JP3302778B2 - フィルタカートリッジの湿式洗浄法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フィルタ、特に流動床
装置やこれに類する噴霧乾燥機などのプロセスユニット
で使用される星形に折りたたまれたフィルタカートリッ
ジを洗浄するための、前記請求項１および６のプリアン
ブルに記載の方法と装置に関する。
装置やこれに類する噴霧乾燥機などのプロセスユニット
で使用される星形に折りたたまれたフィルタカートリッ
ジを洗浄するための、前記請求項１および６のプリアン
ブルに記載の方法と装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】今日、乾燥、造粒、およびカプセル充填
のために上記ユニットが、医薬品産業や食品産業で使用
されているほか、洗剤や化学製品を製造するのにも広く
使用されている。説明を簡素化するため、以下では流動
床装置だけを採り上げる。
のために上記ユニットが、医薬品産業や食品産業で使用
されているほか、洗剤や化学製品を製造するのにも広く
使用されている。説明を簡素化するため、以下では流動
床装置だけを採り上げる。
【０００３】流動床装置はふつう、渦流チャンバとこれ
に続くヘッド部分から構成されており、ヘッド部分の内
部には、渦流運動が可能な物質をガス流(ほとんどの場
合、空気流)から分離するためのフィルタがいくつか配
置されている。通常、このフィルタ材料には天然繊維ま
たは合成繊維製の織物またはフェルトが使用されてい
た。このフィルタには分離工程中に製品ダストが沈積
し、このため圧力損失が生じ、ひいては分離能力の低下
を招く。
に続くヘッド部分から構成されており、ヘッド部分の内
部には、渦流運動が可能な物質をガス流(ほとんどの場
合、空気流)から分離するためのフィルタがいくつか配
置されている。通常、このフィルタ材料には天然繊維ま
たは合成繊維製の織物またはフェルトが使用されてい
た。このフィルタには分離工程中に製品ダストが沈積
し、このため圧力損失が生じ、ひいては分離能力の低下
を招く。
【０００４】フィルタにこのような沈積が生じないよう
にする方法として、連続運転中のフィルタに、主ガス流
とは反対方向の圧力パルスを加える方法、特に圧搾空気
を吹き付ける方法が公知である。製品ダストの沈積をあ
らかじめ低減させると同時に濾過粒度を高めるべく、非
粘着性ポリテトラフルオロエチレン製濾過層が塗布され
た支持ウールからなるフィルタ材料が開発されている。
この効率の高いフィルタ材料の場合も、圧搾空気パルス
を用いて達成可能な浄化度以上まで、徹底的な浄化を繰
返し行わなければならない。フィルタのこのような徹底
的浄化は、流動床装置で生産される製品が変更された場
合にも、後続製品の汚染を防ぐために不可欠である。ま
た、長時間運転でフィルタ材料が − 周期的エアブラ
ストが行われていても − 継続的に製品ダストで目詰
りを起こした場合も、定期的に− 生産シフトの長さや
製品の種類に関係なく − 徹底的なフィルタ浄化を施
す必要があるだろう。
にする方法として、連続運転中のフィルタに、主ガス流
とは反対方向の圧力パルスを加える方法、特に圧搾空気
を吹き付ける方法が公知である。製品ダストの沈積をあ
らかじめ低減させると同時に濾過粒度を高めるべく、非
粘着性ポリテトラフルオロエチレン製濾過層が塗布され
た支持ウールからなるフィルタ材料が開発されている。
この効率の高いフィルタ材料の場合も、圧搾空気パルス
を用いて達成可能な浄化度以上まで、徹底的な浄化を繰
返し行わなければならない。フィルタのこのような徹底
的浄化は、流動床装置で生産される製品が変更された場
合にも、後続製品の汚染を防ぐために不可欠である。ま
た、長時間運転でフィルタ材料が − 周期的エアブラ
ストが行われていても − 継続的に製品ダストで目詰
りを起こした場合も、定期的に− 生産シフトの長さや
製品の種類に関係なく − 徹底的なフィルタ浄化を施
す必要があるだろう。
【０００５】ガスに運ばれた液体可溶性粒子を上記のよ
うにフィルタから徹底的に除去するために、すでに様々
な方法や装置が開発されている。流動床装置からフィル
タを取り外し、装置の外部でフィルタを洗浄し、再びフ
ィルタを組み込むことは、脱着の手間を要するうえ長時
間装置を停止させておかなければならず、また健康に有
害な製品の場合には作業員が危険にさらされる恐れがあ
ることから、容認できない。
うにフィルタから徹底的に除去するために、すでに様々
な方法や装置が開発されている。流動床装置からフィル
タを取り外し、装置の外部でフィルタを洗浄し、再びフ
ィルタを組み込むことは、脱着の手間を要するうえ長時
間装置を停止させておかなければならず、また健康に有
害な製品の場合には作業員が危険にさらされる恐れがあ
ることから、容認できない。
【０００６】ＤＥ-ＯＳ ３３１６５２７から、多くの噴
射ノズルの備わった噴射液管が、フィルタ表面が噴射さ
れた液体によってできる限り完全に洗浄されるよう、フ
ィルタバッグのダストケードのなかで動くことができる
ようになった洗浄装置が公知である。上記特許公報で
は、この洗浄装置について２通りのバリエーションが提
示されている。そのひとつはフィルタバッグの外部を洗
い流すものであり、もうひとつは噴射ノズルがフィルタ
バッグの内部へ移動して内部から洗浄するものである。
この装置は、流動床装置でよく使用されているフィルタ
カートリッジには適していない。カートリッジ内部から
