JP3314625B2 - 光量フィルタおよびその製造方法 - Google Patents
光量フィルタおよびその製造方法Info
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- JP3314625B2 JP3314625B2 JP24031696A JP24031696A JP3314625B2 JP 3314625 B2 JP3314625 B2 JP 3314625B2 JP 24031696 A JP24031696 A JP 24031696A JP 24031696 A JP24031696 A JP 24031696A JP 3314625 B2 JP3314625 B2 JP 3314625B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光学ピックアップに
用いる光量フィルタおよびその製造方法に関するもので
ある。
用いる光量フィルタおよびその製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンパクトディスク（ＣＤ）、レ
ーザディスク（ＬＤ）等の音楽／映像関連装置において
光学素子（光学ピックアップ）が広く使用されており中
でも、光量フィルタを使用した光学ピックアップが光デ
ィスク上に集光されたレーザ光の光量を調整するという
点で必要とされている。
ーザディスク（ＬＤ）等の音楽／映像関連装置において
光学素子（光学ピックアップ）が広く使用されており中
でも、光量フィルタを使用した光学ピックアップが光デ
ィスク上に集光されたレーザ光の光量を調整するという
点で必要とされている。
【０００３】従来の光量フィルタとしては特開昭６２−
６７７３７号公報に記載されたものが知られている。以
下に従来の光量フィルタを図９を用いて説明する。
６７７３７号公報に記載されたものが知られている。以
下に従来の光量フィルタを図９を用いて説明する。
【０００４】図９において光量フィルタ８１には位相回
折格子８２と回折格子を設けない領域８３が形成されて
いる。光量フィルタ８１に入射する入射光のうち、位相
回折格子８２を透過するものは回折され±１次回折光に
光量の一部を分配するため、入射光と同方向に透過する
透過光の光量は低下している。一方、回折格子を設けな
い領域８３の透過光は低下しないため、光量フィルタ８
１を透過する光量を、中心部と外周部とで異ならせるこ
とができる。
折格子８２と回折格子を設けない領域８３が形成されて
いる。光量フィルタ８１に入射する入射光のうち、位相
回折格子８２を透過するものは回折され±１次回折光に
光量の一部を分配するため、入射光と同方向に透過する
透過光の光量は低下している。一方、回折格子を設けな
い領域８３の透過光は低下しないため、光量フィルタ８
１を透過する光量を、中心部と外周部とで異ならせるこ
とができる。
【０００５】回折格子を設けない領域８３に位相補正膜
を形成し、位相回折格子８２の透過光と回折格子を設け
ない領域８３の透過光の位相を補正することができる。
を形成し、位相回折格子８２の透過光と回折格子を設け
ない領域８３の透過光の位相を補正することができる。
【０００６】また、上記従来の光量フィルタの製造は図
１０に示すようにガラス基板９１上に位相補正膜９３作
成用マスク９２を密着させ（図１０（ａ））、位相補正
膜９３を作成する（図１０（ｂ））。さらに、格子作成
用の第２のマスク９４を基板９１に密着させ（図１０
（ｃ））、格子を形成する部材９５を形成する（図１０
（ｄ））。
１０に示すようにガラス基板９１上に位相補正膜９３作
成用マスク９２を密着させ（図１０（ａ））、位相補正
膜９３を作成する（図１０（ｂ））。さらに、格子作成
用の第２のマスク９４を基板９１に密着させ（図１０
（ｃ））、格子を形成する部材９５を形成する（図１０
（ｄ））。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の光量フィルタは、外周部の透過光量を回折格子で変
化させているが、外周部の透過光量は回折格子の精度に
左右される。すなわち、回折格子の凹凸の深さ、幅等に
透過光量が依存するという問題点があった。
来の光量フィルタは、外周部の透過光量を回折格子で変
化させているが、外周部の透過光量は回折格子の精度に
左右される。すなわち、回折格子の凹凸の深さ、幅等に
透過光量が依存するという問題点があった。
【０００８】また、上記従来の製造方法では再現性に問
題があり、良好な光量フィルタを製造することが困難で
あった。
題があり、良好な光量フィルタを製造することが困難で
あった。
