JP3340471B2 - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ母材の製造方法Info
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- polishing
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0148—Means for heating preforms during or immediately prior to deposition
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- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/50—Multiple burner arrangements
- C03B2207/54—Multiple burner arrangements combined with means for heating the deposit, e.g. non-deposition burner
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、外付け法による光フ
ァイバ母材の製造方法に関するもので、生産性向上を図
ったものである。
ァイバ母材の製造方法に関するもので、生産性向上を図
ったものである。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバ母材の製造工程のひとつに外
付け工程というものがある。これはコアとなる部分を含
む石英系ガラスロッドの周りに、クラッドとなるガラス
微粒子を堆積させる工程であるが、その前工程として火
炎研磨という工程があって石英系ガラスロッド表面の汚
れや微細な傷の除去を行なっている。具体的には、一本
の火炎研磨用のバーナと少なくとも一本のガラス微粒子
生成用バーナとを近接して基台に固定し、この基台をガ
ラスロッドの軸方向にトラバースするように構成し、当
初は基台をトラバースさせながら火炎研磨用のバーナの
みを用いてガラスロッドを研磨する。その後、火炎研磨
用バーナへの燃焼ガスの供給を停止し、ガラス微粒子生
成用バーナを用いてガラスロッドの周りにガラス微粒子
層を堆積させる。
付け工程というものがある。これはコアとなる部分を含
む石英系ガラスロッドの周りに、クラッドとなるガラス
微粒子を堆積させる工程であるが、その前工程として火
炎研磨という工程があって石英系ガラスロッド表面の汚
れや微細な傷の除去を行なっている。具体的には、一本
の火炎研磨用のバーナと少なくとも一本のガラス微粒子
生成用バーナとを近接して基台に固定し、この基台をガ
ラスロッドの軸方向にトラバースするように構成し、当
初は基台をトラバースさせながら火炎研磨用のバーナの
みを用いてガラスロッドを研磨する。その後、火炎研磨
用バーナへの燃焼ガスの供給を停止し、ガラス微粒子生
成用バーナを用いてガラスロッドの周りにガラス微粒子
層を堆積させる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、外付け工程の
効率化を考えるとき、本来母材製造に関与しない火炎研
磨時間は短縮できた方が望ましい。また、外付けされる
ガラスロッド径を太くできれば、その上に堆積されるガ
ラス微粒子の堆積速度を向上させることが可能となる。
このような要求に対しては火炎研磨の火力を強める必要
があるが一本のバーナではこの要求に対応するには限界
がある。例えば、既存のバーナ、ガス系で供給可能な酸
水素量には上限があり、またガス系を代えて火力の強い
ものにすると急加熱になってロッドが撓むという懸念が
あるからである。そこで、既存の火炎研磨用バーナを複
数本用いることが考えられるが、ガス系が複雑になるの
みならず、これらバーナは前述のようにガラス微粒子生
成時には使用しないものであるので邪魔にならないよう
できれば少ない方が良い。
効率化を考えるとき、本来母材製造に関与しない火炎研
磨時間は短縮できた方が望ましい。また、外付けされる
ガラスロッド径を太くできれば、その上に堆積されるガ
ラス微粒子の堆積速度を向上させることが可能となる。
このような要求に対しては火炎研磨の火力を強める必要
があるが一本のバーナではこの要求に対応するには限界
がある。例えば、既存のバーナ、ガス系で供給可能な酸
水素量には上限があり、またガス系を代えて火力の強い
ものにすると急加熱になってロッドが撓むという懸念が
あるからである。そこで、既存の火炎研磨用バーナを複
