JP3303987B2 - 画像形成装置 - Google Patents

画像形成装置

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JP3303987B2
JP3303987B2 JP19850492A JP19850492A JP3303987B2 JP 3303987 B2 JP3303987 B2 JP 3303987B2 JP 19850492 A JP19850492 A JP 19850492A JP 19850492 A JP19850492 A JP 19850492A JP 3303987 B2 JP3303987 B2 JP 3303987B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザを利用す
る複写機,ファクシミリ,レーザプリンタ等の画像形成
装置に係り、特に形成する画像のドットサイズを変更で
きる画像形成装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のレーザプリンタにおいては、ホス
ト装置より入力された画像データを何も加工せずに生デ
ータのままで利用してきた。つまり、入力画像データの
画素密度で画像を記録していた。
【0003】しかし、近年のレーザプリンタでは、記録
画像をより鮮明にするため半導体レーザのパルス周期を
細分化して改善している。入力画素とその周囲の画素の
情報と、予め定められたパターンの情報とを比較し、そ
のパターンに応じてパルス周期を柔軟に変化させて、記
録画像を滑らかにしている(例えば、特開平3-33769号
公報)。
【0004】また、レーザプリンタ,デジタル複写機等
においてハーフトーン画像を出力するために、いくつか
の記録ドットをセルにまとめて、そのセル内のドットを
いくつ記録するかでハーフトーンを出力していたが、こ
の方法だと、階調数を増やそうとするとセルを大きくし
なければならず、従って、解像度は下がってしまうた
め、近年では、記録ドットにおいて、半導体レーザのパ
ルス周期の細分化、あるいは発光パワーを何段階かに切
り換えることにより、階調数をもたせて解像度を上げよ
うとしている。
【0005】また、レーザプリンタ等においては、近
年、形成される画像の画素密度や倍率も変更できる機能
が要求されている。それらの画素密度や倍率の変更に際
しては画像上のドット径の変更が必要となる。ドット径
を可変する制御手段として、従来、半導体レーザのビー
ム径を、アパーチャの径を変化させることにより、可変
にする制御手段が提案されている(例えば、特開昭61-12
4919号公報)。
【0006】すなわち、レーザビームが透過する開口部
の径を変更可能にしたアパーチャを光路内に挿入するこ
とにより、ビーム径を変更するものである。また、これ
に加えて、半導体レーザのパワーを可変することによ
り、感光体上のドット径を可変にする制御手段が提案さ
れている(例えば、特開昭62-49315号公報)。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記の従来技術におい
て、半導体レーザのパルス周期を細分化することにより
補正する場合、トナー粒子が互いに付きやすい傾向にあ
る特性を利用して、輪郭を滑らかにしている。しかし、
前記特性を利用した場合、環境条件(温度・湿度)、記録
媒体の劣化等により画質が変わってくる。また、前記補
正であると主走査方向解像度は増すが、副走査方向解像
度は向上しないため、縦方向と横方向とのどちらの向き
に印刷するかで、文字の外見が異なってしまうという問
題がある。
【0008】また、ハーフトーン画像を半導体レーザの
パルス幅制御で行う場合、例えば2×2のマトリクスを
組んだ場合、記録ドットが2から3ドット目に移行した
際、ドットが集中していないため、トナー粒子がお互い
に付いてしまい、階調通りのドット面積にならないとい
う問題がある。
【0009】半導体レーザのパワーを可変にすることに
よるドット径可変制御は、半導体レーザのパワーを変更
すると単位面積当りの露光エネルギが異なるため、特に