【０００９】本発明は上記従来の課題を解決するもの
で，透過光量、位相差の精度が良く、バラツキの少な
い、光量フィルタを提供することを目的とするものであ
る。
で，透過光量、位相差の精度が良く、バラツキの少な
い、光量フィルタを提供することを目的とするものであ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め，本発明の光量フィルタは，光学素子上に直接また
は、光学素子に隣接した基板上に形成された光量フィル
タで、光量フィルタを構成する基材上に形成された段差
を有し、前記段差の凹部側部分に少なくとも１層の薄膜
層を形成し、前記凸部と前記凹部の透過光量を異ならし
めることを特徴とする。
め，本発明の光量フィルタは，光学素子上に直接また
は、光学素子に隣接した基板上に形成された光量フィル
タで、光量フィルタを構成する基材上に形成された段差
を有し、前記段差の凹部側部分に少なくとも１層の薄膜
層を形成し、前記凸部と前記凹部の透過光量を異ならし
めることを特徴とする。
【００１１】
【００１２】これらにより光量フィルタの透過光量、且
つ、バラツキを小さくできる。
つ、バラツキを小さくできる。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、光学素子に隣接した基板上に形成された光量フィル
タであって、前記基板上に段差を設けることで凸部と凹
部を有し、前記凹部側部分に少なくとも１層の薄膜層を
形成することで前記凸部と前記凹部の透過光量を異なら
せるとともに、前記凸部と凹部の段差を調整することで
前記凸部と前記凹部を透過する光の位相差を設定するこ
とを特徴とする光量フィルタ、としたものであり、前記
段差の凹部側部分に形成された少なくとも１層の薄膜層
により透過光量を変化させ、薄膜層を形成されない部分
との間で透過光量を前記薄膜層で容易に異ならしめる作
用を有する。さらに、前記段差により前記凸部と前記凹
部の透過光位相差を補正することができる作用を有す
る。
は、光学素子に隣接した基板上に形成された光量フィル
タであって、前記基板上に段差を設けることで凸部と凹
部を有し、前記凹部側部分に少なくとも１層の薄膜層を
形成することで前記凸部と前記凹部の透過光量を異なら
せるとともに、前記凸部と凹部の段差を調整することで
前記凸部と前記凹部を透過する光の位相差を設定するこ
とを特徴とする光量フィルタ、としたものであり、前記
段差の凹部側部分に形成された少なくとも１層の薄膜層
により透過光量を変化させ、薄膜層を形成されない部分
との間で透過光量を前記薄膜層で容易に異ならしめる作
用を有する。さらに、前記段差により前記凸部と前記凹
部の透過光位相差を補正することができる作用を有す
る。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の請求項２に記載の発明
は、前記凸部表面には反射防止膜を形成したことを特徴
とする請求項１に記載の光量フィルタ、としたものであ
り、凸部に反射防止膜を形成することで、薄膜層を形成
した凹部との間で透過光量を容易に異ならせる作用を有
する。
は、前記凸部表面には反射防止膜を形成したことを特徴
とする請求項１に記載の光量フィルタ、としたものであ
り、凸部に反射防止膜を形成することで、薄膜層を形成
した凹部との間で透過光量を容易に異ならせる作用を有
する。
【００１５】
【００１６】請求項３に記載の発明は、光学素子に隣接
した基板上に形成された光量フィルタであって、前記基
板上に誘電体膜を形成し、前記誘電体膜上に段差を設け
ることで凸部と凹部を有し、前記凹部側部分に少なくと
も１層の薄膜層を形成することで前記凸部と前記凹部の
透過光量を異ならせるとともに、前記凸部と凹部の段差
を調整することで前記凸部と前記凹部を透過する光の位
相差を設定することを特徴とする光量フィルタ、とした
ものであり、凸部と凹部との段差を調整することで容易
にこれら凸部と凹部との透過光の位相差を補正すること
ができる。
した基板上に形成された光量フィルタであって、前記基
板上に誘電体膜を形成し、前記誘電体膜上に段差を設け
ることで凸部と凹部を有し、前記凹部側部分に少なくと
も１層の薄膜層を形成することで前記凸部と前記凹部の
透過光量を異ならせるとともに、前記凸部と凹部の段差
を調整することで前記凸部と前記凹部を透過する光の位
相差を設定することを特徴とする光量フィルタ、とした
ものであり、凸部と凹部との段差を調整することで容易
にこれら凸部と凹部との透過光の位相差を補正すること
ができる。
【００１７】
【００１８】
【００１９】
【００２０】
【００２１】以下、本発明の実施の形態について図１か
