JP3346762B2 - 磁気ヘッド組立用治具 - Google Patents
磁気ヘッド組立用治具Info
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Description
程において使用される治具に関するものである。
ては、チタニア系セラミックスからなるスライダーにコ
アを備えたもの、あるいはAl2O3−TiC系セラミッ
クスからなる基板上に薄膜手段で磁気ヘッドを形成した
薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドの一種であるMR
ヘッド等がある。
ているため、上記のセラミックス材を所定形状に加工
し、磁気ヘッドとして組立てる工程で、さまざまな治具
が用いられている。
ファーツールと呼ばれるもので、異形の貫通孔11を有
する板状体からなり、Al2O3−TiC系セラミックス
の基板1の研磨工程で使用する。即ち、治具10の下面
13に基板1を貼り付けた状態で、上面12側を保持
し、図2に示すように回転する研磨盤14に押し当てて
研磨加工すると、上記貫通孔11によって基板1を弾性
的に押圧することができ、厚みを均一に調整することが
できる。
セラミックス材をイオンミリング等で加工する際に保持
するための治具20や、図4のように作製された磁気ヘ
ッドを装置に組立てる際に保持するための治具30等も
ある。
来より、ステンレスなどの金属やアルミナなどのセラミ
ックスにより形成されている。
ッド、特にMRヘッドの組立工程において使用される金
属製の治具は、導電性が高すぎるため導通短絡による取
り扱い事故や、金属打痕による精度劣化に起因する歩留
まりの低下が発生しやすいという問題があった。また、
治具自体が磁気を帯びやすいため、薄膜磁気ヘッド、特
にMRヘッド等の部品に悪影響を与えるといった問題も
あった。
からなる治具は、絶縁材料であるため導通短絡による不
具合は解消でき、打痕による精度劣化に起因する歩留ま
り低下も改善することができる反面、静電気を逃がしに
くいため、磁気ヘッドに悪影響を及ぼしやすいという問
題点があった。
気ヘッドとして組み立てる際又は得られた薄膜磁気ヘッ
ドを磁気記録装置に組み立てる際の組立工程で、ヘッド
を保持するための治具であって、体積固有抵抗値が10
6〜109Ω・cmで、非磁性のセラミックスにより形成
したことを特徴とする。
・cmとしたのは、体積固有抵抗値が109Ω・cmよ
り大きいと絶縁性が高いために静電気の除去効果が得ら
れないからであり、逆に体積固有抵抗値が106Ω・c
mより小さくなると帯電した静電気が一気に逃げるた
め、大気摩擦による放電作用を防ぐことができないから
である。
束密度が14ガウス以下であるようなセラミックスのこ
とである。
る。
106〜109Ω・cmである非磁性のセラミックスから
なり、二つのスリット31、31を備えたものである。
そして、製造した磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立て
る際に、磁気ヘッドを保持したジンバルの一部を上記ス
リット31、31に保持することができる。
しているため、静電気を徐々に放出できることから、一
気に静電気が放出して大気摩擦による放電作用を防ぎ、
磁気ヘッドに悪影響を及ぼすことを防止できる。
抵抗値が低すぎると、静電気が一気に放出して大気摩擦
による放電作用を生じ、磁気ヘッドに悪影響を及ぼして
しまう点である。そこで、本発明では、体積固有抵抗値
が106〜109Ω・cmと適度に導電性を有する範囲に
制御することによって、静電気を徐々に放出し、磁気ヘ
ッドに悪影響を及ぼしにくい治具30を得るようにし
た。
06〜109Ω・cmの範囲としておけば、導通短絡によ
る取り扱い事故を防止できる。また、非磁性のセラミッ
クスを用いることによって、磁気ヘッドへの悪影響を防
止できる。さらに、治具30は硬度の高いセラミックス
からなるため打痕や摩耗による精度劣化も防ぐことがで
きる。
具とは、磁気ヘッドとして組み立てる際又は得られた磁
気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際等の組立工程
で、ヘッド等を保持するための治具等を意味する。
さまざまな磁気ヘッドの組立に使用できるが、特に薄膜
磁気ヘッド、中でもMRヘッドの組立に使用することが
好ましい。
体積固有抵抗値が106〜109Ω・cmで非磁性のセラ
ミックスで形成した例を示したが、少なくとも被加工物
と接触する部位を上記セラミックスで形成しておけばよ
く、他の材質と組み合わせて治具を構成することもでき
る。