外部への洗浄は、濾過層としてポリテトラフルオロエチ
レンが使用されている場合その液体不透過性ゆえ、うま
くゆかない。大きなフィルタカートリッジ、特にフィル
タ材料が星形に折りたたまれたカートリッジの場合、上
記構造の装置を用いて外部から液体を吹き付けても、は
やり徹底的浄化は不充分である。フィルタカートリッジ
の表面全体に液体を直接吹き付けることはできないから
である。
射ノズルの備わった噴射液管が、フィルタ表面が噴射さ
れた液体によってできる限り完全に洗浄されるよう、フ
ィルタバッグのダストケードのなかで動くことができる
ようになった洗浄装置が公知である。上記特許公報で
は、この洗浄装置について２通りのバリエーションが提
示されている。そのひとつはフィルタバッグの外部を洗
い流すものであり、もうひとつは噴射ノズルがフィルタ
バッグの内部へ移動して内部から洗浄するものである。
この装置は、流動床装置でよく使用されているフィルタ
カートリッジには適していない。カートリッジ内部から
外部への洗浄は、濾過層としてポリテトラフルオロエチ
レンが使用されている場合その液体不透過性ゆえ、うま
くゆかない。大きなフィルタカートリッジ、特にフィル
タ材料が星形に折りたたまれたカートリッジの場合、上
記構造の装置を用いて外部から液体を吹き付けても、は
やり徹底的浄化は不充分である。フィルタカートリッジ
の表面全体に液体を直接吹き付けることはできないから
である。
【０００７】フィルタ材料には、その固有の用途に応じ
て、非粘着性ポリテトラフルオロエチレンの濾過層が支
持ウールに塗布された、天然繊維または合成繊維製の様
々な織物、フェルト、または編物のほか、多層スチール
編物も使用されている。これら様々なフィルタ材料は、
その構造と強さからして、それぞれ異なる洗浄処理を必
要とし可能とする。
て、非粘着性ポリテトラフルオロエチレンの濾過層が支
持ウールに塗布された、天然繊維または合成繊維製の様
々な織物、フェルト、または編物のほか、多層スチール
編物も使用されている。これら様々なフィルタ材料は、
その構造と強さからして、それぞれ異なる洗浄処理を必
要とし可能とする。
【０００８】取り付けた状態のままフィルタカートリッ
ジを徹底的に浄化するため、ＤＥ-ＰＳ ４０２９８０４
の方法と装置が開発された。この構造では、ヘッドエン
ドの各フィルタカートリッジが、流動床装置のクリーン
ルームとの仕切りの下で、環状配管に取り囲まれてお
り、この環状配管にはノズル穴のクラウン、またはフィ
ルタ表面に対して垂直なノズルスリットが備わってい
る。これら開口部の下で、フィルタに洗浄液が吹き付け
られる。フィルタから流れおりる洗浄液は、フィルタに
付着した製品ダストの層を溶かして洗い流す。この浄化
過程でフィルタに圧搾ガスパルスが加えられるが、この
圧搾ガスパルスはフィルタの内側から外側へ作用し、か
くしてフィルタ外側に付着した粒子の剥離を促す。
ジを徹底的に浄化するため、ＤＥ-ＰＳ ４０２９８０４
の方法と装置が開発された。この構造では、ヘッドエン
ドの各フィルタカートリッジが、流動床装置のクリーン
ルームとの仕切りの下で、環状配管に取り囲まれてお
り、この環状配管にはノズル穴のクラウン、またはフィ
ルタ表面に対して垂直なノズルスリットが備わってい
る。これら開口部の下で、フィルタに洗浄液が吹き付け
られる。フィルタから流れおりる洗浄液は、フィルタに
付着した製品ダストの層を溶かして洗い流す。この浄化
過程でフィルタに圧搾ガスパルスが加えられるが、この
圧搾ガスパルスはフィルタの内側から外側へ作用し、か
くしてフィルタ外側に付着した粒子の剥離を促す。
【０００９】星形フィルタの湿式浄化には問題の多いこ
とが、上記文献で認められている。例えば医薬品や食品
産業でのように極めて高い浄化度が要求される場合、公
知の先行技術で達成される浄化度では不充分である。こ
れには２つの原因がある。ひとつは、洗浄液が集中的に
適切な噴射圧で直接噴射されるのは、フィルタ周囲の狭
い帯域表面だけであって、フィルタ下部のはるかに広い
表面に付着した製品ダストは、下方に流れてきた洗浄液
によってしか洗浄されないことである。もうひとつの原
因は、洗浄ノズル自体が流動床装置のリアクションルー
ムに置かれていることである。このために洗浄ノズル
が、渦流運動する製品によって汚れ、部分的または完全
に詰ってしまい、その機能を失ってしまうのである。洗
浄ノズルが詰ると、装置を停止して、ノズル穴をクリー
ニングしなければならない。
とが、上記文献で認められている。例えば医薬品や食品
産業でのように極めて高い浄化度が要求される場合、公
知の先行技術で達成される浄化度では不充分である。こ
れには２つの原因がある。ひとつは、洗浄液が集中的に
適切な噴射圧で直接噴射されるのは、フィルタ周囲の狭
い帯域表面だけであって、フィルタ下部のはるかに広い
表面に付着した製品ダストは、下方に流れてきた洗浄液
によってしか洗浄されないことである。もうひとつの原
因は、洗浄ノズル自体が流動床装置のリアクションルー
ムに置かれていることである。このために洗浄ノズル
が、渦流運動する製品によって汚れ、部分的または完全
に詰ってしまい、その機能を失ってしまうのである。洗
浄ノズルが詰ると、装置を停止して、ノズル穴をクリー
ニングしなければならない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
の目的の湿式浄化を達成するとともに、従来見られた欠
陥を除去することにある。すなわちできる限り低い浄化
