JP3326777B2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JP3326777B2 JP3326777B2 JP12541493A JP12541493A JP3326777B2 JP 3326777 B2 JP3326777 B2 JP 3326777B2 JP 12541493 A JP12541493 A JP 12541493A JP 12541493 A JP12541493 A JP 12541493A JP 3326777 B2 JP3326777 B2 JP 3326777B2
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- Japan
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- wafer
- holding jig
- cleaning
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置におけ
る、特にウェーハの洗浄に使用される洗浄装置に関する
ものである。
る、特にウェーハの洗浄に使用される洗浄装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来は、この種の装置として、種々のも
のが知られている（参考文献：実践半導体技術特許便覧
Ｐ７５〜８１、サイエンスフォーラム発行）。従来の洗
浄装置においては、均一な薬液処理を行い、洗浄効果を
高めるために薬液攪拌の手段として、モーターによって
回転するファンを用いる手段が知られている（特公昭３
７−１４４６９号公報）。さらに、薬液処理を均一にす
るため、薬液中でシャフトを回転させることによって被
処理ウェーハが薬液中で回転できるようにした装置が知
られている（特公昭３８−１８１１４号公報）。
のが知られている（参考文献：実践半導体技術特許便覧
Ｐ７５〜８１、サイエンスフォーラム発行）。従来の洗
浄装置においては、均一な薬液処理を行い、洗浄効果を
高めるために薬液攪拌の手段として、モーターによって
回転するファンを用いる手段が知られている（特公昭３
７−１４４６９号公報）。さらに、薬液処理を均一にす
るため、薬液中でシャフトを回転させることによって被
処理ウェーハが薬液中で回転できるようにした装置が知
られている（特公昭３８−１８１１４号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記の方法を
用いた場合、薬液の攪拌機構及び被処理ウェーハの回転
機構は薬液処理槽内に構成されている。このため、これ
らによる塵埃の発生とその被処理ウェーハへの付着、更
には、薬液処理槽の構造が複雑化するという問題があっ
た。
用いた場合、薬液の攪拌機構及び被処理ウェーハの回転
機構は薬液処理槽内に構成されている。このため、これ
らによる塵埃の発生とその被処理ウェーハへの付着、更
には、薬液処理槽の構造が複雑化するという問題があっ
た。
【０００４】そこで、本発明の目的は、薬液処理槽の構
造を簡略化し、かつ均一な薬液処理が可能な洗浄装置を
提供することにある。
造を簡略化し、かつ均一な薬液処理が可能な洗浄装置を
提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の洗浄装置は、ウェーハを洗浄する洗浄装置
において、複数のウェーハを水平に積載し保持する保持
治具と、前記保持治具を取り外し可能に垂架するアーム
と、洗浄薬液を満たす容器と、前記容器の上方に設けら
れた、前記保持治具を前記容器中で水平方向に回転させ
ように前記アームを回転させる駆動手段とを備え、前記
保持治具が前記洗浄薬液中で水平方向に回転していると
きに、前記洗浄薬液が保持治具内に滞留しないように前
記保持治具の回転方向後流側の側壁に窓が設けられてい
ることを特徴とするものである。
に、本発明の洗浄装置は、ウェーハを洗浄する洗浄装置
において、複数のウェーハを水平に積載し保持する保持
治具と、前記保持治具を取り外し可能に垂架するアーム
と、洗浄薬液を満たす容器と、前記容器の上方に設けら
れた、前記保持治具を前記容器中で水平方向に回転させ
ように前記アームを回転させる駆動手段とを備え、前記
保持治具が前記洗浄薬液中で水平方向に回転していると
きに、前記洗浄薬液が保持治具内に滞留しないように前
記保持治具の回転方向後流側の側壁に窓が設けられてい
ることを特徴とするものである。
【０００６】
【作用】本発明によれば、ウェーハを水平に積載し、ウ
ェーハ保持治具を薬液中で回転させることにより該被処
理ウェーハ自体で薬液を攪拌すると共に、ウェーハ表面
に薬液の層流が形成され、処理層内の薬液が均一化され
る。そのような薬液が各ウェーハに接触することにより
均一な薬液処理が可能になる。
ェーハ保持治具を薬液中で回転させることにより該被処
理ウェーハ自体で薬液を攪拌すると共に、ウェーハ表面
に薬液の層流が形成され、処理層内の薬液が均一化され
る。そのような薬液が各ウェーハに接触することにより
均一な薬液処理が可能になる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づき図面を使用し
て説明する。図１、図２に本発明の実施例による洗浄装
置を示す。本実施例においては、図１のように被処理ウ
ェーハ１はウェーハ保持治具２のウェーハ固定部２ａに
設けられた溝にはめ込まれて水平に保持されている。ま
た、ウェーハ保持治具２全体がアーム３によって固定台
５に押し付け固定され、垂架されている。このアーム３
は回転駆動系６により回転軸６ａの廻りに回転できる。
て説明する。図１、図２に本発明の実施例による洗浄装
置を示す。本実施例においては、図１のように被処理ウ
ェーハ１はウェーハ保持治具２のウェーハ固定部２ａに
設けられた溝にはめ込まれて水平に保持されている。ま
た、ウェーハ保持治具２全体がアーム３によって固定台
５に押し付け固定され、垂架されている。このアーム３
は回転駆動系６により回転軸６ａの廻りに回転できる。
【０００８】アーム３によって垂架されたウェーハ保持
治具２は薬液処理槽４に浸漬された後、アーム３が薬液
１１中を回転することにより被処理ウェーハ１が薬液１