において、体積固有抵抗値が106〜109Ω・cmであ
る非磁性のセラミックスとしては、例えば導電性ジルコ
ニアセラミックス、導電性アルミナセラミックス、炭化
珪素質セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性
フォルステライト系セラミックスを用いる。
導電性付与剤として、Fe2O3、NiO、Co3O4、C
r2O3のうち一種以上を10〜35重量%の範囲で含有
するか、あるいはTiC、WC、TaCなどの炭化物の
うち一種以上を10〜25重量%の範囲で含有し、残部
がY2O3、CaO、MgO、CeO2等の安定化剤によ
り部分安定化されたジルコニアからなり焼結体中におけ
る全ジルコニア量に対し、単斜晶以外のジルコニア量が
90%以上、好ましくは95%以上であるものが良い。
晶、正方晶、単斜晶の3つの状態があり、特に正方晶ジ
ルコニアは外部応力に対し、応力誘起変態を受けて単斜
晶ジルコニアに相変態し、この時に生じる体積膨張によ
って単斜晶ジルコニアの周囲に微少なマイクロクラック
を形成して外部応力の進行を阻止できるため、ジルコニ
アセラミックスの強度を高めることができるのである
が、単斜晶以外のジルコニア量が90%未満であると、
導電性付与剤を含有することによる強度劣化が生じるか
らである。
5μmより大きくなると、曲げ強度や硬度等の機械的特
性が大きく低下し、逆に0.2μm未満とすることは製
造上難しい。したがって、ジルコニアの平均結晶粒径は
0.2〜0.5μmとすることが良い。
iO、Co3O4、Cr2O3のうち一種以上を用いた場合
において、これら導電性付与剤の含有量を10〜35重
量%としたのは、10重量%では抵抗値を下げる効果が
小さく、106〜109Ω・cm以下とすることができな
いからであり、逆に、35重量%より多くなると強度が
極端に低下するとともに、抵抗値が106Ω・cm未満
となり、さらには磁性を生じる恐れがあるからである。
C、TaCなどの炭化物のうち一種以上を用いた場合に
おいても、これら導電性付与剤の含有量が10重量%未
満では抵抗値を109Ω・cm以下とすることができ
ず、逆に、25重量%より多くなると、抵抗値が106
Ω・cm未満となり、さらには磁性を生じる恐れがある
からである。
子径が大きすぎるとジルコニアセラミックスの曲げ強度
や硬度等の機械的特性が低下するため、5μm以下、好
ましくは3μm以下とすることが良い。
剤以外に、焼成温度抑制剤を3重量%以下の範囲で含有
させても良い。焼成温度抑制剤としては、導電性付与剤
としてFe2O3、NiO、Co3O4、Cr2O3を用いる
場合は、Ca、K、Na、Mg、Zn、Scなどの酸化
物を含有すれば良く、導電性付与剤としてTiC、W
C、TaCなどの炭化物を用いる場合は、Al2O3、T
iO2を含有すればよい。
範囲で含有させれば、焼成温度を下げてジルコニアおよ
び導電性付与剤の粒成長を抑えることができるため、曲
げ強度や硬度等の機械的特性を高めることができる。
は、ビッカース硬度10〜13GPa、3点曲げ強度6
50〜1400MPaとすることができる。
は、65〜85重量%のAl2O3を主成分とし、導電性
付与剤としてFe2O3、NiO、Co3O4、Cr2O3の
うち一種以上を15〜35重量%の範囲で含有し、残部
をMgO、CaO、SiO2等の焼結助剤とし、大気雰
囲気中にて焼成したものを使用する。
カース硬度10.5〜18GPa、3点曲げ強度200
〜450MPaとすることができる。
は、90〜98重量%のSiCを主成分とし、焼結助剤
としてAl2O3を1〜7重量%とY2O3、CeO2を合
計で1〜5重量%の範囲でそれぞれ添加し、真空中また
は不活性ガス雰囲気中で焼成したものを用いれば良い。
このように、上記範囲で焼結助剤をそれぞれ添加するこ
とにより焼結性を高め、靱性を向上させることができ
る。
ス硬度22〜24.5GPa、3点曲げ強度450〜6
00MPaとすることができる。
TiO250〜99重量%で、残部がBaO、CaO、
SrO、Al2O3、ZrO2、SiO2、MgOのうち一
種または二種以上からなるチタニア系セラミックスを所
定形状に成形し、焼成した後、還元雰囲気、不活性雰囲
気または真空中などの非酸化雰囲気にて900〜120
0℃で加熱処理したものを使用すれば良い。
ス硬度6.5〜9GPa、3点曲げ強度170〜300
MPaとすることができる。
ックスは、MgOとSiO2の複合酸化物を40〜80
重量%と、酸化鉄を60〜20重量%の範囲でそれぞれ
含有する焼結体である。この導電性フォルステライト系
セラミックスは、上記組成の原料粉末を所定形状に成形
した後、1200〜1300℃で焼成することによって