装置コストで、製品ダストで目詰りを起こしたフィルタ
表面全体に洗浄液を直接噴射することにより製品が液体
可溶性である場合にも高い浄化度を実現すると同時に、
連続運転時に洗浄ノズルが汚れないよう保護することに
ある。この場合、投入された洗浄液の効率的利用、およ
び(使用された液体不透過性あるいは液体透過性フィル
タ材料に関する要件や条件も含めた)様々な要件や条件
に適した洗浄処理が可能でなければならない。常に高い
浄化度を維持し、オペレータの交代による影響を排除す
るためには、浄化処理全体を自動化しなければならな
い。また、医薬品および食品作業の厳しい装置構造規定
を満たすことを、前提条件とする。所期の高い浄化度お
よび洗浄ノズルの詰りの完全な排除は、従来のフィルタ
洗浄装置の構造原理では実現不可能であった。全く新し
いやり方を採用しなければならなかった。
の目的の湿式浄化を達成するとともに、従来見られた欠
陥を除去することにある。すなわちできる限り低い浄化
装置コストで、製品ダストで目詰りを起こしたフィルタ
表面全体に洗浄液を直接噴射することにより製品が液体
可溶性である場合にも高い浄化度を実現すると同時に、
連続運転時に洗浄ノズルが汚れないよう保護することに
ある。この場合、投入された洗浄液の効率的利用、およ
び(使用された液体不透過性あるいは液体透過性フィル
タ材料に関する要件や条件も含めた)様々な要件や条件
に適した洗浄処理が可能でなければならない。常に高い
浄化度を維持し、オペレータの交代による影響を排除す
るためには、浄化処理全体を自動化しなければならな
い。また、医薬品および食品作業の厳しい装置構造規定
を満たすことを、前提条件とする。所期の高い浄化度お
よび洗浄ノズルの詰りの完全な排除は、従来のフィルタ
洗浄装置の構造原理では実現不可能であった。全く新し
いやり方を採用しなければならなかった。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の方法は、前記請
求項１の特徴部分で説明されており、この方法を実現す
る装置は、請求項６の特徴部分で説明されている。その
他の特徴および利点となる構造形態は、これらの請求項
に明らかである。
求項１の特徴部分で説明されており、この方法を実現す
る装置は、請求項６の特徴部分で説明されている。その
他の特徴および利点となる構造形態は、これらの請求項
に明らかである。
【００１２】本発明によってもたらされる湿式浄化の方
法および装置は、製品が液体可溶性である場合でも高い
浄化度を実現するものである。というのは本発明の方法
および装置では、(星形フィルタを含む)フィルタの有効
表面全体に洗浄液が直接噴射されるとともに、流動床装
置連続運転時にも洗浄ノズルがリアクションルーム内で
渦流運動する製品にさらされず、したがって洗浄ノズル
が汚れないからである。本発明では、必要な浄化度に応
じた、 汚れ度"に左右されない、かつ使用フィルタ材
料に適した浄化処理が可能である。フィルタ織物の内部
にまで達した頑固な汚れも、少ない量の洗浄液で確実に
除去することができる。浄化処理の工程をプログラム制
御することにより、オペレータの主観的要因の影響を受
けることなく常に一定の高い浄化度が保証される。本発
明の新しい構造原理は、装置構造に関する国際規格の要
求を細部に至るまで満たしている。
法および装置は、製品が液体可溶性である場合でも高い
浄化度を実現するものである。というのは本発明の方法
および装置では、(星形フィルタを含む)フィルタの有効
表面全体に洗浄液が直接噴射されるとともに、流動床装
置連続運転時にも洗浄ノズルがリアクションルーム内で
渦流運動する製品にさらされず、したがって洗浄ノズル
が汚れないからである。本発明では、必要な浄化度に応
じた、 汚れ度"に左右されない、かつ使用フィルタ材
料に適した浄化処理が可能である。フィルタ織物の内部
にまで達した頑固な汚れも、少ない量の洗浄液で確実に
除去することができる。浄化処理の工程をプログラム制
御することにより、オペレータの主観的要因の影響を受
けることなく常に一定の高い浄化度が保証される。本発
明の新しい構造原理は、装置構造に関する国際規格の要
求を細部に至るまで満たしている。
【００１３】本発明が提案する構造では、横断面におい
てフィルタカートリッジを取り囲んでいる、クラウン状
に配置された洗浄ノズルが、リアクションルームの外部
の濾過済み排ガスルーム内に設けられれており、これら
ノズルから洗浄液がフィルタシェルへ通常の方法で噴射
される。そしてフィルタ有効表面全体が、スライド運動
によりノズルクラウン噴射範囲を通過する。洗浄プログ
ラムを拡張すると、フィルタカートリッジがあらかじめ
洗浄液で満たされ、洗浄液が満たされた状態で超音波が
− 必要なら圧搾空気も − 加えられる。フィルタ
カートリッジ内の洗浄液は、底バルブから排出すること
ができる。このような拡張洗浄プログラムは、水洗、予
洗、精洗、および最後の後処理からなっている。
てフィルタカートリッジを取り囲んでいる、クラウン状
に配置された洗浄ノズルが、リアクションルームの外部
の濾過済み排ガスルーム内に設けられれており、これら
ノズルから洗浄液がフィルタシェルへ通常の方法で噴射
される。そしてフィルタ有効表面全体が、スライド運動
によりノズルクラウン噴射範囲を通過する。洗浄プログ
ラムを拡張すると、フィルタカートリッジがあらかじめ
洗浄液で満たされ、洗浄液が満たされた状態で超音波が
− 必要なら圧搾空気も − 加えられる。フィルタ
カートリッジ内の洗浄液は、底バルブから排出すること
