JP3336284B2 - ディスク基板及びその製造方法 - Google Patents

ディスク基板及びその製造方法

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JP3336284B2
JP3336284B2 JP05435399A JP5435399A JP3336284B2 JP 3336284 B2 JP3336284 B2 JP 3336284B2 JP 05435399 A JP05435399 A JP 05435399A JP 5435399 A JP5435399 A JP 5435399A JP 3336284 B2 JP3336284 B2 JP 3336284B2
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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスク基板及び
その製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、ハードディスク等のディスクを形
成するためのディスク基板は、アルミニウム、ガラス等
に切削加工、研磨加工等の機械加工を施すことによって
製造されるようになっている。そして、ディスクの記録
密度を高くするために、光ディスクの製造技術を併用
し、ディスク基板の表面にグルーブ、ピット等の幾何学
的な凹凸を形成することがある。この場合、可塑性材
料、例えば、樹脂によってディスク基板を形成すると、
転写性が向上し、ディスクの記録密度を高くすることが
できる。図2は従来のディスク基板の正面図、図3は従
来のディスク基板の断面図である。
【0003】図において、51は図示されない射出成形
機によって所定の厚さに成形されたディスク基板、52
は該ディスク基板51の中央に形成された穴である。前
記ディスク基板51の表面には、図示されないグルー
ブ、ピット等の幾何学的な凹凸から成る環状の記録面S
1、S2が形成され、該記録面S1、S2の表面は記録
膜によって被覆され、該記録膜の表面は保護膜によって
被覆される。なお、前記記録面S1、S2は、射出成形
機のディスク成形金型に配設されたスタンパから転写さ
れる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のディスク基板51においては、成形材料として樹脂
を使用しているので、強度及び剛性が低くなってしま
う。その結果、ディスクを高速で回転させると、ディス
クに振動が発生して図示されない記録ヘッドに接触して
しまう。
【0005】そこで、樹脂に充填(てん)材(フィラ
ー)を添加することによって、ディスク基板の強度及び
剛性を高くすることが考えられるが、ディスク基板の表
面に充填材が出ることがある。したがって、ディスクの
表面精度が低くなり、記録密度を高くすることができな
くなるだけでなく、成形に伴って汚染物を発生させてし
まう。
【0006】本発明は、前記従来のディスク基板の問題
点を解決して、強度及び剛性を高くすることができるだ
けでなく、転写性を向上させることができ、ディスクの
表面精度を高くすることができ、記録密度を高くするこ
とができ、汚染物を発生させることがないディスク基板
及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】そのために、本発明のデ
ィスク基板においては、第1の成形材料から成り、第1
の成形材料を充填することで形成された凹凸を備える外
層と、第2の成形材料から成り、第2の成形材料を充填
することで前記外層によって包囲された内層とを有す
る。そして、前記第2の成形材料は第1の成形材料より
強度及び剛性が高くされる。
【0008】本発明の他のディスク基板においては、さ
らに、前記第1の成形材料は充填材が添加されない樹脂
から成る。そして、前記第2の成形材料は充填材が添加
された樹脂から成る。本発明のディスク基板の製造方法
においては、第1のタイミングで第1の成形材料をキャ
ビティ空間に充填し、前記第1の成形材料の流動先端面
がキャビティ空間の最奥部に到達する前の第2のタイミ
ングで、前記第1の成形材料より強度及び剛性が高い第