数本用いることが考えられるが、ガス系が複雑になるの
みならず、これらバーナは前述のようにガラス微粒子生
成時には使用しないものであるので邪魔にならないよう
できれば少ない方が良い。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明は、以上の観点
にたってなされたもので、その特徴とする請求項１記載
の発明は、少なくともコアとなる部分を含む石英系ガラ
スロッドを火炎研磨した後、その周りに外付け法により
クラッドとなる石英系ガラス微粒子層を堆積させるに際
して、互いに近接して配置された火炎研磨用バーナと石
英系ガラス微粒子生成用バーナとを用い、かつ当初は石
英系ガラス微粒子生成用バーナにはガラス生成用原料ガ
スを供給することなく燃焼ガスのみ供給して、両バーナ
にて石英系ガラスロッドを火炎研磨し、次いで火炎研磨
用バーナへの燃焼ガスの供給は停止し、石英系ガラス微
粒子生成用バーナにはガラス生成用原料ガスを供給して
前記火炎研磨済みの石英系ガラスロッドの周りに外付け
法によりクラッドとなる石英系ガラス微粒子層を堆積さ
せる光ファイバ母材の製造方法にある。また、その特徴
とする請求項２記載の発明は、請求項１においてバーナ
が中央に位置する火炎研磨用バーナと、その両側に近接
して配置された一対の石英系ガラス微粒子生成用バーナ
とからなることにある。
にたってなされたもので、その特徴とする請求項１記載
の発明は、少なくともコアとなる部分を含む石英系ガラ
スロッドを火炎研磨した後、その周りに外付け法により
クラッドとなる石英系ガラス微粒子層を堆積させるに際
して、互いに近接して配置された火炎研磨用バーナと石
英系ガラス微粒子生成用バーナとを用い、かつ当初は石
英系ガラス微粒子生成用バーナにはガラス生成用原料ガ
スを供給することなく燃焼ガスのみ供給して、両バーナ
にて石英系ガラスロッドを火炎研磨し、次いで火炎研磨
用バーナへの燃焼ガスの供給は停止し、石英系ガラス微
粒子生成用バーナにはガラス生成用原料ガスを供給して
前記火炎研磨済みの石英系ガラスロッドの周りに外付け
法によりクラッドとなる石英系ガラス微粒子層を堆積さ
せる光ファイバ母材の製造方法にある。また、その特徴
とする請求項２記載の発明は、請求項１においてバーナ
が中央に位置する火炎研磨用バーナと、その両側に近接
して配置された一対の石英系ガラス微粒子生成用バーナ
とからなることにある。
【０００５】
【作用】石英系ガラスロッドの火炎研磨時には、火炎研
磨用バーナと、本来はガラス微粒子生成用バーナである
が、ガラス微粒子生成ガスの供給は停止され燃焼ガスの
み供給されるようになされたバーナとを用いて火炎研磨
を行なうようにしたため、従来のガス系をそのまま使用
して、しかも効率良い火炎研磨が可能となる。ガラス微
粒子生成用バーナには、もともと酸素と水素ガスの供給
量がガラス微粒子生成に足る量だけしか供給されず火炎
研磨用バーナの火力と比較すると弱いのでバーナを両方
同時に用いてもその火力のために石英系ガラスロッドが
撓むといったことはない。
磨用バーナと、本来はガラス微粒子生成用バーナである
が、ガラス微粒子生成ガスの供給は停止され燃焼ガスの
み供給されるようになされたバーナとを用いて火炎研磨
を行なうようにしたため、従来のガス系をそのまま使用
して、しかも効率良い火炎研磨が可能となる。ガラス微
粒子生成用バーナには、もともと酸素と水素ガスの供給
量がガラス微粒子生成に足る量だけしか供給されず火炎
研磨用バーナの火力と比較すると弱いのでバーナを両方
同時に用いてもその火力のために石英系ガラスロッドが
撓むといったことはない。
【０００６】
（実施例１）図１は、この発明の実施例を示す概略説明
図である。図において、１は石英系ガラスロッドで、例
えばコアとなるＳｉＯ2 −ＧｅＯ2 ガラスロッドの周り
にクラッドの一部をなすＳｉＯ2 ガラス層が形成されて
なるもので、火炎研磨時および残りのクラッド用ＳｉＯ
2 ガラス微粒子堆積時を通じてその軸の周りに回転され
る。２は基台で、後述する一対のバーナを近接して固定
するとともに、前記ロッド１の軸方向に添ってトラバー
スされる。３、４はそれぞれ火炎研磨用バーナ、ＳｉＯ
2 ガラス微粒子生成用バーナで、ロッド１に対峙してお
り前述したように基台２に近接して固定されている。以
上の構成において、まず火炎研磨用バーナ３にＨ2 １６
０リットル／分、Ｏ2 ８０リットル／分供給するととも
に、ＳｉＯ2 ガラス微粒子生成用バーナ４にはガラス原
料ガスを供給せずＨ2 を８０リットル／分、Ｏ2 を４０
リットル／分のみ供給しつつロッド１の軸に添って一端
から他端まで６０ｍｍ／分の速度でトラバースした。な