ができる。このような拡張洗浄プログラムは、水洗、予
洗、精洗、および最後の後処理からなっている。
【００１４】フィルタカートリッジが激しい噴射圧にも
耐えうる強度の高いフィルタ材料を使用している場合、
ノズル開口部は、洗浄液の噴射がフィルタシェルに対し
て角度αで接線方向に行われ、かくしてフィルタカート
リッジが回転するように成形され配置される。昇降機構
によってフィルタカートリッジは、ノズル開口部のクラ
ウンを通過させられる。フィルタカートリッジが回転運
動と同時に昇降運動を行うことによって、フィルタシェ
ルに噴射される洗浄液の作用が最適となる。生産時のリ
アクションルームのヘッドと排ガスルーム間のシーリン
グは、この境界部でその上端に中間リップシール付きフ
ィルタカートリッジを掛けることにより行われる。
耐えうる強度の高いフィルタ材料を使用している場合、
ノズル開口部は、洗浄液の噴射がフィルタシェルに対し
て角度αで接線方向に行われ、かくしてフィルタカート
リッジが回転するように成形され配置される。昇降機構
によってフィルタカートリッジは、ノズル開口部のクラ
ウンを通過させられる。フィルタカートリッジが回転運
動と同時に昇降運動を行うことによって、フィルタシェ
ルに噴射される洗浄液の作用が最適となる。生産時のリ
アクションルームのヘッドと排ガスルーム間のシーリン
グは、この境界部でその上端に中間リップシール付きフ
ィルタカートリッジを掛けることにより行われる。
【００１５】以下、添付の図面にのっとり、本発明の望
ましい構造について詳しく説明する。以下の説明では
(図１)、まず流動床装置のフィルタカートリッジを採り
上げる。ほとんどの場合、この種のフィルタカートリッ
ジは流動床装置で使用されているからである。洗浄装置
を内蔵した流動床装置の当該部分は、装置ケーシング
(１)、リアクションルームヘッド(３)付きリアクション
ルーム(２)、およびこのなかに配置された、軸方向にフ
ィルタシェル(５)を取り囲むフィルタカートリッジ(４)
からなっている。フィルタカートリッジ(４)およびフィ
ルタシェル(５)は、幾何的形状が異なっていてもかまわ
ない。よく用いられるのは星形であるが、これはそのほ
うがフィルタの実行表面積を大きくとることができるか
らである。負荷が大きい場合には、スチール製フィルタ
織物が強度の点から好んで使用される。
ましい構造について詳しく説明する。以下の説明では
(図１)、まず流動床装置のフィルタカートリッジを採り
上げる。ほとんどの場合、この種のフィルタカートリッ
ジは流動床装置で使用されているからである。洗浄装置
を内蔵した流動床装置の当該部分は、装置ケーシング
(１)、リアクションルームヘッド(３)付きリアクション
ルーム(２)、およびこのなかに配置された、軸方向にフ
ィルタシェル(５)を取り囲むフィルタカートリッジ(４)
からなっている。フィルタカートリッジ(４)およびフィ
ルタシェル(５)は、幾何的形状が異なっていてもかまわ
ない。よく用いられるのは星形であるが、これはそのほ
うがフィルタの実行表面積を大きくとることができるか
らである。負荷が大きい場合には、スチール製フィルタ
織物が強度の点から好んで使用される。
【００１６】リアクションルームヘッド(３)とその上の
排ガスルーム(７)は、境界部のシーリング部(６)によっ
て互いに完全に遮断されている。排ガスルームは、ガス
アウトレット(９)を備えた内壁(８)によって取り囲まれ
ている。ガスアウトレット(９)には、遮断バルブ(２７)
が備わっている。シーリング部(６)は、上記境界部でそ
の上端に掛けられたフィルタカートリッジ(４)が、内壁
(８)の延長部としてのハーフアーチ(１６)上に置かれた
リップシール(１５)によって取り囲まれることにより構
成されている(図２を参照)。シーリング部(６)のすぐ上
には、 −すでに排ガスルーム(７)へ突き出るかたちで
内壁(８)に取り付けられた − ノズル開口部(１０)の
クラウンがあって、このクラウンはフィルタカートリッ
ジ(４)の横断面形状と適合しており、フィルタカートリ
ッジ(４)はこのクラウンを通って移動することができ
る。ノズル開口部(１０)は、対称に配置されたフラット
セクション噴射ノズル(２４)の噴射口である。ノズル開
口部(１０)は、洗浄液が接線方向に角度αで、フィルタ
シェル(５)を回転させるように噴射するよう(図３を参
照)構成され配置されている。フラットセクション噴射
ノズル(２４)への洗浄液の供給は、洗浄液分配システム
としてのリングチャネル(１１)と供給配管(１２)を介し
て行われる。
排ガスルーム(７)は、境界部のシーリング部(６)によっ
て互いに完全に遮断されている。排ガスルームは、ガス
アウトレット(９)を備えた内壁(８)によって取り囲まれ
ている。ガスアウトレット(９)には、遮断バルブ(２７)
が備わっている。シーリング部(６)は、上記境界部でそ
の上端に掛けられたフィルタカートリッジ(４)が、内壁
(８)の延長部としてのハーフアーチ(１６)上に置かれた
リップシール(１５)によって取り囲まれることにより構
成されている(図２を参照)。シーリング部(６)のすぐ上
には、 −すでに排ガスルーム(７)へ突き出るかたちで
内壁(８)に取り付けられた − ノズル開口部(１０)の
クラウンがあって、このクラウンはフィルタカートリッ
ジ(４)の横断面形状と適合しており、フィルタカートリ
ッジ(４)はこのクラウンを通って移動することができ
る。ノズル開口部(１０)は、対称に配置されたフラット