得ることができ、焼結体をX線回折により測定した時
に、2MgO・SiO2、MgOSiO3の結晶を有し、
かつMgFe2O3、Fe3O4の少なくとも一種以上の結
晶を有するものである。
クスは、ビッカース硬度5.4〜8.3GPa、3点曲
げ強度125〜225MPaとすることができる。
気ヘッドに悪影響を及ぼさないために、非磁性とする。
ここで、非磁性であるとは、残留磁束密度が14ガウス
以下であることを言い、上述した導電性付与剤等の含有
量を調整することによって、この範囲内となるようにす
れば良い。
や摩耗による精度劣化を防止するためには、ビッカース
硬度8.5GPa以上、特に10.5GPa以上である
ことが好ましい。さらに、使用時の破損等を防止するた
めには、曲げ強度200MPa以上、特に700MPa
以上であることが好ましい。このような機械的特性の点
からは、上述した導電性ジルコニアセラミックスが最適
である。
造する場合は、上述した各セラミック原料を調合し、所
定のバインダー成分と混合した後、プレス成形、押出成
形、射出成形、鋳込成形等の方法で所定形状に成形した
後、各原料に応じた条件で焼成することによって得るこ
とができる。
ラミックス、導電性アルミナセラミックス、炭化珪素質
セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性フォル
ステライト系セラミックスで作製した。なお、ここでは
便宜上、図1の治具10を作製した例について説明する
が、本発明実施例である図4の治具30についても同様
の結果であった。
ルミナセラミックス、導電性フォルステライト系セラミ
ックスは、導電性付与剤の含有量を変化させて、体積固
有抵抗値、残留磁束密度を変化させた。炭化珪素質セラ
ミックスは、SiCと焼結助剤の比率を変化させて、体
積固有抵抗値、残留磁束密度を変化させ、チタニア系セ
ラミックスは、焼成後の熱処理条件を変化させて、体積
固有抵抗値、残留磁束密度を変化させた。
よび非磁性であるかどうかを測定した。
の下面13側に1000Vの電圧を印加し、治具10の
上面12側で電圧とその降下時間を測定し、上面12で
の電圧値が100Vとなるまでの降下時間が、0.1〜
20秒の間にあるものを○、それ以外のものを×として
評価した。また、体積固有抵抗値については、JIS−
C2141に規定する超絶縁抵抗計により測定した。
料型磁力計により残留磁束密度を測定し、14ガウス以
下であったものを非磁性として評価した。
ミックスの組成は表1に、その特性と結果は表2に示す
通りである。なお、上記ジルコニアセラミックスは、い
ずれもZrO2に対しY2O3を3mol%添加して部分
安定化したものであり、導電性付与剤にはFe2O3、N
iO、Co3O4、Cr2O3、TiC、WC、TaCを使
用した。
は表3に、その特性と結果は表4に示す通りである。さ
らに、炭化珪素質セラミックスの組成は表5に、その特
性と結果は表6に示す通りである。また、チタニア系セ
ラミックスの組成、熱処理条件は表7に、その特性と結
果は表8に示す通りである。さらに、導電性フォルステ
ライト系セラミックスの組成は表9に、その特性と結果
は表10に示す通りである。
に関して、まず試料No.1〜7は導電性付与剤として
Fe2O3を含有したものであるが、このうち試料No.
1はFe2O3の含有量が10重量%未満であるため体積
固有抵抗値が109Ω・cmより大きく、その結果、電
圧が所定値になるまでに時間がかかり、静電気除去効果
が得られなかった。
量が35重量%より多く、体積固有抵抗値が106Ω・
cmより小さいことから短時間で電圧が所定値まで降下
し静電気が一気に逃げることが判った。しかも、Fe2
O3の含有量が多いため磁性を有していた。
の含有量が10〜35重量%の範囲にあり、非磁性で、
体積固有抵抗値が106〜109Ω・cmの範囲にあるた
め適度な速度で静電気を除去できることが判った。
にNiO、Co3O4、Cr2O3をそれぞれ用いたもので
あるが、いずれもその含有量が10〜35重量%の範囲
にあり、体積固有抵抗値が106〜109Ω・cmの範囲
にあった。そのため適度なスピードで静電気を除去する
ことができた。
与剤としてTiCを含有したものであるが、このうち試
料No.14はTiCの含有量が10重量%未満である
ために体積固有抵抗値が109Ω・cmより大きく、充
分な静電気除去効果が得られなかった。また、試料N
o.17はTiCの含有量が25重量%よりも多いため
に体積固有抵抗値が106Ω・cmより小さく、一気に
静電気が逃げることが判った。しかも、TiCの含有量
が多いため磁性を有していた。これに対し、試料No.