ら図８を用いて説明する。 （実施の形態１）図８は、光学素子全体の構造を示す図
であり、１０は光量フィルタである。
ら図８を用いて説明する。 （実施の形態１）図８は、光学素子全体の構造を示す図
であり、１０は光量フィルタである。
【００２２】レーザダイオード８１から出たレーザ光は
コリメートレンズ８２を通過しコリメート光となりプリ
ズムに形成された光量フィルタ１０からプリズム中のビ
ームスプリッタ膜８３を透過しプリズムを出て、二焦点
レンズ８４を通過し、光ディスク８５、８６に焦点を結
び、光ディスク８５、８６からの反射光は二焦点レンズ
８４を通過し、プリズムに入り、ビームスプリッタ膜８
３で反射し、プリズムの斜面８７でさらに反射し、レン
ズ８８で光検出素子８９上に焦点を結び、光ディスク上
の信号を光検出素子８９で検出する。
コリメートレンズ８２を通過しコリメート光となりプリ
ズムに形成された光量フィルタ１０からプリズム中のビ
ームスプリッタ膜８３を透過しプリズムを出て、二焦点
レンズ８４を通過し、光ディスク８５、８６に焦点を結
び、光ディスク８５、８６からの反射光は二焦点レンズ
８４を通過し、プリズムに入り、ビームスプリッタ膜８
３で反射し、プリズムの斜面８７でさらに反射し、レン
ズ８８で光検出素子８９上に焦点を結び、光ディスク上
の信号を光検出素子８９で検出する。
【００２３】光ディスク８５、８６は異なったディスク
厚みを持つため、二焦点レンズ８４で各々の光ディスク
８５、８６上に焦点を結ばせており、光量フィルタ１０
の中央部１０ａを通過した光の一部がディスク８５上に
集光し、この残りと、光量フィルタ１０の外周部１０ｂ
を通過した光が光ディスク８６上に集光する。
厚みを持つため、二焦点レンズ８４で各々の光ディスク
８５、８６上に焦点を結ばせており、光量フィルタ１０
の中央部１０ａを通過した光の一部がディスク８５上に
集光し、この残りと、光量フィルタ１０の外周部１０ｂ
を通過した光が光ディスク８６上に集光する。
【００２４】光ディスク８５、８６上での集光されたレ
ーザ光の光量を適切なものとするため、光量フィルタ１
０の透過率が設定される。
ーザ光の光量を適切なものとするため、光量フィルタ１
０の透過率が設定される。
【００２５】次に、図１は本発明の第１の実施の形態に
おける光量フィルタを、図２は図１に示すＡ−Ａ1線で
の光量フィルタの断面図を示す。本発明の第１の実施の
形態における光量フィルタ１０は、光学素子１１に隣
接、接着された基板１上に段差を有し、段差凹部２上に
金属薄膜からなる薄膜層４を形成し、段差凸部３の透過
光を１００％とするため反射防止膜５を形成した構成を
有している。
おける光量フィルタを、図２は図１に示すＡ−Ａ1線で
の光量フィルタの断面図を示す。本発明の第１の実施の
形態における光量フィルタ１０は、光学素子１１に隣
接、接着された基板１上に段差を有し、段差凹部２上に
金属薄膜からなる薄膜層４を形成し、段差凸部３の透過
光を１００％とするため反射防止膜５を形成した構成を
有している。
【００２６】光量フィルタに照射された入射光６のう
ち、段差凸部３を通過した透過光７は透過効率１００％
であり、段差凹部２を通過した透過光８は薄膜層４の吸
収により透過光量が減衰するため、光量フィルタの透過
光量を異ならしめることができる。
ち、段差凸部３を通過した透過光７は透過効率１００％
であり、段差凹部２を通過した透過光８は薄膜層４の吸
収により透過光量が減衰するため、光量フィルタの透過
光量を異ならしめることができる。
【００２７】また、透過光７、８は段差量９により位相
が異なる。これにより段差量を調整することにより、薄
膜層４を透過したことによる透過光６、７の位相差をな
くすこともできる。また、位相差を任意に設定すること
もでき、これにより、非点隔差を有するレーザーに対
し、レーザの非点隔差を補正させることもできる。
が異なる。これにより段差量を調整することにより、薄
膜層４を透過したことによる透過光６、７の位相差をな
くすこともできる。また、位相差を任意に設定すること
もでき、これにより、非点隔差を有するレーザーに対
し、レーザの非点隔差を補正させることもできる。
【００２８】本第１の実施の形態においては基板は光学
ガラス材料とし、段差はエッチング法により形成し、薄
膜層４の材料をクロム（Ｃｒ）とした。
ガラス材料とし、段差はエッチング法により形成し、薄
膜層４の材料をクロム（Ｃｒ）とした。
【００２９】従って、本第１の実施の形態によれば、透
過光８の透過光量は薄膜層４の吸収量、すなわち薄膜層
４の膜厚に依存するが、薄膜層４はスパッタリング法等
の薄膜形成法で成膜するため、膜厚は精度良く、かつ、
バラツキが少ないという特徴を有する。また、透過光
