JP3339078B2 - 珪素化合物被覆物品の製造方法 - Google Patents
珪素化合物被覆物品の製造方法Info
- Publication number
- JP3339078B2 JP3339078B2 JP27024092A JP27024092A JP3339078B2 JP 3339078 B2 JP3339078 B2 JP 3339078B2 JP 27024092 A JP27024092 A JP 27024092A JP 27024092 A JP27024092 A JP 27024092A JP 3339078 B2 JP3339078 B2 JP 3339078B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solution
- group
- silicon compound
- article
- silicon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、珪素化合物被覆物品、
特に、撥水性、親水性、または反射防止性等の機能性が
付与された、珪素化合物で被覆されたガラス、プラスチ
ック等の物品およびその製造方法に関する。
特に、撥水性、親水性、または反射防止性等の機能性が
付与された、珪素化合物で被覆されたガラス、プラスチ
ック等の物品およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】このような珪素化合物被膜を形成する方
法として、現在、アルキルトリアルコキシシランのよう
な有機珪素化合物の部分加水分解物溶液を塗布液とする
湿式塗布法が主流となっている。
法として、現在、アルキルトリアルコキシシランのよう
な有機珪素化合物の部分加水分解物溶液を塗布液とする
湿式塗布法が主流となっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記湿式塗布
法では、表面が平坦でない異形表面を持つ基材上に均一
な厚みに被膜を形成することが不可能である。
法では、表面が平坦でない異形表面を持つ基材上に均一
な厚みに被膜を形成することが不可能である。
【０００４】また、撥水性被膜のように、弗素元素を有
する珪素化合物被膜を形成する場合には、その希釈溶媒
としてフロン系溶媒のごときハロゲン元素を有するもの
を使用しない限り、透明で均一な塗膜が得られないとい
った問題もある。
する珪素化合物被膜を形成する場合には、その希釈溶媒
としてフロン系溶媒のごときハロゲン元素を有するもの
を使用しない限り、透明で均一な塗膜が得られないとい
った問題もある。
【０００５】本発明は、このような事情に鑑みなされた
ものであって、その目的は、基材表面に形状追従性よく
ムラの少ない珪素化合物被膜を形成した珪素化合物被覆
物品を製造しようとするものである。
ものであって、その目的は、基材表面に形状追従性よく
ムラの少ない珪素化合物被膜を形成した珪素化合物被覆
物品を製造しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
（１）で示される珪素化合物の加水分解物と弗化物を有
する溶液に物品を浸漬してその浸漬中に前記溶液から有
機ポリシロキサンまたは酸化ケイ素を前記物品の表面に
析出させ、そしてその析出量が所定の膜厚になるように
浸漬を所定時間維持し、そして前記溶液から引き上げた
後に物品を洗浄することを特徴とする、有機ポリシロキ
サンまたは酸化ケイ素の膜を被覆した物品の製造方法で
ある。
（１）で示される珪素化合物の加水分解物と弗化物を有
する溶液に物品を浸漬してその浸漬中に前記溶液から有
機ポリシロキサンまたは酸化ケイ素を前記物品の表面に
析出させ、そしてその析出量が所定の膜厚になるように
浸漬を所定時間維持し、そして前記溶液から引き上げた
後に物品を洗浄することを特徴とする、有機ポリシロキ
サンまたは酸化ケイ素の膜を被覆した物品の製造方法で
ある。
【０００７】Ｒ1 nＳｉ（Ｒ2）4-n （１） （式中Ｒ1は、炭化水素基、ビニル基、メタクリロキシ
基、メルカプト基、弗素含有有機基、または塩素含有有
機基であり、Ｒ2は、アルコキシ基、アルコキシアルコ
キシ基、アセトキシ基および塩素元素から選ばれる少な