15、16はTiC含有量が10〜25重量%の範囲に
あり、体積固有抵抗値が106〜109Ω・cmの範囲と
することができた。そのため、適度なスピードで静電気
を除去できることが判った。
与剤にWC、TaCをそれぞれ用いたものであるが、い
ずれもその含有量が10〜25重量%の範囲にあり、体
積固有抵抗値を106〜109Ω・cmの範囲とすること
ができた。そのため、適度なスピードで静電気を除去す
ることができた。
珪素質セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性
フォルステライト系セラミックスの場合も同様に、試料
No.23、24、26、27、29、30、31、3
2、35〜37、42〜46は、体積固有抵抗値を10
6〜109Ω・cmの範囲とすることができた。そのた
め、適度なスピードで静電気を除去することができた。
にあっては、導電性付与剤として、Fe2O3、NiO、
Co3O4、Cr2O3を用いる場合、その含有量を10〜
35重量%とし、導電性付与剤としてTiC、WC、T
aCを用いる場合、その含有量を10〜25重量%とす
れば良いことがわかった。また、導電性アルミナセラミ
ックスにあっては、導電性付与剤としてFe2O3、Ni
O、Co3O4、Cr2O3を用いる場合、その含有量を1
5〜35重量%とすれば良く、炭化珪素質セラミックス
にあっては、90〜98重量%のSiCに対し、焼結助
剤としてAl 2O3を1〜7重量%とY2O3、CeO2を
合計で1〜5重量%とすれば良いことがわかった。
は、TiO250〜99重量%で残部がBaO、Ca
O、SrO、Al2O3、ZrO2、SiO2、MgOのう
ち一種または二種以上からなるものとし、焼成後に、還
元雰囲気、不活性雰囲気または真空中などの非酸化雰囲
気にて900〜1200℃で加熱処理を行えば良いこと
がわかった。また、導電性フォルステライト系セラミッ
クスにあっては、MgOとSiO2の複合酸化物を40
〜80重量%と、酸化鉄を60〜20重量%の範囲でそ
れぞれ含有すれば良いことが判った。
〜109Ω・cmであるセラミックスを得ることがで
き、適度なスピードで静電気を除去することが可能な磁
気ヘッド組立用治具を提供できることが判る。
気ヘッドの組立工程において使用される治具を、体積固
有抵抗値が106〜109Ω・cmのセラミックスにより
形成したことによって、静電気を徐々に逃がすことがで
きるため、導通短絡による取り扱い不良事故を生じるこ
となく静電気を逃がすことができ、しかも非磁性のセラ
ミックスを用いることにより磁気ヘッドに悪影響を及ぼ
すことを防止できる。しかも、導通短絡事故を防止でき
るとともに、硬度の高いセラミックスを用いることによ
って、長期間にわたって良好に使用することができる。
の中でも薄膜磁気ヘッド、特にMRヘッドの製造工程に
おける組立工程において、良好に使用することができ
る。
示す斜視図である。
ある。
Claims (3)
- 【請求項1】薄膜磁気ヘッドとして組み立てる際又は得
られた薄膜磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際の
組立工程で、ヘッドを保持するための治具であって、体
積固有抵抗値が106〜109Ω・cmで、非磁性のセラ
ミックスにより形成したことを特徴とする磁気ヘッド組
立用治具。 - 【請求項2】磁気ヘッドを保持したジンバルの一部を保
持するための複数のスリットを備えたことを特徴とする
請求項1記載の磁気ヘッド組立用治具。 - 【請求項3】上記セラミックスが、導電性ジルコニアセ
ラミックス、導電性アルミナセラミックス、炭化珪素質
セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性フォル
ステライト系セラミックスのいずれかよりなることを特
徴とする請求項1又は2記載の磁気ヘッド組立用治具。
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