７、８の位相差は段差量で決まるが、本第１の実施の形
態によれば、段差をエッチング法にて形成しているので
段差量は精度良く、かつ、バラツキが少ないという特徴
を有する。
過光８の透過光量は薄膜層４の吸収量、すなわち薄膜層
４の膜厚に依存するが、薄膜層４はスパッタリング法等
の薄膜形成法で成膜するため、膜厚は精度良く、かつ、
バラツキが少ないという特徴を有する。また、透過光
７、８の位相差は段差量で決まるが、本第１の実施の形
態によれば、段差をエッチング法にて形成しているので
段差量は精度良く、かつ、バラツキが少ないという特徴
を有する。
【００３０】さらに、本第１の実施の形態の光量フィル
タは光学ガラス材料上に形成されているため、外界の温
度変化に対し、透過光量や、位相差の変化が小さいとい
う特徴を有する。
タは光学ガラス材料上に形成されているため、外界の温
度変化に対し、透過光量や、位相差の変化が小さいとい
う特徴を有する。
【００３１】なお、本第１の実施の形態において透過光
８の透過光量を減衰させるための薄膜層４を金属膜で形
成したが、誘電体膜を単層または複数層積層して所望の
透過光量を得るように構成しても同様の効果を有する
が、薄膜層を金属膜とすることにより、金属膜の吸収を
利用するため、透過光８の透過光量に対する入射光の波
長依存の影響を小さくできるという特有効果を有する。
８の透過光量を減衰させるための薄膜層４を金属膜で形
成したが、誘電体膜を単層または複数層積層して所望の
透過光量を得るように構成しても同様の効果を有する
が、薄膜層を金属膜とすることにより、金属膜の吸収を
利用するため、透過光８の透過光量に対する入射光の波
長依存の影響を小さくできるという特有効果を有する。
【００３２】また、本第１の実施の形態において光学素
子をプリズムとしたが、必要な光学系に応じて光学素子
をレンズとし、このレンズに隣接して本発明の光量フィ
ルタを配置しても同様の効果を有することはいうまでも
ない。
子をプリズムとしたが、必要な光学系に応じて光学素子
をレンズとし、このレンズに隣接して本発明の光量フィ
ルタを配置しても同様の効果を有することはいうまでも
ない。
【００３３】（実施の形態２）次に、図３は本発明の第
２の実施の形態における光量フィルタの断面図を示す。
本発明の第２の実施の形態における光量フィルタは、基
板３０上に誘電体膜３１を形成し、誘電体膜３１上に段
差を構成し、段差凹部３２上に金属薄膜からなる薄膜層
３４を形成し、段差凸部３３の透過光を１００％とする
ため反射防止膜３５を形成した構成を有している。
２の実施の形態における光量フィルタの断面図を示す。
本発明の第２の実施の形態における光量フィルタは、基
板３０上に誘電体膜３１を形成し、誘電体膜３１上に段
差を構成し、段差凹部３２上に金属薄膜からなる薄膜層
３４を形成し、段差凸部３３の透過光を１００％とする
ため反射防止膜３５を形成した構成を有している。
【００３４】光量フィルタに照射された入射光３６のう
ち、段差凸部３３を通過した透過光３７は透過効率１０
０％であり、段差凹部３２を通過した透過光３８は薄膜
層３４の吸収により透過光量が減衰するため、光量フィ
ルタの透過光量を異ならしめることができること、ま
た、透過光３７、３８の位相差は段差量３９により所定
値に設定できることは第１の実施の形態と同様であり、
透過光３８の透過光量および透過光３７、３８の位相差
を精度良く、かつ、バラツキが少なくできることも第１
の実施の形態と同様である。
ち、段差凸部３３を通過した透過光３７は透過効率１０
０％であり、段差凹部３２を通過した透過光３８は薄膜
層３４の吸収により透過光量が減衰するため、光量フィ
ルタの透過光量を異ならしめることができること、ま
た、透過光３７、３８の位相差は段差量３９により所定
値に設定できることは第１の実施の形態と同様であり、
透過光３８の透過光量および透過光３７、３８の位相差
を精度良く、かつ、バラツキが少なくできることも第１
の実施の形態と同様である。
【００３５】さらに、本第２の実施の形態においては段
差を誘電体膜３１上に形成している。これにより、段差
量３９を基板３０の材質によらず設定できるという特有
の効果を有する。すなわち、必要な透過光３７、３８の
位相差は段差量３９と段差を構成する材料の屈折率との
積できまるため、段差を構成する材料により、段差量３
９は自ずと決まる。しかしながら必要な位相差が大きい
場合、段差量も大きくなり、段差を構成するためのエッ
チング時間が長くなる。このときエッチング面である段
差凹部の表面性が劣化するが、本第２の実施の形態にお
いては段差を誘電体膜３１で形成するため、この誘電体
膜３１の屈折率が大きいものを選択すれば段差量３９は