2の成形材料をキャビティ空間に充填し、前記第2のタ
イミングより後の所定のタイミングで、第1、第2の成
形材料に対して穴空け加工を施す。
【0009】本発明の他のディスク基板の製造方法にお
いては、さらに、前記第2のタイミングより後で、前記
所定のタイミングより前の第3のタイミングで、第1の
成形材料をキャビティ空間に充填する。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。図1は本発明の
実施の形態におけるディスク基板の製造方法の第1工程
を示す図、図4は本発明の実施の形態におけるディスク
基板の製造方法の第2工程を示す図、図5は本発明の実
施の形態におけるディスク基板の製造方法の第3工程を
示す図、図6は本発明の実施の形態におけるディスク基
板の製造方法の第4工程を示す図、図7は本発明の実施
の形態におけるディスク基板の製造方法の第5工程を示
す図、図8は本発明の実施の形態におけるディスク基板
の製造方法の第6工程を示す図、図9は本発明の実施の
形態におけるディスク基板の正面図、図10は本発明の
実施の形態におけるディスク基板の断面図、図11は本
発明の実施の形態におけるディスク基板の要部断面図で
ある。
【0011】図において、11は第1の金型としての固
定金型、12は該固定金型11と対向させて接離自在に
配設された第2の金型としての可動金型であり、前記固
定金型11及び可動金型12によってディスク成形金型
10が構成される。前記固定金型11は図示されない固
定プラテンに、前記可動金型12は図示されない可動プ
ラテンにそれぞれ取り付けられる。
【0012】そして、図示されない型締装置によって前
記可動金型12を進退させることにより、固定金型11
と可動金型12とを接離させ、ディスク成形金型10の
型閉状態、図1に示されるような型締状態及び図8に示
されるような型開状態を形成することができる。そし
て、前記型締状態においては、固定金型11と可動金型
12との間にキャビティ空間Cが形成される。なお、固
定金型11と可動金型12とはパーティングラインP.
L.において接離させられる。そして、前記型締装置は
図示されない型締用駆動部によって作動させられ、該型
締用駆動部としては、油圧シリンダ、電動機等を使用す
ることができる。
【0013】また、55は第1の成形材料を溶融させて
射出する第1の射出装置、56は第2の成形材料を溶融
させて射出する第2の射出装置、57は前記第1、第2
の射出装置55、56によって構成される射出部であ
る。なお、前記ディスク成形金型10及び射出部57に
よって射出成形機が構成される。前記第1の射出装置5
5は、シリンダ部としての加熱シリンダ61、該加熱シ
リンダ61の前端(図1における左端)に配設された第
1の射出ノズル62、前記加熱シリンダ61内において
進退自在に配設された図示されない射出部材、及び該射
出部材を進退させる第1の射出用駆動部を備える。ま
た、前記第2の射出装置56は、シリンダ部としての加
熱シリンダ63、該加熱シリンダ63の前端に配設され
た第2の射出ノズル64、前記加熱シリンダ63内にお
いて進退自在に配設された図示されない射出部材、及び
該射出部材を進退させる第2の射出用駆動部を備える。
なお、前記各射出部材としては、スクリュー、射出プン
ジャ等を使用することができる。また、前記第1、第2
の射出用駆動部としては、油圧シリンダ、電動機等を使
用することができる。
【0014】そして、前記第2の射出ノズル64は第1
の射出ノズル62内において同心的に配設され、該第1
の射出ノズル62は、図示されない移動機構によって射
出部57を移動させることにより、固定金型11に配設
された図示されないスプルーブッシュと接離させられ、
選択的にノズルタッチが行われる。また、16は前記ス
プルーブッシュ内に形成されたスプルーであり、該スプ
ルー16は固定金型11を貫通して延びる。第1、第2
の射出ノズル62、64から射出された第1、第2の成
形材料は、スプルー16を流れてキャビティ空間Cに充
填され、該キャビティ空間C内において、冷却されて固
化された後、成形品としてのディスク基板になる。
【0015】また、14は前記スプルーブッシュの周囲
に配設され、型締状態においてキャビティ空間Cに臨む