セクション噴射ノズル(２４)の噴射口である。ノズル開
口部(１０)は、洗浄液が接線方向に角度αで、フィルタ
シェル(５)を回転させるように噴射するよう(図３を参
照)構成され配置されている。フラットセクション噴射
ノズル(２４)への洗浄液の供給は、洗浄液分配システム
としてのリングチャネル(１１)と供給配管(１２)を介し
て行われる。
【００１７】ノズル開口部(１０)は、放射状スリットの
形状とすることもできるし、中心方向を向いた多数の穴
から構成することもできる。このようなノズル開口部か
ら噴射される洗浄液は通常、フィルタカートリッジ(４)
を回転させることはない。接線方向の噴射としてフィル
タカートリッジ(４)を回転させるには充分ではない比較
的弱い洗浄液の噴射によって処理しなければならない敏
感なフィルタ材料の場合、このような構成で充分であろ
う。 フィルタカートリッジ(４)の底には、フィルタカ
ートリッジ底バルブ(１８)が備わっており、このバルブ
は、ロッド(１９)を介して昇降装置(１７)とリンクされ
ている。昇降装置(１７)からフィルタカートリッジ(４)
を経てフィルタカートリッジ底バルブ(１８)までロッド
(１９)を案内するのは、フィルタカートリッジ(４)の上
面に置かれたブッシュ(２１)によって行われる。ブッシ
ュ(２１)の下 − フィルタカートリッジ(４)の内部−
では、ロッド(１９)に従動ヒール(２２)が備わってお
り、これはまた、フィルタカートリッジ(４)回転運動の
ためのベアリング(２３)を構成している。従動ヒール
(２２)とストッパの働きをするブッシュ(２１)との間隔
は、フィルタカートリッジ底バルブ(１８)の最大ストロ
ークによって決まる。フィルタカートリッジ(４)の近く
には、超音波発生器が − ここではロッド(１９)上に
− 置かれている。
形状とすることもできるし、中心方向を向いた多数の穴
から構成することもできる。このようなノズル開口部か
ら噴射される洗浄液は通常、フィルタカートリッジ(４)
を回転させることはない。接線方向の噴射としてフィル
タカートリッジ(４)を回転させるには充分ではない比較
的弱い洗浄液の噴射によって処理しなければならない敏
感なフィルタ材料の場合、このような構成で充分であろ
う。 フィルタカートリッジ(４)の底には、フィルタカ
ートリッジ底バルブ(１８)が備わっており、このバルブ
は、ロッド(１９)を介して昇降装置(１７)とリンクされ
ている。昇降装置(１７)からフィルタカートリッジ(４)
を経てフィルタカートリッジ底バルブ(１８)までロッド
(１９)を案内するのは、フィルタカートリッジ(４)の上
面に置かれたブッシュ(２１)によって行われる。ブッシ
ュ(２１)の下 − フィルタカートリッジ(４)の内部−
では、ロッド(１９)に従動ヒール(２２)が備わってお
り、これはまた、フィルタカートリッジ(４)回転運動の
ためのベアリング(２３)を構成している。従動ヒール
(２２)とストッパの働きをするブッシュ(２１)との間隔
は、フィルタカートリッジ底バルブ(１８)の最大ストロ
ークによって決まる。フィルタカートリッジ(４)の近く
には、超音波発生器が − ここではロッド(１９)上に
− 置かれている。
【００１８】圧搾ガス − 圧搾ガスパルス − をフ
ィルタカートリッジ(４)へ与えるために、ロッド(１９)
と平行に供給配管(１４)が走っており、この配管はフィ
ルタカートリッジ(４)の上にある圧搾ガスアウトレット
(２５)に達している。排ガスルーム(７)のヘッドには、
排ガスルーム(７)の洗浄、フィルタカートリッジ(４)へ
の洗浄液の高速充填、および流動床装置の全体洗浄のた
めの洗浄ノズル(２０)が備わっている。
ィルタカートリッジ(４)へ与えるために、ロッド(１９)
と平行に供給配管(１４)が走っており、この配管はフィ
ルタカートリッジ(４)の上にある圧搾ガスアウトレット
(２５)に達している。排ガスルーム(７)のヘッドには、
排ガスルーム(７)の洗浄、フィルタカートリッジ(４)へ
の洗浄液の高速充填、および流動床装置の全体洗浄のた
めの洗浄ノズル(２０)が備わっている。
【００１９】以下では、動作プロセスについて説明す
る。ここで説明する洗浄プログラムは、浄化度要求が特
に高く、フィルタカートリッジ(４)に大きな負荷が加わ
る場合の最も大きなバージョンである。諸条件がもっと
単純だと、それに応じてもっと簡約化した洗浄プログラ
ムで充分である。渦流運動が可能な物質を処理する製造
段階では(図１を参照)、フィルタカートリッジ(４)は下
端位置にあり、シーリング部に押し付けられている(図
２の状態)。洗浄液は、洗浄ノズルからもノズル開口部
からも送り込まれていない。すなわち、フィルタカート
リッジ(４)には圧搾ガスパルスが与えられておらず、超
音波発生器(２６)は作動しておらず、フィルタカートリ
ッ底バルブ(１８)は閉じている。ガスアウトレット(９)
の遮断バルブ(２７)は開いている。
る。ここで説明する洗浄プログラムは、浄化度要求が特
に高く、フィルタカートリッジ(４)に大きな負荷が加わ
る場合の最も大きなバージョンである。諸条件がもっと
単純だと、それに応じてもっと簡約化した洗浄プログラ
ムで充分である。渦流運動が可能な物質を処理する製造
段階では(図１を参照)、フィルタカートリッジ(４)は下
端位置にあり、シーリング部に押し付けられている(図
２の状態)。洗浄液は、洗浄ノズルからもノズル開口部
からも送り込まれていない。すなわち、フィルタカート
リッジ(４)には圧搾ガスパルスが与えられておらず、超