くとも１種の結合基であり、ｎは、０または１であ
る。）以下に本発明を詳細に説明する。
基、メルカプト基、弗素含有有機基、または塩素含有有
機基であり、Ｒ2は、アルコキシ基、アルコキシアルコ
キシ基、アセトキシ基および塩素元素から選ばれる少な
くとも１種の結合基であり、ｎは、０または１であ
る。）以下に本発明を詳細に説明する。
【０００８】本発明に使用される基材物品としては、無
機ガラスおよび有機ガラス等の透明基材および金属、セ
ラミックス等が挙げられる。無機ガラスとしては、例え
ば、ソーダ・ライムシリケートガラス、ホウ珪酸ガラ
ス、石英ガラスなどが挙げられ、熱あるいは化学処理に
より表面に圧縮歪層を設けたいわゆる強化ガラスであっ
てもよい。有機ガラスとしては、ポリカーボネート、ポ
リオレフィン、ポリメチルメタクリレートを主とするい
わゆるアクリル材料、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、
ポリエチレンテレフタレート、などの基材が挙げられ
る。
機ガラスおよび有機ガラス等の透明基材および金属、セ
ラミックス等が挙げられる。無機ガラスとしては、例え
ば、ソーダ・ライムシリケートガラス、ホウ珪酸ガラ
ス、石英ガラスなどが挙げられ、熱あるいは化学処理に
より表面に圧縮歪層を設けたいわゆる強化ガラスであっ
てもよい。有機ガラスとしては、ポリカーボネート、ポ
リオレフィン、ポリメチルメタクリレートを主とするい
わゆるアクリル材料、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、
ポリエチレンテレフタレート、などの基材が挙げられ
る。
【０００９】一般式（１）で示される珪素化合物として
は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、、
テトラクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチ
ルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキ
シエトキシ）シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリメトキシシラン、３．３．３−ト
リフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカフ
ルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロ
デシルトリクロロシラン、γ−クロロプロピルトリメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル
トリメトキシシラン、メチルトリクロロシラン等がその
代表例として挙げられる。これらの珪素化合物は、１種
を単独で使用しても、２種以上を混合して用いてもよ
い。
は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、、
テトラクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチ
ルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキ
シエトキシ）シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリメトキシシラン、３．３．３−ト
リフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカフ
ルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロ
デシルトリクロロシラン、γ−クロロプロピルトリメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル
トリメトキシシラン、メチルトリクロロシラン等がその
代表例として挙げられる。これらの珪素化合物は、１種
を単独で使用しても、２種以上を混合して用いてもよ
い。
【００１０】これら一般式（１）で示される珪素化合物
の加水分解物とは、該珪素化合物中のアルコキシ基、ア
ルコキシアルコキシ基、アシルオキシ基、塩素元素の一