大幅なドット径変更の場合には、半導体レーザのパワー
の差による画像の濃度ムラが問題となる。
【0010】また、アパーチャを光路内に設ける方法で
は、アパーチャ径の変更に伴ってレーザビームのパワー
が変動するため、同じく画像濃度が変動して画質が低下
するという問題がある。
【0011】本発明の目的は、解像度,階調度を増加し
て、良好な画像形成がなされる画像形成装置を提供する
ことにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、半導体レーザから変調出力されるレーザ
ビームで主走査し、この主走査の方向と直交する副走査
方向に回転する感光体に対して、入力画素に基づき生成
された露光データによる露光を実行して潜像を形成する
構成の画像形成装置において、前記半導体レーザを、
つの画素に対応する領域に対して互いに独立して発光す
る複数個の発光部が前記副走査方向に沿って配列された
半導体レーザ群とし、この半導体レーザ群の各発光部を
それぞれ別々に駆動する複数個の発光制御手段と、前記
入力画素の少なくとも1つの画素について、その周囲の
画素の情報に基づき、白黒の境界線を認識し、認識した
境界線に一致するように潜像が形成されるような露光デ
ータを生成するパターン発生手段と、生成された前記
光データに基づき、前記1つの画素を複数の領域に分割
して、細分化された領域ごとに前記半導体レーザ群のう
ちのどの発光部を発光させるかを選択して前記発光制御
手段を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする。
【0013】また、前記細分化された領域ごとに前記半
導体レーザ群で発光させる発光部の光量を制御する光量
制御手段を設けことを特徴とする。
【0014】また、前記入力画素が階調データを有する
場合、その周囲の画素に基づき、ハーフトーン処理を施
した露光データを生成するハーフトーンパターン発生手
段と、その露光データに基づき、前記1つの画素を複数
の領域に分割して、細分化された領域ごとに前記半導体
レーザ群のうちのどの発光部を発光させるかを選択して
前記発光制御手段を制御する制御手段とを備えたことを
特徴とする。
【0015】また、画素密度に応じて前記半導体レーザ
群における複数個の発光部のうちのどの発光部を発光さ
せるかを選択して前記発光制御手段を制御するドットサ
イズ制御手段とを設けたことを特徴とする。
【0016】
【作用】上記の手段によれば、複数個の発光部が感光体
の副走査方向に沿って配列された半導体レーザ群を用
い、入力テキスト及びラインアートの画素とその周囲の
画素の画像情報に基づき、パターン発生手段が、前記
キスト及びラインアートの白黒の境界を認識し、この認
識した境界に基づき、前記テキスト及びラインアートに
近い輪郭になるように露光データを生成し、この露光デ
ータに応じて前記半導体レーザ群の複数個の発光部のう
ちのどの発光部を発光させるかを選択制御することで、
主走査方向及び副走査方向に解像度を増やすことがで
入力されたテキストやラインアートに近い輪郭に画
像形成が行われる。
【0017】また、前記露光データに応じて半導体レー
ザ群の複数個の発光部のうちどの発光部を発光させるか
を選択して制御するとともに、光量制御手段により発光
パワーを制御することで、より理想的な輪郭に近い画像
形成が行われる。
【0018】また、入力画素が階調データを有する場
合、ハーフトーンパターン発生手段が入力画素とその周
囲の画素の情報に基づき、ハーフトーン処理を施し、露
光データを生成して、この露光データに基づき、半導体
レーザ群の複数個の発光部のうちどの発光部を発光させ
るかを選択させると共に発光パワーを制御させること
で、マトリクスを組んだ場合でも入力データの階調に比
例した階調の画像が形成され、きれいなハーフトーンが
実現される。
【0019】また、ドットサイズ制御手段が発光制御手
段を制御して、画素密度に応じて半導体レーザ群の複数
個の発光部のうちのどの発光部を発光させるかを選択す
ることで、指定された画素密度に適合するドット径が容
