JP3326536B2 - 窒素ガスの液化方法及び装置 - Google Patents
窒素ガスの液化方法及び装置Info
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- F25J2270/04—Internal refrigeration with work-producing gas expansion loop
- F25J2270/06—Internal refrigeration with work-producing gas expansion loop with multiple gas expansion loops
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、窒素ガスの液化方法及
び装置に関し、詳しくは空気分離装置で分離された窒素
ガスを圧縮して得た高圧の超臨界窒素ガスを、液化して
製品として採取する際に、該ガス中に含まれる水素、ヘ
リウム、ネオンを分離して、より高純度の製品液化窒素
を採取する方法及び装置に関する。
び装置に関し、詳しくは空気分離装置で分離された窒素
ガスを圧縮して得た高圧の超臨界窒素ガスを、液化して
製品として採取する際に、該ガス中に含まれる水素、ヘ
リウム、ネオンを分離して、より高純度の製品液化窒素
を採取する方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、各種のガスを液化する手段と
して様々な方式が知られている。例えば、特開昭６１−
１０５０８６号公報に記載されている永久ガスの液化方
法では、圧縮機で圧縮し、熱交換器で低温にまで冷却し
た超臨界ガスを、少なくとも３個の減圧弁で連続して等
エンタルピー膨張させ、その結果生じるフラッシュガス
と液体（液化ガス）とを、各減圧弁の後段に設けた気液
分離器で分離し、最終の気液分離器で分離した液体を除
く他の液体を、すぐ次の減圧弁で膨張する流体とし、気
液分離器で分離したフラッシュガスを前記熱交換器に導
入して前記超臨界ガスの冷却源として用いるとともに、
該ガスを前記圧縮機に戻して再度液化サイクルを循環さ
せるようにしている。
して様々な方式が知られている。例えば、特開昭６１−
１０５０８６号公報に記載されている永久ガスの液化方
法では、圧縮機で圧縮し、熱交換器で低温にまで冷却し
た超臨界ガスを、少なくとも３個の減圧弁で連続して等
エンタルピー膨張させ、その結果生じるフラッシュガス
と液体（液化ガス）とを、各減圧弁の後段に設けた気液
分離器で分離し、最終の気液分離器で分離した液体を除
く他の液体を、すぐ次の減圧弁で膨張する流体とし、気
液分離器で分離したフラッシュガスを前記熱交換器に導
入して前記超臨界ガスの冷却源として用いるとともに、
該ガスを前記圧縮機に戻して再度液化サイクルを循環さ
せるようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成のガス液化方式では、気液分離器で分離した
フラッシュガスを全て圧縮機に戻して循環させているた
め、原料として装置内に導入されたガスの全てを液化す
ることはできるが、該ガス中に含まれる微量の低沸点成
分不純物もそのまま液化されるため、製品となる液化ガ
スは、原料ガスと同純度のものであった。
ような構成のガス液化方式では、気液分離器で分離した
フラッシュガスを全て圧縮機に戻して循環させているた
め、原料として装置内に導入されたガスの全てを液化す
ることはできるが、該ガス中に含まれる微量の低沸点成
分不純物もそのまま液化されるため、製品となる液化ガ
スは、原料ガスと同純度のものであった。
【０００４】一方、近年の半導体産業に用いられるガ
ス、例えば窒素ガスは、極めて高純度であることが要求
されている。このような窒素ガスは、一般に空気液化分
離装置により製造されるが、この空気液化分離装置で
は、その精留過程で、窒素よりも高沸点の酸素やアルゴ
ン等は十分に除去できるものの、水素等の低沸点成分
は、そのほとんどが製品窒素ガス中に含まれている。こ
のため、半導体産業向けの窒素ガスを製造する空気液化
分離装置では、該窒素ガス中の低沸点不純物である水素
を除去するための様々な工夫が成されている。
ス、例えば窒素ガスは、極めて高純度であることが要求
されている。このような窒素ガスは、一般に空気液化分
離装置により製造されるが、この空気液化分離装置で
は、その精留過程で、窒素よりも高沸点の酸素やアルゴ
ン等は十分に除去できるものの、水素等の低沸点成分
は、そのほとんどが製品窒素ガス中に含まれている。こ
のため、半導体産業向けの窒素ガスを製造する空気液化
分離装置では、該窒素ガス中の低沸点不純物である水素
を除去するための様々な工夫が成されている。
【０００５】ところが、大型の空気液化分離装置におい
ては、原料空気量や製品窒素ガス量が多いため、水素を
触媒反応により除去するにしても大量の触媒が必要であ
り、その寿命も数年であることから、経済的な問題が生
じる。
ては、原料空気量や製品窒素ガス量が多いため、水素を
触媒反応により除去するにしても大量の触媒が必要であ
り、その寿命も数年であることから、経済的な問題が生
じる。
【０００６】そこで本発明は、空気分離装置で分離され
た窒素ガスを圧縮して得た高圧の超臨界窒素ガスを液化
する過程で、該ガス中に含まれる低沸点成分、すなわ
ち、水素、ヘリウム、ネオンを除去してこれらの成分を
ほとんど含まない高純度の液化窒素を得ることができる
窒素ガスの液化方法及び装置を提供することを目的とし
ている。
た窒素ガスを圧縮して得た高圧の超臨界窒素ガスを液化
する過程で、該ガス中に含まれる低沸点成分、すなわ
ち、水素、ヘリウム、ネオンを除去してこれらの成分を
ほとんど含まない高純度の液化窒素を得ることができる
窒素ガスの液化方法及び装置を提供することを目的とし
ている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ため、本発明の窒素ガスの液化方法は、第１の構成とし