部または全部が水酸基に置換されたもの、および置換さ
れた水酸基同士が一部自然に縮合したものを含んでい
る。これらの加水分解物は、例えば、水およびアルコー
ルの様な混合溶媒中で酸の存在下で加水分解することに
よって得ることができる。
の加水分解物とは、該珪素化合物中のアルコキシ基、ア
ルコキシアルコキシ基、アシルオキシ基、塩素元素の一
部または全部が水酸基に置換されたもの、および置換さ
れた水酸基同士が一部自然に縮合したものを含んでい
る。これらの加水分解物は、例えば、水およびアルコー
ルの様な混合溶媒中で酸の存在下で加水分解することに
よって得ることができる。
【００１１】加水分解溶液中の珪素濃度は、使用する珪
素化合物の種類によって適正値が異なるが、概ね、１０
-4〜０．５ｍｏｌ／ｌの範囲が好ましい。１０-4ｍｏｌ
／ｌ以下では、被膜の析出能力が著しく低下するので好
ましくない。また、０．５ｍｏｌ／ｌ以上では、不経済
である。また溶液の温度は室温で差し支えない。
素化合物の種類によって適正値が異なるが、概ね、１０
-4〜０．５ｍｏｌ／ｌの範囲が好ましい。１０-4ｍｏｌ
／ｌ以下では、被膜の析出能力が著しく低下するので好
ましくない。また、０．５ｍｏｌ／ｌ以上では、不経済
である。また溶液の温度は室温で差し支えない。
【００１２】このような加水分解溶液は、所定珪素濃度
の溶液が得られるように試薬を混合後加水分解して調製
してもよいが、高濃度の加水分解溶液を作成し、溶媒で
希釈して調製してもよい。溶媒は、被膜の析出触媒であ
る弗化物の溶解性を考慮すると水またはアルコールが好
ましい。
の溶液が得られるように試薬を混合後加水分解して調製
してもよいが、高濃度の加水分解溶液を作成し、溶媒で
希釈して調製してもよい。溶媒は、被膜の析出触媒であ
る弗化物の溶解性を考慮すると水またはアルコールが好
ましい。
【００１３】次に、上記有機珪素化合物の加水分解溶液
に、弗化物を添加し、Ｒ1 nＳｉＯ(4-n)/2型の被膜を析
出させる。使用する弗化物としては、弗酸、珪弗化水素
酸、弗化ナトリウム、弗化ニッケル、弗化アンモニウム
等のように、弗素イオンを生じるものならば何でもよ
い。弗化物の添加量の最適値は、弗化物の種類および使
用した珪素化合物の種類によって異なるのでその都度決
定することが好ましいが通常は１０-4〜０．５ｍｏｌ／
ｌの範囲で用いられる。例えば、一般式（１）において
Ｒ1＝ＣＨ3の場合、加水分解溶液中への弗酸の過剰添加
（例えば添加量が１ｍｏｌ／ｌである場合）は、ＣＨ3
ＳｉＦ3ガスの発生を促進し、被膜は、形成されない。
また、基材を侵食するので好ましくない。
に、弗化物を添加し、Ｒ1 nＳｉＯ(4-n)/2型の被膜を析
出させる。使用する弗化物としては、弗酸、珪弗化水素
酸、弗化ナトリウム、弗化ニッケル、弗化アンモニウム
等のように、弗素イオンを生じるものならば何でもよ
い。弗化物の添加量の最適値は、弗化物の種類および使
用した珪素化合物の種類によって異なるのでその都度決
定することが好ましいが通常は１０-4〜０．５ｍｏｌ／
ｌの範囲で用いられる。例えば、一般式（１）において
Ｒ1＝ＣＨ3の場合、加水分解溶液中への弗酸の過剰添加
（例えば添加量が１ｍｏｌ／ｌである場合）は、ＣＨ3
ＳｉＦ3ガスの発生を促進し、被膜は、形成されない。
また、基材を侵食するので好ましくない。
【００１４】本発明によって、非ガラス物品例えばプラ
スチック物品上に被膜を析出させる場合、プラスチック
を予めシランカップリング剤またはその加水分解物で処
理して表面にシラノール基を導入しておくことが、均一
な被膜を析出させるために好ましい。
スチック物品上に被膜を析出させる場合、プラスチック
を予めシランカップリング剤またはその加水分解物で処
理して表面にシラノール基を導入しておくことが、均一
な被膜を析出させるために好ましい。
【００１５】被覆させる基材物品は、弗化物を添加する
前に溶液中に浸漬しておいて浸漬した後に弗化物を添加
してもよく、弗化物を添加した溶液中に浸漬してもよ
く、また、弗化物添加中の溶液中に浸漬してもよい。さ
らに弗化物溶液に、一般式（１）で示される珪素化合物
の加水分解物溶液を添加してもよい。この場合も、基材
の浸漬は、加水分解溶液の添加前でも、添加後でも、添
加中でもかまわない。
