JP3314542B2 - 低次酸化チタン粉末 - Google Patents

低次酸化チタン粉末

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JP3314542B2 JP19948994A JP19948994A JP3314542B2 JP 3314542 B2 JP3314542 B2 JP 3314542B2 JP 19948994 A JP19948994 A JP 19948994A JP 19948994 A JP19948994 A JP 19948994A JP 3314542 B2 JP3314542 B2 JP 3314542B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、低次酸化チタン粉末を
基材とし、その表面にガスバリヤー性薄膜を形成してな
る耐酸化性に優れた低次酸化チタン粉末に関する。
【0002】詳しくは、本発明は、可視光領域において
透明性を有し、かつ、酸素及び水蒸気等の気体の透過率
が小さいガスバリヤー性薄膜を形成した低次酸化チタン
粉末に関するものであって、水蒸気や酸素、その他の有
害な気体を避けなければならない環境、特に300℃以
上の高温酸化性雰囲気において使用される低次酸化チタ
ン粉末に適したガスバリヤー性透明薄膜を形成した低次
酸化チタン粉末に関する。
【0003】
【従来の技術】従来、TiNやTi2n−1
等の一般式で示される低次酸化チタンは、黒色を呈する
ことが知られており、その低い毒性及び良好な導電性に
より、新しいタイプの無機黒色顔料として化粧品、液晶
表示用ブラックマトリックスフィラー材料、CRTの帯
電防止膜材料等に使用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
低次酸化チタン粉末は、酸素を有する雰囲気中におい
て、特に、300℃以上の高温酸化性雰囲気においては
極めて酸化されやすく、加熱酸化後には無機白色顔料と
して知られる、二酸化チタン(TiO)に変化してし
まう。このため、従来において、これら低次酸化チタン
粉末の用途は、300℃以下の温度においてのみ使用可
能な黒色顔料であった。
【0005】本発明は上記従来の問題点を解決し、30
0℃以上の高温の酸化性雰囲気においても酸化による黒
色の退色の問題がない、極めて耐高温酸化性に優れた低
次酸化チタン粉末を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の低次酸化チタ
ン粉末は、低次酸化チタンの粒子の表面にガスバリヤー
性薄膜を形成してなる低次酸化チタン粉末であって、ガ
スバリヤー性薄膜は、酸化ゲルマニウム、酸化チタン、
酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム及び酸化マグネシ
ウムよりなる群から選ばれる1種又は2種以上からなる
ことを特徴とする。
【0007】請求項2の低次酸化チタン粉末は、低次酸
化チタンの粒子の表面にガスバリヤ ー性薄膜を形成して
なる低次酸化チタン粉末であって、ガスバリヤー性薄膜
は、酸化珪素と、酸化ゲルマニウム、酸化チタン、酸化
アルミニウム、酸化ジルコニウム及び酸化マグネシウム
よりなる群から選ばれる1種又は2種以上とを含むもの
であることを特徴とする。
【0008】請求項3の低次酸化チタン粉末は、請求項
において、ガスバリヤー性薄膜は、酸化珪素を主体と
し、且つ酸化ゲルマニウム、酸化チタン、酸化アルミニ
ウム、酸化ジルコニウム及び酸化マグネシウムよりなる
群から選ばれる1種又は2種以上を含むものであること
を特徴とする。
【0009】請求項4の低次酸化チタン粉末は、請求項
1ないし3のいずれか1項において、低次酸化チタン
は、TiN(x=0.2〜1.4,y=0.1〜
1.8)又はTi2n−1(n=1〜10)である
ことを特徴とする。
【0010】以下に本発明を詳細に説明する。
【0011】本発明において、基材となる低次酸化チタ
ンは、TiN(ただし、x=0.2〜1.4,y
=0.1〜1.8)又はTi2n−1(ただし、n