て、空気分離装置で分離された窒素ガスを圧縮して得ら
れた高圧の超臨界窒素ガスを、その臨界温度より低い温
度まで冷却した後、等エンタルピー膨張させて精留塔の
頂部に導入し、該精留塔で水素、ヘリウム、ネオンを精
留分離して排出するとともに、該精留塔の下部から製品
液化窒素を導出することを特徴としている。
ため、本発明の窒素ガスの液化方法は、第１の構成とし
て、空気分離装置で分離された窒素ガスを圧縮して得ら
れた高圧の超臨界窒素ガスを、その臨界温度より低い温
度まで冷却した後、等エンタルピー膨張させて精留塔の
頂部に導入し、該精留塔で水素、ヘリウム、ネオンを精
留分離して排出するとともに、該精留塔の下部から製品
液化窒素を導出することを特徴としている。
【０００８】本発明方法の第２の構成は、空気分離装置
で分離された窒素ガスを圧縮して得られた高圧の超臨界
窒素ガスを、その臨界温度より低い温度まで冷却した
後、その一部を分岐し、等エンタルピー膨張させて前記
超臨界窒素ガスの冷却源として用い、残部の超臨界窒素
ガスを更に低温に冷却した後、等エンタルピー膨張させ
て精留塔の頂部に導入し、該精留塔で水素、ヘリウム、
ネオンを精留分離して排出するとともに、該精留塔の下
部から製品液化窒素を導出することを特徴としている。
で分離された窒素ガスを圧縮して得られた高圧の超臨界
窒素ガスを、その臨界温度より低い温度まで冷却した
後、その一部を分岐し、等エンタルピー膨張させて前記
超臨界窒素ガスの冷却源として用い、残部の超臨界窒素
ガスを更に低温に冷却した後、等エンタルピー膨張させ
て精留塔の頂部に導入し、該精留塔で水素、ヘリウム、
ネオンを精留分離して排出するとともに、該精留塔の下
部から製品液化窒素を導出することを特徴としている。
【０００９】さらに、本発明方法の第３の構成は、空気
分離装置で分離された窒素ガスを圧縮して得られた高圧
の超臨界窒素ガスを、その臨界温度より低い温度まで冷
却して等エンタルピー膨張させた後、気液分離して分離
した窒素ガスを前記超臨界窒素ガスの冷却源として用
い、分離した液化窒素を更に低温に冷却した後、等エン
タルピー膨張させて精留塔の頂部に導入し、該精留塔で
水素、ヘリウム、ネオンを精留分離して排出するととも
に、該精留塔の下部から製品液化窒素を導出することを
特徴としている。
分離装置で分離された窒素ガスを圧縮して得られた高圧
の超臨界窒素ガスを、その臨界温度より低い温度まで冷
却して等エンタルピー膨張させた後、気液分離して分離
した窒素ガスを前記超臨界窒素ガスの冷却源として用
い、分離した液化窒素を更に低温に冷却した後、等エン
タルピー膨張させて精留塔の頂部に導入し、該精留塔で
水素、ヘリウム、ネオンを精留分離して排出するととも
に、該精留塔の下部から製品液化窒素を導出することを
特徴としている。
【００１０】また、本発明の超臨界ガスの液化装置は、
第１の構成として、空気分離装置で分離された窒素ガス
を圧縮して得られた高圧の超臨界窒素ガスを、その臨界
温度より低い温度まで冷却する熱交換器と、該熱交換器
を導出した低温の超臨界窒素ガスを等エンタルピー膨張
させる減圧弁と、該減圧弁で減圧した液化窒素が還流液
として導入される精留塔と、該精留塔の頂部から水素、
ヘリウム、ネオンを排出する排出経路と、該精留塔の下
部から製品液化窒素を導出する液化窒素採取経路とを備
えたことを特徴としている。
第１の構成として、空気分離装置で分離された窒素ガス
を圧縮して得られた高圧の超臨界窒素ガスを、その臨界
温度より低い温度まで冷却する熱交換器と、該熱交換器
を導出した低温の超臨界窒素ガスを等エンタルピー膨張
させる減圧弁と、該減圧弁で減圧した液化窒素が還流液
として導入される精留塔と、該精留塔の頂部から水素、
ヘリウム、ネオンを排出する排出経路と、該精留塔の下
部から製品液化窒素を導出する液化窒素採取経路とを備
えたことを特徴としている。
【００１１】本発明装置の第２の構成は、空気分離装置
で分離された窒素ガスを圧縮して得られた高圧の超臨界
窒素ガスを、その臨界温度より低い温度まで冷却する熱
交換器と、該熱交換器を導出した低温の超臨界窒素ガス
の一部を分岐して減圧弁で等エンタルピー膨張させて前
記熱交換器に導入する経路と、前記熱交換器導出後の超
臨界窒素ガスの残部を更に低温に冷却する冷却手段と、
該冷却手段で冷却した低温の超臨界窒素ガスを等エンタ
ルピー膨張させる減圧弁と、該減圧弁で減圧した液化窒
素が還流液として導入される精留塔と、該精留塔の頂部
から水素、ヘリウム、ネオンを排出する排出経路と、該
精留塔の下部から製品液化窒素を導出する液化窒素採取
経路とを備えたことを特徴としている。
で分離された窒素ガスを圧縮して得られた高圧の超臨界
窒素ガスを、その臨界温度より低い温度まで冷却する熱
交換器と、該熱交換器を導出した低温の超臨界窒素ガス
の一部を分岐して減圧弁で等エンタルピー膨張させて前
記熱交換器に導入する経路と、前記熱交換器導出後の超
臨界窒素ガスの残部を更に低温に冷却する冷却手段と、
該冷却手段で冷却した低温の超臨界窒素ガスを等エンタ
ルピー膨張させる減圧弁と、該減圧弁で減圧した液化窒
素が還流液として導入される精留塔と、該精留塔の頂部
から水素、ヘリウム、ネオンを排出する排出経路と、該
精留塔の下部から製品液化窒素を導出する液化窒素採取
経路とを備えたことを特徴としている。
【００１２】そして、本発明装置の第３の構成は、空気
分離装置で分離された窒素ガスを圧縮して得られた高圧
の超臨界窒素ガスを、その臨界温度より低い温度まで冷
却する熱交換器と、該熱交換器を導出した低温の超臨界
窒素ガスを等エンタルピー膨張させる減圧弁と、該減圧
弁導出後の気液混相流を気液分離する気液分離器と、該
気液分離器で分離した窒素を前記熱交換器に超臨界窒素
ガスの冷却源として導入する冷却経路と、前記気液分離
器で分離した液化窒素を更に低温に冷却する冷却手段
と、該冷却手段で冷却した低温の超臨界窒素ガスを等エ
ンタルピー膨張させる減圧弁と、該減圧弁で減圧した液
化ガスが還流液として導入される精留塔と、該精留塔の
頂部から水素、ヘリウム、ネオンを排出する排出経路