音波発生器(２６)は作動しておらず、フィルタカートリ
ッ底バルブ(１８)は閉じている。ガスアウトレット(９)
の遮断バルブ(２７)は開いている。
【００２０】リアクションルーム(３)のヘッドへ流れ込
んだガス流は、フィルタシェル(５)を通過し、フィルタ
カートリッジ(４)を通って排ガスルーム(７)へ入り込み
ガスアウトレット(９)に達する。フィルタシェル(５)を
通過する際に製品が分離されるが、このときフィルタシ
ェルは製品によって詰ってしまう。供給配管(１４)およ
び圧搾ガスアウトレット(２５)を経由した圧搾空気ガス
パルスにより、フィルタシェル(５)はフィルタカートリ
ッジ(４)の内側から定期的に、測定された差圧信号に関
係なく、おおざっぱにエアブラストされる。
んだガス流は、フィルタシェル(５)を通過し、フィルタ
カートリッジ(４)を通って排ガスルーム(７)へ入り込み
ガスアウトレット(９)に達する。フィルタシェル(５)を
通過する際に製品が分離されるが、このときフィルタシ
ェルは製品によって詰ってしまう。供給配管(１４)およ
び圧搾ガスアウトレット(２５)を経由した圧搾空気ガス
パルスにより、フィルタシェル(５)はフィルタカートリ
ッジ(４)の内側から定期的に、測定された差圧信号に関
係なく、おおざっぱにエアブラストされる。
【００２１】ノズル開口部(１０)が、シーリング部(６)
によって隔離されたリアクションルーム(２)の外部に配
置されるていることにより、ノズル開口部(１０)は常
に、製品から完全に隔てられている。特に、ノズル開口
部(１０)が詰まるおそれがない。製品変更のため、また
はフィルタシェル(５)でのダストの沈積が − 圧搾ガ
スパルスではもはや除去不可能なほど − 進行したた
めフィルタカートリッジ(４)の徹底的浄化が必要になる
と、洗浄サイクルへ切り替えられる。
によって隔離されたリアクションルーム(２)の外部に配
置されるていることにより、ノズル開口部(１０)は常
に、製品から完全に隔てられている。特に、ノズル開口
部(１０)が詰まるおそれがない。製品変更のため、また
はフィルタシェル(５)でのダストの沈積が − 圧搾ガ
スパルスではもはや除去不可能なほど − 進行したた
めフィルタカートリッジ(４)の徹底的浄化が必要になる
と、洗浄サイクルへ切り替えられる。
【００２２】リアクションルームヘッド(３)の方向へ流
れるガス/製品流が遮断され、流動床装置内が空にされ
る。実際の第１洗浄段階に入る前に、水洗が行われる。
このために洗浄液、例えば普通の上水が、洗浄ノズル
(２０)および/またはノズル開口部１０から供給され
る。このときフィルタカートリッジ(１８)は初期位置の
まま、すなわち閉じた状態のままであり、フィルタカー
トリッジ(４)も下端位置でシーリング部(図２を参照)に
乗っている。洗浄液は、上からフィルタカートリッジ
(４)へ流れ込み、内側からフィルタシェル(５)を洗浄す
る。洗浄液の流入量を高めると、メッシュの細かいフィ
ルタシェル(５)からの排出が流入と同じようには行われ
ないため、フィルタカートリッジ(４)のなかに洗浄液が
満たされる。所定の量まで洗浄液が満たされると、超音
波発生器(２６)が作動する。かくして、フィルタシェル
(５)にかたくこびり付き、フィルタ織物の内部まで入り
込むことのあるダストが超音波により溶解される。超音
波をかけている間にすでに、および/または超音波をか
けた後ただちに、ガスアウトレット(９)の遮断バルブ
(２７)が閉じられれ、供給配管(１４)および圧搾ガスア
ウトレット(２５)を介してフィルタカートリッジ(４)
に、すなわちそのなかに入っている洗浄液に調節可能な
ガス圧が加えられる。これによって、フィルタシェル
(５)をはさむ、フィルタカートリッジ(４)の内部から外
部への洗浄効果を高めることができる。汚れた洗浄液
は、図には示されていない排出口から流動床装置の外部
へ排出される。フィルタ織物は、超音波の強さに応じて
一定の最低強度を有していなければならない。できれば
スチール製フィルタ織物を使用することが望ましい。
れるガス/製品流が遮断され、流動床装置内が空にされ
る。実際の第１洗浄段階に入る前に、水洗が行われる。
このために洗浄液、例えば普通の上水が、洗浄ノズル
(２０)および/またはノズル開口部１０から供給され
る。このときフィルタカートリッジ(１８)は初期位置の
まま、すなわち閉じた状態のままであり、フィルタカー
トリッジ(４)も下端位置でシーリング部(図２を参照)に
乗っている。洗浄液は、上からフィルタカートリッジ
(４)へ流れ込み、内側からフィルタシェル(５)を洗浄す
る。洗浄液の流入量を高めると、メッシュの細かいフィ
ルタシェル(５)からの排出が流入と同じようには行われ
ないため、フィルタカートリッジ(４)のなかに洗浄液が
満たされる。所定の量まで洗浄液が満たされると、超音
波発生器(２６)が作動する。かくして、フィルタシェル
(５)にかたくこびり付き、フィルタ織物の内部まで入り
込むことのあるダストが超音波により溶解される。超音
波をかけている間にすでに、および/または超音波をか
けた後ただちに、ガスアウトレット(９)の遮断バルブ
(２７)が閉じられれ、供給配管(１４)および圧搾ガスア
ウトレット(２５)を介してフィルタカートリッジ(４)
に、すなわちそのなかに入っている洗浄液に調節可能な
ガス圧が加えられる。これによって、フィルタシェル
(５)をはさむ、フィルタカートリッジ(４)の内部から外
部への洗浄効果を高めることができる。汚れた洗浄液