易に得られる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
【0021】図2は本発明の一実施例であるLBP(レ
ーザビームプリンタ)の内部機構を示す概略構成図であ
り、矢示したように反時計方向に回転する感光体ドラム
10の周辺には、その回転方向に帯電チャージャ11,光書
き込みユニット12,現像ユニット13,転写チャージャ1
4,クリーニングユニット15がそれぞれ配置されてい
る。
【0022】感光体ドラム10は、先ず帯電チャージャ11
によりその表面を一様に帯電された後、光書き込みユニ
ット12からの画像データにより変調され、かつ主走査方
向(図面に垂直な方向)に偏向されたビームが結像するス
ポットにより、静電潜像が形成される。
【0023】静電潜像は、現像ユニット13により現像さ
れ、顕像化したトナー像に変換された後、そのトナー像
は転写チャージャ14によって一点鎖線で示したルート上
を搬送されてきた記録媒体である用紙に転写される。
【0024】感光体ドラム10上に残留するトナー及び電
荷は、クリーニングユニット15によりそれぞれ除去さ
れ、除去されたトナーはクリーニングユニット15に回収
される。
【0025】トナー像が転写される前記用紙は、給紙カ
セット17上の用紙スタック18からの給紙ローラ19により
給紙され、レジストローラ対20に当接して一時停止した
後、光書き込みユニット12により書き込まれた感光体ド
ラム10上の画像に合わせたタイミングをとり、レジスト
ローラ対20によって転写チャージャ14の位置に搬送さ
れ、トナー像が転写される。
【0026】トナー像が転写された用紙は、定着ユニッ
ト21に搬送され、加熱されている定着ローラ21aに加圧
ローラ21bにより圧接され、その熱と圧力とにより定着
された後、排紙ローラ22に搬送されて排紙口23から排紙
トレー24上に排出される。
【0027】図3は前記光書き込みユニット12の一例を
示す要部の斜視図であり、光書き込みユニット12は、マ
ルチビーム半導体レーザからなる光源部28及びその出力
ビームを平行光にするコリメータレンズ29とからなる半
導体レーザユニット30と、第1シリンダレンズ32と、ポ
リゴンモータ33、及びポリゴンモータ33により矢印A方
向に回転駆動されるポリゴンミラー34とからなる回転偏
向器35と、fθレンズ36,ミラー37,第2シリンダレン
ズ38からなる走査結像光学系、ならびに第3ミラー40,
受光レンズ41,同期センサ42からなる同期光学系によっ
て構成されている。
【0028】半導体レーザユニット30から出射された平
行光ビームは、第1シリンダレンズ32を透過してポリゴ
ンミラー34の反射面34aに入射する。その際、ビームの
主走査方向成分(水平成分)は平行のままであるが、副走
査方向(垂直成分)は第1シリンダレンズ32により反射面
34a上に結像される。ポリゴンミラー34により反射され
主走査方向に繰り返し偏向させるビームは、fθレンズ3
6を透過した後、ミラー37で反射され第2シリンダレン
ズ38を透過して、矢印B方向に回転する感光体ドラム10
に到達する。
【0029】ビームの平行な主走査方向成分はfθレン
ズ36により、またポリゴンミラー34の反射面34aに結像
した副走査方向成分はfθレンズ36と第2シリンダレン
ズ38との合成パワーによって、それぞれ感光体ドラム10
の表面に結像するため、偏向されたビームは、スポット
を形成して、感光体ドラム10上を矢印C方向に主走査す
る。
【0030】回転偏向器35により編向されたビームが主
走査線上の有効画像領域に入射する直前に、ミラー40に
より反射され、受光レンズ41により同期センサ42の受光
面に結像させて、タイミングの基準となる主走査の同期
信号を出力させる。
【0031】図1はLBPの光書き込み系の制御系を示
すブロック図であり、内部にCPU51を備えており、こ
のCPU51が外部のホスト機1内のCPU3とインタフ
ェース接続されている。ホスト機1は、画像データをプ
リンタに送信する他に、画素密度をプリンタに指定する
ものであり、指定された画像密度はCPU51に入力され
る。CPU51は、この画素密度をポリゴンモータ(PM)