と、該精留塔の下部から製品液化窒素を導出する液化窒
素採取経路とを備えたことを特徴としている。
分離装置で分離された窒素ガスを圧縮して得られた高圧
の超臨界窒素ガスを、その臨界温度より低い温度まで冷
却する熱交換器と、該熱交換器を導出した低温の超臨界
窒素ガスを等エンタルピー膨張させる減圧弁と、該減圧
弁導出後の気液混相流を気液分離する気液分離器と、該
気液分離器で分離した窒素を前記熱交換器に超臨界窒素
ガスの冷却源として導入する冷却経路と、前記気液分離
器で分離した液化窒素を更に低温に冷却する冷却手段
と、該冷却手段で冷却した低温の超臨界窒素ガスを等エ
ンタルピー膨張させる減圧弁と、該減圧弁で減圧した液
化ガスが還流液として導入される精留塔と、該精留塔の
頂部から水素、ヘリウム、ネオンを排出する排出経路
と、該精留塔の下部から製品液化窒素を導出する液化窒
素採取経路とを備えたことを特徴としている。
【００１３】
【作 用】上記各構成によれば、液化工程の途中に設け
た精留塔における精留操作により、空気分離装置で分離
された窒素ガスを圧縮して得られた高圧の超臨界窒素ガ
ス中に含まれている不純物である水素、ヘリウム、ネオ
ンを分離でき、これら不純物を排出することにより、不
純物をほとんど含まない高純度の液化窒素を得ることが
できる。
た精留塔における精留操作により、空気分離装置で分離
された窒素ガスを圧縮して得られた高圧の超臨界窒素ガ
ス中に含まれている不純物である水素、ヘリウム、ネオ
ンを分離でき、これら不純物を排出することにより、不
純物をほとんど含まない高純度の液化窒素を得ることが
できる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明を、図面に示す実施例に基づい
て、さらに詳細に説明する。まず、図１は本発明方法及
び装置の原理を説明する要部の系統図を示している。
て、さらに詳細に説明する。まず、図１は本発明方法及
び装置の原理を説明する要部の系統図を示している。
【００１５】本装置の系統は、３基の熱交換器１１，１
２，１３と４個の減圧弁２１，２２，２３，２４と、気
液分離器３１及び精留塔４１とを組合わせて構成したも
ので、まず、高圧の超臨界窒素ガスは、管１から第１熱
交換器１１に導入され、冷却源となる後述の戻り流体に
より、該超臨界窒素ガスの臨界温度より低い温度まで冷
却される。冷却された超臨界窒素ガスは、第１減圧弁２
１で等エンタルピー膨張して気液混相流となり気液分離
器３１に導入される。
２，１３と４個の減圧弁２１，２２，２３，２４と、気
液分離器３１及び精留塔４１とを組合わせて構成したも
ので、まず、高圧の超臨界窒素ガスは、管１から第１熱
交換器１１に導入され、冷却源となる後述の戻り流体に
より、該超臨界窒素ガスの臨界温度より低い温度まで冷
却される。冷却された超臨界窒素ガスは、第１減圧弁２
１で等エンタルピー膨張して気液混相流となり気液分離
器３１に導入される。
【００１６】上記気液分離器３１で分離したフラッシュ
ガスは、管２に導出されて前記第１熱交換器１１に戻り
流体として導入され、前記高圧の超臨界窒素ガスの冷却
源となる。一方、気液分離器３１内の液化窒素は、管３
に導出されて第２熱交換器１２で後述の戻り流体により
更に冷却される。
ガスは、管２に導出されて前記第１熱交換器１１に戻り
流体として導入され、前記高圧の超臨界窒素ガスの冷却
源となる。一方、気液分離器３１内の液化窒素は、管３
に導出されて第２熱交換器１２で後述の戻り流体により
更に冷却される。
【００１７】上記第２熱交換器１２から管４に導出され
た液化窒素は、精留塔４１の底部に設けられたリボイラ
ー４２に導入され、該精留塔底部の液化窒素を加熱気化
するとともに、自身は更に冷却されて管５に導出され、
第２減圧弁２２で等エンタルピー膨張した後、精留塔４
１の頂部に還流液として導入される。
た液化窒素は、精留塔４１の底部に設けられたリボイラ
ー４２に導入され、該精留塔底部の液化窒素を加熱気化
するとともに、自身は更に冷却されて管５に導出され、
第２減圧弁２２で等エンタルピー膨張した後、精留塔４
１の頂部に還流液として導入される。
【００１８】精留塔４１では、前記リボイラー４２で気
化した上昇ガスと、前記第２減圧弁２２を経て導入され
る還流液とで精留が行われ、該精留により水素、ヘリウ
ム、ネオンが精留塔頂部に分離し、管６に導出されて前
記第２熱交換器１２及び第１熱交換器１１で寒冷を回収
された後、系外に排出される。
化した上昇ガスと、前記第２減圧弁２２を経て導入され
る還流液とで精留が行われ、該精留により水素、ヘリウ
ム、ネオンが精留塔頂部に分離し、管６に導出されて前
記第２熱交換器１２及び第１熱交換器１１で寒冷を回収
された後、系外に排出される。
【００１９】一方、上記精留塔４１の底部には、水素、
ヘリウム、ネオンをほとんど含まない製品液化窒素が分
離して管７に導出される。この管７の液体は、第３熱交
換器１３に導入されて更に冷却された後、管８に導出さ
れる。管８の液体の一部は、管９に分岐して第３減圧弁
２３で等エンタルピー膨張した後、戻り流体として前記
第３熱交換器１３，第２熱交換器１２，第１熱交換器１
１の冷却源となる。そして、管６の残りの液化窒素は、
第４減圧弁２４で等エンタルピー膨張した後、製品液化
ガスとして採取される。
ヘリウム、ネオンをほとんど含まない製品液化窒素が分
離して管７に導出される。この管７の液体は、第３熱交
換器１３に導入されて更に冷却された後、管８に導出さ
れる。管８の液体の一部は、管９に分岐して第３減圧弁
２３で等エンタルピー膨張した後、戻り流体として前記
第３熱交換器１３，第２熱交換器１２，第１熱交換器１
１の冷却源となる。そして、管６の残りの液化窒素は、
第４減圧弁２４で等エンタルピー膨張した後、製品液化
ガスとして採取される。
【００２０】また、前記管２及び管９から各熱交換器を
経て導出された窒素ガスは、再び圧縮機に戻されて前記
経路を循環する。一方、精留塔頂部から管６に導出され
た水素、ヘリウム、ネオンを多く含む窒素ガスは、製品