=1〜10)で表される低次酸化チタンの粒子である。
TiNにおいて、xが0.2未満では導電性に問
題があり、1.4を超えると黒色顔料としての色調に難
がある。また、yが0.1未満では顔料としての色調に
難があり、1.8を超えても色調に難点が生じる。Ti
2n−1において、nが10を超えると徐々に白色
を呈すようになり、n=20においては灰色を示す。な
お、TiNのO/N重量比は、0.2〜6の範囲
であることが好ましい。
【0012】また、このような低次酸化チタンの粒子の
粒径は0.05〜1μmであることが好ましい。この粒
径が0.05μm未満ではフィラーとして使用する際に
樹脂中にて透明性を有するようになり、1μmを超える
と顔料用としては不適な粗大粒子となる。
【0013】このような低次酸化チタンの粒子に形成す
るガスバリヤー性薄膜は、酸素及び水蒸気等の気体の透
過率が小さく、良好なガスバリヤー性を示し、かつ、可
視光領域において透明性の高いものであれば良く、具体
的には、酸化ゲルマニウム、酸化チタン、酸化アルミニ
ウム、酸化ジルコニウム及び酸化マグネシウムよりなる
群から選ばれる1種又は2種以上、或いは、酸化珪素と
酸化ゲルマニウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸
化ジルコニウム及び酸化マグネシウムよりなる群から選
ばれる1種又は2種以上が挙げられる。
【0014】特に、本発明においては、ガスバリヤー性
薄膜は、酸化珪素を主体とし、且つ酸化ゲルマニウム、
酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム及び
酸化マグネシウムよりなる群から選ばれる1種又は2種
以上を含むものであることが好ましい。
【0015】このようなガスバリヤー性薄膜の形成割合
は、少な過ぎると十分な耐高温酸化性の改善効果が得ら
れず、多過ぎると黒色顔料としての基本的な特性を損な
う恐れがある。従って、ガスバリヤー性薄膜は、低次酸
化チタン粒子重量に対してガスバリヤー性薄膜重量が3
〜30重量%程度となるように形成するのが好ましい。
【0016】なお、ガスバリヤー性薄膜として、前述の
如く、酸化珪素を主体とし、且つ酸化ゲルマニウム、酸
化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム及び酸
化マグネシウムよりなる群から選ばれる1種又は2種以
上を含むものを形成する場合、酸化珪素と、これに併用
する酸化ゲルマニウム、酸化チタン、酸化アルミニウ
ム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウムといった酸化
物との割合は、モル比で1:0.01〜10とするのが
好ましい。このモル比よりも酸化珪素が少ないとガスバ
リアー皮膜中の酸化珪素の特性(透明性)が失われてい
き、酸化珪素が多いと十分な熱膨張係数の増大効果が得
られない。
【0017】本発明の低次酸化チタン粉末の製造方法に
は特に制限はなく、本発明の低次酸化チタン粉末は、例
えば、後掲の実施例1〜9に示す各種の方法に従って、
低次酸化チタン粒子にガスバリヤー性薄膜を形成するこ
とにより容易に製造することができる。
【0018】
【作用】本発明の低次酸化チタン粉末にあっては、ガス
バリヤー性薄膜により低次酸化チタンを覆ったことによ
り、300℃以上の高温の酸素含有雰囲気においても酸
化及びそれに伴う黒色の退色が防止される。
【0019】しかも、可視光領域において透明性を有
し、かつ、酸素及び水蒸気等の気体の透過率が小さいガ
スバリヤー性薄膜により、良好な耐高温酸化性を有する
低次酸化チタン粉末が提供される。
【0020】請求項3の低次酸化チタン粉末によれば、
ガスバリヤー性に優れ、かつ、透明性も良好な酸化珪素
を主体とするガスバリヤー性薄膜を形成した低次酸化チ
タンであって、酸化ゲルマニウム、酸化チタン、酸化ア
ルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウムの1
種又は2種以上による熱膨張係数の増加効果により、酸
化珪素系ガスバリヤー性薄膜のクラック発生を防止した