駆動部54と光書き込み制御部55とに出力する。ポリゴン
モータ駆動部54は、ポリゴンミラー34を回転駆動するポ
リゴンモータ33を制御するものであり、入力された画素
密度に適合した回転数でポリゴンミラー34が回転するよ
うに制御し、これにより副走査方向の画素密度を変更す
る。
【0032】ホスト機1より、あるページをドットに変
換した画素データは、バッファメモリ58に保存される。
図4は入力する画像72のうち、バッファメモリ58からパ
ターン発生装置62に出力される画素データ61の領域71を
示す。矢印73は、画素データ61のバッファメモリ58に対
する入力順序を示す。本実施例では、領域71は縦5画素
×横5画素の大きさとし、画素データ61は白黒2値デー
タ(1bit)の場合で説明する。
【0033】これから記録しようとする現在の記録画素
(I,J)に対応する画素データ61の位置を(I,
J)とすると、図4に示したように、その周囲も含めて
25画素分の画素データ61がパターン発生装置62に
出力される。パターン発生装置62は、25画素分の画
素データにおいて、入力された輪郭やカーブにおける
黒の境界線を判別して白黒の境界にあるピクセス(画
素)を結び、前記入力された輪郭やカーブに合致するよ
うな理想的な輪郭やカーブを計算し、入力された輪郭
カーブにできるだけ合うような露光パターンのデータ
(露光データ)を生成する。
【0034】パターン発生装置62で生成された露光パ
ターンのデータには、複数個の発光部であるレーザダイ
オード(LD)が副走査方向に沿って配列されているマ
ルチビーム半導体レーザ57のそれぞれのLDに対し
て、どこで発光したらよいかという情報、あるいはそれ
ぞれのLDに対して、どこでどのくらいのパワーで発光
したらよいかという情報が含まれている。
【0035】本実施例では、前記光源部28を構成するマ
ルチビーム半導体レーザ57は、同一基盤上に極めて接近
して1列に配置された3個の発光部LD1,LD2,L
D3を有し、それぞれLD駆動部56のドライバ56a,56
b,56cに接続されており、各LDは、独立に発光位置,
発光時間,さらに発光パワーを制御できるものとする。
また1記録画素に対する露光時間を4つに分割し、発光
パワーは2段階選択できるものとする。
【0036】露光パターン信号63は、発光パワーを2段
階選択しなければ4bit×3の12本、また発光パワーの
2段階選択をすれば4bit×2bit×3の24本のデータ線
からなる。光書き込み制御回路55は、露光パターン信号
63に基づいてマルチビーム半導体レーザ57を制御する。
【0037】図5は各LDの発光位置,発光時間の制御
に係る説明図であり、図5(a)は記録画素領域を示す。
本実施例では、記録画素領域内の主走査方向に4分割、
副走査方向に3分割した露光パターン信号63が与えられ
るため、図のように領域を12分割してある。露光パター
ン信号63は、上位4bitがマルチビーム半導体レーザ57
のLD1に対する露光パターンを示し、次の4bitがL
D2,下位4bitがLD3に対する露光パターンを示
す。矢印80aはLD1、矢印80bはLD2,矢印80cはL
D3のレーザビームの走査線軌跡および方向を示す。
【0038】図5(a)のような露光パターン信号63が与
えられると、図5(b)のような記録画像となる。ただ
し、記録ドットが近接すると、両者は相互に影響して癒
着する。
【0039】次に発光パワーの制御について説明する。
図6(a)はLD発光パワーをP1,P2と変化させた場
合の感光体上を一定時間照射した時の露光量分布を示
す。反転現像のLBPは、固有のしきい値露光量Etを
持ち、これ以上に露光されたところに現像剤が付く。従
って、各出力に対して記録される黒ドットの形状は、図
6(b)に示したように記録ドットの大きさが変化する。
【0040】本実施例では、図7に示したように発光パ
ワーがP1の記録ドットの主走査方向の径をRx1,副
走査方向の径をRy1,同じくP2の記録ドットの各走
査方向の径をRx2,Ry2として、記録画素領域の大き
さをRとすると、Rx2=R/4,Ry2=2R/3,R