前に溶液中に浸漬しておいて浸漬した後に弗化物を添加
してもよく、弗化物を添加した溶液中に浸漬してもよ
く、また、弗化物添加中の溶液中に浸漬してもよい。さ
らに弗化物溶液に、一般式（１）で示される珪素化合物
の加水分解物溶液を添加してもよい。この場合も、基材
の浸漬は、加水分解溶液の添加前でも、添加後でも、添
加中でもかまわない。
【００１６】本発明による被膜形成の機構は明かではな
いが、おそらく次のようであると推定される。すなわ
ち、弗化物が添加された珪素化合物の加水分解物溶液中
に基材物品が浸漬されると、溶液中または基材物品表面
の存在していたヒドロキシ珪素種のシラノール基が、溶
液中の弗化物から由来する弗素で部分的に置換されてＳ
ｉＦ基となる。そして基材表面または溶液中に残ってい
るシラノール基とＳｉＦ基との間で脱弗酸反応が進行
し、両者の間にシロキサン結合が形成されて基材表面に
は、Ｒ1 nＳｉＯ(4-n)/2で示す有機ポリシロキサンの被
膜が析出すると考えられる。なお一般式（１）で示され
る珪素化合物のｎがゼロの場合には二酸化珪素の被膜が
析出する。
いが、おそらく次のようであると推定される。すなわ
ち、弗化物が添加された珪素化合物の加水分解物溶液中
に基材物品が浸漬されると、溶液中または基材物品表面
の存在していたヒドロキシ珪素種のシラノール基が、溶
液中の弗化物から由来する弗素で部分的に置換されてＳ
ｉＦ基となる。そして基材表面または溶液中に残ってい
るシラノール基とＳｉＦ基との間で脱弗酸反応が進行
し、両者の間にシロキサン結合が形成されて基材表面に
は、Ｒ1 nＳｉＯ(4-n)/2で示す有機ポリシロキサンの被
膜が析出すると考えられる。なお一般式（１）で示され
る珪素化合物のｎがゼロの場合には二酸化珪素の被膜が
析出する。
【００１７】本発明において、上記一般式（１）で示さ
れる珪素化合物の加水分解物と弗化物を有する溶液に物
品を浸漬する時間は、使用する珪素化合物の種類、弗化
物の種類、溶液中の珪素濃度・弗化物濃度、溶液の温
度、必要な被膜の厚み、基材の種類などによって異なる
が、通常は３０秒〜２４時間である。
れる珪素化合物の加水分解物と弗化物を有する溶液に物
品を浸漬する時間は、使用する珪素化合物の種類、弗化
物の種類、溶液中の珪素濃度・弗化物濃度、溶液の温
度、必要な被膜の厚み、基材の種類などによって異なる
が、通常は３０秒〜２４時間である。
【００１８】そして形成させる、有機ポリシロキサン膜
または二酸化珪素膜の厚みは、通常は、使用した有機珪
素化合物の単分子層から約２００ｎｍである。被膜形成
後、基材をその変形温度以下でかつ被膜の分解温度（通
常は１００〜４００℃）以下で熱処理して、被膜を更に
硬化してもかまわない。この熱処理によって被膜中の吸
着水が除去され、また未反応で残存していたシラノール
基が脱水縮合し、シロキサン結合が形成され，次第にち
密化していくものと推察される。
または二酸化珪素膜の厚みは、通常は、使用した有機珪
素化合物の単分子層から約２００ｎｍである。被膜形成
後、基材をその変形温度以下でかつ被膜の分解温度（通
常は１００〜４００℃）以下で熱処理して、被膜を更に
硬化してもかまわない。この熱処理によって被膜中の吸
着水が除去され、また未反応で残存していたシラノール
基が脱水縮合し、シロキサン結合が形成され，次第にち
密化していくものと推察される。
【００１９】
【実施例】以下、実施例、比較例を挙げて本発明を詳細
に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下
の実施例に限定されるものではない。
に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下
の実施例に限定されるものではない。
【００２０】実施例１ メチルトリエトキシシラン１００ｇ、蒸留水１００ｇ、
および１Ｎ塩酸１ｇを混合し、室温で１時間激しく攪拌
し、加水分解溶液を得た。蒸留水２００ｇに上記加水分
解溶液５ｇを添加し、攪拌後、あらかじめ洗浄した縦、
横各５０ｍｍ厚み１．１ｍｍのソーダライムガラス基板
を浸漬した。次いでこの溶液に、４ｍｏｌ／ｌの珪弗化
水素酸水溶液を５ｇ添加、攪拌した。３０分後、溶液は
白濁していた。この時点でガラス基板を取り出し、蒸留