液化窒素の純度に応じてその導出量が調節され、通常
は、全量が系外に排出されるが、その導出量及び水素、
ヘリウム、ネオンの含有量に応じて、その一部を圧縮機
に戻して循環させるようにしてもよい。
経て導出された窒素ガスは、再び圧縮機に戻されて前記
経路を循環する。一方、精留塔頂部から管６に導出され
た水素、ヘリウム、ネオンを多く含む窒素ガスは、製品
液化窒素の純度に応じてその導出量が調節され、通常
は、全量が系外に排出されるが、その導出量及び水素、
ヘリウム、ネオンの含有量に応じて、その一部を圧縮機
に戻して循環させるようにしてもよい。
【００２１】このように、原料ガスを臨界圧力以上に圧
縮した超臨界窒素ガスを臨界温度以下まで冷却した後、
等エンタルピー膨張させて気液分離を行い、分離した液
化窒素を更に冷却し、等エンタルピー膨張させて精留塔
に導入し、精留することにより、原料窒素ガス中に含ま
れている水素、ヘリウム、ネオンを精留塔の頂部に分離
することができる。したがって、精留塔頂部の水素、ヘ
リウム、ネオンを系外に排出して精留塔底部から製品液
化窒素を抜出すことにより、原料窒素ガスに比べて水
素、ヘリウム、ネオンが少ない極めて高純度の液化ガス
が得られる。
縮した超臨界窒素ガスを臨界温度以下まで冷却した後、
等エンタルピー膨張させて気液分離を行い、分離した液
化窒素を更に冷却し、等エンタルピー膨張させて精留塔
に導入し、精留することにより、原料窒素ガス中に含ま
れている水素、ヘリウム、ネオンを精留塔の頂部に分離
することができる。したがって、精留塔頂部の水素、ヘ
リウム、ネオンを系外に排出して精留塔底部から製品液
化窒素を抜出すことにより、原料窒素ガスに比べて水
素、ヘリウム、ネオンが少ない極めて高純度の液化ガス
が得られる。
【００２２】なお、上記実施例において、各熱交換器
は、必要に応じて複数基を直列に設けて一つの熱交換器
としてもよい。また、熱交換器による冷却工程、減圧弁
による等エンタルピー膨張工程及び気液分離器による気
液分離工程は、必要に応じてこれらの機器を複数組設
け、冷却工程，膨張工程，気液分離工程を２回以上繰返
すようにしてもよく、気液分離を行わずに一部を等エン
タルピー膨張させて冷却源として用いるようにすること
もできる。
は、必要に応じて複数基を直列に設けて一つの熱交換器
としてもよい。また、熱交換器による冷却工程、減圧弁
による等エンタルピー膨張工程及び気液分離器による気
液分離工程は、必要に応じてこれらの機器を複数組設
け、冷却工程，膨張工程，気液分離工程を２回以上繰返
すようにしてもよく、気液分離を行わずに一部を等エン
タルピー膨張させて冷却源として用いるようにすること
もできる。
【００２３】さらに、上記実施例では、気液分離器３１
で分離した液化窒素を第２熱交換器１２で冷却した後、
リボイラー４２に導入したが、該リボイラー４２で十分
に冷却できる場合は、第２熱交換器１２での冷却を省略
することができる。また、リボイラー４２に別の加熱媒
体を用いる場合には、第２熱交換器１２で冷却した後、
リボイラー４２に導入することなく、そのまま第２減圧
弁２２で膨張させて精留塔４１に導入するようにしても
よい。
で分離した液化窒素を第２熱交換器１２で冷却した後、
リボイラー４２に導入したが、該リボイラー４２で十分
に冷却できる場合は、第２熱交換器１２での冷却を省略
することができる。また、リボイラー４２に別の加熱媒
体を用いる場合には、第２熱交換器１２で冷却した後、
リボイラー４２に導入することなく、そのまま第２減圧
弁２２で膨張させて精留塔４１に導入するようにしても
よい。
【００２４】図２は、本発明の一実施例を示す系統図
で、前記第３の構成における具体的な装置構成の一例を
示すものである。なお、前記図１に示した系統図と同一
要素のものには同一符号を付して、その詳細な説明は省
略する。
で、前記第３の構成における具体的な装置構成の一例を
示すものである。なお、前記図１に示した系統図と同一
要素のものには同一符号を付して、その詳細な説明は省
略する。
【００２５】空気液化分離装置の窒素ガス導出管に連通
する管５１から、４０℃，１．１ａｔａ，２０，０００
Ｎｍ3 ／ｈの原料窒素ガス（水素含有量２０ｐｐｍ）が
導入され、多段圧縮機７１で４０℃，３８．０ａｔａま
で圧縮される。この多段圧縮機７１の各段には、後述す
る管５２，５３ａ，５４からの各段の吸入圧力まで減圧
された窒素ガスが導入され、原料窒素ガスと共に圧縮さ
れる。このとき原料窒素ガスの圧力が多段圧縮機７１の
中間段の吸入圧力程度の場合には、原料窒素ガスを、そ
の圧力に見合った段から導入することができる。
する管５１から、４０℃，１．１ａｔａ，２０，０００
Ｎｍ3 ／ｈの原料窒素ガス（水素含有量２０ｐｐｍ）が
導入され、多段圧縮機７１で４０℃，３８．０ａｔａま
で圧縮される。この多段圧縮機７１の各段には、後述す
る管５２，５３ａ，５４からの各段の吸入圧力まで減圧
された窒素ガスが導入され、原料窒素ガスと共に圧縮さ
れる。このとき原料窒素ガスの圧力が多段圧縮機７１の
中間段の吸入圧力程度の場合には、原料窒素ガスを、そ
の圧力に見合った段から導入することができる。
【００２６】４０℃，３８．０ａｔａまで圧縮された窒
素ガスは、管５５から管５６と管５７とに分岐し、それ
ぞれ膨張タービン７２，７３に直結した昇圧ブロワー７
４，７５に導入され、臨界圧以上に昇圧される。一方の
昇圧ブロワー７４で昇圧した窒素ガスは、アフタークー
ラー７６で冷却されて４０℃，６１ａｔａの超臨界圧窒
素ガスとなり管５８に導出され、他方の昇圧ブロワー７
５で昇圧した窒素ガスは、アフタークーラー７７で冷却
されて４０℃，５５ａｔａの超臨界圧窒素ガスとなり管
５９に導出される。
素ガスは、管５５から管５６と管５７とに分岐し、それ
ぞれ膨張タービン７２，７３に直結した昇圧ブロワー７
４，７５に導入され、臨界圧以上に昇圧される。一方の
昇圧ブロワー７４で昇圧した窒素ガスは、アフタークー
ラー７６で冷却されて４０℃，６１ａｔａの超臨界圧窒
素ガスとなり管５８に導出され、他方の昇圧ブロワー７