x1=Rx2/4,Ry1=Ry2/4とする。また、各L
Dのレーザビームスポット間のピッチPをP=R/3と
する。
【0041】図8(a)に記録画素領域を示す。記録画素
領域内は、上記と同様に12分割される。そして各領域に
対して「00」,「01」,「10」のパターン信号が
与えられる。「00」のときLDは発光せず、「01」
のときは発光パワーP1で、「10」のときは発光パワ
ーP2となるように制御される。図8(a)における露光
パターン信号63が与えられたとすると、マルチビーム半
導体レーザ57の出力は、図8(b),(c),(d)のようにな
る。これを記録すると、現像のしきい値光量Etによっ
て2値化され、図8(e)のような画像になる。
【0042】図9の説明図は各LDの発光パワーを変化
させた時の露光パターン信号63による記録画素の記録結
果である。図9(a)に示したように、発光パワーが小さ
く、LDの発光数が少ないと、副走査方向に細り、横長
の記録ドットになる。図9(f)に示したように、発光パ
ワーが大きく、LDの発光数が多いと、副走査方向に太
り、LD1,LD3の場合は、隣接記録画素領域内も記
録することになる。
【0043】図10の説明図はLD1,LD2,LD3を
発光パワーP2で記録し、その発光時間を変化させたも
のであり、発光時間を長くするほど(図10(a)→図10
(d))、主走査方向に太る。
【0044】図11の説明図は1記録画素量域内でくさび
状の記録ドットが記録することができることを示す。本
実施例では、上記のような特徴に注目し、記録画像の画
質を向上させている。
【0045】バッファメモリ58より、パターン発生装
置62に入力される25画素分の画素データが図12
(a)に示すような画像データである時、通常のLBP
では、図12(c)のような記録画像となる。しかし本
実施例では、パターン発生装置62は、白黒の境界線を
判別し、白黒の境界にあるピクセルを結び、理想的な輪
郭やカーブを計算し、その理想的な輪郭(図12
(b))にできるだけ合うような露光パターンのデータ
を生成する。各LDの発光位置,発光時間を制御するも
のでは図12(d)のような記録画像となる。また各L
Dの発光パワーを制御するものでは図12(e)のよう
な記録画像となり、画質を向上させることができる。
【0046】次に図1において、パターン発生装置62に
換えてハーフトーンパターン発生装置としたLBPの制
御例を説明する。
【0047】画素データ61は、各画素において階調デー
タを有している時、ハーフトーンパターン発生装置(62)
により、ハーフトーンパターンを生成する。本実施例で
は、各画素が24階調のデータを有しており、ハーフトー
ンパターン発生装置は、2×2の4ドットをまとめて、
ハーフトーンセルにする場合について説明する。また、
上記と同じように1ドットを12分割(主走査方向4×副
走査方向3)とし、発光パワーを2段階に切り換えるこ
とが可能とする。従って、1ドットあたり24階調、ハー
フトーンセルでは96階調のグレースケールを有する。
【0048】図1のマルチビーム半導体レーザ57の各L
Dによる記録ドットが図13(a),(b)のような場合とす
る。すなわち、各LD間のピッチをR/3とし、発光パ
ワーP2の時の副走査方向の径Ry2′=4R/9,主
走査方向の径Rx2′=R/4とし、発光パワーP2′
で主走査方向にR/4だけ走査した時の記録ドットの面
積をM2,同じくP1′の場合をM1した場合にM2=
2×M1の関係にあるとする。いま、ある入力画素の階
調数が1,4,10,15,20の場合の一例を図14,図15に
示する。
【0049】図14において図14(a)から図14(e)の変化の
ように、主走査方向に記録ドットを形成していき、図15
において図15(a)から図15(d)の変化のように、副走査方
向に記録ドットを形成していく。これらのパターンを組
み合わせて、マトリクスを組んだ場合にドットが集中し
て形成されるようにパターンが生成される。
【0050】図16に2×2のハーフトーンセルにおい
て、4つの画素の階調数が合計が20,32,53,85の時の
記録画像の一例を示す。記録ドットが1→2,2→3,
