JP3346762B2 - 磁気ヘッド組立用治具 - Google Patents
磁気ヘッド組立用治具Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ヘッドの組立工
程において使用される治具に関するものである。
程において使用される治具に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録装置に使用する磁気ヘッドとし
ては、チタニア系セラミックスからなるスライダーにコ
アを備えたもの、あるいはＡｌ2Ｏ3−ＴｉＣ系セラミッ
クスからなる基板上に薄膜手段で磁気ヘッドを形成した
薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドの一種であるＭＲ
ヘッド等がある。
ては、チタニア系セラミックスからなるスライダーにコ
アを備えたもの、あるいはＡｌ2Ｏ3−ＴｉＣ系セラミッ
クスからなる基板上に薄膜手段で磁気ヘッドを形成した
薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドの一種であるＭＲ
ヘッド等がある。
【０００３】この磁気ヘッドは、微小で複雑な形状をし
ているため、上記のセラミックス材を所定形状に加工
し、磁気ヘッドとして組立てる工程で、さまざまな治具
が用いられている。
ているため、上記のセラミックス材を所定形状に加工
し、磁気ヘッドとして組立てる工程で、さまざまな治具
が用いられている。
【０００４】例えば、図１に示す治具１０は、トランス
ファーツールと呼ばれるもので、異形の貫通孔１１を有
する板状体からなり、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ系セラミックス
の基板１の研磨工程で使用する。即ち、治具１０の下面
１３に基板１を貼り付けた状態で、上面１２側を保持
し、図２に示すように回転する研磨盤１４に押し当てて
研磨加工すると、上記貫通孔１１によって基板１を弾性
的に押圧することができ、厚みを均一に調整することが
できる。
ファーツールと呼ばれるもので、異形の貫通孔１１を有
する板状体からなり、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ系セラミックス
の基板１の研磨工程で使用する。即ち、治具１０の下面
１３に基板１を貼り付けた状態で、上面１２側を保持
し、図２に示すように回転する研磨盤１４に押し当てて
研磨加工すると、上記貫通孔１１によって基板１を弾性
的に押圧することができ、厚みを均一に調整することが
できる。
【０００５】また、その他に、図３のように基板１等の
セラミックス材をイオンミリング等で加工する際に保持
するための治具２０や、図４のように作製された磁気ヘ
ッドを装置に組立てる際に保持するための治具３０等も
ある。
セラミックス材をイオンミリング等で加工する際に保持
するための治具２０や、図４のように作製された磁気ヘ
ッドを装置に組立てる際に保持するための治具３０等も
ある。
【０００６】これらの磁気ヘッド加工組立用治具は、従
来より、ステンレスなどの金属やアルミナなどのセラミ
ックスにより形成されている。
来より、ステンレスなどの金属やアルミナなどのセラミ
ックスにより形成されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、薄膜磁気ヘ
ッド、特にＭＲヘッドの組立工程において使用される金
属製の治具は、導電性が高すぎるため導通短絡による取
り扱い事故や、金属打痕による精度劣化に起因する歩留
まりの低下が発生しやすいという問題があった。また、
治具自体が磁気を帯びやすいため、薄膜磁気ヘッド、特
にＭＲヘッド等の部品に悪影響を与えるといった問題も
あった。
ッド、特にＭＲヘッドの組立工程において使用される金
属製の治具は、導電性が高すぎるため導通短絡による取
り扱い事故や、金属打痕による精度劣化に起因する歩留
まりの低下が発生しやすいという問題があった。また、
治具自体が磁気を帯びやすいため、薄膜磁気ヘッド、特
にＭＲヘッド等の部品に悪影響を与えるといった問題も
あった。
【０００８】これに対し、アルミナなどのセラミックス
からなる治具は、絶縁材料であるため導通短絡による不
具合は解消でき、打痕による精度劣化に起因する歩留ま
り低下も改善することができる反面、静電気を逃がしに
くいため、磁気ヘッドに悪影響を及ぼしやすいという問
題点があった。
からなる治具は、絶縁材料であるため導通短絡による不
具合は解消でき、打痕による精度劣化に起因する歩留ま
り低下も改善することができる反面、静電気を逃がしに
くいため、磁気ヘッドに悪影響を及ぼしやすいという問
題点があった。
【０００９】
【課題を解決するための手段】そこで本発明は、薄膜磁
気ヘッドとして組み立てる際又は得られた薄膜磁気ヘッ
ドを磁気記録装置に組み立てる際の組立工程で、ヘッド
を保持するための治具であって、体積固有抵抗値が１０
6〜１０9Ω・ｃｍで、非磁性のセラミックスにより形成
したことを特徴とする。
気ヘッドとして組み立てる際又は得られた薄膜磁気ヘッ
ドを磁気記録装置に組み立てる際の組立工程で、ヘッド
を保持するための治具であって、体積固有抵抗値が１０
6〜１０9Ω・ｃｍで、非磁性のセラミックスにより形成
したことを特徴とする。
【００１０】ここで、体積固有抵抗値を１０6〜１０9Ω
・ｃｍとしたのは、体積固有抵抗値が１０9Ω・ｃｍよ
り大きいと絶縁性が高いために静電気の除去効果が得ら
れないからであり、逆に体積固有抵抗値が１０6Ω・ｃ
ｍより小さくなると帯電した静電気が一気に逃げるた
め、大気摩擦による放電作用を防ぐことができないから
である。