お、その際ロッド１として直径２０ｍｍのものを用い、
その軸の周りに２０ｒｐｍで回転させた。得られたロッ
ド１の表面を確認したところ、傷や汚れはなく清浄な表
面であった。引続いて火炎研磨用バーナ３へのガス供給
を停止し、ガラス微粒子生成用バーナ４にはＨ2 を４０
リットル／分、Ｏ2 を２０リットル／分、ＳｉＣｌ4 を
５リットル／分供給して火炎加水分解反応および熱酸化
反応によってロッド１の周りにＳｉＯ2 ガラス微粒子を
層状に堆積させた。次いで、このＳｉＯ2 ガラス微粒子
層を有するロッドを塩素ガス雰囲気で脱水し、しかる後
Ｈｅ雰囲気で透明ガラス化して所望の光ファイバ母材と
した。因みに、従来の火炎研磨用バーナ３のみを用いて
ロッド１を火炎研磨し、所定の清浄な表面を得るには２
回のトラバースが必要であった。
図である。図において、１は石英系ガラスロッドで、例
えばコアとなるＳｉＯ2 −ＧｅＯ2 ガラスロッドの周り
にクラッドの一部をなすＳｉＯ2 ガラス層が形成されて
なるもので、火炎研磨時および残りのクラッド用ＳｉＯ
2 ガラス微粒子堆積時を通じてその軸の周りに回転され
る。２は基台で、後述する一対のバーナを近接して固定
するとともに、前記ロッド１の軸方向に添ってトラバー
スされる。３、４はそれぞれ火炎研磨用バーナ、ＳｉＯ
2 ガラス微粒子生成用バーナで、ロッド１に対峙してお
り前述したように基台２に近接して固定されている。以
上の構成において、まず火炎研磨用バーナ３にＨ2 １６
０リットル／分、Ｏ2 ８０リットル／分供給するととも
に、ＳｉＯ2 ガラス微粒子生成用バーナ４にはガラス原
料ガスを供給せずＨ2 を８０リットル／分、Ｏ2 を４０
リットル／分のみ供給しつつロッド１の軸に添って一端
から他端まで６０ｍｍ／分の速度でトラバースした。な
お、その際ロッド１として直径２０ｍｍのものを用い、
その軸の周りに２０ｒｐｍで回転させた。得られたロッ
ド１の表面を確認したところ、傷や汚れはなく清浄な表
面であった。引続いて火炎研磨用バーナ３へのガス供給
を停止し、ガラス微粒子生成用バーナ４にはＨ2 を４０
リットル／分、Ｏ2 を２０リットル／分、ＳｉＣｌ4 を
５リットル／分供給して火炎加水分解反応および熱酸化
反応によってロッド１の周りにＳｉＯ2 ガラス微粒子を
層状に堆積させた。次いで、このＳｉＯ2 ガラス微粒子
層を有するロッドを塩素ガス雰囲気で脱水し、しかる後
Ｈｅ雰囲気で透明ガラス化して所望の光ファイバ母材と
した。因みに、従来の火炎研磨用バーナ３のみを用いて
ロッド１を火炎研磨し、所定の清浄な表面を得るには２
回のトラバースが必要であった。
【０００７】（実施例２）火炎研磨用バーナ３を中心に
して、その両側にガラス微粒子生成用バーナ４、４を位
置させ、火炎研磨時には火炎研磨用バーナ３とこの両バ
ーナ４、４の計３本のバーナを用いた。これらバーナ
３、４、４への燃焼ガス供給量および他の条件は実施例
１と同等とした。得られたロッド１の表面は、実施例１
と同様に清浄であった。その後、火炎研磨用バーナ３へ
のガス供給を停止し、ガラス微粒子生成用バーナ４、４
にＨ2 を４０リットル／分、Ｏ2 を２０リットル／分、
ＳｉＣｌ4 を５リットル／分供給して石英系ガラス微粒
子をロッド１上に堆積させ、以下実施例１と同様にして
光ファイバ母材とした。
して、その両側にガラス微粒子生成用バーナ４、４を位
置させ、火炎研磨時には火炎研磨用バーナ３とこの両バ
ーナ４、４の計３本のバーナを用いた。これらバーナ
３、４、４への燃焼ガス供給量および他の条件は実施例
１と同等とした。得られたロッド１の表面は、実施例１
と同様に清浄であった。その後、火炎研磨用バーナ３へ
のガス供給を停止し、ガラス微粒子生成用バーナ４、４
にＨ2 を４０リットル／分、Ｏ2 を２０リットル／分、
ＳｉＣｌ4 を５リットル／分供給して石英系ガラス微粒
子をロッド１上に堆積させ、以下実施例１と同様にして
光ファイバ母材とした。
【０００８】なお、実施例２におけるバーナ３、４、４
の３本を用い、火炎研磨はバーナ３とバーナ４、４のう
ちのいずれか１本を使用し、ガラス微粒子生成時にはバ
ーナ４、４を用いるということもできる。
の３本を用い、火炎研磨はバーナ３とバーナ４、４のう
ちのいずれか１本を使用し、ガラス微粒子生成時にはバ
ーナ４、４を用いるということもできる。
【０００９】
【発明の効果】この発明方法によれば、従来ガラス微粒
子生成用にしか用いられていないバーナを火炎研磨用と
して火炎研磨用バーナとともに併用するようにしたの
で、コア用ロッドの研磨効率を向上できる。ガラス微粒
子生成用バーナへは本来ガラス微粒子生成に要する量の
酸水素量だけ供給されるようになっており、その量は火