は、図には示されていない排出口から流動床装置の外部
へ排出される。フィルタ織物は、超音波の強さに応じて
一定の最低強度を有していなければならない。できれば
スチール製フィルタ織物を使用することが望ましい。
【００２３】これで、洗浄工程は予洗段階へ進む。それ
まで作動していた超音波発生器(２６)はオフとなる。必
要なら、圧搾ガスパルスを引き続きかけることもでき
る。ここで、下降方向のプリテンションがかかっていた
昇降装置(１７)が上昇方向に作動する。このプリテンシ
ョンは、ロッド(１９)を介して、フィルタカートリッジ
(４)の底にあるフィルタカートリッジ底バルブ(１８)を
押すと同時に、最後に作用する下向き張力によってリッ
プシール(１５)をハーフアーチ(１６)へ押し付けてお
り、これによってシーリング部(６)は確実に密閉されて
いる。ロッド(１９)が連続的に上昇し、フィルタカート
リッジ底バルブ(１８)が持ち上げられてバルブシートが
釈放される。これにより、フィルタカートリッジ(４)に
まだ残っていた洗浄液が流れ出ることができる。ロッド
(１９)はさらに上昇し、従動ヒール(２２)がブッシュ
(２１)に突き当り、これによってフィルタカートリッジ
(４)はノズル開口部(１０)のクラウンを通り上端位置ま
で移動する。この上端位置は、フィルタシェル(５)の下
端ゾーンもノズル開口部(１０)からの洗浄液の噴射にさ
らされるように設定されている。フィルタカートリッジ
(４)が上昇中、フラットセクション噴射ノズル(２４)
に、供給配管(１２)およびリングチャネル(１１)を介し
て洗浄液が供給される。ノズル開口部(１０)はフィルタ
シェル(％)対し角度αだけ傾斜しているので、洗浄液は
フィルタシェル(５)の接線方向に噴射され、これによ
り、ベアリング(２３)によって回転可能なように支承さ
れたフィルタカートリッジ(４)が回転する。このときベ
アリング(２３)は、ロッド(１９)の従動ヒール(２２)の
部分に来ている。フィルタカートリッジ(４)はこのと
き、上昇運動しながら同時に回転運動を行う。これによ
りフィルタシェル(５)の全面に、洗浄液が集中的かつ効
率的に噴射される。フィルタカートリッジ(４)が上端に
達すると、運動は上昇から下降に転じ、下降時の洗浄が
続行される。ただし下降に先立ち、開位置にあることか
ら − シーリング部(６)およびフィルタカートリッジ
底バルブ(１８)のシートは開いている − 流動床装置
の他の部分を洗浄することもできる。下降動作が終る
と、予洗が終了し、これで製品粒子の大部分は洗い流さ
れている。
まで作動していた超音波発生器(２６)はオフとなる。必
要なら、圧搾ガスパルスを引き続きかけることもでき
る。ここで、下降方向のプリテンションがかかっていた
昇降装置(１７)が上昇方向に作動する。このプリテンシ
ョンは、ロッド(１９)を介して、フィルタカートリッジ
(４)の底にあるフィルタカートリッジ底バルブ(１８)を
押すと同時に、最後に作用する下向き張力によってリッ
プシール(１５)をハーフアーチ(１６)へ押し付けてお
り、これによってシーリング部(６)は確実に密閉されて
いる。ロッド(１９)が連続的に上昇し、フィルタカート
リッジ底バルブ(１８)が持ち上げられてバルブシートが
釈放される。これにより、フィルタカートリッジ(４)に
まだ残っていた洗浄液が流れ出ることができる。ロッド
(１９)はさらに上昇し、従動ヒール(２２)がブッシュ
(２１)に突き当り、これによってフィルタカートリッジ
(４)はノズル開口部(１０)のクラウンを通り上端位置ま
で移動する。この上端位置は、フィルタシェル(５)の下
端ゾーンもノズル開口部(１０)からの洗浄液の噴射にさ
らされるように設定されている。フィルタカートリッジ
(４)が上昇中、フラットセクション噴射ノズル(２４)
に、供給配管(１２)およびリングチャネル(１１)を介し
て洗浄液が供給される。ノズル開口部(１０)はフィルタ
シェル(％)対し角度αだけ傾斜しているので、洗浄液は
フィルタシェル(５)の接線方向に噴射され、これによ
り、ベアリング(２３)によって回転可能なように支承さ
れたフィルタカートリッジ(４)が回転する。このときベ
アリング(２３)は、ロッド(１９)の従動ヒール(２２)の
部分に来ている。フィルタカートリッジ(４)はこのと
き、上昇運動しながら同時に回転運動を行う。これによ
りフィルタシェル(５)の全面に、洗浄液が集中的かつ効
率的に噴射される。フィルタカートリッジ(４)が上端に
達すると、運動は上昇から下降に転じ、下降時の洗浄が
続行される。ただし下降に先立ち、開位置にあることか
ら − シーリング部(６)およびフィルタカートリッジ
底バルブ(１８)のシートは開いている − 流動床装置
の他の部分を洗浄することもできる。下降動作が終る
と、予洗が終了し、これで製品粒子の大部分は洗い流さ
れている。
【００２４】水洗と予洗が終ると精洗段階に入る。洗い
流すべき製品粒子はごくわずかしか残っていないことか
ら、精洗段階では洗浄液を繰返し − 循環させて −
使用することができる。精洗段階は、下端位置にあ
る、すなわちシーリング部(６)およびフィルタカートリ
ッジ底バルブ(１８)が閉じているフィルタカートリッジ
(４)に新たに注水することにより開始することができ
る。この精洗法は、超音波および圧力ガスパルスを追加
した上述の水洗段階に相当する。これにより、フィルタ
カートリッジ(４)および流動床装置内部をあらためて徹
底的に洗い流すことができる。フィルタシェル(５)全体