・ｃｍとしたのは、体積固有抵抗値が１０9Ω・ｃｍよ
り大きいと絶縁性が高いために静電気の除去効果が得ら
れないからであり、逆に体積固有抵抗値が１０6Ω・ｃ
ｍより小さくなると帯電した静電気が一気に逃げるた
め、大気摩擦による放電作用を防ぐことができないから
である。
【００１１】また、非磁性のセラミックスとは、残留磁
束密度が１４ガウス以下であるようなセラミックスのこ
とである。
束密度が１４ガウス以下であるようなセラミックスのこ
とである。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を説明す
る。
る。
【００１３】図４に示す治具３０は、体積固有抵抗値が
１０6〜１０9Ω・ｃｍである非磁性のセラミックスから
なり、二つのスリット３１、３１を備えたものである。
そして、製造した磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立て
る際に、磁気ヘッドを保持したジンバルの一部を上記ス
リット３１、３１に保持することができる。
１０6〜１０9Ω・ｃｍである非磁性のセラミックスから
なり、二つのスリット３１、３１を備えたものである。
そして、製造した磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立て
る際に、磁気ヘッドを保持したジンバルの一部を上記ス
リット３１、３１に保持することができる。
【００１４】上記治具３０は適度な体積固有抵抗値を有
しているため、静電気を徐々に放出できることから、一
気に静電気が放出して大気摩擦による放電作用を防ぎ、
磁気ヘッドに悪影響を及ぼすことを防止できる。
しているため、静電気を徐々に放出できることから、一
気に静電気が放出して大気摩擦による放電作用を防ぎ、
磁気ヘッドに悪影響を及ぼすことを防止できる。
【００１５】ここで重要なことは、治具３０の体積固有
抵抗値が低すぎると、静電気が一気に放出して大気摩擦
による放電作用を生じ、磁気ヘッドに悪影響を及ぼして
しまう点である。そこで、本発明では、体積固有抵抗値
が１０6〜１０9Ω・ｃｍと適度に導電性を有する範囲に
制御することによって、静電気を徐々に放出し、磁気ヘ
ッドに悪影響を及ぼしにくい治具３０を得るようにし
た。
抵抗値が低すぎると、静電気が一気に放出して大気摩擦
による放電作用を生じ、磁気ヘッドに悪影響を及ぼして
しまう点である。そこで、本発明では、体積固有抵抗値
が１０6〜１０9Ω・ｃｍと適度に導電性を有する範囲に
制御することによって、静電気を徐々に放出し、磁気ヘ
ッドに悪影響を及ぼしにくい治具３０を得るようにし
た。
【００１６】しかも、上記のように体積固有抵抗値を１
０6〜１０9Ω・ｃｍの範囲としておけば、導通短絡によ
る取り扱い事故を防止できる。また、非磁性のセラミッ
クスを用いることによって、磁気ヘッドへの悪影響を防
止できる。さらに、治具３０は硬度の高いセラミックス
からなるため打痕や摩耗による精度劣化も防ぐことがで
きる。
０6〜１０9Ω・ｃｍの範囲としておけば、導通短絡によ
る取り扱い事故を防止できる。また、非磁性のセラミッ
クスを用いることによって、磁気ヘッドへの悪影響を防
止できる。さらに、治具３０は硬度の高いセラミックス
からなるため打痕や摩耗による精度劣化も防ぐことがで
きる。
【００１７】このように、本発明の磁気ヘッド組立用治
具とは、磁気ヘッドとして組み立てる際又は得られた磁
気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際等の組立工程
で、ヘッド等を保持するための治具等を意味する。
具とは、磁気ヘッドとして組み立てる際又は得られた磁
気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際等の組立工程
で、ヘッド等を保持するための治具等を意味する。
【００１８】また、本発明の磁気ヘッド組立用治具は、
さまざまな磁気ヘッドの組立に使用できるが、特に薄膜
磁気ヘッド、中でもＭＲヘッドの組立に使用することが
好ましい。
さまざまな磁気ヘッドの組立に使用できるが、特に薄膜
磁気ヘッド、中でもＭＲヘッドの組立に使用することが
好ましい。
【００１９】なお、以上の実施形態では、治具の全体を
体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍで非磁性のセラ
ミックスで形成した例を示したが、少なくとも被加工物
と接触する部位を上記セラミックスで形成しておけばよ
く、他の材質と組み合わせて治具を構成することもでき
る。
体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍで非磁性のセラ
ミックスで形成した例を示したが、少なくとも被加工物
と接触する部位を上記セラミックスで形成しておけばよ
く、他の材質と組み合わせて治具を構成することもでき
る。
【００２０】このような本発明の磁気ヘッド組立用治具
において、体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍであ
る非磁性のセラミックスとしては、例えば導電性ジルコ
ニアセラミックス、導電性アルミナセラミックス、炭化
珪素質セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性
フォルステライト系セラミックスを用いる。
において、体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍであ
る非磁性のセラミックスとしては、例えば導電性ジルコ
ニアセラミックス、導電性アルミナセラミックス、炭化
珪素質セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性