3→4と各画素領域に移行する時も、記録ドットが集中
しているため、安定した階調数に比例した記録画像を得
ることができる。
【0051】図1において、オペレータが操作パネル52
上の光量設定手段であるスイッチ52aにより光量を設定
できる。またホスト機1からも光量を設定できる。それ
らの設定データは、CPU51より光書き込み制御回路55
に伝えられ光量が設定される。
【0052】また、オペレータが操作パネル52上のハー
フトーン解像度選択手段である図示しないスイッチによ
り、ハーフトーン解像度を指定できる。ホスト機1から
もハーフトーン解像度を選択できる。
【0053】次に本実施例におけるドット径の制御につ
いて説明する。ここでは、通常、300DPIで上述したよう
に記録画像の向上を図っており、画素密度変換信号が入
力された時、400DPIか600DPIに変換する場合について説
明する。
【0054】前記マルチビーム半導体レーザ57の各LD
のスポットサイズ及び位置は図7に示したような関係に
あるとする。
【0055】図17は、各画素密度における1ドット当り
のビーム形状と、感光体上の静電潜像電位を示す。600d
piの場合LD1,LD2,LD3のうちの1つだけを動
作させる。図では、LD1が1ドット分オンした場合を
示す。400dpiの場合は、LD1とLD2、あるいはLD
2とLD3を動作させる。図では、LD1とLD2が1
ドット分オンした場合を示す。300DPIの場合は、LD1
とLD3、あるいはLD1,LD2,LD3を動作させ
る。図では、LD1とLD3を1ドット分オンした場合
を示す。
【0056】従って、LD1,LD2,LD3のどれを
動作させるかを選択することにより、感光体上の副走査
方向の1ドット当りのドット径を制御することができ
る。主走査方向のドット径は、LD1,LD2,LD3
のオン時間を制御することにより行う。
【0057】図1において、光書き込み制御部55は、1
ドット当りのレーザビーム照射時間を制御し、CPU51
から入力された画素密度に適合するように画素周波数を
変更し、これにより、主走査方向の画素密度を変更す
る。この光書き込み制御部55には、マルチビーム半導体
レーザ57を駆動する半導体レーザ駆動部56が接続されて
おり、CPU51から入力された画素密度に応じて、LD
1,LD2,LD3を各々独立に駆動する。
【0058】以上の動作によりホスト機1より指定され
た画素密度に応じたドット径を自動的に得ることができ
る。また画素密度は操作パネル52上からも設定できるよ
うにしてもよい。
【0059】本実施例以外でも、マルチビーム半導体レ
ーザ57のLDの数,配置,発光時間,発光パワー,参照
画素数のデータ数を変えることにより、輪郭の鮮やか
さ,階調数,画素密度の変換種類を変えることもでき
る。
【0060】上記の実施例によれば、主走査方向及び副
走査方向にも解像度を増やすことができるため、テキス
トやラインアートの理想的な輪郭に近く記録でき、マト
リクスを組んだ場合でも入力データの階調に比例した階
調の画像を形成し、階調数を増やしてきれいなハーフト
ーンを実現でき、トナー,エンジン,印刷の環境はさま
ざまなので、記録画像が最も輪郭がきれいなように、さ
らに正確な階調表現ができるようにオペレータが簡易に
画質が調節でき、マルチビーム半導体レーザを使用して
ドット径を可変にしており、指定された画素密度に適合
するドット径を複雑なメカニカルな構成,制御手段を経
ずに簡単に得ることができ、また半導体レーザのパワー
も変動しないため、解像度が良好で画像濃度の均一な画
像を容易に形成することができる。
【0061】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
複数個の発光部が感光体の副走査方向に沿って配列され
た半導体レーザ群を用いて、発光部を選択的に発光させ
ることで、主走査方向及び副走査方向にも解像度を増加
できて、理想的な輪郭に近い画像形成を行うことがで
き、また発光パワーをも制御することで、より理想的な
輪郭に近い画像形成が行え、またハーフパターン発生手
段を備えて前記発光部の発光を選択的に制御すること