１を攪拌し、被処理ウェーハの表面に薬液の層流が形成
される。これにより、被処理ウェーハ１に対する均一な
薬液処理が可能になり、洗浄効果が向上する。ここでウ
ェーハ保持治具２には水平方向の回転時に処理薬液がウ
ェーハ保持治具２内に滞留しないように回転方向後流側
の側壁には窓２ｂが設けられている。なお図２におい
て、左側のウェーハ保持治具２’にはウェーハ１を搭載
した状態を示し、右側のウェーハ保持治具２にはウェー
ハ１を搭載しない状態を示している。このウェーハ保持
治具２はアーム３に取り外し可能に保持されているの
で、洗浄処理後にウェーハ保持治具２をアーム３から取
り外し次段の処理装置へこのまま搬送することができ
る。
治具２は薬液処理槽４に浸漬された後、アーム３が薬液
１１中を回転することにより被処理ウェーハ１が薬液１
１を攪拌し、被処理ウェーハの表面に薬液の層流が形成
される。これにより、被処理ウェーハ１に対する均一な
薬液処理が可能になり、洗浄効果が向上する。ここでウ
ェーハ保持治具２には水平方向の回転時に処理薬液がウ
ェーハ保持治具２内に滞留しないように回転方向後流側
の側壁には窓２ｂが設けられている。なお図２におい
て、左側のウェーハ保持治具２’にはウェーハ１を搭載
した状態を示し、右側のウェーハ保持治具２にはウェー
ハ１を搭載しない状態を示している。このウェーハ保持
治具２はアーム３に取り外し可能に保持されているの
で、洗浄処理後にウェーハ保持治具２をアーム３から取
り外し次段の処理装置へこのまま搬送することができ
る。
【０００９】上記実施例においては、アーム３の周囲に
２個のウェーハ保持治具２を配設した構造をとっている
が、図３に示すようにそれを複数個にする、または１個
だけ回転させるなどの変形が可能である。本実施例では
回転軸心から離れた所でウェーハが回転するので、ウェ
ーハの回転軸６ａに近い付近でも一定の流速以上の層流
が形成される。本実施例では回転軸心から離れた所でウ
ェーハが回転するので同じ回転数でもウェーハ上には流
速さの速い層流が形成される。ウェーハの中心を回転軸
とした場合はウェーハの中心付近ではほとんど薬液の流
れが形成されないが、本発明によればそのような弊害も
なくなる。
２個のウェーハ保持治具２を配設した構造をとっている
が、図３に示すようにそれを複数個にする、または１個
だけ回転させるなどの変形が可能である。本実施例では
回転軸心から離れた所でウェーハが回転するので、ウェ
ーハの回転軸６ａに近い付近でも一定の流速以上の層流
が形成される。本実施例では回転軸心から離れた所でウ
ェーハが回転するので同じ回転数でもウェーハ上には流
速さの速い層流が形成される。ウェーハの中心を回転軸
とした場合はウェーハの中心付近ではほとんど薬液の流
れが形成されないが、本発明によればそのような弊害も
なくなる。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように本発明の洗浄装置に
よると、被処理ウェーハを回転させて薬液攪拌を行うこ
とができることにより、複雑な攪拌機構による塵埃の発
生がなく、清浄で均一な薬液処理を行うことができる。
よると、被処理ウェーハを回転させて薬液攪拌を行うこ
とができることにより、複雑な攪拌機構による塵埃の発
生がなく、清浄で均一な薬液処理を行うことができる。
【図１】本発明の一実施例である洗浄装置の概略断面図
である。
である。
【図２】本実施例装置のウェーハ保持治具を示す概略平
面図である。
面図である。
【図３】本実施例装置のウェーハ保持治具の変形例を示
す概略平面図である。
す概略平面図である。
１ 被処理ウェーハ ２ ウェーハ保持治具 ２ｂ 窓部 ３ アーム ４ 薬液処理槽 ５ 固定台 ６ 回転駆動系 ６ａ 回転軸 １１ 薬液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 B08B 3/04 H01L 21/68
Claims (2)
- 【請求項１】 ウェーハを洗浄する洗浄装置において、
複数のウェーハを水平に積載し保持する保持治具と、前
記保持治具を取り外し可能に垂架するアームと、洗浄薬
液を満たす容器と、前記容器の上方に設けられた、前記
保持治具を前記容器中で水平方向に回転させように前記
アームを回転させる駆動手段とを備え、前記保持治具が
前記洗浄薬液中で水平方向に回転しているときに、前記
洗浄薬液が保持治具内に滞留しないように前記保持治具
の回転方向後流側の側壁に窓が設けられていることを特
徴とする洗浄装置。 - 【請求項２】 請求項１において、前記駆動手段は回転
軸に対して対称な位置に前記保持治具を複数個保持する
ことを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12541493A JP3326777B2 (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12541493A JP3326777B2 (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06314681A JPH06314681A (ja) | 1994-11-08 |
| JP3326777B2 true JP3326777B2 (ja) | 2002-09-24 |
Family
ID=14909519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12541493A Expired - Fee Related JP3326777B2 (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3326777B2 (ja) |
-
1993
- 1993-04-28 JP JP12541493A patent/JP3326777B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06314681A (ja) | 1994-11-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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