固定側鏡板、18は、該固定側鏡板14に対して着脱自
在に取り付けられ、キャビティ空間Cに臨ませて転写用
記録面S11が形成された環状の第1のスタンパであ
り、該第1のスタンパ18は、前記スプルーブッシュに
おける可動金型12と対向する側の端部に対して、着脱
自在に配設されたスリーブ状の図示されない第1のイン
ナスタンパホルダによって、固定側鏡板14に押し付け
られ保持される。
【0016】そして、23は前記固定側鏡板14と対向
させて配設され、型締状態において前記キャビティ空間
Cに臨む可動側鏡板、24は該可動側鏡板23の中央に
おいて、前記スプルーブッシュと対向させ、可動側鏡板
23に対して相対的に進退自在に配設されたカットパン
チ、19は、前記可動側鏡板23に対して着脱自在に取
り付けられ、キャビティ空間Cに臨ませて転写用記録面
S12が形成された環状の第2のスタンパであり、該第
2のスタンパ19は、前記カットパンチ24における固
定金型11と対向する側の端部に対して、着脱自在に配
設されたスリーブ状の図示されない第2のインナスタン
パホルダによって、可動側鏡板23に押し付けられ保持
される。
【0017】前記カットパンチ24は、成形中におい
て、図7に示されるように、キャビティ空間Cに第1、
第2の成形材料が充填された後に固定金型11側に移動
させられ、第1、第2の成形材料に対して穴空け加工を
施す。そのために、前記カットパンチ24の後端(図7
における左端)には、図示されないカットパンチ用駆動
部が配設され、該カットパンチ用駆動部は、シリンダ、
及び該シリンダ内において進退自在に配設されたピスト
ンを備え、該ピストンと前記カットパンチ24とは一体
に形成される。なお、前記カットパンチ用駆動部として
は、電動機等を使用することができる。また、前記可動
側鏡板23内には、図示されないエジェクタピンが進退
自在に配設され、該エジェクタピンは、型開きに伴って
前進(図7における右方に移動)させられ、図8に示さ
れるように、ディスク基板及び後述されるスプルー部7
1を突き出す。そのために、前記可動側鏡板23より後
方(図8における左方)に、図示されないエジェクタピ
ン用駆動部が配設され、該エジェクタピン用駆動部は、
シリンダ、及び該シリンダ内において進退自在に配設さ
れたピストンを備える。なお、前記エジェクタピン用駆
動部としては、電動機等を使用することができる。
【0018】前記固定側鏡板14内及び可動側鏡板23
内には、図示されない冷却媒体流路が形成され、該冷却
媒体流路を流れる冷却媒体によって、キャビティ空間C
に充填された第1、第2の成形材料65、66が冷却さ
れる。そのために、前記冷却媒体流路と図示されない冷
却媒体供給源とが図示されない冷却配管系によって接続
される。
【0019】そして、前記型締用駆動部、第1、第2の
射出用駆動部、カットパンチ用駆動部、エジェクタピン
用駆動部等は、図示されない制御部からの指示に従い、
所定のタイミングで駆動される。次に、前記構成の射出
成形機の動作について説明する。まず、第1工程におい
て、前記制御部は、型締用駆動部を駆動して、型締装置
を作動させ、図1に示されるように、可動側鏡板23を
前進させて型閉じ及び型締めを行い、固定側鏡板14と
可動側鏡板23との間にキャビティ空間Cを形成する。
【0020】次に、第2工程において、前記制御部は、
第1のタイミングで前記第1の射出用駆動部を駆動し、
図4に示されるように、第1の成形材料65を第1の射
出ノズル62から射出し、キャビティ空間Cに充填す
る。前記第1の成形材料65としては、充填材が添加さ
れず、流動性が良く、後述される記録面に幾何学的な凹
凸を形成しやすい樹脂、例えば、ポリカーボネート(P
C)、アクリル(PMMA)、ポリフェニレンサルファ
イド(PPS)等が使用される。
【0021】続いて、第3工程において、前記制御部
は、前記第1の成形材料65のキャビティ空間Cへの充
填が開始されてから所定量の射出が行われた第2のタイ
ミングで、前記第1の射出用駆動部を停止させ、前記第
2の射出用駆動部を駆動し、第2の成形材料66を第2
の射出ノズル64から射出し、キャビティ空間Cに充填
する。前記第2の成形材料66としては、ガラスビーズ
等の充填材が添加されることによって強度及び剛性が高