フォルステライト系セラミックスを用いる。
【００２１】導電性ジルコニアセラミックスとしては、
導電性付与剤として、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃ
ｒ2Ｏ3のうち一種以上を１０〜３５重量％の範囲で含有
するか、あるいはＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＣなどの炭化物の
うち一種以上を１０〜２５重量％の範囲で含有し、残部
がＹ2Ｏ3、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＣｅＯ2等の安定化剤によ
り部分安定化されたジルコニアからなり焼結体中におけ
る全ジルコニア量に対し、単斜晶以外のジルコニア量が
９０％以上、好ましくは９５％以上であるものが良い。
導電性付与剤として、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃ
ｒ2Ｏ3のうち一種以上を１０〜３５重量％の範囲で含有
するか、あるいはＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＣなどの炭化物の
うち一種以上を１０〜２５重量％の範囲で含有し、残部
がＹ2Ｏ3、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＣｅＯ2等の安定化剤によ
り部分安定化されたジルコニアからなり焼結体中におけ
る全ジルコニア量に対し、単斜晶以外のジルコニア量が
９０％以上、好ましくは９５％以上であるものが良い。
【００２２】すなわち、ジルコニアの結晶状態には立方
晶、正方晶、単斜晶の３つの状態があり、特に正方晶ジ
ルコニアは外部応力に対し、応力誘起変態を受けて単斜
晶ジルコニアに相変態し、この時に生じる体積膨張によ
って単斜晶ジルコニアの周囲に微少なマイクロクラック
を形成して外部応力の進行を阻止できるため、ジルコニ
アセラミックスの強度を高めることができるのである
が、単斜晶以外のジルコニア量が９０％未満であると、
導電性付与剤を含有することによる強度劣化が生じるか
らである。
晶、正方晶、単斜晶の３つの状態があり、特に正方晶ジ
ルコニアは外部応力に対し、応力誘起変態を受けて単斜
晶ジルコニアに相変態し、この時に生じる体積膨張によ
って単斜晶ジルコニアの周囲に微少なマイクロクラック
を形成して外部応力の進行を阻止できるため、ジルコニ
アセラミックスの強度を高めることができるのである
が、単斜晶以外のジルコニア量が９０％未満であると、
導電性付与剤を含有することによる強度劣化が生じるか
らである。
【００２３】なお、ジルコニアの平均結晶粒子径が０．
５μｍより大きくなると、曲げ強度や硬度等の機械的特
性が大きく低下し、逆に０．２μｍ未満とすることは製
造上難しい。したがって、ジルコニアの平均結晶粒径は
０．２〜０．５μｍとすることが良い。
５μｍより大きくなると、曲げ強度や硬度等の機械的特
性が大きく低下し、逆に０．２μｍ未満とすることは製
造上難しい。したがって、ジルコニアの平均結晶粒径は
０．２〜０．５μｍとすることが良い。
【００２４】また、導電性付与剤として、Ｆｅ2Ｏ3、Ｎ
ｉＯ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3のうち一種以上を用いた場合
において、これら導電性付与剤の含有量を１０〜３５重
量％としたのは、１０重量％では抵抗値を下げる効果が
小さく、１０6〜１０9Ω・ｃｍ以下とすることができな
いからであり、逆に、３５重量％より多くなると強度が
極端に低下するとともに、抵抗値が１０6Ω・ｃｍ未満
となり、さらには磁性を生じる恐れがあるからである。
ｉＯ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3のうち一種以上を用いた場合
において、これら導電性付与剤の含有量を１０〜３５重
量％としたのは、１０重量％では抵抗値を下げる効果が
小さく、１０6〜１０9Ω・ｃｍ以下とすることができな
いからであり、逆に、３５重量％より多くなると強度が
極端に低下するとともに、抵抗値が１０6Ω・ｃｍ未満
となり、さらには磁性を生じる恐れがあるからである。
【００２５】また、導電性付与剤として、ＴｉＣ、Ｗ
Ｃ、ＴａＣなどの炭化物のうち一種以上を用いた場合に
おいても、これら導電性付与剤の含有量が１０重量％未
満では抵抗値を１０9Ω・ｃｍ以下とすることができ
ず、逆に、２５重量％より多くなると、抵抗値が１０6
Ω・ｃｍ未満となり、さらには磁性を生じる恐れがある
からである。
Ｃ、ＴａＣなどの炭化物のうち一種以上を用いた場合に
おいても、これら導電性付与剤の含有量が１０重量％未
満では抵抗値を１０9Ω・ｃｍ以下とすることができ
ず、逆に、２５重量％より多くなると、抵抗値が１０6
Ω・ｃｍ未満となり、さらには磁性を生じる恐れがある
からである。
【００２６】なお、これらの導電性付与剤の平均結晶粒
子径が大きすぎるとジルコニアセラミックスの曲げ強度
や硬度等の機械的特性が低下するため、５μｍ以下、好
ましくは３μｍ以下とすることが良い。
子径が大きすぎるとジルコニアセラミックスの曲げ強度
や硬度等の機械的特性が低下するため、５μｍ以下、好
ましくは３μｍ以下とすることが良い。
【００２７】さらに、上記ジルコニアおよび導電性付与
剤以外に、焼成温度抑制剤を３重量％以下の範囲で含有
させても良い。焼成温度抑制剤としては、導電性付与剤
としてＦｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3を用いる