５で昇圧した窒素ガスは、アフタークーラー７７で冷却
されて４０℃，５５ａｔａの超臨界圧窒素ガスとなり管
５９に導出される。
【００２７】管５８の超臨界圧窒素ガスは、コールドボ
ックス８０に導入され、第１熱交換器１１で冷却され
る。この超臨界圧窒素ガスは、途中で一部が管６０に分
岐する以外は臨界温度以下まで冷却され、−１６５℃，
６１ａｔａの超臨界窒素ガスとなる。
ックス８０に導入され、第１熱交換器１１で冷却され
る。この超臨界圧窒素ガスは、途中で一部が管６０に分
岐する以外は臨界温度以下まで冷却され、−１６５℃，
６１ａｔａの超臨界窒素ガスとなる。
【００２８】上記第１熱交換器１１から管６１に導出さ
れた超臨界窒素ガスは、第１減圧弁２１で９．５ａｔａ
まで等エンタルピー膨張して気液混合流体となった後、
気液分離器３１に導入されてフラッシュガスと液とに分
離する。気液分離器３１で分離した液化窒素は、管６２
から第２熱交換器１２に導入され、−１７１℃まで冷却
されて管６３に導出され、さらにリボイラー４２で−１
７６℃まで冷却される。リボイラー４２から管６４に導
出された液化窒素は、第２減圧弁２２で６．０ａｔａま
で等エンタルピー膨張した後、精留塔４１に導入され
る。この精留塔４１では、低沸点成分である水素、ヘリ
ウム、ネオンを含む窒素ガスが塔頂部に分離し、高純度
液化窒素が塔底部に分離する。
れた超臨界窒素ガスは、第１減圧弁２１で９．５ａｔａ
まで等エンタルピー膨張して気液混合流体となった後、
気液分離器３１に導入されてフラッシュガスと液とに分
離する。気液分離器３１で分離した液化窒素は、管６２
から第２熱交換器１２に導入され、−１７１℃まで冷却
されて管６３に導出され、さらにリボイラー４２で−１
７６℃まで冷却される。リボイラー４２から管６４に導
出された液化窒素は、第２減圧弁２２で６．０ａｔａま
で等エンタルピー膨張した後、精留塔４１に導入され
る。この精留塔４１では、低沸点成分である水素、ヘリ
ウム、ネオンを含む窒素ガスが塔頂部に分離し、高純度
液化窒素が塔底部に分離する。
【００２９】上記精留塔４１で精製された高純度液化窒
素は、管６５に導出され、第３熱交換器１３で−１９０
℃まで冷却される。この−１９０℃，６．０ａｔａの高
純度液化窒素は、その一部が管６６から第３減圧弁２３
に分岐し、残部が第４減圧弁２４で減圧され、−１９０
℃，２ａｔａ，１８０００Ｎｍ3 ／ｈの製品液化窒素
（水素含有量１ｐｐｂ以下）が管６７から取出される。
素は、管６５に導出され、第３熱交換器１３で−１９０
℃まで冷却される。この−１９０℃，６．０ａｔａの高
純度液化窒素は、その一部が管６６から第３減圧弁２３
に分岐し、残部が第４減圧弁２４で減圧され、−１９０
℃，２ａｔａ，１８０００Ｎｍ3 ／ｈの製品液化窒素
（水素含有量１ｐｐｂ以下）が管６７から取出される。
【００３０】一方、前記昇圧ブロワー７５で昇圧し、ア
フタークーラー７７を経た４０℃，５５ａｔａの超臨界
圧窒素ガスは、管５９によりコールドボックス８０内に
導入され、第１熱交換器１１で−１００℃まで冷却され
た後、膨張タービン７３で９．５ａｔａまで等エントロ
ピー膨張し、また、前記管５８から管６０に分岐した超
臨界圧窒素ガスは、膨張タービン７２で９．５ａｔａま
で等エントロピー膨張する。両膨張タービン７２，７３
で９．５ａｔａに膨張した窒素ガスは、それぞれ管６
８，６９を通って、前記気液分離器３１で分離したフラ
ッシュガスの戻り流路に、それぞれの温度に見合った位
置で合流し、前記管５２から多段圧縮機７１の圧力の等
しい吸入段に戻される。
フタークーラー７７を経た４０℃，５５ａｔａの超臨界
圧窒素ガスは、管５９によりコールドボックス８０内に
導入され、第１熱交換器１１で−１００℃まで冷却され
た後、膨張タービン７３で９．５ａｔａまで等エントロ
ピー膨張し、また、前記管５８から管６０に分岐した超
臨界圧窒素ガスは、膨張タービン７２で９．５ａｔａま
で等エントロピー膨張する。両膨張タービン７２，７３
で９．５ａｔａに膨張した窒素ガスは、それぞれ管６
８，６９を通って、前記気液分離器３１で分離したフラ
ッシュガスの戻り流路に、それぞれの温度に見合った位
置で合流し、前記管５２から多段圧縮機７１の圧力の等
しい吸入段に戻される。
【００３１】また、前記精留塔４１で分離した低沸点成
分を含む窒素ガス２０００Ｎｍ3 ／ｈは、前記第２熱交
換器１２，第１熱交換器１１に冷却源となる戻り流体と
して順次導入され、前記管５３から弁８１を経て系外に
放出される。
分を含む窒素ガス２０００Ｎｍ3 ／ｈは、前記第２熱交
換器１２，第１熱交換器１１に冷却源となる戻り流体と
して順次導入され、前記管５３から弁８１を経て系外に
放出される。
【００３２】さらに、前記管６６に分岐した液化窒素
は、第３減圧弁２３で１．１ａｔａまで等エンタルピー
膨脹した後、前記第３熱交換器１３，第２熱交換器１２
及び第１熱交換器１１に冷却源となる戻り流体として順
次導入され、前記管５４から多段圧縮機７１の圧力の等
しい吸入段に戻される。
は、第３減圧弁２３で１．１ａｔａまで等エンタルピー
膨脹した後、前記第３熱交換器１３，第２熱交換器１２
及び第１熱交換器１１に冷却源となる戻り流体として順
次導入され、前記管５４から多段圧縮機７１の圧力の等
しい吸入段に戻される。
【００３３】このように、多段圧縮機７１、膨張タービ
ン７２，７３、該膨張タービン７２，７３の昇圧ブロワ
ー７４，７５及び精留塔４１を組み合わせることによ
り、原料窒素ガスを精製しながら効率よく液化できる。
ン７２，７３、該膨張タービン７２，７３の昇圧ブロワ
ー７４，７５及び精留塔４１を組み合わせることによ
り、原料窒素ガスを精製しながら効率よく液化できる。
【００３４】ここで、前記精留塔４１からの放出ガス
は、通常は全量が弁８１を経て放出されるが、その一部
を、弁８２，管５３ａを介して多段圧縮機７１の圧力の
等しい吸入段に戻すこともでき、前記多段圧縮機や膨張
タービン，昇圧ブロワー等からのリークガスとして放出
される窒素ガスに同伴される低沸点成分の量が、系内に