炎研磨用バーナに供給される量よりも少ないので、両バ
ーナを火炎研磨用として併用しても火力が強すぎてロッ
ドが撓むといったことなく行なえる。
子生成用にしか用いられていないバーナを火炎研磨用と
して火炎研磨用バーナとともに併用するようにしたの
で、コア用ロッドの研磨効率を向上できる。ガラス微粒
子生成用バーナへは本来ガラス微粒子生成に要する量の
酸水素量だけ供給されるようになっており、その量は火
炎研磨用バーナに供給される量よりも少ないので、両バ
ーナを火炎研磨用として併用しても火力が強すぎてロッ
ドが撓むといったことなく行なえる。
【図１】この発明の実施例を示す概略説明図である。
１ コア用ロッド ２ 基台 ３ 火炎研磨用バーナ ４ ガラス微粒子生成用バーナ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03B 37/012 - 37/018 C03B 8/04 C03B 20/00
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくともコアとなる部分を含む石英系
ガラスロッドを火炎研磨した後、その周りに外付け法に
よりクラッドとなる石英系ガラス微粒子層を堆積させる
に際して、互いに近接して配置された火炎研磨用バーナ
と石英系ガラス微粒子生成用バーナとを用い、かつ当初
は石英系ガラス微粒子生成用バーナにはガラス生成用原
料ガスを供給することなく燃焼ガスのみ供給して、両バ
ーナにて石英系ガラスロッドを火炎研磨し、次いで火炎
研磨用バーナへの燃焼ガスの供給は停止し、石英系ガラ
ス微粒子生成用バーナにはガラス生成用原料ガスを供給
して前記火炎研磨済みの石英系ガラスロッドの周りに外
付け法によりクラッドとなる石英系ガラス微粒子層を堆
積させることを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項２】 中央に位置する火炎研磨用バーナと、そ
の両側に近接して配置された一対の石英系ガラス微粒子
生成用バーナを用いることを特徴とする請求項１記載の
光ファイバ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23519592A JP3340471B2 (ja) | 1992-08-12 | 1992-08-12 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23519592A JP3340471B2 (ja) | 1992-08-12 | 1992-08-12 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0656448A JPH0656448A (ja) | 1994-03-01 |
| JP3340471B2 true JP3340471B2 (ja) | 2002-11-05 |
Family
ID=16982493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23519592A Expired - Fee Related JP3340471B2 (ja) | 1992-08-12 | 1992-08-12 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3340471B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4463605B2 (ja) | 2003-05-09 | 2010-05-19 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ母材およびその製造方法 |
| JP4605795B2 (ja) * | 2006-09-28 | 2011-01-05 | コバレントマテリアル株式会社 | シリカガラス体の製造方法およびシリカガラス体の製造装置 |
| CN111393016A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-07-10 | 杭州大和热磁电子有限公司 | 一种自动火抛光加工装置 |
-
1992
- 1992-08-12 JP JP23519592A patent/JP3340471B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0656448A (ja) | 1994-03-01 |
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