くされた樹脂、例えば、ガラス強化形ポリカーボネート
(PC)、ガラス強化形ポリフェニレンサルファイド
(PPS)、ガラス強化形ポリエーテルイミド(PE
I)等が使用される。
【0022】ところで、前記第2のタイミングは、第1
の成形材料65がキャビティ空間Cに完全に充填される
前に設定され、この時点では、図4に示されるように、
第1の成形材料65の流動先端面S13はキャビティ空
間Cの最奥部に到達していない。したがって、第2の成
形材料66のキャビティ空間Cへの充填が開始される
と、図5に示されるように、第2の成形材料66は、外
周面を第1の成形材料65によって覆われた状態で流れ
る。この場合、第1の成形材料65は、前述されたよう
に第1の射出ノズル62から射出された後、スプルー1
6を通ってキャビティ空間Cに進入するが、第1の成形
材料65における前記スプルーブッシュ、及び第1、第
2のスタンパ18、19に接触する外側部分は、前記ス
プルーブッシュ、及び第1、第2のスタンパ18、19
を介して固定側鏡板14及び可動側鏡板23によって冷
却され、内側部分より温度が低くなって固化する。一
方、前記第1の成形材料65における内側部分は、温度
が高く、流動性が保たれた状態に置かれるので、後に充
填された第2の成形材料66によって押し退けられなが
らキャビティ空間C内を前進する。
【0023】続いて、第4工程において、前記制御部
は、前記第2の成形材料66のキャビティ空間Cへの充
填が開始されてから所定の時間が経過した第3のタイミ
ングで、前記第2の射出用駆動部を停止させ、前記第1
の射出用駆動部を再び駆動し、第1の成形材料65を第
1の射出ノズル62から射出し、キャビティ空間Cに充
填する。
【0024】ところで、前記第3のタイミングも、第2
工程において射出された第1の成形材料65がキャビテ
ィ空間Cに完全に充填される前に設定され、第1の成形
材料65の流動先端面S13はキャビティ空間Cの最奥
部に到達していない。したがって、第3のタイミングで
第1の成形材料65を再びキャビティ空間Cに充填する
と、第1の成形材料65は周囲を第2工程において射出
された第1の成形材料65によって覆われた状態で流れ
る。この場合、第4工程において射出された第1の成形
材料65は、温度が高く、流動性が保たれた状態に置か
れるので、図6に示されるように、先に充填された第2
の成形材料66を押し退けながらキャビティ空間C内を
前進する。
【0025】そして、前記制御部は、第2工程において
射出された第1の成形材料65の流動先端面S13がキ
ャビティ空間Cの最奥部に到達し、第3工程において射
出された第2の成形材料66が前記第1の成形材料65
の内側における環状部分を満たし、第4工程において射
出された第1の成形材料65の流動先端面S14がカッ
トパンチ24の外周縁より径方向外方の所定の位置に到
達したとき、前記第1、第2の射出用駆動部を停止させ
る。
【0026】その結果、前記スプルー16内に、第2工
程及び第4工程において射出された第1の成形材料65
によってスプルー部71が形成される。また、キャビテ
ィ空間C内の中央のスプルーブッシュ及びカットパンチ
24によって挟まれた部分には、第2工程及び第4工程
において射出された第1の成形材料65によって、円板
状の第1の成形品部分72が形成されるとともに、該第
1の成形品部分72より径方向外方に環状の第2の成形
品部分73が形成される。なお、前記スプルー部71及
び第1の成形品部分72においては、第1の成形材料6
5同士が接触し、第2の成形品部分73においては、第
1の成形材料65と第2の成形材料66とが接触する
が、互いに溶融して一体化する。
【0027】このようにして、前記キャビティ空間Cに
第1、第2の成形材料65、66が充填されると、前記
冷却媒体によってディスク成形金型10が冷却されるこ
とにより、第1、第2の成形材料65、66が冷却され
る。そして、第5工程において、前記制御部は、第1、
第2の成形材料65、66が完全に固化する前の所定の
タイミングで、図7に示されるように、カットパンチ用
駆動部を駆動し、カットパンチ24を前進させ、第1の
成形材料65に穴空け加工を施す。このとき、前記カッ
トパンチ24は第1の成形品部分72内を前進し、スプ