水で洗浄し、５０℃で３０分間乾燥した。ガラス基板上
には、約７０ｎｍ厚みのメチルポリシロキサンの被膜が
形成されていた。被膜上の蒸留水の接触角を調べたとこ
ろ、９５゜であった。なお未処理のソーダライムガラス
基板表面の水の接触角は２５゜であった。
および１Ｎ塩酸１ｇを混合し、室温で１時間激しく攪拌
し、加水分解溶液を得た。蒸留水２００ｇに上記加水分
解溶液５ｇを添加し、攪拌後、あらかじめ洗浄した縦、
横各５０ｍｍ厚み１．１ｍｍのソーダライムガラス基板
を浸漬した。次いでこの溶液に、４ｍｏｌ／ｌの珪弗化
水素酸水溶液を５ｇ添加、攪拌した。３０分後、溶液は
白濁していた。この時点でガラス基板を取り出し、蒸留
水で洗浄し、５０℃で３０分間乾燥した。ガラス基板上
には、約７０ｎｍ厚みのメチルポリシロキサンの被膜が
形成されていた。被膜上の蒸留水の接触角を調べたとこ
ろ、９５゜であった。なお未処理のソーダライムガラス
基板表面の水の接触角は２５゜であった。
【００２１】比較例１ メチルトリエトキシシラン１００ｇ、蒸留水１００ｇ、
および１Ｎ塩酸１ｇを混合し、室温で１時間激しく攪拌
し、加水分解溶液を得た。蒸留水２００ｇに上記加水分
解溶液５ｇを添加し、攪拌後、あらかじめ洗浄した縦、
横各５０ｍｍ厚み１．１ｍｍのソーダライムガラス基板
を浸漬した。次いでこの溶液に、濃硫酸を５ｇ添加、攪
拌した。３０分後、溶液は白濁していた。この時点でガ
ラス基板を取り出し、蒸留水で洗浄し、５０℃で３０分
間乾燥した。ガラス基板上に被膜は全く形成されなかっ
た。
および１Ｎ塩酸１ｇを混合し、室温で１時間激しく攪拌
し、加水分解溶液を得た。蒸留水２００ｇに上記加水分
解溶液５ｇを添加し、攪拌後、あらかじめ洗浄した縦、
横各５０ｍｍ厚み１．１ｍｍのソーダライムガラス基板
を浸漬した。次いでこの溶液に、濃硫酸を５ｇ添加、攪
拌した。３０分後、溶液は白濁していた。この時点でガ
ラス基板を取り出し、蒸留水で洗浄し、５０℃で３０分
間乾燥した。ガラス基板上に被膜は全く形成されなかっ
た。
【００２２】実施例２ テトラエトキシシラン１００ｇ、蒸留水１００ｇ、およ
び１Ｎ塩酸２ｇを混合し、室温で２４時間攪拌し、加水
分解溶液を得た。蒸留水２００ｇに上記加水分解溶液１
０ｇを添加し、攪拌後、あらかじめ洗浄した縦、横各５
０ｍｍ厚み１．１ｍｍのソーダライムガラス基板を浸漬
した。次いでこの溶液に、４ｍｏｌ／ｌの珪弗化水素酸
水溶液を５０ｇ添加、攪拌した。４時間後ガラス基板を
取り出し、蒸留水で洗浄し、５０℃で３０分間乾燥し
た。ガラス基板上には、厚みが約２０ｎｍの二酸化珪素
の被膜が形成されていた。
び１Ｎ塩酸２ｇを混合し、室温で２４時間攪拌し、加水
分解溶液を得た。蒸留水２００ｇに上記加水分解溶液１
０ｇを添加し、攪拌後、あらかじめ洗浄した縦、横各５
０ｍｍ厚み１．１ｍｍのソーダライムガラス基板を浸漬
した。次いでこの溶液に、４ｍｏｌ／ｌの珪弗化水素酸
水溶液を５０ｇ添加、攪拌した。４時間後ガラス基板を
取り出し、蒸留水で洗浄し、５０℃で３０分間乾燥し
た。ガラス基板上には、厚みが約２０ｎｍの二酸化珪素
の被膜が形成されていた。
【００２３】実施例３ ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン２．８
ｇ、蒸留水４ｇ、０．１Ｎ塩酸１ｇおよびエタノール５
ｇを混合し、室温で３０分間攪拌し、加水分解溶液を得
た。イソプロピルアルコール４００ｇに弗化アンモニウ
ム０．５ｇを添加、攪拌後、上記加水分解溶液４．５ｇ
を添加し攪拌した。この溶液にあらかじめ洗浄した縦１
００ｍｍ横７０ｍｍ厚み１．１ｍｍのソーダライムガラ
スを浸漬し、３０秒後溶液から引き上げ、溶媒が乾燥す
る前に、イソプロピルアルコールでリンスし、蒸留水で
洗浄後、圧縮空気で蒸留水を吹き飛ばした。ガラス基板
上には、約５ｎｍのヘプタデカフルオロデシルポリシロ
キサンの被膜が形成されていた。被膜上の蒸留水の接触
角を測定したところ、１０３゜であった。また、撥油性
も確認された。
ｇ、蒸留水４ｇ、０．１Ｎ塩酸１ｇおよびエタノール５
ｇを混合し、室温で３０分間攪拌し、加水分解溶液を得
た。イソプロピルアルコール４００ｇに弗化アンモニウ
ム０．５ｇを添加、攪拌後、上記加水分解溶液４．５ｇ
を添加し攪拌した。この溶液にあらかじめ洗浄した縦１