場合は、Ｃａ、Ｋ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｓｃなどの酸化
物を含有すれば良く、導電性付与剤としてＴｉＣ、Ｗ
Ｃ、ＴａＣなどの炭化物を用いる場合は、Ａｌ2Ｏ3、Ｔ
ｉＯ2を含有すればよい。
剤以外に、焼成温度抑制剤を３重量％以下の範囲で含有
させても良い。焼成温度抑制剤としては、導電性付与剤
としてＦｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3を用いる
場合は、Ｃａ、Ｋ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｓｃなどの酸化
物を含有すれば良く、導電性付与剤としてＴｉＣ、Ｗ
Ｃ、ＴａＣなどの炭化物を用いる場合は、Ａｌ2Ｏ3、Ｔ
ｉＯ2を含有すればよい。
【００２８】これらの焼成温度抑制剤を３重量％以下の
範囲で含有させれば、焼成温度を下げてジルコニアおよ
び導電性付与剤の粒成長を抑えることができるため、曲
げ強度や硬度等の機械的特性を高めることができる。
範囲で含有させれば、焼成温度を下げてジルコニアおよ
び導電性付与剤の粒成長を抑えることができるため、曲
げ強度や硬度等の機械的特性を高めることができる。
【００２９】このような導電性ジルコニアセラミックス
は、ビッカース硬度１０〜１３ＧＰａ、３点曲げ強度６
５０〜１４００ＭＰａとすることができる。
は、ビッカース硬度１０〜１３ＧＰａ、３点曲げ強度６
５０〜１４００ＭＰａとすることができる。
【００３０】また、導電性アルミナセラミックスとして
は、６５〜８５重量％のＡｌ2Ｏ3を主成分とし、導電性
付与剤としてＦｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3の
うち一種以上を１５〜３５重量％の範囲で含有し、残部
をＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｉＯ2等の焼結助剤とし、大気雰
囲気中にて焼成したものを使用する。
は、６５〜８５重量％のＡｌ2Ｏ3を主成分とし、導電性
付与剤としてＦｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3の
うち一種以上を１５〜３５重量％の範囲で含有し、残部
をＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｉＯ2等の焼結助剤とし、大気雰
囲気中にて焼成したものを使用する。
【００３１】この導電性アルミナセラミックスは、ビッ
カース硬度１０．５〜１８ＧＰａ、３点曲げ強度２００
〜４５０ＭＰａとすることができる。
カース硬度１０．５〜１８ＧＰａ、３点曲げ強度２００
〜４５０ＭＰａとすることができる。
【００３２】さらに、炭化珪素質セラミックスとして
は、９０〜９８重量％のＳｉＣを主成分とし、焼結助剤
としてＡｌ2Ｏ3を１〜７重量％とＹ2Ｏ3、ＣｅＯ2を合
計で１〜５重量％の範囲でそれぞれ添加し、真空中また
は不活性ガス雰囲気中で焼成したものを用いれば良い。
このように、上記範囲で焼結助剤をそれぞれ添加するこ
とにより焼結性を高め、靱性を向上させることができ
る。
は、９０〜９８重量％のＳｉＣを主成分とし、焼結助剤
としてＡｌ2Ｏ3を１〜７重量％とＹ2Ｏ3、ＣｅＯ2を合
計で１〜５重量％の範囲でそれぞれ添加し、真空中また
は不活性ガス雰囲気中で焼成したものを用いれば良い。
このように、上記範囲で焼結助剤をそれぞれ添加するこ
とにより焼結性を高め、靱性を向上させることができ
る。
【００３３】この炭化珪素質セラミックスは、ビッカー
ス硬度２２〜２４．５ＧＰａ、３点曲げ強度４５０〜６
００ＭＰａとすることができる。
ス硬度２２〜２４．５ＧＰａ、３点曲げ強度４５０〜６
００ＭＰａとすることができる。
【００３４】また、チタニア系セラミックスとしては、
ＴｉＯ2５０〜９９重量％で、残部がＢａＯ、ＣａＯ、
ＳｒＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2、ＭｇＯのうち一
種または二種以上からなるチタニア系セラミックスを所
定形状に成形し、焼成した後、還元雰囲気、不活性雰囲
気または真空中などの非酸化雰囲気にて９００〜１２０
０℃で加熱処理したものを使用すれば良い。
ＴｉＯ2５０〜９９重量％で、残部がＢａＯ、ＣａＯ、
ＳｒＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2、ＭｇＯのうち一
種または二種以上からなるチタニア系セラミックスを所
定形状に成形し、焼成した後、還元雰囲気、不活性雰囲
気または真空中などの非酸化雰囲気にて９００〜１２０
０℃で加熱処理したものを使用すれば良い。
【００３５】このチタニア系セラミックスは、ビッカー
ス硬度６．５〜９ＧＰａ、３点曲げ強度１７０〜３００
ＭＰａとすることができる。
ス硬度６．５〜９ＧＰａ、３点曲げ強度１７０〜３００
ＭＰａとすることができる。
【００３６】さらに、導電性フォルステライト系セラミ
ックスは、ＭｇＯとＳｉＯ2の複合酸化物を４０〜８０
重量％と、酸化鉄を６０〜２０重量％の範囲でそれぞれ
含有する焼結体である。この導電性フォルステライト系
セラミックスは、上記組成の原料粉末を所定形状に成形
した後、１２００〜１３００℃で焼成することによって
得ることができ、焼結体をＸ線回折により測定した時
に、２ＭｇＯ・ＳｉＯ2、ＭｇＯＳｉＯ3の結晶を有し、
かつＭｇＦｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4の少なくとも一種以上の結
晶を有するものである。
ックスは、ＭｇＯとＳｉＯ2の複合酸化物を４０〜８０
重量％と、酸化鉄を６０〜２０重量％の範囲でそれぞれ