で、階調数を増加してきれいなハーフトーンの画像形成
が行え、またドットサイズ制御手段を備えることで、指
定された画素密度に適合するドット径が簡単な構成で、
容易に得られる等、良好な画像形成がなされる画像形成
装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の画像形成装置の一実施例であるLBP
の光書き込み系の制御系を示すブロック図である。
【図2】LBPの内部機構を示す概略構成図である。
【図3】光書き込みユニットの要部の斜視図である。
【図4】画素データの領域の説明図である。
【図5】LDの発光位置,発光時間の制御に係る説明図
である。
【図6】LD発光パワーの説明図である。
【図7】発光パワーと記録ドットの説明図である。
【図8】LD発光パワーの制御に係る説明図である。
【図9】LD発光パワーを変化させた時の記録結果の説
明図である。
【図10】LD発光パワーを変化させた時の記録結果の
説明図である。
【図11】LD発光パワーを変化させた時の記録結果の
説明図である。
【図12】輪郭画像形成の説明図である。
【図13】記録ドットの説明図である。
【図14】記録結果の説明図である。
【図15】記録結果の説明図である。
【図16】記録結果の説明図である。
【図17】LDとビーム形状と感光体上の静電潜像電圧
との関係を示す説明図である。
【符号の説明】
33…ポリゴンモータ、 34…ポリゴンミラー、 51…C
PU、 54…PM駆動部、 55…光書き込み制御回路、
56…LD駆動部、 57…マルチビーム半導体レーザ、
58…バッファメモリ、 61…画素データ、 62…パタ
ーン発生装置(ハーフパターン発生装置)、 63…露光パ
ターン信号。

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体レーザから変調出力されるレーザ
    ビームで主走査し、この主走査の方向と直交する副走査
    方向に回転する感光体に対して、入力画素に基づき生成
    された露光データによる露光を実行して潜像を形成する
    構成の画像形成装置において、 前記半導体レーザを、1つの画素に対応する領域に対し
    互いに独立して発光する複数個の発光部が前記副走査
    方向に沿って配列された半導体レーザ群とし、前記 半導体レーザ群の各発光部をそれぞれ別々に駆動す
    る複数個の発光制御手段と、 前記入力画素の少なくとも1つの画素について、その周
    囲の画素の情報に基づき、白黒の境界線を認識し、認識
    した境界線に一致するように潜像が形成されるような
    光データを生成するパターン発生手段と、生成された前記 露光データに基づき、前記1つの画素を
    複数の領域に分割して、細分化された領域ごとに前記半
    導体レーザ群のうちのどの発光部を発光させるかを選択
    して前記発光制御手段を制御する制御手段と備えたことを特徴とする画像形成装置。
  2. 【請求項2】 前記細分化された領域ごとに前記半導体
    レーザ群で発光させる発光部の光量を制御する光量制御
    手段を設けことを特徴とする請求項1の画像形成装
    置。
  3. 【請求項3】 前記入力画素が階調データを有する場
    合、その周囲の画素に基づき、ハーフトーン処理を施し
    た露光データを生成するハーフトーンパターン発生手段
    と、その露光データに基づき、前記1つの画素を複数の
    領域に分割して、細分化された領域ごとに前記半導体レ
    ーザ群のうちのどの発光部を発光させるかを選択して前
    記発光制御手段を制御する制御手段とを備えたことを特
    徴とする請求項1又は2の画像形成装置。
  4. 【請求項4】 画素密度に応じて前記半導体レーザ群に
    おける複数個の発光部のうちのどの発光部を発光させる
    かを選択して前記発光制御手段を制御するドットサイズ
    制御手段とを設けたことを特徴とする請求項1,2又は
    3の画像形成装置。
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