００ｍｍ横７０ｍｍ厚み１．１ｍｍのソーダライムガラ
スを浸漬し、３０秒後溶液から引き上げ、溶媒が乾燥す
る前に、イソプロピルアルコールでリンスし、蒸留水で
洗浄後、圧縮空気で蒸留水を吹き飛ばした。ガラス基板
上には、約５ｎｍのヘプタデカフルオロデシルポリシロ
キサンの被膜が形成されていた。被膜上の蒸留水の接触
角を測定したところ、１０３゜であった。また、撥油性
も確認された。
【００２４】比較例２ ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン２．８
ｇ、蒸留水４ｇ、０．１Ｎ塩酸１ｇおよびエタノール５
ｇを混合し、室温で３０分間攪拌し、加水分解溶液を得
た。イソプロピルアルコール４００ｇに上記加水分解溶
液８ｇを添加、攪拌した。この溶液にあらかじめ洗浄し
た縦１００ｍｍ横７０ｍｍ厚み１．１ｍｍのソーダライ
ムガラスを浸漬し、３０秒後溶液から引き上げ、溶媒が
乾燥する前に、イソプロピルアルコールでリンス後、蒸
留水で洗浄した。蒸留水ははじかず濡れたままであっ
た。
ｇ、蒸留水４ｇ、０．１Ｎ塩酸１ｇおよびエタノール５
ｇを混合し、室温で３０分間攪拌し、加水分解溶液を得
た。イソプロピルアルコール４００ｇに上記加水分解溶
液８ｇを添加、攪拌した。この溶液にあらかじめ洗浄し
た縦１００ｍｍ横７０ｍｍ厚み１．１ｍｍのソーダライ
ムガラスを浸漬し、３０秒後溶液から引き上げ、溶媒が
乾燥する前に、イソプロピルアルコールでリンス後、蒸
留水で洗浄した。蒸留水ははじかず濡れたままであっ
た。
【００２５】実施例４ 特開平３−８４０４３号公報の実施例８に従って、深さ
０．０７μｍ、幅０．８μｍ、ピッチ１．６μｍの溝を
有するポリカーボネート製光ディスク基板の表面上に液
相析出法で厚みが約４０ｎｍの二酸化珪素被膜を形成し
た。
０．０７μｍ、幅０．８μｍ、ピッチ１．６μｍの溝を
有するポリカーボネート製光ディスク基板の表面上に液
相析出法で厚みが約４０ｎｍの二酸化珪素被膜を形成し
た。
【００２６】弗素化合物として、４ｍｏｌ／ｌの濃度の
珪弗化水素酸水溶液５ｇのかわりに５％弗酸水溶液２ｇ
を使用したこと以外は実施例１と同様にして、上記二酸
化珪素被膜付きポリカーボネート製光ディスク基板上に
厚みが約３０ｎｍのメチルポリシロキサンの被膜を形成
した。
珪弗化水素酸水溶液５ｇのかわりに５％弗酸水溶液２ｇ
を使用したこと以外は実施例１と同様にして、上記二酸
化珪素被膜付きポリカーボネート製光ディスク基板上に
厚みが約３０ｎｍのメチルポリシロキサンの被膜を形成
した。
【００２７】成膜した溝部を電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、メチルポリシロキサンの被膜がディスク基板の凹凸
形状に沿って均一な厚みで成膜していることが認められ
た。
ろ、メチルポリシロキサンの被膜がディスク基板の凹凸
形状に沿って均一な厚みで成膜していることが認められ
た。
【００２８】実施例５ ソーダライム基板の析出溶液への浸漬時間を１６時間と
したこと以外は実施例２と全く同様にして、ソーダライ
ム基板上に二酸化珪素被膜を形成した。被膜形成前に９
２．２％だった全光線透過率が被膜形成によって９３．
３％まで上昇した。被膜表面を電子顕微鏡で観察したと
ころ、直径１０〜５０ｎｍの半球状の凸部が密集してい
た。
したこと以外は実施例２と全く同様にして、ソーダライ
ム基板上に二酸化珪素被膜を形成した。被膜形成前に９
２．２％だった全光線透過率が被膜形成によって９３．
３％まで上昇した。被膜表面を電子顕微鏡で観察したと
ころ、直径１０〜５０ｎｍの半球状の凸部が密集してい
た。
【００２９】
【発明の効果】本発明によれば、溶液に接触した物品の
任意の場所に有機珪素化合物または二酸化珪素の被膜を
形成させることが可能であり、異形表面を持つ基材上に
均一に被膜を形成することが可能となった。また、フロ
ン系溶媒のごとき弗素元素を有する溶媒を使用せず、均
一な撥水性被覆物品を得ることが可能となった。
任意の場所に有機珪素化合物または二酸化珪素の被膜を
形成させることが可能であり、異形表面を持つ基材上に
均一に被膜を形成することが可能となった。また、フロ
ン系溶媒のごとき弗素元素を有する溶媒を使用せず、均