高耐熱性の低次酸化チタン粉末が提供される。即ち、酸
化珪素はガスバリヤー性、透明性に優れるものの、熱膨
張係数が比較的小さく、これを低次酸化チタン粒子に被
覆した場合、高温下では低次酸化チタン粒子の熱膨張に
追随できず、ガスバリヤー性薄膜にクラックが入り、こ
のクラックから基材の低次酸化チタンの酸化が進行する
場合がある。請求項3によれば、このような熱膨張係数
差に起因するガスバリヤー性薄膜のクラックが有効に防
止される。
【0021】請求項4の低次酸化チタン粉末によれば、
黒色度の高い低次酸化チタン粉末が提供される。
【0022】
【実施例】以下に実施例、比較例及び試験例を挙げて本
発明をより具体的に説明する。
【0023】なお、実施例及び比較例において、低次酸
化チタン粒子としては、TiN0.40.9の粒子で
あって、平均粒径0.3μmのものを用いた。また、以
下において、「%」は「重量%」を示す
【0024】 施例:シリコンテトラエトキシド(TEOS)及び
ゲルマニウムテトラエトキシド(TEOG)による被覆 濃度20%となるように低次酸化チタン粉末を水中に分
散させ、ダイノーミル湿式解砕機により十分に粉末の解
砕を行った。別に、SiO:GeO(モル比9:
1)として合計10%の重量比に相当するTEOS及び
TEOGを溶解させたエチルアルコール溶液(以下、
「複合アルコキシド溶液」と略記)200gを作製し
た。先の水分散液1kg中に、一定の攪拌下にて、低次
酸化チタン粉末基準でSiO+GeOとして10%
の重量比に相当する複合アルコキシド溶液200g
を、定量ポンプによりゆっくりと滴下した。20時間攪
拌の後に得られた生成物を濾過し、140℃で24時間
乾燥後、乳鉢で粉砕して、本発明の耐酸化性に優れた低
次酸化チタン粉末(試料)を得た。
【0025】 実施例:シリコンテトラエトキシド(TEOS)及び
ゲルマニウムテトラエトキシド(TEOG)による被覆 実施例において、低次酸化チタン粉末基準でSiO
+GeOとして20%の重量比に相当する複合アルコ
キシド溶液400gを添加したこと以外は同様の手法
で表面処理を行い、本発明の耐酸化性に優れた低次酸化
チタン粉末(試料)を得た。
【0026】 実施例:シリコンテトラエトキシド(TEOS)及び
ゲルマニウムテトラエトキシド(TEOG)による被覆 SiO:GeO(モル比44:56)として合計1
0%の重量比に相当するTEOS及びTEOGを溶解さ
せたエチルアルコール溶液(以下、「複合アルコキシド
溶液」と略記)400gを作製した。低次酸化チタン
粉末基準でSiO+GeOとして20%の重量比に
相当する複合アルコキシド溶液400gを添加したこ
と以外は実施例と同様の手法で表面処理を行い、本発
明の耐酸化性に優れた低次酸化チタン粉末(試料)を
得た。
【0027】 実施例:[トリ(sec−ブトキシ)アルミニウム]
(TBOA)による被覆 濃度20%となるように低次酸化チタン粉末を水中に分
散させ、ダイノーミル湿式解砕機により十分に粉末の解
砕を行った。別に、Alとして10%の重量比に
相当するTBOAを溶解させたエチルアルコール溶液
(以下、「Alアルコキシド溶液」と略記)400gを
作製した。先の低次酸化チタン粉末水分散液1kg中
に、一定の攪拌下にて、低次酸化チタン粉末基準でAl
として20%の重量比に相当するAlアルコキシ
ド溶液400gを、定量ポンプによりゆっくりと滴下し
た。20時間攪拌の後に得られた生成物を濾過し、14
0℃で24時間乾燥後、乳鉢で粉砕して、本発明の耐酸
化性に優れた低次酸化チタン粉末(試料)を得た。
【0028】 実施例:[トリ(sec−ブトキシ)アルミニウム]
(TBOA)及び[テトラ(iso−プロポキシ)チタ
ン](TPOT)による被覆 濃度20%となるように低次酸化チタン粉末を水中に分
散させ、ダイノーミル湿式解砕機により十分に粉末の解
砕を行った。別に、Al:TiO(モル比9:
1)として合計10%の重量比に相当するTBOA及び
TPOTを溶解させたエチルアルコール溶液(以下、
「複合アルコキシド溶液」と略記)400gを作製し
た。先の低次酸化チタン粉末水分散液1kg中に、一定
の攪拌下にて、低次酸化チタン粉末基準でAl