含有する焼結体である。この導電性フォルステライト系
セラミックスは、上記組成の原料粉末を所定形状に成形
した後、１２００〜１３００℃で焼成することによって
得ることができ、焼結体をＸ線回折により測定した時
に、２ＭｇＯ・ＳｉＯ2、ＭｇＯＳｉＯ3の結晶を有し、
かつＭｇＦｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4の少なくとも一種以上の結
晶を有するものである。
【００３７】上記の導電性フォルステライト系セラミッ
クスは、ビッカース硬度５．４〜８．３ＧＰａ、３点曲
げ強度１２５〜２２５ＭＰａとすることができる。
クスは、ビッカース硬度５．４〜８．３ＧＰａ、３点曲
げ強度１２５〜２２５ＭＰａとすることができる。
【００３８】さらに、以上のセラミックスにおいて、磁
気ヘッドに悪影響を及ぼさないために、非磁性とする。
ここで、非磁性であるとは、残留磁束密度が１４ガウス
以下であることを言い、上述した導電性付与剤等の含有
量を調整することによって、この範囲内となるようにす
れば良い。
気ヘッドに悪影響を及ぼさないために、非磁性とする。
ここで、非磁性であるとは、残留磁束密度が１４ガウス
以下であることを言い、上述した導電性付与剤等の含有
量を調整することによって、この範囲内となるようにす
れば良い。
【００３９】また、上記のセラミックスにおいて、打痕
や摩耗による精度劣化を防止するためには、ビッカース
硬度８．５ＧＰａ以上、特に１０．５ＧＰａ以上である
ことが好ましい。さらに、使用時の破損等を防止するた
めには、曲げ強度２００ＭＰａ以上、特に７００ＭＰａ
以上であることが好ましい。このような機械的特性の点
からは、上述した導電性ジルコニアセラミックスが最適
である。
や摩耗による精度劣化を防止するためには、ビッカース
硬度８．５ＧＰａ以上、特に１０．５ＧＰａ以上である
ことが好ましい。さらに、使用時の破損等を防止するた
めには、曲げ強度２００ＭＰａ以上、特に７００ＭＰａ
以上であることが好ましい。このような機械的特性の点
からは、上述した導電性ジルコニアセラミックスが最適
である。
【００４０】なお、本発明の磁気ヘッド組立用治具を製
造する場合は、上述した各セラミック原料を調合し、所
定のバインダー成分と混合した後、プレス成形、押出成
形、射出成形、鋳込成形等の方法で所定形状に成形した
後、各原料に応じた条件で焼成することによって得るこ
とができる。
造する場合は、上述した各セラミック原料を調合し、所
定のバインダー成分と混合した後、プレス成形、押出成
形、射出成形、鋳込成形等の方法で所定形状に成形した
後、各原料に応じた条件で焼成することによって得るこ
とができる。
【００４１】
【実施例】以下本発明を具体的に説明する。
【００４２】図１に示す治具１０を導電性ジルコニアセ
ラミックス、導電性アルミナセラミックス、炭化珪素質
セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性フォル
ステライト系セラミックスで作製した。なお、ここでは
便宜上、図１の治具１０を作製した例について説明する
が、本発明実施例である図４の治具３０についても同様
の結果であった。
ラミックス、導電性アルミナセラミックス、炭化珪素質
セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性フォル
ステライト系セラミックスで作製した。なお、ここでは
便宜上、図１の治具１０を作製した例について説明する
が、本発明実施例である図４の治具３０についても同様
の結果であった。
【００４３】導電性ジルコニアセラミックス、導電性ア
ルミナセラミックス、導電性フォルステライト系セラミ
ックスは、導電性付与剤の含有量を変化させて、体積固
有抵抗値、残留磁束密度を変化させた。炭化珪素質セラ
ミックスは、ＳｉＣと焼結助剤の比率を変化させて、体
積固有抵抗値、残留磁束密度を変化させ、チタニア系セ
ラミックスは、焼成後の熱処理条件を変化させて、体積
固有抵抗値、残留磁束密度を変化させた。
ルミナセラミックス、導電性フォルステライト系セラミ
ックスは、導電性付与剤の含有量を変化させて、体積固
有抵抗値、残留磁束密度を変化させた。炭化珪素質セラ
ミックスは、ＳｉＣと焼結助剤の比率を変化させて、体
積固有抵抗値、残留磁束密度を変化させ、チタニア系セ
ラミックスは、焼成後の熱処理条件を変化させて、体積
固有抵抗値、残留磁束密度を変化させた。
【００４４】これらを用いて、静電気の除去度合い、お
よび非磁性であるかどうかを測定した。
よび非磁性であるかどうかを測定した。
【００４５】静電気の除去度合いについては、治具１０
の下面１３側に１０００Ｖの電圧を印加し、治具１０の
上面１２側で電圧とその降下時間を測定し、上面１２で
の電圧値が１００Ｖとなるまでの降下時間が、０．１〜
２０秒の間にあるものを○、それ以外のものを×として
評価した。また、体積固有抵抗値については、ＪＩＳ−
Ｃ２１４１に規定する超絶縁抵抗計により測定した。
の下面１３側に１０００Ｖの電圧を印加し、治具１０の
上面１２側で電圧とその降下時間を測定し、上面１２で
の電圧値が１００Ｖとなるまでの降下時間が、０．１〜
２０秒の間にあるものを○、それ以外のものを×として
評価した。また、体積固有抵抗値については、ＪＩＳ−
Ｃ２１４１に規定する超絶縁抵抗計により測定した。
【００４６】さらに、非磁性であるかどうかは、振動試
料型磁力計により残留磁束密度を測定し、１４ガウス以
下であったものを非磁性として評価した。
料型磁力計により残留磁束密度を測定し、１４ガウス以
下であったものを非磁性として評価した。
【００４７】治具１０を構成する導電性ジルコニアセラ