一な撥水性被覆物品を得ることが可能となった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−117552（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−112662（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08J 7/04 - 7/06 B05D 1/00 - 7/24
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で示される珪素化合物
の加水分解物と弗化物を有する溶液に物品を浸漬してそ
の浸漬中に前記溶液から有機ポリシロキサンまたは酸化
ケイ素を前記物品の表面に析出させ、そしてその析出量
が所定の膜厚になるように浸漬を所定時間維持し、そし
て前記溶液から引き上げた後に物品を洗浄することを特
徴とする、有機ポリシロキサンまたは酸化ケイ素の膜を
被覆した物品の製造方法。 Ｒ1 nＳｉ（Ｒ2）4-n （１） （式中Ｒ1は、炭化水素基、ビニル基、メタクリロキシ
基、メルカプト基、弗素含有有機基、または塩素含有有
機基であり、Ｒ2は、アルコキシ基、アルコキシアルコ
キシ基、アセトキシ基および塩素元素から選ばれる少な
くとも１種の結合基であり、ｎは、０または１であ
る。） - 【請求項２】 前記浸漬を３０秒〜２４時間維持する請
求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 前記溶液はその溶液中にそれぞれ１０ -4
〜０．５ｍｏｌ／ｌおよび１０ -4 〜０．５ｍｏｌ／ｌの
珪素の濃度および弗化物の濃度を有する請求項１または
２記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27024092A JP3339078B2 (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | 珪素化合物被覆物品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27024092A JP3339078B2 (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | 珪素化合物被覆物品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06116424A JPH06116424A (ja) | 1994-04-26 |
| JP3339078B2 true JP3339078B2 (ja) | 2002-10-28 |
Family
ID=17483511
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27024092A Expired - Fee Related JP3339078B2 (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | 珪素化合物被覆物品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3339078B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4262190B2 (ja) | 2003-12-26 | 2009-05-13 | キヤノン株式会社 | 抵抗膜の成膜方法及び該成膜方法を用いて形成された画像表示装置とテレビジョン装置 |
| JP2015224302A (ja) * | 2014-05-28 | 2015-12-14 | アンデス電気株式会社 | 低屈折率膜形成用コーティング液、低屈折率膜、低屈折率膜製造方法および応用品 |
-
1992
- 1992-10-08 JP JP27024092A patent/JP3339078B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06116424A (ja) | 1994-04-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100487968B1 (ko) | 농무및오염방지유리제품 | |