小さくすることができ、段差凹部の表面性を劣化させる
ことなくエッチングできるという効果を有する。
差を誘電体膜３１上に形成している。これにより、段差
量３９を基板３０の材質によらず設定できるという特有
の効果を有する。すなわち、必要な透過光３７、３８の
位相差は段差量３９と段差を構成する材料の屈折率との
積できまるため、段差を構成する材料により、段差量３
９は自ずと決まる。しかしながら必要な位相差が大きい
場合、段差量も大きくなり、段差を構成するためのエッ
チング時間が長くなる。このときエッチング面である段
差凹部の表面性が劣化するが、本第２の実施の形態にお
いては段差を誘電体膜３１で形成するため、この誘電体
膜３１の屈折率が大きいものを選択すれば段差量３９は
小さくすることができ、段差凹部の表面性を劣化させる
ことなくエッチングできるという効果を有する。
【００３６】本第２の実施の形態において、段差凹部３
２には誘電体膜３１があるが、段差凸部のみに誘電体膜
３１を構成しても良い。
２には誘電体膜３１があるが、段差凸部のみに誘電体膜
３１を構成しても良い。
【００３７】なお、本第２の実施の形態において薄膜層
３４を金属膜で形成したが、誘電体膜を単層または複数
層積層して所望の透過光量を得るように構成できること
は第１の実施の形態と同様である。
３４を金属膜で形成したが、誘電体膜を単層または複数
層積層して所望の透過光量を得るように構成できること
は第１の実施の形態と同様である。
【００３８】また、本第２の実施の形態において光学素
子をプリズムとしたが、必要な光学系に応じて光学素子
をレンズとし、このレンズに隣接して本発明の光量フィ
ルタを配置しても同様の硬化を有すること第１の実施の
形態と同様である。
子をプリズムとしたが、必要な光学系に応じて光学素子
をレンズとし、このレンズに隣接して本発明の光量フィ
ルタを配置しても同様の硬化を有すること第１の実施の
形態と同様である。
【００３９】（実施の形態３）次に、図４は本発明の第
３の実施の形態における光量フィルタ、図５は図４に示
すＡ−Ａ1線での光量フィルタの断面図である。本発明
の第３の実施の形態における光量フィルタ４０は、光学
素子である複合プリズム４１上に直接形成されており、
プリズム４１上に段差を有し、段差凹部４２上に金属薄
膜からなる薄膜層４４を形成し、段差凸部４３の透過光
を１００％とするため反射防止膜４５を形成した構成を
有している。
３の実施の形態における光量フィルタ、図５は図４に示
すＡ−Ａ1線での光量フィルタの断面図である。本発明
の第３の実施の形態における光量フィルタ４０は、光学
素子である複合プリズム４１上に直接形成されており、
プリズム４１上に段差を有し、段差凹部４２上に金属薄
膜からなる薄膜層４４を形成し、段差凸部４３の透過光
を１００％とするため反射防止膜４５を形成した構成を
有している。
【００４０】光量フィルタに照射された入射光４６のう
ち、段差凸部４３を通過した透過光４７は透過効率１０
０％であり、段差凹部４２を通過した透過光４８は薄膜
層４４の吸収により透過光量が減衰するため、光量フィ
ルタの透過光量を異ならしめることができる。
ち、段差凸部４３を通過した透過光４７は透過効率１０
０％であり、段差凹部４２を通過した透過光４８は薄膜
層４４の吸収により透過光量が減衰するため、光量フィ
ルタの透過光量を異ならしめることができる。
【００４１】また、透過光４７、４８は段差量４９によ
り位相差をなくする、または、所定の位相差を有するよ
うにできることは実施の形態１で述べたことと同様であ
る。
り位相差をなくする、または、所定の位相差を有するよ
うにできることは実施の形態１で述べたことと同様であ
る。
【００４２】さらに、本第３の実施の形態によれば光量
フィルタは光学素子上に直接形成されているため、光量
フィルタ／光学素子間での光学特性の劣化が生じること
がないため、収差等の小さな光学素子を構成できるとい
う特有の効果を有する。
フィルタは光学素子上に直接形成されているため、光量
フィルタ／光学素子間での光学特性の劣化が生じること
がないため、収差等の小さな光学素子を構成できるとい
う特有の効果を有する。
【００４３】なお、本第３の実施の形態において薄膜層
４４を金属膜で形成したが、誘電体膜を単層または複数
層積層して所望の透過光量を得るように構成できること
は第１の実施の形態と同様である。
４４を金属膜で形成したが、誘電体膜を単層または複数
層積層して所望の透過光量を得るように構成できること
は第１の実施の形態と同様である。
【００４４】（実施の形態４）次に、第４の実施の形態
として本発明による光量フィルタの製造方法について図