ミックスの組成は表１に、その特性と結果は表２に示す
通りである。なお、上記ジルコニアセラミックスは、い
ずれもＺｒＯ2に対しＹ2Ｏ3を３ｍｏｌ％添加して部分
安定化したものであり、導電性付与剤にはＦｅ2Ｏ3、Ｎ
ｉＯ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3、ＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＣを使
用した。
ミックスの組成は表１に、その特性と結果は表２に示す
通りである。なお、上記ジルコニアセラミックスは、い
ずれもＺｒＯ2に対しＹ2Ｏ3を３ｍｏｌ％添加して部分
安定化したものであり、導電性付与剤にはＦｅ2Ｏ3、Ｎ
ｉＯ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3、ＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＣを使
用した。
【００４８】また、導電性アルミナセラミックスの組成
は表３に、その特性と結果は表４に示す通りである。さ
らに、炭化珪素質セラミックスの組成は表５に、その特
性と結果は表６に示す通りである。また、チタニア系セ
ラミックスの組成、熱処理条件は表７に、その特性と結
果は表８に示す通りである。さらに、導電性フォルステ
ライト系セラミックスの組成は表９に、その特性と結果
は表１０に示す通りである。
は表３に、その特性と結果は表４に示す通りである。さ
らに、炭化珪素質セラミックスの組成は表５に、その特
性と結果は表６に示す通りである。また、チタニア系セ
ラミックスの組成、熱処理条件は表７に、その特性と結
果は表８に示す通りである。さらに、導電性フォルステ
ライト系セラミックスの組成は表９に、その特性と結果
は表１０に示す通りである。
【００４９】
【表１】
【００５０】
【表２】
【００５１】
【表３】
【００５２】
【表４】
【００５３】
【表５】
【００５４】
【表６】
【００５５】
【表７】
【００５６】
【表８】
【００５７】
【表９】
【００５８】
【表１０】
【００５９】この結果、導電性ジルコニアセラミックス
に関して、まず試料Ｎｏ．１〜７は導電性付与剤として
Ｆｅ2Ｏ3を含有したものであるが、このうち試料Ｎｏ．
１はＦｅ2Ｏ3の含有量が１０重量％未満であるため体積
固有抵抗値が１０9Ω・ｃｍより大きく、その結果、電
圧が所定値になるまでに時間がかかり、静電気除去効果
が得られなかった。
に関して、まず試料Ｎｏ．１〜７は導電性付与剤として
Ｆｅ2Ｏ3を含有したものであるが、このうち試料Ｎｏ．
１はＦｅ2Ｏ3の含有量が１０重量％未満であるため体積
固有抵抗値が１０9Ω・ｃｍより大きく、その結果、電
圧が所定値になるまでに時間がかかり、静電気除去効果
が得られなかった。
【００６０】また、試料Ｎｏ．６、７はＦｅ2Ｏ3の含有
量が３５重量％より多く、体積固有抵抗値が１０6Ω・
ｃｍより小さいことから短時間で電圧が所定値まで降下
し静電気が一気に逃げることが判った。しかも、Ｆｅ2
Ｏ3の含有量が多いため磁性を有していた。
量が３５重量％より多く、体積固有抵抗値が１０6Ω・
ｃｍより小さいことから短時間で電圧が所定値まで降下
し静電気が一気に逃げることが判った。しかも、Ｆｅ2
Ｏ3の含有量が多いため磁性を有していた。
【００６１】これに対し、試料Ｎｏ．２〜５はＦｅ2Ｏ3
の含有量が１０〜３５重量％の範囲にあり、非磁性で、
体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍの範囲にあるた
め適度な速度で静電気を除去できることが判った。
の含有量が１０〜３５重量％の範囲にあり、非磁性で、
体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍの範囲にあるた
め適度な速度で静電気を除去できることが判った。
【００６２】また、試料Ｎｏ．８〜１３は導電性付与剤
にＮｉＯ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3をそれぞれ用いたもので
あるが、いずれもその含有量が１０〜３５重量％の範囲
にあり、体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍの範囲
にあった。そのため適度なスピードで静電気を除去する
ことができた。
にＮｉＯ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3をそれぞれ用いたもので
あるが、いずれもその含有量が１０〜３５重量％の範囲
にあり、体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍの範囲
にあった。そのため適度なスピードで静電気を除去する
ことができた。
【００６３】一方、試料Ｎｏ．１４〜１７は、導電性付
与剤としてＴｉＣを含有したものであるが、このうち試
料Ｎｏ．１４はＴｉＣの含有量が１０重量％未満である
ために体積固有抵抗値が１０9Ω・ｃｍより大きく、充
分な静電気除去効果が得られなかった。また、試料Ｎ
ｏ．１７はＴｉＣの含有量が２５重量％よりも多いため
に体積固有抵抗値が１０6Ω・ｃｍより小さく、一気に
静電気が逃げることが判った。しかも、ＴｉＣの含有量
が多いため磁性を有していた。これに対し、試料Ｎｏ．
１５、１６はＴｉＣ含有量が１０〜２５重量％の範囲に
あり、体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍの範囲と
することができた。そのため、適度なスピードで静電気
を除去できることが判った。
与剤としてＴｉＣを含有したものであるが、このうち試