TiOとして20%の重量比に相当する複合アルコキ
シド溶液400gを、定量ポンプによりゆっくりと滴
下した。20時間攪拌の後に得られた生成物を濾過し、
140℃で24時間乾燥後、乳鉢で粉砕して、本発明の
耐酸化性に優れた低次酸化チタン粉末(試料)を得
た。
【0029】 実施例:シリコンテトラエトキシド(TEOS)及び
[テトラ(n−ブトキシ)ジルコニウム](TBOZ)
による被覆 濃度20%となるように低次酸化チタン粉末を水中に分
散させ、ダイノーミル湿式解砕機により十分に粉末の解
砕を行った。別に、SiO:ZrO(モル比19:
1)として合計10%の重量比に相当するTEOS及び
TBOZを溶解させたエチルアルコール溶液(以下、
「複合アルコキシド溶液」と略記)400gを作製し
た。先の低次酸化チタン粉末水分散液1kg中に、一定
の攪拌下にて、低次酸化チタン粉末基準でSiO:Z
rO(モル比9:1)として20%の重量比に相当す
る複合アルコキシド溶液400gを、定量ポンプによ
りゆっくりと滴下した。20時間攪拌の後に得られた生
成物を濾過し、140℃で24時間乾燥後、乳鉢で粉砕
して、本発明の耐酸化性に優れた低次酸化チタン粉末
(試料)を得た。
【0030】比較例1 濃度20%となるように低次酸化チタン粉末を水中に分
散させ、ダイノーミル湿式解砕機により十分に粉末の解
砕を行った。この水分散液1kgを濾過し、140℃で
24時間乾燥後、乳鉢で粉砕して、無処理の低次酸化チ
タン粉末(比較試料)を得た。
【0031】試験例1 上記実施例1〜及び比較例1で得られた試料A〜
び比較試料を、それぞれ、400〜500℃の各温度で
0.5時間空気中で加熱し、そのときの強熱増量比
((加熱後の重量−加熱前の重量)÷加熱前の重量)を
求め、結果を表1に示した。
【0032】即ち、強熱増量比は、TiN0.4
0.9(分子量67.9)が加熱による空気酸化でTi
(分子量79.9)に酸化された場合の増加割合を
示すものであり、この値が大きい程酸化され易いことを
示す。
【0033】また、上記実施例1〜及び比較例1で得
られた試料A〜及び比較試料について、400℃,3
0分加熱後のL,a,b系の測定を行い、このうちL値
を比較することにより、残存色調変化を調べ、結果を表
1に示した。
【0034】L値は18以下であれば十分な黒色を呈す
るものである。
【0035】
【表1】
【0036】表1より、低次酸化チタン粒子の表面に各
種酸化物又は複合酸化物の薄膜を形成することにより、
耐高温酸化性が高められ、高温の酸化性雰囲気中におい
ても酸化が殆ど進行せず、低次酸化チタン本来の黒色を
維持することができることが明らかである。
【0037】試験例2 実施例1及び比較例1で作製した試料A及び比較試料に
ついて、下記条件でTG(熱重量分析)−DTA(示差
熱分析)分析を行い、結果をそれぞれ図1及び図に示
した。 測定条件 サンプリング:1sec 試料重量:試=19.996mg 比較試料=8.553mg 昇温速度:5.0℃/min 熱電対:PR
【0038】図より明らかなように、比較試料では3
00℃付近で白みが増してくるのに対し、図1に示す試
Aでは400℃を超えても黒色を維持している
【0039】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の低次酸化チ
タン粉末によれば、ガスバリヤー性薄膜により低次酸化
チタンを覆ったことにより、300℃以上の高温の酸素
含有雰囲気においても酸化及びそれに伴う黒色の退色が
防止される。従って、300℃以上の高温酸化性雰囲気
においても良好に使用可能な黒色顔料が提供される
【0040】求項3の低次酸化チタン粉末によれば、
ガスバリヤー性に優れ、かつ、透明性も良好な酸化珪素
を主体とするガスバリヤー性薄膜を形成した低次酸化チ
タンであって、酸化珪素系ガスバリヤー性薄膜のクラッ
ク発生の問題のない低次酸化チタン粉末が提供される。
【0041】請求項4の低次酸化チタン粉末によれば、
黒色度の高い低次酸化チタン粉末が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】試験例の試料Aの分析結果を示すグラフであ