低沸点成分が濃縮蓄積されることを防止できる量なら
ば、全量を多段圧縮機７１の圧力の等しい吸入段に戻す
ことができる。
は、通常は全量が弁８１を経て放出されるが、その一部
を、弁８２，管５３ａを介して多段圧縮機７１の圧力の
等しい吸入段に戻すこともでき、前記多段圧縮機や膨張
タービン，昇圧ブロワー等からのリークガスとして放出
される窒素ガスに同伴される低沸点成分の量が、系内に
低沸点成分が濃縮蓄積されることを防止できる量なら
ば、全量を多段圧縮機７１の圧力の等しい吸入段に戻す
ことができる。
【００３５】例えば、上記２０，０００Ｎｍ3 ／ｈの原
料窒素ガス（水素含有量２０ｐｐｍ）を液化する操作条
件において、精留塔４１からの放出ガス量を２０００Ｎ
ｍ3／ｈとした場合、該放出ガス中に含まれる水素は約
２００ｐｐｍとなる。また、放出ガスの半量、１０００
Ｎｍ3 ／ｈを循環した場合の放出ガス１０００Ｎｍ3／
ｈに含まれる水素は約４００ｐｐｍる。さらに、多段圧
縮機等からのリーク量が２００Ｎｍ3 ／ｈあり、精留塔
４１からのガス２０００Ｎｍ3 ／ｈを全量循環させた場
合は、リークガス中の水素は約０．２％になる。
料窒素ガス（水素含有量２０ｐｐｍ）を液化する操作条
件において、精留塔４１からの放出ガス量を２０００Ｎ
ｍ3／ｈとした場合、該放出ガス中に含まれる水素は約
２００ｐｐｍとなる。また、放出ガスの半量、１０００
Ｎｍ3 ／ｈを循環した場合の放出ガス１０００Ｎｍ3／
ｈに含まれる水素は約４００ｐｐｍる。さらに、多段圧
縮機等からのリーク量が２００Ｎｍ3 ／ｈあり、精留塔
４１からのガス２０００Ｎｍ3 ／ｈを全量循環させた場
合は、リークガス中の水素は約０．２％になる。
【００３６】いずれの場合においても、精留塔４１の精
留段数や精留条件を適当に設定することにより、製品液
化窒素中への水素の混入を防止することが可能であり、
原料窒素ガスに比べて高純度の液化窒素を得ることがで
き、該液化窒素を気化させることにより、高純度の窒素
ガスが得られる。
留段数や精留条件を適当に設定することにより、製品液
化窒素中への水素の混入を防止することが可能であり、
原料窒素ガスに比べて高純度の液化窒素を得ることがで
き、該液化窒素を気化させることにより、高純度の窒素
ガスが得られる。
【００３７】また、図３は本発明の他の実施例の系統図
を示すもので、超臨界窒素ガスを冷却する冷却源に液化
天然ガスの寒冷を利用した装置構成を示すものである。
を示すもので、超臨界窒素ガスを冷却する冷却源に液化
天然ガスの寒冷を利用した装置構成を示すものである。
【００３８】本実施例では、多段圧縮機７１で所定の圧
力に圧縮した超臨界窒素ガスを冷却する第１熱交換器１
１に液化天然ガスの流路９１を設け、該流路９１に、管
９２からの液化天然ガスを弁９３を介して導入し、該液
化天然ガスを熱交換により気化して管９４に導出すると
ともに、管５５から第１熱交換器１１に導入された窒素
ガスを所定温度に冷却して管６１に導出するようにして
いる。
力に圧縮した超臨界窒素ガスを冷却する第１熱交換器１
１に液化天然ガスの流路９１を設け、該流路９１に、管
９２からの液化天然ガスを弁９３を介して導入し、該液
化天然ガスを熱交換により気化して管９４に導出すると
ともに、管５５から第１熱交換器１１に導入された窒素
ガスを所定温度に冷却して管６１に導出するようにして
いる。
【００３９】このように液化天然ガスの寒冷を利用する
ことによって、前記図２に示した装置における膨張ター
ビンや昇圧ブロワーを省略することができ、装置構成を
簡略化することができる。
ことによって、前記図２に示した装置における膨張ター
ビンや昇圧ブロワーを省略することができ、装置構成を
簡略化することができる。
【００４０】なお、本実施例においては、前記図２の装
置における膨張タービン周辺以外を同様に構成している
ので、図２と同一要素のものには同一符号を付して、そ
の詳細な説明は省略する。
置における膨張タービン周辺以外を同様に構成している
ので、図２と同一要素のものには同一符号を付して、そ
の詳細な説明は省略する。
【００４１】次に、図４は図２の系統図に示す方法及び
装置をさらに簡略化した第１の構成の一実施例を示すも
のである。本実施例装置は、２基の熱交換器１０１，１
０２と、３個の減圧弁１１１，１１２，１１３と、精留
塔１２１とを組み合わせたもので、高圧の超臨界窒素ガ
スは、管１３１から第１熱交換器１０１に導入され、戻
りガスにより冷却された後、精留塔１２１の底部に設け
られたリボイラー１２２で更に冷却される。超臨界温度
に冷却された窒素ガスは、第１減圧弁１１１で等エンタ
ルピー膨張した後、精留塔１２１の頂部に還流液として
導入される。
装置をさらに簡略化した第１の構成の一実施例を示すも
のである。本実施例装置は、２基の熱交換器１０１，１
０２と、３個の減圧弁１１１，１１２，１１３と、精留
塔１２１とを組み合わせたもので、高圧の超臨界窒素ガ
スは、管１３１から第１熱交換器１０１に導入され、戻
りガスにより冷却された後、精留塔１２１の底部に設け
られたリボイラー１２２で更に冷却される。超臨界温度
に冷却された窒素ガスは、第１減圧弁１１１で等エンタ
ルピー膨張した後、精留塔１２１の頂部に還流液として
導入される。
【００４２】精留塔１２１では、前記同様に、リボイラ
ー１２２で気化した上昇ガスと、第１減圧弁１１１を経
て導入される還流液とで精留が行われ、該精留により水
素、ヘリウム、ネオンが精留塔頂部に分離し、管１３２
に導出されて第１熱交換器１０１で寒冷回収された後、
系外に排出される。
ー１２２で気化した上昇ガスと、第１減圧弁１１１を経
て導入される還流液とで精留が行われ、該精留により水
素、ヘリウム、ネオンが精留塔頂部に分離し、管１３２
に導出されて第１熱交換器１０１で寒冷回収された後、
系外に排出される。
【００４３】精留塔底部に分離した水素、ヘリウム、ネ
オンをほとんど含まない製品液化窒素は、管１３３に導
出され、第２熱交換器１０２で更に冷却された後、その
一部は、第２減圧弁１１２で等エンタルピー膨張して前
