂ…第２ベース 100: substrate rotation unit 200: developer supply unit 300: splash guard unit 400: rinse solution supply unit 6: developer discharge nozzle 500a: first base 500b: second base
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−129627（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−254854（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−206010（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−183041（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−13332（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−46010（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−162341（ＪＰ，Ａ) 実開 昭58−171273（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03F 7/30 502 H01L 21/027 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-63-129627 (JP, A) JP-A-3-254854 (JP, A) JP-A-5-206010 (JP, A) JP-A-5-206 183041 (JP, A) JP-A-63-13332 (JP, A) JP-A-8-46010 (JP, A) JP-A-62-162341 (JP, A) Japanese Utility Model Publication No. 58-171273 (JP, U) (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G03F 7/30 502 H01L 21/027
Claims (1)
であって、 前記基板を載置し、当該載置された基板を回転させる基
板回転ユニットと、 前記基板回転ユニットの近傍に設けられ、そこに載置さ
れた基板に対して現像液を供給する現像液供給ユニット
と、 前記基板回転ユニットの近傍に設けられ、そこに載置さ
れた基板に対してリンス液を供給するリンス液供給ユニ
ットと、 前記基板回転ユニットの周囲を覆うように設けられ、前
記基板に供給された現像液またはリンス液が外部に飛散
するのを防止するための飛散防止ユニットと、 前記基板回転ユニット，前記リンス液供給ユニットおよ
び前記飛散防止ユニットを着脱自在に搭載するための第
１ベースと、 前記第１ベースと分離可能に構成され、前記現像液供給
ユニットを着脱自在に搭載するための第２ベースとを備
え、 前記基板回転ユニット，前記現像液供給ユニット，前記
リンス液供給ユニットおよび前記飛散防止ユニットは、
それぞれが独立的に前記第１および第２ベースに対して
取り付けおよび取り外しが可能であり、 さらに、前記基板回転ユニット，前記現像液供給ユニッ
ト，前記リンス液供給ユニット，前記飛散防止ユニット
は、前記第１および第２ベースに対する取り付け位置を
変更することにより、各ユニットの並びを左右逆転配置
可能な形状に構成されていることを特徴とする、現像装
置。1. A developing device for performing a developing process on a substrate, comprising: a substrate rotating unit for mounting the substrate and rotating the mounted substrate; and a developing device provided near the substrate rotating unit. A developing solution supply unit for supplying a developing solution to the substrate mounted thereon, and a rinsing liquid supply provided near the substrate rotating unit and supplying a rinsing liquid to the substrate mounted thereon A scatter prevention unit provided to cover the periphery of the substrate rotation unit and for preventing a developer or a rinsing liquid supplied to the substrate from scattering outside; and a substrate rotation unit and the rinsing unit. A first base for detachably mounting the liquid supply unit and the scattering prevention unit; and a detachable structure from the first base, wherein the developer supply unit is detachably attached. A second base for mounting, the substrate rotating unit, the developing solution supply unit, the rinsing solution supply unit, and the scattering prevention unit,
Each of them can be independently attached to and detached from the first and second bases. Further, the substrate rotating unit, the developing solution supply unit, the rinsing solution supply unit, and the scattering prevention unit include A developing device, characterized in that the units are arranged in a shape that can be reversed left and right by changing the mounting position with respect to the first and second bases.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31251295A JP3347248B2 (en) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | Developing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31251295A JP3347248B2 (en) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | Developing device |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09152720A JPH09152720A (en) | 1997-06-10 |
| JP3347248B2 true JP3347248B2 (en) | 2002-11-20 |
Family
ID=18030119
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP31251295A Expired - Fee Related JP3347248B2 (en) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | Developing device |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP3347248B2 (en) |
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|---|---|---|---|---|
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-
1995
- 1995-11-30 JP JP31251295A patent/JP3347248B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPH09152720A (en) | 1997-06-10 |
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