ルー16の前端の位置に到達すると、第2の成形材料6
6の径方向内方に第1の成形材料65の一部を残した状
態で中心穴75が形成されるとともに、スプルー部71
と第1の成形品部分72及び第2の成形品部分73とが
分離させられる。
【0028】次に、第6工程において、前記制御部は、
所定のタイミングで、図8に示されるように、型締用駆
動部を駆動して可動金型12を後退(図8における左方
に移動)させて型開きを行う。このとき、第1の成形品
部分72及び第2の成形品部分73は可動金型12によ
って保持された状態で後退させられ、スプルー部71は
カットパンチ24に固着した状態で後退させられる。続
いて、制御部は、所定のタイミングで、エジェクタピン
用駆動部を駆動してエジェクタピンを前進させ、離型を
行う。このとき、スプルー部71がカットパンチ24か
ら離され、第1の成形品部分72及び第2の成形品部分
73が可動側鏡板23及び第2のスタンパ19から離さ
れる。
【0029】その結果、前記第1の成形品部分72及び
第2の成形品部分73によって、図8に示されるような
中心穴75を備え、かつ、第1の成形材料65から成る
外層82、及び第2の成形材料66から成る内層83を
備えたディスク基板81が形成される。図9〜11に示
されるように、ディスク基板81には、第1、第2のス
タンパ18、19と対向する面に、該第1、第2のスタ
ンパ18、19の転写記録面S11、S12が転写さ
れ、記録面S15、S16が形成され、該記録面S1
5、S16には、グルーブ、ピット等の幾何学的な凹凸
85が形成される。
【0030】このようにして成形されたディスク基板8
1においては、外層82が第1の成形材料65によっ
て、内層83が第2の成形材料66によってそれぞれ形
成され、かつ、前記第1、第2の成形材料65、66が
樹脂によって形成されるので、ディスクを軽量化するこ
とができる。また、内層83が第2の成形材料66によ
って形成されるので、ディスク基板81の強度及び剛性
を高くすることができる。その結果、ディスクを高速で
回転させても、ディスクに振動が発生して図示されない
記録ヘッドに接触することがなくなる。
【0031】そして、ディスク基板81の強度及び剛性
を高くすることができるので、第1の成形材料65とし
て、流動性が良く、記録面S15、S16に幾何学的な
凹凸を形成しやすい樹脂を使用することができる。した
がって、転写性を向上させることができるだけでなく、
ディスクの表面精度を高くすることができ、記録密度を
高くすることができる。
【0032】また、第1の成形材料65として、充填材
が添加された樹脂を使用する必要がなくなるので、ディ
スク基板81の表面に充填材が出ることがないだけでな
く、成形に伴って汚染物を発生させることがない。本実
施の形態においては、第4工程において、第1の成形材
料65を再びキャビティ空間Cに充填して第1の成形品
部分72を形成するようにしているが、第3工程におい
て第2の成形材料66をキャビティ空間Cに充填した
後、第5工程を開始し、第1、第2の成形材料65、6
6に対して穴空け加工を施すこともできる。その場合、
中心穴75の内周面において第2の成形材料66が露出
することになるが、記録面S15、S16において第2
の成形材料66が露出することがないので、転写性を向
上させることができるだけでなく、ディスクの表面精度
を高くすることができ、記録密度を高くすることができ
る。しかも、成形に伴って汚染物を発生させるのを抑制
することができる。
【0033】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形させ
ることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除す
るものではない。
【0034】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、ディスク基板においては、第1の成形材料から成
り、第1の成形材料を充填することで形成された凹凸を
備える外層と、第2の成形材料から成り、第2の成形材
料を充填することで前記外層によって包囲された内層と
を有する。そして、前記第2の成形材料は第1の成形材