６を用いて説明する。
として本発明による光量フィルタの製造方法について図
６を用いて説明する。
【００４５】まず、図６（ａ）に示すように、基板６１
上にフォトレジストパターン６２を形成する。つぎに、
フォトレジストパターン６２をマスクとして基板６１を
所定の量だけエッチングする（図６（ｂ））。そして、
フォトレジスト６２を除去することなく金属膜からなる
薄膜層６３を形成する（図６（ｃ））。その後、フォト
レジスト６２をフォトレジスト６２上の薄膜層６３と共
に除去し（図６（ｄ））、反射防止膜６４を形成する。
上にフォトレジストパターン６２を形成する。つぎに、
フォトレジストパターン６２をマスクとして基板６１を
所定の量だけエッチングする（図６（ｂ））。そして、
フォトレジスト６２を除去することなく金属膜からなる
薄膜層６３を形成する（図６（ｃ））。その後、フォト
レジスト６２をフォトレジスト６２上の薄膜層６３と共
に除去し（図６（ｄ））、反射防止膜６４を形成する。
【００４６】基板６１は必要な位相差すなわち、基板６
１の屈折率とエッチング量の積が所定の値となるような
エッチング量だけエッチングされるが、本実施の形態に
おいてエッチング法としてイオンビームエッチング法を
用いた。これによりエッチング量を精度良く、かつ、バ
ラツキを小さくすることができる、すなわち、位相差を
精度良く、かつ、バラツキを小さな光量フィルタが製造
できるという効果を有する。
１の屈折率とエッチング量の積が所定の値となるような
エッチング量だけエッチングされるが、本実施の形態に
おいてエッチング法としてイオンビームエッチング法を
用いた。これによりエッチング量を精度良く、かつ、バ
ラツキを小さくすることができる、すなわち、位相差を
精度良く、かつ、バラツキを小さな光量フィルタが製造
できるという効果を有する。
【００４７】さらに、上記の本実施の形態による製造方
法によれば、１個のフォトレジストパターン６２で基板
６１のエッチングパターンと薄膜層６３のパターンを形
成することができるため、効率よく製造できること、ま
た、薄膜層６３を基板６１のエッチング面（段差凹部）
のみに位置精度良く形成することができるという効果を
有する。
法によれば、１個のフォトレジストパターン６２で基板
６１のエッチングパターンと薄膜層６３のパターンを形
成することができるため、効率よく製造できること、ま
た、薄膜層６３を基板６１のエッチング面（段差凹部）
のみに位置精度良く形成することができるという効果を
有する。
【００４８】そして、薄膜層６３は金属膜をスパッタ法
で形成しているので、膜厚を精度良く、かつ、バラツキ
を小さくすることができる、すなわち、透過光量が精度
良く、かつ、バラツキの小さな光量フィルタが製造でき
るという効果を有する。
で形成しているので、膜厚を精度良く、かつ、バラツキ
を小さくすることができる、すなわち、透過光量が精度
良く、かつ、バラツキの小さな光量フィルタが製造でき
るという効果を有する。
【００４９】なお、本実施の形態による製造方法におい
て、基板６１のエッチングはイオンビームエッチング法
を用いたが、ケミカルエッチング法でも良い。さらに、
薄膜層６３は金属膜をスパッタ法で形成したが、蒸着法
でも同様の効果を有し、薄膜層の材料として、単層また
は複数層で形成された誘電体膜でも同様の効果を有す
る。また、本実施の形態において、基板は平板とした
が、プリズム等の光学素子上においても本実施の形態の
工程が行えることはいうまでもない。
て、基板６１のエッチングはイオンビームエッチング法
を用いたが、ケミカルエッチング法でも良い。さらに、
薄膜層６３は金属膜をスパッタ法で形成したが、蒸着法
でも同様の効果を有し、薄膜層の材料として、単層また
は複数層で形成された誘電体膜でも同様の効果を有す
る。また、本実施の形態において、基板は平板とした
が、プリズム等の光学素子上においても本実施の形態の
工程が行えることはいうまでもない。
【００５０】（実施の形態５）次に、第５の実施の形態
として、本発明による光量フィルタの製造方法について
図７を用いて説明する。
として、本発明による光量フィルタの製造方法について
図７を用いて説明する。
【００５１】まず、図７（ａ）に示すように、基板７１
上に誘電体膜７２を形成する。次に誘電体膜７２上にフ
ォトレジストパターン７３を形成する（図７（ｂ））。
そして、フォトレジストパターン７３をマスクとして誘
電体膜７２を所定の量だけエッチングし（図７
（ｃ））、フォトレジスト７３を除去することなく金属
膜からなる薄膜層７４を形成する（図７（ｄ））。その
後、フォトレジスト７３をフォトレジスト７３上の薄膜
層７４と共に除去し（図７（ｅ））、反射防止膜７５を
形成する。
上に誘電体膜７２を形成する。次に誘電体膜７２上にフ
ォトレジストパターン７３を形成する（図７（ｂ））。
そして、フォトレジストパターン７３をマスクとして誘
電体膜７２を所定の量だけエッチングし（図７
（ｃ））、フォトレジスト７３を除去することなく金属
膜からなる薄膜層７４を形成する（図７（ｄ））。その
後、フォトレジスト７３をフォトレジスト７３上の薄膜
層７４と共に除去し（図７（ｅ））、反射防止膜７５を
形成する。
【００５２】上記の本実施の形態による製造方法によれ
ば、１個のフォトレジストパターン７３で誘電体膜７２
のエッチングパターンと薄膜層７４のパターンを形成す
ることができるため、効率よく製造できること、また、
薄膜層７４を誘電体膜７２のエッチング面（段差凹部）
のみに位置精度良く形成することができるという効果を
有することは第４の実施の形態と同様である。また、位
相差、透過光量を精度良く、かつ、バラツキを小さくで
きること、プリズム等の光学部材上に本工程を適用でき
ることは第４の実施の形態と同様である。
ば、１個のフォトレジストパターン７３で誘電体膜７２
のエッチングパターンと薄膜層７４のパターンを形成す
ることができるため、効率よく製造できること、また、
薄膜層７４を誘電体膜７２のエッチング面（段差凹部）
のみに位置精度良く形成することができるという効果を
有することは第４の実施の形態と同様である。また、位
相差、透過光量を精度良く、かつ、バラツキを小さくで
きること、プリズム等の光学部材上に本工程を適用でき
ることは第４の実施の形態と同様である。
【００５３】また、本第５の実施の形態における製造方
法において、誘電体膜７２は、そのエッチング量と誘電
体膜７２の屈折率との積が所定の値となるような量だけ
エッチングされるが、必要な位相差、すなわち、エッチ
ング量と屈折率の積の値が大きい場合、エッチング量は
大きくなり、エッチングに要する時間が長くなり、エッ
チング面の表面性を損なうが、誘電体膜７２の屈折率が
大きい材料を選択することでエッチング時間を短縮し、
エッチング面の表面性を損なうことなく製造できるとい
う特有の効果を有する。さらに、薄膜層との密着性の観
点からも誘電体膜の材料を選定することもでき、信頼性
の高い光量フィルタを製造できるという効果を有する。
法において、誘電体膜７２は、そのエッチング量と誘電
体膜７２の屈折率との積が所定の値となるような量だけ
エッチングされるが、必要な位相差、すなわち、エッチ
ング量と屈折率の積の値が大きい場合、エッチング量は
大きくなり、エッチングに要する時間が長くなり、エッ
チング面の表面性を損なうが、誘電体膜７２の屈折率が
大きい材料を選択することでエッチング時間を短縮し、
エッチング面の表面性を損なうことなく製造できるとい
う特有の効果を有する。さらに、薄膜層との密着性の観
点からも誘電体膜の材料を選定することもでき、信頼性
の高い光量フィルタを製造できるという効果を有する。
【００５４】なお、本実施の形態において、基板は平板
としたが、プリズム等の光学素子上においても本実施の
形態の工程が行えることはいうまでもない。
としたが、プリズム等の光学素子上においても本実施の
形態の工程が行えることはいうまでもない。
【００５５】
【発明の効果】以上のように、本発明の光量フィルタは
透過光量、位相差が精度良く、かつ、バラツキが少ない
という効果を有する。
透過光量、位相差が精度良く、かつ、バラツキが少ない
という効果を有する。
【００５６】さらに、本発明の光量フィルタの製造方法
によれば、透過光量を調整する薄膜層を所定の位置に精
度良く構成できるという効果を有する。
によれば、透過光量を調整する薄膜層を所定の位置に精
度良く構成できるという効果を有する。
【図１】本発明の第１の実施の形態における光量フィル
タを示す図
タを示す図
【図２】本発明の第１の実施の形態における光量フィル
タの断面図
タの断面図
【図３】本発明の第２の実施形態における光量フィルタ
の断面図
の断面図
【図４】本発明の第３の実施形態における光量フィルタ
を示す図
を示す図
【図５】本発明の第３の実施形態における光量フィルタ
の断面図
の断面図
【図６】本発明の第４の実施形態における光量フィルタ
の製造方法を示す断面図
の製造方法を示す断面図
【図７】本発明の第５の実施形態における光量フィルタ
の製造方法を示す断面図
の製造方法を示す断面図
【図８】本発明の実施形態における光学素子全体の構造
を示す断面図
を示す断面図
【図９】従来の光量フィルタの断面図
【図１０】従来の光量フィルタの製造方法を示す断面図
１、３０、６１、７１、９１ 基板 ２、３２、４２ 段差凹部 ３、３３、４３ 段差凸部 ４、３４、４４、６３、７４ 薄膜層 ５、３５、４５、６４、７５ 反射防止膜 ６、３６、４６ 入射光 ７、８、３７、３８、４７、４８ 透過光 ９、３９、４９ 段差量 １０、４０、８１ 光量フィルタ １１ 光学素子 ３１、７２ 誘電体膜 ４１ プリズム ６２、７３ フォトレジストパターン ８２ 位相回折格子 ８３ 回折格子を設けない領域 ９２、９４ マスク ９３ 位相補正膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−67737（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−182927（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 5/00
Claims (3)
- 【請求項１】 光学素子に隣接した基板上に形成された
光量フィルタであって、前記基板上に段差を設けること
で凸部と凹部を有し、前記凹部側部分に少なくとも１層
の薄膜層を形成することで前記凸部と前記凹部の透過光
量を異ならせるとともに、前記凸部と凹部の段差を調整
することで前記凸部と前記凹部を透過する光の位相差を
設定することを特徴とする光量フィルタ。 - 【請求項２】 前記凸部表面には反射防止膜を形成した
ことを特徴とする請求項１に記載の光量フィルタ。 - 【請求項３】 光学素子に隣接した基板上に形成された
光量フィルタであって、前記基板上に誘電体膜を形成
し、前記誘電体膜上に段差を設けることで凸部と凹部を
有し、前記凹部側部分に少なくとも１層の薄膜層を形成
することで前記凸部と前記凹部の透過光量を異ならせる
とともに、前記凸部と凹部の段差を調整することで前記
凸部と前記凹部を透過する光の位相差を設定することを
特徴とする光量フィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24031696A JP3314625B2 (ja) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | 光量フィルタおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24031696A JP3314625B2 (ja) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | 光量フィルタおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1090504A JPH1090504A (ja) | 1998-04-10 |
| JP3314625B2 true JP3314625B2 (ja) | 2002-08-12 |
Family
ID=17057660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24031696A Expired - Fee Related JP3314625B2 (ja) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | 光量フィルタおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3314625B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9575570B2 (en) | 2004-04-30 | 2017-02-21 | Hillcrest Laboratories, Inc. | 3D pointing devices and methods |
-
1996
- 1996-09-11 JP JP24031696A patent/JP3314625B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9575570B2 (en) | 2004-04-30 | 2017-02-21 | Hillcrest Laboratories, Inc. | 3D pointing devices and methods |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1090504A (ja) | 1998-04-10 |
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Legal Events
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