料Ｎｏ．１４はＴｉＣの含有量が１０重量％未満である
ために体積固有抵抗値が１０9Ω・ｃｍより大きく、充
分な静電気除去効果が得られなかった。また、試料Ｎ
ｏ．１７はＴｉＣの含有量が２５重量％よりも多いため
に体積固有抵抗値が１０6Ω・ｃｍより小さく、一気に
静電気が逃げることが判った。しかも、ＴｉＣの含有量
が多いため磁性を有していた。これに対し、試料Ｎｏ．
１５、１６はＴｉＣ含有量が１０〜２５重量％の範囲に
あり、体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍの範囲と
することができた。そのため、適度なスピードで静電気
を除去できることが判った。
【００６４】さらに、試料Ｎｏ．１８〜２１は導電性付
与剤にＷＣ、ＴａＣをそれぞれ用いたものであるが、い
ずれもその含有量が１０〜２５重量％の範囲にあり、体
積固有抵抗値を１０6〜１０9Ω・ｃｍの範囲とすること
ができた。そのため、適度なスピードで静電気を除去す
ることができた。
与剤にＷＣ、ＴａＣをそれぞれ用いたものであるが、い
ずれもその含有量が１０〜２５重量％の範囲にあり、体
積固有抵抗値を１０6〜１０9Ω・ｃｍの範囲とすること
ができた。そのため、適度なスピードで静電気を除去す
ることができた。
【００６５】また、導電性アルミナセラミックス、炭化
珪素質セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性
フォルステライト系セラミックスの場合も同様に、試料
Ｎｏ．２３、２４、２６、２７、２９、３０、３１、３
２、３５〜３７、４２〜４６は、体積固有抵抗値を１０
6〜１０9Ω・ｃｍの範囲とすることができた。そのた
め、適度なスピードで静電気を除去することができた。
珪素質セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性
フォルステライト系セラミックスの場合も同様に、試料
Ｎｏ．２３、２４、２６、２７、２９、３０、３１、３
２、３５〜３７、４２〜４６は、体積固有抵抗値を１０
6〜１０9Ω・ｃｍの範囲とすることができた。そのた
め、適度なスピードで静電気を除去することができた。
【００６６】この結果、導電性ジルコニアセラミックス
にあっては、導電性付与剤として、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、
Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3を用いる場合、その含有量を１０〜
３５重量％とし、導電性付与剤としてＴｉＣ、ＷＣ、Ｔ
ａＣを用いる場合、その含有量を１０〜２５重量％とす
れば良いことがわかった。また、導電性アルミナセラミ
ックスにあっては、導電性付与剤としてＦｅ2Ｏ3、Ｎｉ
Ｏ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3を用いる場合、その含有量を１
５〜３５重量％とすれば良く、炭化珪素質セラミックス
にあっては、９０〜９８重量％のＳｉＣに対し、焼結助
剤としてＡｌ 2Ｏ3を１〜７重量％とＹ2Ｏ3、ＣｅＯ2を
合計で１〜５重量％とすれば良いことがわかった。
にあっては、導電性付与剤として、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、
Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3を用いる場合、その含有量を１０〜
３５重量％とし、導電性付与剤としてＴｉＣ、ＷＣ、Ｔ
ａＣを用いる場合、その含有量を１０〜２５重量％とす
れば良いことがわかった。また、導電性アルミナセラミ
ックスにあっては、導電性付与剤としてＦｅ2Ｏ3、Ｎｉ
Ｏ、Ｃｏ3Ｏ4、Ｃｒ2Ｏ3を用いる場合、その含有量を１
５〜３５重量％とすれば良く、炭化珪素質セラミックス
にあっては、９０〜９８重量％のＳｉＣに対し、焼結助
剤としてＡｌ 2Ｏ3を１〜７重量％とＹ2Ｏ3、ＣｅＯ2を
合計で１〜５重量％とすれば良いことがわかった。
【００６７】さらに、チタニア系セラミックスにあって
は、ＴｉＯ2５０〜９９重量％で残部がＢａＯ、Ｃａ
Ｏ、ＳｒＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2、ＭｇＯのう
ち一種または二種以上からなるものとし、焼成後に、還
元雰囲気、不活性雰囲気または真空中などの非酸化雰囲
気にて９００〜１２００℃で加熱処理を行えば良いこと
がわかった。また、導電性フォルステライト系セラミッ
クスにあっては、ＭｇＯとＳｉＯ2の複合酸化物を４０
〜８０重量％と、酸化鉄を６０〜２０重量％の範囲でそ
れぞれ含有すれば良いことが判った。
は、ＴｉＯ2５０〜９９重量％で残部がＢａＯ、Ｃａ
Ｏ、ＳｒＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2、ＭｇＯのう
ち一種または二種以上からなるものとし、焼成後に、還
元雰囲気、不活性雰囲気または真空中などの非酸化雰囲
気にて９００〜１２００℃で加熱処理を行えば良いこと
がわかった。また、導電性フォルステライト系セラミッ
クスにあっては、ＭｇＯとＳｉＯ2の複合酸化物を４０
〜８０重量％と、酸化鉄を６０〜２０重量％の範囲でそ
れぞれ含有すれば良いことが判った。
【００６８】このようにすれば、体積固有抵抗値１０6
〜１０9Ω・ｃｍであるセラミックスを得ることがで
き、適度なスピードで静電気を除去することが可能な磁
気ヘッド組立用治具を提供できることが判る。
〜１０9Ω・ｃｍであるセラミックスを得ることがで
き、適度なスピードで静電気を除去することが可能な磁
気ヘッド組立用治具を提供できることが判る。
【００６９】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、磁
気ヘッドの組立工程において使用される治具を、体積固
有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍのセラミックスにより
形成したことによって、静電気を徐々に逃がすことがで
きるため、導通短絡による取り扱い不良事故を生じるこ
となく静電気を逃がすことができ、しかも非磁性のセラ
ミックスを用いることにより磁気ヘッドに悪影響を及ぼ
すことを防止できる。しかも、導通短絡事故を防止でき
るとともに、硬度の高いセラミックスを用いることによ
って、長期間にわたって良好に使用することができる。
気ヘッドの組立工程において使用される治具を、体積固
有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍのセラミックスにより
形成したことによって、静電気を徐々に逃がすことがで
きるため、導通短絡による取り扱い不良事故を生じるこ
となく静電気を逃がすことができ、しかも非磁性のセラ
ミックスを用いることにより磁気ヘッドに悪影響を及ぼ
すことを防止できる。しかも、導通短絡事故を防止でき
るとともに、硬度の高いセラミックスを用いることによ
って、長期間にわたって良好に使用することができる。
【００７０】したがって、本発明の治具は、磁気ヘッド
の中でも薄膜磁気ヘッド、特にＭＲヘッドの製造工程に
おける組立工程において、良好に使用することができ
る。
の中でも薄膜磁気ヘッド、特にＭＲヘッドの製造工程に
おける組立工程において、良好に使用することができ
る。
【図１】磁気ヘッド加工用治具を示す斜視図である。
【図２】図１に示す磁気ヘッド加工用治具の使用状態を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図３】磁気ヘッド加工用治具を示す斜視図である。
【図４】本発明の磁気ヘッド組立用治具を示す斜視図で
ある。
ある。
１０：治具 １１：貫通孔 １２：上面 １３：下面 ２０：治具 ２１：溝 ３０：治具 ３１：スリット
Claims (3)
- 【請求項１】薄膜磁気ヘッドとして組み立てる際又は得
られた薄膜磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際の
組立工程で、ヘッドを保持するための治具であって、体
積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍで、非磁性のセラ
ミックスにより形成したことを特徴とする磁気ヘッド組
立用治具。 - 【請求項２】磁気ヘッドを保持したジンバルの一部を保
持するための複数のスリットを備えたことを特徴とする
請求項１記載の磁気ヘッド組立用治具。 - 【請求項３】上記セラミックスが、導電性ジルコニアセ
ラミックス、導電性アルミナセラミックス、炭化珪素質
セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性フォル
ステライト系セラミックスのいずれかよりなることを特
徴とする請求項１又は２記載の磁気ヘッド組立用治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000343582A JP3346762B2 (ja) | 2000-11-10 | 2000-11-10 | 磁気ヘッド組立用治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000343582A JP3346762B2 (ja) | 2000-11-10 | 2000-11-10 | 磁気ヘッド組立用治具 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17485697A Division JP3145658B2 (ja) | 1997-04-25 | 1997-06-30 | 磁気ヘッド加工用治具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001167411A JP2001167411A (ja) | 2001-06-22 |
| JP3346762B2 true JP3346762B2 (ja) | 2002-11-18 |
Family
ID=18817928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000343582A Expired - Fee Related JP3346762B2 (ja) | 2000-11-10 | 2000-11-10 | 磁気ヘッド組立用治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3346762B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005340327A (ja) | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Renesas Technology Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
-
2000
- 2000-11-10 JP JP2000343582A patent/JP3346762B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001167411A (ja) | 2001-06-22 |
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