記第２熱交換器１０２，第１熱交換器１０１を経て回収
される。また、残部の液化窒素は、第３減圧弁１１３で
等エンタルピー膨張した後、製品液化窒素として採取さ
れる。
オンをほとんど含まない製品液化窒素は、管１３３に導
出され、第２熱交換器１０２で更に冷却された後、その
一部は、第２減圧弁１１２で等エンタルピー膨張して前
記第２熱交換器１０２，第１熱交換器１０１を経て回収
される。また、残部の液化窒素は、第３減圧弁１１３で
等エンタルピー膨張した後、製品液化窒素として採取さ
れる。
【００４４】また、図５は図２の系統図に示す方法及び
装置の他の簡略化した構成である第２の構成の一実施例
を示すものである。本実施例装置は、３基の熱交換器１
５１，１５２，１５３と、４個の減圧弁１６１，１６
２，１６３，１６４と、精留塔１７１とを組み合わせた
もので、高圧の超臨界窒素ガスは、管１８１から第１熱
交換器１５１に導入されて戻りガスにより冷却され、そ
の一部が第１減圧弁１６１に分岐して等エンタルピー膨
張した後、第１熱交換器１５１に寒冷源として導入され
る。残部の超臨界窒素ガスは、第２熱交換器１５２で冷
却され、更に精留塔１７１の底部に設けられたリボイラ
ー１７２で冷却された後、第２減圧弁１６２で等エンタ
ルピー膨張して精留塔１７１の頂部に導入される。
装置の他の簡略化した構成である第２の構成の一実施例
を示すものである。本実施例装置は、３基の熱交換器１
５１，１５２，１５３と、４個の減圧弁１６１，１６
２，１６３，１６４と、精留塔１７１とを組み合わせた
もので、高圧の超臨界窒素ガスは、管１８１から第１熱
交換器１５１に導入されて戻りガスにより冷却され、そ
の一部が第１減圧弁１６１に分岐して等エンタルピー膨
張した後、第１熱交換器１５１に寒冷源として導入され
る。残部の超臨界窒素ガスは、第２熱交換器１５２で冷
却され、更に精留塔１７１の底部に設けられたリボイラ
ー１７２で冷却された後、第２減圧弁１６２で等エンタ
ルピー膨張して精留塔１７１の頂部に導入される。
【００４５】精留塔１７１において、前記同様に、精留
塔頂部に分離した水素、ヘリウム、 ネオンは、管１８２
に導出され，第２熱交換器１５２，第１熱交換器１５１
を経て系外に排出される。また、精留塔底部の水素、ヘ
リウム、ネオンをほとんど含まない液化窒素は、管１８
３に導出されて第３熱交換器１５３で更に冷却され、そ
の一部は、第３減圧弁１６３で等エンタルピー膨張した
後、前記各熱交換器１５３，１５２，１５１を経て回収
される。また、残部の液化窒素は、第４減圧弁１６４で
等エンタルピー膨張した後、製品液化窒素として採取さ
れる。
塔頂部に分離した水素、ヘリウム、 ネオンは、管１８２
に導出され，第２熱交換器１５２，第１熱交換器１５１
を経て系外に排出される。また、精留塔底部の水素、ヘ
リウム、ネオンをほとんど含まない液化窒素は、管１８
３に導出されて第３熱交換器１５３で更に冷却され、そ
の一部は、第３減圧弁１６３で等エンタルピー膨張した
後、前記各熱交換器１５３，１５２，１５１を経て回収
される。また、残部の液化窒素は、第４減圧弁１６４で
等エンタルピー膨張した後、製品液化窒素として採取さ
れる。
【００４６】上記各実施例に示すように、窒素ガス液化
工程中に精留塔を設けて水素、ヘリウム、ネオンを分離
することにより、これらの成分を含まない超高純度の液
化ガスを得ることができる。
工程中に精留塔を設けて水素、ヘリウム、ネオンを分離
することにより、これらの成分を含まない超高純度の液
化ガスを得ることができる。
【００４７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の窒素ガス
の液化方法及び装置は、空気分離装置で分離された水
素、ヘリウム、ネオンを含む原料窒素ガスを液化するに
際して、該液化工程に精留塔による精留操作を加えて水
素、ヘリウム、ネオンを分離するようにしたので、水
素、ヘリウム、ネオンを含まない高純度の液化窒素を得
ることができる。
の液化方法及び装置は、空気分離装置で分離された水
素、ヘリウム、ネオンを含む原料窒素ガスを液化するに
際して、該液化工程に精留塔による精留操作を加えて水
素、ヘリウム、ネオンを分離するようにしたので、水
素、ヘリウム、ネオンを含まない高純度の液化窒素を得
ることができる。
【００４８】したがって、本発明は、半導体産業向けと
して好適な、水素、ヘリウム、ネオンをほとんど含まな
い超高純度窒素を容易に製造することができる。
して好適な、水素、ヘリウム、ネオンをほとんど含まな
い超高純度窒素を容易に製造することができる。
【図１】 本発明の原理を説明するための系統図であ
る。
る。
【図２】 本発明の一実施例を示す系統図である。
【図３】 本発明の他の実施例を示す系統図である。
【図４】 本発明の更に他の実施例を示す系統図であ
る。
る。
【図５】 本発明の更に別の実施例を示す系統図であ
る。
る。
１１，１２，１３…熱交換器 ２１，２２，２３，２４…減圧弁 ３１…気液分離器 ４１…精留塔 ４２…リボイラー
Claims (6)
- 【請求項１】 空気分離装置で分離された窒素ガスを圧
縮して得られた高圧の超臨界窒素ガスを、その臨界温度
より低い温度まで冷却した後、等エンタルピー膨張させ
て精留塔の頂部に導入し、該精留塔で水素、ヘリウム、
ネオンを精留分離して排出するとともに、該精留塔の下
部から製品液化窒素を導出することを特徴とする窒素ガ
スの液化方法。 - 【請求項２】 空気分離装置で分離された窒素ガスを圧
縮して得られた高圧の超臨界窒素ガスを、その臨界温度
より低い温度まで冷却した後、その一部を分岐し、等エ
ンタルピー膨張させて前記超臨界窒素ガスの冷却源とし
て用い、残部の超臨界窒素ガスを更に低温に冷却した
後、等エンタルピー膨張させて精留塔の頂部に導入し、
該精留塔で水素、ヘリウム、ネオンを精留分離して排出
するとともに、該精留塔の下部から製品液化窒素を導出
することを特徴とする窒素ガスの液化方法。 - 【請求項３】 空気分離装置で分離された窒素ガスを圧
縮して得られた高圧の超臨界窒素ガスを、その臨界温度
より低い温度まで冷却して等エンタルピー膨張させた
後、気液分離して分離した窒素ガスを前記超臨界窒素ガ
スの冷却源として用い、分離した液化窒素を更に低温に
冷却した後、等エンタルピー膨張させて精留塔の頂部に
導入し、該精留塔で水素、ヘリウム、ネオンを精留分離
して排出するとともに、該精留塔の下部から製品液化窒
素を導出することを特徴とする窒素ガスの液化方法。 - 【請求項４】 空気分離装置で分離された窒素ガスを圧
縮して得られた高圧の超臨界窒素ガスを、その臨界温度
より低い温度まで冷却する熱交換器と、該熱交換器を導
出した低温の超臨界窒素ガスを等エンタルピー膨張させ
る減圧弁と、該減圧弁で減圧した液化窒素が還流液とし
て導入される精留塔と、該精留塔の頂部から水素、ヘリ
ウム、ネオンを排出する排出経路と、該精留塔の下部か
ら製品液化窒素を導出する液化窒素採取経路とを備えた
ことを特徴とする窒素ガスの液化装置。 - 【請求項５】 空気分離装置で分離された窒素ガスを圧
縮して得られた高圧の超臨界窒素ガスを、その臨界温度
より低い温度まで冷却する熱交換器と、該熱交換器を導
出した低温の超臨界窒素ガスの一部を分岐して減圧弁で
等エンタルピー膨張させて前記熱交換器に導入する経路
と、前記熱交換器導出後の超臨界窒素ガスの残部を更に
低温に冷却する冷却手段と、該冷却手段で冷却した低温
の超臨界窒素ガスを等エンタルピー膨張させる減圧弁
と、該減圧弁で減圧した液化窒素が還流液として導入さ
れる精留塔と、該精留塔の頂部から水素、ヘリウム、ネ
オンを排出する排出経路と、該精留塔の下部から製品液
化窒素を導出する液化窒素採取経路とを備えたことを特
徴とする窒素ガスの液化装置。 - 【請求項６】 空気分離装置で分離された窒素ガスを圧
縮して得られた高圧の超臨界窒素ガスを、その臨界温度
より低い温度まで冷却する熱交換器と、該熱交換器を導
出した低温の超臨界窒素ガスを等エンタルピー膨張させ
る減圧弁と、該減圧弁導出後の気液混相流を気液分離す
る気液分離器と、該気液分離器で分離した窒素を前記熱
交換器に超臨界窒素ガスの冷却源として導入する冷却経
路と、前記気液分離器で分離した液化窒素を更に低温に
冷却する冷却手段と、該冷却手段で冷却した低温の超臨
界窒素ガスを等エンタルピー膨張させる減圧弁と、該減
圧弁で減圧した液化ガスが還流液として導入される精留
塔と、該精留塔の頂部から水素、ヘリウム、ネオンを排
出する排出経路と、該精留塔の下部から製品液化窒素を
導出する液化窒素採取経路とを備えたことを特徴とする
窒素ガスの液化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24836692A JP3326536B2 (ja) | 1992-09-17 | 1992-09-17 | 窒素ガスの液化方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24836692A JP3326536B2 (ja) | 1992-09-17 | 1992-09-17 | 窒素ガスの液化方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06101962A JPH06101962A (ja) | 1994-04-12 |
| JP3326536B2 true JP3326536B2 (ja) | 2002-09-24 |
Family
ID=17177035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24836692A Expired - Fee Related JP3326536B2 (ja) | 1992-09-17 | 1992-09-17 | 窒素ガスの液化方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3326536B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1544560A1 (en) * | 2003-12-19 | 2005-06-22 | Linde BOC Process Plants LLC | Process and apparatus for producing liquid nitrogen |
| DE102005006408A1 (de) * | 2005-02-11 | 2006-08-24 | Linde Ag | Verfahren zum Abtrennen von Spurenkomponenten aus einem Stickstoff-reichen Strom |
| US10132561B2 (en) * | 2009-08-13 | 2018-11-20 | Air Products And Chemicals, Inc. | Refrigerant composition control |
| EP2669613A1 (de) * | 2012-05-31 | 2013-12-04 | Linde Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zur Stickstoffverflüssigung |
| JP6168953B2 (ja) * | 2013-09-26 | 2017-07-26 | 株式会社前川製作所 | 液体製造方法及び液体製造設備 |
| CN106885713B (zh) * | 2017-03-20 | 2019-06-11 | 上海锐宇流体系统有限公司 | 高压易闪蒸混合液体取样装置 |
-
1992
- 1992-09-17 JP JP24836692A patent/JP3326536B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06101962A (ja) | 1994-04-12 |
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