料より強度及び剛性が高くされる。
【0035】この場合、内層が第2の成形材料によって
形成されるので、ディスク基板の強度及び剛性を高くす
ることができる。その結果、ディスクを高速で回転させ
ても、ディスクに振動が発生して記録ヘッドに接触する
ことがなくなる。そして、ディスク基板の強度及び剛性
を高くすることができるので、第1の成形材料として、
流動性が良く、記録面に幾何学的な凹凸を形成しやすい
樹脂を使用することができる。したがって、転写性を向
上させることができるだけでなく、ディスクの表面精度
を高くすることができ、記録密度を高くすることができ
る。
【0036】また、第1の成形材料として、充填材が添
加された樹脂を使用する必要がなくなるので、ディスク
基板の表面に充填材が出ることがないだけでなく、成形
に伴って汚染物を発生させることがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態におけるディスク基板の製
造方法の第1工程を示す図である。
【図2】従来のディスク基板の正面図である。
【図3】従来のディスク基板の断面図である。
【図4】本発明の実施の形態におけるディスク基板の製
造方法の第2工程を示す図である。
【図5】本発明の実施の形態におけるディスク基板の製
造方法の第3工程を示す図である。
【図6】本発明の実施の形態におけるディスク基板の製
造方法の第4工程を示す図である。
【図7】本発明の実施の形態におけるディスク基板の製
造方法の第5工程を示す図である。
【図8】本発明の実施の形態におけるディスク基板の製
造方法の第6工程を示す図である。
【図9】本発明の実施の形態におけるディスク基板の正
面図である。
【図10】本発明の実施の形態におけるディスク基板の
断面図である。
【図11】本発明の実施の形態におけるディスク基板の
要部断面図である。
【符号の説明】
65、66 第1、第2の成形材料 81 ディスク基板 82 外層 83 内層 C キャビティ空間 S13、S14 流動先端面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−11553(JP,A) 特開 平8−229980(JP,A) 特開 平9−164552(JP,A) 特開 昭62−281122(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B32B 7/00 - 7/12 G11B 5/00 - 5/86 B29C 45/00 - 45/84

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)第1の成形材料から成り、第1の
    成形材料を充填することで形成された凹凸を備える外層
    と、 (b)第2の成形材料から成り、第2の成形材料を充填
    することで前記外層によって包囲された内層とを有する
    とともに、 (c)前記第2の成形材料は第1の成形材料より強度及
    び剛性が高くされることを特徴とするディスク基板。
  2. 【請求項2】 (a)前記第1の成形材料は充填材が添
    加されない樹脂から成り、 (b)前記第2の成形材料は充填材が添加された樹脂か
    ら成る請求項1に記載のディスク基板。
  3. 【請求項3】 (a)第1のタイミングで第1の成形材
    料をキャビティ空間に充填し、 (b)前記第1の成形材料の流動先端面がキャビティ空
    間の最奥部に到達する前の第2のタイミングで、前記第
    1の成形材料より強度及び剛性が高い第2の成形材料を
    キャビティ空間に充填し、 (c)前記第2のタイミングより後の所定のタイミング
    で、第1、第2の成形材料に対して穴空け加工を施すこ
    とを特徴とするディスク基板の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記第2のタイミングより後で、前記所
    定のタイミングより前の第3のタイミングで、第1の成
    形材料をキャビティ空間に充填する請求項3に記載のデ
    ィスク基板の製造方法。
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