る。
【図2】試験例の比較試料の分析結果を示すグラフで
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柳沢 明男 埼玉県大宮市北袋町1丁目297番地 三 菱マテリアル株式会社商品企業化センタ ー内 (56)参考文献 特開 平7−89721(JP,A) 特開 平5−319808(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C01G 1/00 - 23/08 CA(STN)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 低次酸化チタンの粒子の表面にガスバリ
    ヤー性薄膜を形成してなる低次酸化チタン粉末であっ
    て、ガスバリヤー性薄膜は、酸化ゲルマニウム、酸化チ
    タン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム及び酸化マ
    グネシウムよりなる群から選ばれる1種又は2種以上か
    らなることを特徴とする低次酸化チタン粉末。
  2. 【請求項2】 低次酸化チタンの粒子の表面にガスバリ
    ヤー性薄膜を形成してなる低次酸化チタン粉末であっ
    て、ガスバリヤー性薄膜は、酸化珪素と、酸化ゲルマニ
    ウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウ
    ム及び酸化マグネシウムよりなる群から選ばれる1種又
    は2種以上を含むものであることを特徴とする低次酸
    化チタン粉末。
  3. 【請求項3】 請求項2において、該ガスバリヤー性薄
    膜は、酸化珪素を主体とし、且つ酸化ゲルマニウム、酸
    化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム及び酸
    化マグネシウムよりなる群から選ばれる1種又は2種以
    上を含むものであることを特徴とする低次酸化チタン粉
    末。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか1項におい
    て、低次酸化チタンは、TiN(x=0.2〜
    1.4,y=0.1〜1.8)又はTi
    2n−1(n=1〜10)であることを特徴とする低次
    酸化チタン粉末。
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KR20020003887A (ko) * 2000-06-21 2002-01-16 김충섭 내산화성 저차산화티탄의 제조방법
EP1806318A1 (en) * 2004-09-24 2007-07-11 Sumi, Kiichirou Method for manufacturing titanium ball
CN101090866B (zh) * 2004-12-28 2011-08-17 石原产业株式会社 黑色氮氧化钛
JP4668607B2 (ja) * 2004-12-28 2011-04-13 石原産業株式会社 黒色系酸窒化チタン
JP5095939B2 (ja) * 2004-12-28 2012-12-12 石原産業株式会社 黒色系酸窒化チタン
US7785501B2 (en) 2004-12-28 2010-08-31 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Black resin composition for display device, and member for display device
JP4915664B2 (ja) * 2007-04-17 2012-04-11 三菱マテリアル株式会社 高抵抗黒色粉末およびその分散液、塗料、黒色膜
JP2021160962A (ja) * 2020-03-31 2021-10-11 住友化学株式会社 粒子、粉体組成物、固体組成物、液体組成物及び成形体

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