| US6299981B1 (en) | Substrate with improved hydrophilic or hydrophobic properties, comprising irregularities | |
| US5413865A (en) | Water-repellent metal oxide film and method of forming same on glass substrate | |
| US6001485A (en) | Water repellant glass plate and method for manufacturing the same | |
| US6387517B1 (en) | Inorganic polymer material with tantalic acid anhydride base, in particular with high refractive index, mechanically abrasionproof, method of manufacture, optical materials comprising such material | |
| KR20030069186A (ko) | 자정작용 표면을 갖는 기판과 그 제조 방법 및 용도 | |
| JPH0597478A (ja) | 撥水性ガラス物品およびその製造方法 | |
| CN101356130B (zh) | 石英玻璃坩埚以及处理石英玻璃坩埚表面的方法 | |
| US20030180544A1 (en) | Anti-reflective hydrophobic coatings and methods | |
| WO2008123650A1 (en) | Preparation of super water repellent surface | |
| JP2000239283A (ja) | フルオル有機官能性シラン及び／又はシロキサンを有する組成物、その製法、その使用及び表面変性された支持体 | |
| JP4247354B2 (ja) | 表面微細凹凸組織の低温形成法および当該組織を有する基体 | |
| US20080156224A1 (en) | Method of fabricating transparent hydrophobic self-cleaning coating material and coating material and transparent coating made therefrom | |
| JPH09100141A (ja) | 撥水性ガラスの製造方法 | |
| JPH11171594A (ja) | 撥水性ガラス物品およびその製造方法 | |
| JP2001511467A (ja) | ポリオルガノシロキサンを基とするバインダーを含む二酸化チタン粒子の分散体 | |
| JP3339078B2 (ja) | 珪素化合物被覆物品の製造方法 | |
| US7160626B2 (en) | Coated article, coating liquid composition, and method for producing coated article | |
| JP2002161262A (ja) | 表面処理剤、薄膜製造方法、薄膜を備えた基材および太陽電池パネル | |
| JP3694900B2 (ja) | シリカ系被膜の製造方法 | |
| WO1997024223A2 (en) | Methods and compositions for forming silica, germanosilicate and metal silicate films, patterns and multilayers | |
| JPH0786146B2 (ja) | 撥水撥油防汚性被膜及びその製造方法 | |
| JPH0913018A (ja) | 撥水被膜用組成物および撥水ガラス | |
| JP4086055B2 (ja) | 防曇防汚ガラス物品 | |
| JP3387141B2 (ja) | 撥水性ガラス物品 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |