JP3316018B2 - Ｅ型プロスタグランジン類またはそのエステルの製造方法 - Google Patents
Ｅ型プロスタグランジン類またはそのエステルの製造方法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はα鎖に３重結合を有する
Ｅ型プロスタグランジン類またはそのエステルを還元し
て選択的にその３重結合をシスの２重結合に変換する方
法に関する。
Ｅ型プロスタグランジン類またはそのエステルを還元し
て選択的にその３重結合をシスの２重結合に変換する方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】シスの炭素−炭素２重結合を有する化合
物の一般的な製造方法としては、リンドラー触媒を使用
して炭素−炭素３重結合を有する化合物を還元する方法
が知られている。
物の一般的な製造方法としては、リンドラー触媒を使用
して炭素−炭素３重結合を有する化合物を還元する方法
が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、シスの炭素−炭素２重結合を有する化合物の他
にトランスの炭素−炭素２重結合を有する化合物、更に
は飽和の化合物が副生し、高純度のシス−オレフィンを
得ることは困難であった。また、この方法を用いると火
災などの危険性があった。
法では、シスの炭素−炭素２重結合を有する化合物の他
にトランスの炭素−炭素２重結合を有する化合物、更に
は飽和の化合物が副生し、高純度のシス−オレフィンを
得ることは困難であった。また、この方法を用いると火
災などの危険性があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
の解決を目的として鋭意研究を進めた結果、α鎖に３重
結合を有するＥ型プロスタグランジン類またはそのエス
テルを、０価または２価のパラジウム錯体もしくは錯塩
を触媒として用い、ギ酸で還元すると、選択的に、収率
よくかつ容易にα鎖にシスの２重結合を有する化合物を
製造できることを見いだし、本発明を完成した。
の解決を目的として鋭意研究を進めた結果、α鎖に３重
結合を有するＥ型プロスタグランジン類またはそのエス
テルを、０価または２価のパラジウム錯体もしくは錯塩
を触媒として用い、ギ酸で還元すると、選択的に、収率
よくかつ容易にα鎖にシスの２重結合を有する化合物を
製造できることを見いだし、本発明を完成した。
【０００５】すなわち、本発明は、式
【０００６】
【０００７】［式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１〜４
個のアルキル基または置換基を有していてもよいアリル
基を示し、Ｒ4及びＲ5は同一または異なって水素原子ま
たは水酸基の保護基を示し、Ａ、Ｒ6およびＲ7は反応に
関与しない任意の基を示し、Ｂは炭素−炭素単結合を示
すかまたは反応に関与しない任意の基を示し、Ｙはエチ
ニレン基を示す。］で表されるＥ型プロスタグランジン
類またはそのエステルを、０価または２価のパラジウム
錯体もしくは錯塩の存在下にギ酸と反応させることを特
徴とする式
個のアルキル基または置換基を有していてもよいアリル
基を示し、Ｒ4及びＲ5は同一または異なって水素原子ま
たは水酸基の保護基を示し、Ａ、Ｒ6およびＲ7は反応に
関与しない任意の基を示し、Ｂは炭素−炭素単結合を示
すかまたは反応に関与しない任意の基を示し、Ｙはエチ
ニレン基を示す。］で表されるＥ型プロスタグランジン
類またはそのエステルを、０価または２価のパラジウム
錯体もしくは錯塩の存在下にギ酸と反応させることを特
徴とする式
【０００８】
【０００９】（式中、Ｒ′は、Ｒが水素原子または置換
基を有していてもよいアリル基の場合には水素原子を示
し、Ｒが炭素原子数１〜４個のアルキル基の場合には同
じものを示す。また、Ａ、Ｂ、Ｙ、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およ
びＲ7は前記と同意義である。）で表されるＥ型プロス
タグランジン類またはそのエステルの製造方法である。
基を有していてもよいアリル基の場合には水素原子を示
し、Ｒが炭素原子数１〜４個のアルキル基の場合には同
じものを示す。また、Ａ、Ｂ、Ｙ、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およ
びＲ7は前記と同意義である。）で表されるＥ型プロス
タグランジン類またはそのエステルの製造方法である。
【００１０】本発明において、炭素原子数１〜４個のア
ルキル基とはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基などの直鎖
状または分枝鎖状のアルキル基をいう。また、置換基を
有していてもよいアリル基とは式 −ＣＨ2−ＣＲ1＝ＣＲ2Ｒ3 （式中、Ｒ1及びＲ2は同一または異なって水素原子また
は低級アルキル基を示し、Ｒ3は水素原子、低級アルキ
ル基、アルケニル基またはアリール基を示す。）で表さ
れる基であり、代表的なものとしては、式
ルキル基とはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基などの直鎖
状または分枝鎖状のアルキル基をいう。また、置換基を
有していてもよいアリル基とは式 −ＣＨ2−ＣＲ1＝ＣＲ2Ｒ3 （式中、Ｒ1及びＲ2は同一または異なって水素原子また
は低級アルキル基を示し、Ｒ3は水素原子、低級アルキ
ル基、アルケニル基またはアリール基を示す。）で表さ
れる基であり、代表的なものとしては、式
【００１１】
【００１２】で表される基などを挙げることができる。
ここで、式（Ｉ）においてＲが水素原子または炭素原子
数１〜４個のアルキル基である化合物を本反応に供する
と、Ｒ′がＲに対応する基である式（II）の化合物が得
られるが、式（Ｉ）においてＲがアリル基である化合物
を本反応に供すると、α鎖の３重結合の還元と同時にア
リル基の加水素分解が起こり、Ｒ′が水素原子である式
（II）の化合物が得られる。水酸基の保護基とは、プロ
スタグランジンの分野で通常用いられるものであり、例
えばｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル
基、フェニルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニル
シリル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラ
ニル基、メトキシメチル基、エトキシエチル基、ベンジ
ル基などである。Ｒ4及びＲ5は水素原子または水酸基の
保護基であるが、このうち、ｔ−ブチルジメチルシリル
基が好ましい。
ここで、式（Ｉ）においてＲが水素原子または炭素原子
数１〜４個のアルキル基である化合物を本反応に供する
と、Ｒ′がＲに対応する基である式（II）の化合物が得
られるが、式（Ｉ）においてＲがアリル基である化合物
を本反応に供すると、α鎖の３重結合の還元と同時にア
リル基の加水素分解が起こり、Ｒ′が水素原子である式
（II）の化合物が得られる。水酸基の保護基とは、プロ
スタグランジンの分野で通常用いられるものであり、例
えばｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリル
基、フェニルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニル
シリル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラ
ニル基、メトキシメチル基、エトキシエチル基、ベンジ
ル基などである。Ｒ4及びＲ5は水素原子または水酸基の
保護基であるが、このうち、ｔ−ブチルジメチルシリル
基が好ましい。
【００１３】Ａ、Ｂ、Ｒ6及びＲ7は本反応に関与しない
ものならばいずれでもかまわない（ただし、Ｂは炭素−
炭素単結合を示すこともある。）。これらの例を挙げる
とするならば、Ａ及びＢとしては、例えば炭素原子数１
〜７個の直鎖状のアルキレン基（例えばメチレン基、エ
チレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサ
メチレン基、オクタメチレン基、ヘプタメチレン基な
ど）、炭素原子数３〜９個の直鎖状のアルケニレン基
［例えば式
ものならばいずれでもかまわない（ただし、Ｂは炭素−
炭素単結合を示すこともある。）。これらの例を挙げる
とするならば、Ａ及びＢとしては、例えば炭素原子数１
〜７個の直鎖状のアルキレン基（例えばメチレン基、エ
チレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサ
メチレン基、オクタメチレン基、ヘプタメチレン基な
ど）、炭素原子数３〜９個の直鎖状のアルケニレン基
［例えば式
【００１４】
【００１５】（式中、ｎ1は１〜５の整数を示し、ｎ2は
１〜４の整数を示し、ｎ3は１〜６の整数を示す。）で
表される基など］、鎖中に１つの酸素原子または硫黄原
子を介している炭素原子数２〜８個の直鎖状のアルキレ
ン基［例えば式
１〜４の整数を示し、ｎ3は１〜６の整数を示す。）で
表される基など］、鎖中に１つの酸素原子または硫黄原
子を介している炭素原子数２〜８個の直鎖状のアルキレ
ン基［例えば式
【００１６】
【００１７】（式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示
し、ｎ4は１〜５の整数を示し、ｎ5は１〜７の整数を示
す。）で表される基など］、式
し、ｎ4は１〜５の整数を示し、ｎ5は１〜７の整数を示
す。）で表される基など］、式
【００１８】
【００１９】（式中、ｎ6およびｎ7は同一または異なっ
て１〜３の整数を示す。）で表される基、式
て１〜３の整数を示す。）で表される基、式
【００２０】
【００２１】（式中、ｎ8およびｎ9は同一または異なっ
て１〜３の整数を示す。）で表される基などを挙げるこ
とができる。また、Ｒ6としては、例えば水素原子、メ
チル基、エチル基、ビニル基などを挙げることができ
る。Ｒ7としては、例えば炭素原子数１〜１０個の直鎖
状または分枝鎖状のアルキル基またはアルケニル基（例
えばペンチル基、ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、
２−メチルヘキシル基、１，１−ジメチルヘキシル基、
２−ペンテニル基、５−ヘキセニル基など）、炭素原子
数３〜１０個のシクロアルキル基（例えばシクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基など）、
「フェニル基、フェノキシ基または炭素原子数４〜７個
のシクロアルキル基」で置換された炭素原子数１〜４個
のアルキル基（例えばシクロペンチルメチル基、シクロ
ヘキシルメチル基、２−シクロペンチルエチル基、３−
シクロペンチルプロピル基、３−シクロヘキシルプロピ
ル基、４−シクロペンチルブチル基、ベンジル基、フェ
ノキシメチル基、２−フェニルエチル基、４−フェニル
ブチル基など）、フェニル基などを挙げることができ
る。
て１〜３の整数を示す。）で表される基などを挙げるこ
とができる。また、Ｒ6としては、例えば水素原子、メ
チル基、エチル基、ビニル基などを挙げることができ
る。Ｒ7としては、例えば炭素原子数１〜１０個の直鎖
状または分枝鎖状のアルキル基またはアルケニル基（例
えばペンチル基、ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、
２−メチルヘキシル基、１，１−ジメチルヘキシル基、
２−ペンテニル基、５−ヘキセニル基など）、炭素原子
数３〜１０個のシクロアルキル基（例えばシクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基など）、
「フェニル基、フェノキシ基または炭素原子数４〜７個
のシクロアルキル基」で置換された炭素原子数１〜４個
のアルキル基（例えばシクロペンチルメチル基、シクロ
ヘキシルメチル基、２−シクロペンチルエチル基、３−
シクロペンチルプロピル基、３−シクロヘキシルプロピ
ル基、４−シクロペンチルブチル基、ベンジル基、フェ
ノキシメチル基、２−フェニルエチル基、４−フェニル
ブチル基など）、フェニル基などを挙げることができ
る。
【００２２】０価または２価のパラジウム錯体もしくは
錯塩とは、例えばトリス（ジベンジリデンアセトン）二
パラジウム（０）クロロホルム、ビス（ジベンジリデン
アセトン）パラジウム（０）、テトラキス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（アセチルアセ
トナート）パラジウム（II）、ジクロロビス（ベンゾニ
トリル）パラジウム（II）、ジクロロビス（アセトニト
リル）パラジウム（II）、ジクロロビス（トリフェニル
ホスフィン）パラジウム（II）、π−アリルパラジウム
（II）クロリド錯体、塩化パラジウム、リチウムテトラ
クロロパラダート、酢酸パラジウムなどである。これら
の使用量は原料となる式（Ｉ）の化合物に対して０．０
１〜０．５当量である。ギ酸の使用量は原料となる式
（Ｉ）の化合物に対して１当量〜過剰量である。
錯塩とは、例えばトリス（ジベンジリデンアセトン）二
パラジウム（０）クロロホルム、ビス（ジベンジリデン
アセトン）パラジウム（０）、テトラキス（トリフェニ
ルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（アセチルアセ
トナート）パラジウム（II）、ジクロロビス（ベンゾニ
トリル）パラジウム（II）、ジクロロビス（アセトニト
リル）パラジウム（II）、ジクロロビス（トリフェニル
ホスフィン）パラジウム（II）、π−アリルパラジウム
（II）クロリド錯体、塩化パラジウム、リチウムテトラ
クロロパラダート、酢酸パラジウムなどである。これら
の使用量は原料となる式（Ｉ）の化合物に対して０．０
１〜０．５当量である。ギ酸の使用量は原料となる式
（Ｉ）の化合物に対して１当量〜過剰量である。
【００２３】本発明においては「０価または２価のパラ
ジウム錯体もしくは錯塩」にすでにホスフィン類が配位
している場合を除き、ホスフィン類を加えることが好ま
しい。ホスフィン類としては、例えばトリエチルホスフ
ィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィ
ン、トリ（ｐ−トルエンオキシ）ホスフィン、トリエト
キシホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタ
ン、ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、ビス（ジ
フェニルホスフィノ）ブタン、ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）フェロセンなどを挙げることができる。また、必
要に応じて塩基として有機アミン類（例えば、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、ジエチルアミン、ジイソ
プロピルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチ
ルアミン、ピペリジン、ピロール、ピロリジン、モルホ
リン、Ｎ−メチルモルホリン、ジメチルアニリン、ピリ
ジン、Ｏ−メチルエタノールアミン、アニリン、ピペラ
ジンなど）またはアンモニアを適当量添加することがで
きる。さらに、必要に応じて溶媒［エーテル類（例えば
ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラ
ン、ジエチルエーテル、ジグリムなど）、エステル類
（例えば酢酸エチル、酢酸メチル、バレロラクトンな
ど）、アミド（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ−メチルピロリドンなど）、ジメチルスルホキシドな
ど］を加えることができる。反応温度は、０℃〜溶媒の
還流温度、好ましくは室温〜１００℃である。
ジウム錯体もしくは錯塩」にすでにホスフィン類が配位
している場合を除き、ホスフィン類を加えることが好ま
しい。ホスフィン類としては、例えばトリエチルホスフ
ィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィ
ン、トリ（ｐ−トルエンオキシ）ホスフィン、トリエト
キシホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタ
ン、ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、ビス（ジ
フェニルホスフィノ）ブタン、ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）フェロセンなどを挙げることができる。また、必
要に応じて塩基として有機アミン類（例えば、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、ジエチルアミン、ジイソ
プロピルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチ
ルアミン、ピペリジン、ピロール、ピロリジン、モルホ
リン、Ｎ−メチルモルホリン、ジメチルアニリン、ピリ
ジン、Ｏ−メチルエタノールアミン、アニリン、ピペラ
ジンなど）またはアンモニアを適当量添加することがで
きる。さらに、必要に応じて溶媒［エーテル類（例えば
ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラ
ン、ジエチルエーテル、ジグリムなど）、エステル類
（例えば酢酸エチル、酢酸メチル、バレロラクトンな
ど）、アミド（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ−メチルピロリドンなど）、ジメチルスルホキシドな
ど］を加えることができる。反応温度は、０℃〜溶媒の
還流温度、好ましくは室温〜１００℃である。
【００２４】本発明により製造した式（II）の化合物の
うち、水酸基が保護されている化合物［式（II）におい
てＲ4及びＲ5が水素原子以外の基の化合物］は常法を用
いて容易に脱保護し、末梢循環障害をはじめとする種々
の疾患の治療に有用であるプロスタグランジンＥ型化合
物（あるいはその誘導体）とすることができる。
うち、水酸基が保護されている化合物［式（II）におい
てＲ4及びＲ5が水素原子以外の基の化合物］は常法を用
いて容易に脱保護し、末梢循環障害をはじめとする種々
の疾患の治療に有用であるプロスタグランジンＥ型化合
物（あるいはその誘導体）とすることができる。
【００２５】
【発明の効果】本発明により、選択的に（Ｙのエチニレ
ン基は還元されずに、また、８−β体などの異性体も生
じることなく）、かつ容易に、α鎖にシスの２重結合を
有するＥ型プロスタグランジン類を短時間で収率よく製
造できるようになった。
ン基は還元されずに、また、８−β体などの異性体も生
じることなく）、かつ容易に、α鎖にシスの２重結合を
有するＥ型プロスタグランジン類を短時間で収率よく製
造できるようになった。
【００２６】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明する。 実施例１（Ｚ）−２，３，１３，１４−テトラデヒドロ−１７，
１８，１９，２０−テトラノル−１６−シクロペンチル
−ＰＧＥ 1 １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシ
リル）エーテルの製造 注）化合物の命名中、「１７，１８，１９，２０−テト
ラノル」とは、１７〜２０位の炭素鎖がないことを意味
する。ギ酸（３１μｌ，０．７ｍｍｏｌ）およびトリエ
チルアミン（８３μｌ，０．６ｍｍｏｌ）のテトラヒド
ロフラン（２ｍｌ）溶液に、トリス（ジベンジリデンア
セトン）二パラジウム（０）クロロホルム複合体（２１
ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン
（２０μｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１０分
間攪拌した。この中に、ＷＯ９２／１８４７２号 実施
例４２（１）に記載の２，２，３，３，１３，１４−ヘ
キサデヒドロ−１７，１８，１９，２０−テトラノル−
１６−シクロペンチル−ＰＧＥ1 １１，１５−ビス
（ｔ−ブチルジメチルシリル）エーテル アリルエステ
ル（１２５．８ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロ
フラン溶液（２ｍｌ）を加え、５０℃で３時間攪拌し
た。室温に冷却した後、飽和食塩水（４ｍｌ）を加え、
ｎ−ヘキサンで抽出した後、有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧下濃縮して得られ
た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ
−ヘキサン：エーテル＝２：１）により精製し、標記化
合物９４．６ｍｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，３００ＭＨｚ） δｐｐｍ；
０．０９，０．１０，０．１１ and ０．１２（４ｓ，
１２Ｈ），０．８９ and ０．９０（２ｓ，１８Ｈ），
１．０１〜２．０２（ｍ，１７Ｈ），２．０７〜２．２
６（ｍ，２Ｈ），２．５３〜２．７４（ｍ，４Ｈ），
４．２２〜４．４０（ｍ，２Ｈ），５．７９（ｄ，Ｊ＝
１１．５Ｈｚ，１Ｈ），６．３１（ｄｔ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ，１１．５Ｈｚ，１Ｈ）
説明する。 実施例１（Ｚ）−２，３，１３，１４−テトラデヒドロ−１７，
１８，１９，２０−テトラノル−１６−シクロペンチル
−ＰＧＥ 1 １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシ
リル）エーテルの製造 注）化合物の命名中、「１７，１８，１９，２０−テト
ラノル」とは、１７〜２０位の炭素鎖がないことを意味
する。ギ酸（３１μｌ，０．７ｍｍｏｌ）およびトリエ
チルアミン（８３μｌ，０．６ｍｍｏｌ）のテトラヒド
ロフラン（２ｍｌ）溶液に、トリス（ジベンジリデンア
セトン）二パラジウム（０）クロロホルム複合体（２１
ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）およびトリブチルホスフィン
（２０μｌ，０．０８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１０分
間攪拌した。この中に、ＷＯ９２／１８４７２号 実施
例４２（１）に記載の２，２，３，３，１３，１４−ヘ
キサデヒドロ−１７，１８，１９，２０−テトラノル−
１６−シクロペンチル−ＰＧＥ1 １１，１５−ビス
（ｔ−ブチルジメチルシリル）エーテル アリルエステ
ル（１２５．８ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロ
フラン溶液（２ｍｌ）を加え、５０℃で３時間攪拌し
た。室温に冷却した後、飽和食塩水（４ｍｌ）を加え、
ｎ−ヘキサンで抽出した後、有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。濾過後、濾液を減圧下濃縮して得られ
た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ
−ヘキサン：エーテル＝２：１）により精製し、標記化
合物９４．６ｍｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，３００ＭＨｚ） δｐｐｍ；
０．０９，０．１０，０．１１ and ０．１２（４ｓ，
１２Ｈ），０．８９ and ０．９０（２ｓ，１８Ｈ），
１．０１〜２．０２（ｍ，１７Ｈ），２．０７〜２．２
６（ｍ，２Ｈ），２．５３〜２．７４（ｍ，４Ｈ），
４．２２〜４．４０（ｍ，２Ｈ），５．７９（ｄ，Ｊ＝
１１．５Ｈｚ，１Ｈ），６．３１（ｄｔ，Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ，１１．５Ｈｚ，１Ｈ）
【００２７】実施例２
実施例１と実質的に同様にして、（２Ｚ，１７Ｓ）−
２，３，１３，１４−テトラデヒドロ−１７，２０−ジ
メチル−ＰＧＥ1 １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルエーテル） メチルエステルを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，３００ＭＨｚ） δｐｐｍ；
０．８３〜０．９８（ｍ，２４Ｈ），１．０９〜１．９
０（ｍ，１５Ｈ），２．１０〜２．３６（ｍ，４Ｈ），
２．５６〜２．６８（ｍ，１Ｈ），２．７５（ｄｄ，Ｊ
＝７．３Ｈｚ，１８．４Ｈｚ，１Ｈ），３．７２（ｓ，
３Ｈ），４．２０〜４．３８（ｍ，１Ｈ），４．４７
（ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ），５．７９（ｄ，Ｊ＝１
１．４Ｈｚ，１Ｈ），６．３０（ｄｔ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ，１１．４Ｈｚ，１Ｈ）
２，３，１３，１４−テトラデヒドロ−１７，２０−ジ
メチル−ＰＧＥ1 １１，１５−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルエーテル） メチルエステルを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，３００ＭＨｚ） δｐｐｍ；
０．８３〜０．９８（ｍ，２４Ｈ），１．０９〜１．９
０（ｍ，１５Ｈ），２．１０〜２．３６（ｍ，４Ｈ），
２．５６〜２．６８（ｍ，１Ｈ），２．７５（ｄｄ，Ｊ
＝７．３Ｈｚ，１８．４Ｈｚ，１Ｈ），３．７２（ｓ，
３Ｈ），４．２０〜４．３８（ｍ，１Ｈ），４．４７
（ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１Ｈ），５．７９（ｄ，Ｊ＝１
１．４Ｈｚ，１Ｈ），６．３０（ｄｔ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ，１１．４Ｈｚ，１Ｈ）
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 亀尾 一弥
東京都豊島区高田３丁目24番１号 大正
製薬株式会社内
(72)発明者 田名見 亨
東京都豊島区高田３丁目24番１号 大正
製薬株式会社内
(72)発明者 武藤 賢
東京都豊島区高田３丁目24番１号 大正
製薬株式会社内
(72)発明者 小野 直哉
東京都豊島区高田３丁目24番１号 大正
製薬株式会社内
(72)発明者 五藤 准
東京都豊島区高田３丁目24番１号 大正
製薬株式会社内
(56)参考文献 特開 平５−345758（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−255128（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−117230（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−139144（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−81344（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−155154（ＪＰ，Ａ)
国際公開93／16041（ＷＯ，Ａ１)
国際公開92／18472（ＷＯ，Ａ１)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07C 405/00
Claims (2)
- 【請求項１】 式 ［式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１〜４個のアルキル
基または置換基を有していてもよいアリル基を示し、Ｒ
4及びＲ5は同一または異なって水素原子または水酸基の
保護基を示し、Ａ、Ｒ6およびＲ7は反応に関与しない任
意の基を示し、Ｂは炭素−炭素単結合を示すかまたは反
応に関与しない任意の基を示し、Ｙはエチニレン基を示
す。］で表されるＥ型プロスタグランジン類またはその
エステルを、０価または２価のパラジウム錯体もしくは
錯塩の存在下にギ酸と反応させることを特徴とする、式 （式中、Ｒ′は、Ｒが水素原子または置換基を有してい
てもよいアリル基の場合には水素原子を示し、Ｒが炭素
原子数１〜４個のアルキル基の場合には同じものを示
す。また、Ａ、Ｂ、Ｙ、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は前記
と同意義である。）で表されるＥ型プロスタグランジン
類またはそのエステルの製造方法。 - 【請求項２】 ０価または２価のパラジウム錯体もしく
は錯塩と共にホスフィン類を存在させた条件で反応を行
うことを特徴とする請求項１記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02644293A JP3316018B2 (ja) | 1992-03-13 | 1993-02-16 | Ｅ型プロスタグランジン類またはそのエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5560992 | 1992-03-13 | ||
| JP4-55609 | 1992-03-13 | ||
| JP02644293A JP3316018B2 (ja) | 1992-03-13 | 1993-02-16 | Ｅ型プロスタグランジン類またはそのエステルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05310689A JPH05310689A (ja) | 1993-11-22 |
| JP3316018B2 true JP3316018B2 (ja) | 2002-08-19 |
Family
ID=26364228
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02644293A Expired - Fee Related JP3316018B2 (ja) | 1992-03-13 | 1993-02-16 | Ｅ型プロスタグランジン類またはそのエステルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3316018B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992018472A1 (en) | 1991-04-22 | 1992-10-29 | Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. | Prostaglandin e1 analogue |
| WO1993016041A1 (en) | 1992-02-05 | 1993-08-19 | Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for producing prostaglandin e |
-
1993
- 1993-02-16 JP JP02644293A patent/JP3316018B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992018472A1 (en) | 1991-04-22 | 1992-10-29 | Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. | Prostaglandin e1 analogue |
| WO1993016041A1 (en) | 1992-02-05 | 1993-08-19 | Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for producing prostaglandin e |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05310689A (ja) | 1993-11-22 |
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|---|---|---|---|
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