を何度かノズル開口部(１０)から噴射された洗浄液のク
ラウンを通すために、注水後、再び昇降装置(１７)のス
イッチが入る。この処理段階の時間は、必要とする浄化
度によって決まる。
流すべき製品粒子はごくわずかしか残っていないことか
ら、精洗段階では洗浄液を繰返し − 循環させて −
使用することができる。精洗段階は、下端位置にあ
る、すなわちシーリング部(６)およびフィルタカートリ
ッジ底バルブ(１８)が閉じているフィルタカートリッジ
(４)に新たに注水することにより開始することができ
る。この精洗法は、超音波および圧力ガスパルスを追加
した上述の水洗段階に相当する。これにより、フィルタ
カートリッジ(４)および流動床装置内部をあらためて徹
底的に洗い流すことができる。フィルタシェル(５)全体
を何度かノズル開口部(１０)から噴射された洗浄液のク
ラウンを通すために、注水後、再び昇降装置(１７)のス
イッチが入る。この処理段階の時間は、必要とする浄化
度によって決まる。
【００２５】特に高い浄化度を必要とする場合には、精
洗段階に続いて後処理を行うことができる。このために
は新たな水洗に続いて、ミネラル除去水を用いて精洗が
行われる。次いで圧搾空気を用いて、ノズル開口部(１
０)および洗浄ノズル(２０)のブローアウトが行われ
る。最後に、新たな生産段階に入る前に、流動床装置内
部が − 例えばホットエアを用いて − 徹底的に乾
燥される。
洗段階に続いて後処理を行うことができる。このために
は新たな水洗に続いて、ミネラル除去水を用いて精洗が
行われる。次いで圧搾空気を用いて、ノズル開口部(１
０)および洗浄ノズル(２０)のブローアウトが行われ
る。最後に、新たな生産段階に入る前に、流動床装置内
部が − 例えばホットエアを用いて − 徹底的に乾
燥される。
【００２６】次の生産段階を開始するに先立ち、フィル
タカートリッジ(４)はホームポジション、すなわち下端
位置になければならない。フィルタカートリッジ底バル
ブ(１８)も初期位置にあって閉じており、確実なシーリ
ングのためロッド(１９)を介して昇降装置により押し付
けられ、これによりシーリング部(６)も完全に密閉され
ている。洗浄ノズル(２０)、ノズル開口部(１０)、およ
び超音波発生器(２６)は作動していない。遮断バルブ
(２７)は開いており、一方、図には示されていない流動
層装置洗浄液排出口は閉じている。
タカートリッジ(４)はホームポジション、すなわち下端
位置になければならない。フィルタカートリッジ底バル
ブ(１８)も初期位置にあって閉じており、確実なシーリ
ングのためロッド(１９)を介して昇降装置により押し付
けられ、これによりシーリング部(６)も完全に密閉され
ている。洗浄ノズル(２０)、ノズル開口部(１０)、およ
び超音波発生器(２６)は作動していない。遮断バルブ
(２７)は開いており、一方、図には示されていない流動
層装置洗浄液排出口は閉じている。
【００２７】一般に、１台の流動床装置には複数のフィ
ルタカートリッジ(４)が使用される。この場合、それに
応じて複数の洗浄装置操作システムが備わり、すべての
フィルタカートリッジ(４)が、例えば一対のフィルタカ
ートリッジ(４)が同時に洗浄サイクルを実行し、このサ
イクルが終了したあと次の一対のフィルタカートリッジ
(４)に切り替わるといったように協調洗浄動作を行う。
ルタカートリッジ(４)が使用される。この場合、それに
応じて複数の洗浄装置操作システムが備わり、すべての
フィルタカートリッジ(４)が、例えば一対のフィルタカ
ートリッジ(４)が同時に洗浄サイクルを実行し、このサ
イクルが終了したあと次の一対のフィルタカートリッジ
(４)に切り替わるといったように協調洗浄動作を行う。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、フィルタカートリッジ
の従来の湿式洗浄法に係わる諸問題を解決し、できる限
り低い浄化装置コストで、製品ダストで目詰りを起こし
たフィルタ表面全体に洗浄液を直接噴射することによ
り、製品が液体可溶性である場合も高い浄化度を実現す
ると共に、連続運転時に洗浄ノズルが汚れないよう保護
することができる。
の従来の湿式洗浄法に係わる諸問題を解決し、できる限
り低い浄化装置コストで、製品ダストで目詰りを起こし
たフィルタ表面全体に洗浄液を直接噴射することによ
り、製品が液体可溶性である場合も高い浄化度を実現す
ると共に、連続運転時に洗浄ノズルが汚れないよう保護
することができる。
【図１】 洗浄装置の基本的な構成を示す模式図であ
る。
る。
【図２】 リアクションルームと排気ガス側との間の封
止部を示す断面図である。
止部を示す断面図である。
【図３】 クラウン状に配設されたノズル口からフィル
タカートリッジに対して放出される洗浄液の流れパター
ンを示す模式図である。 １ 装置ケーシング ２ リアクションルーム ３ リアクションルームヘッド ４ フィルタカートリッジ ５ フィルタシェル ６ シーリング部 ７ 排ガスルーム ８ 内壁 ９ ガスアウトレット 10 ノズル開口部 11 リングチャネル 12 供給配管 14 供給配管 15 リップシール 16 ハーフアーチ 17 昇降装置 18 フィルタカートリッジ底バルブ 19 ロッド 20 洗浄ノズル 21 ブッシュ 22 従動ヒール 23 ベアリング 24 フラットセクション噴射ノズル 25 圧搾ガスアウトレット 26 超音波発生器 27 遮断バルブ
タカートリッジに対して放出される洗浄液の流れパター
ンを示す模式図である。 １ 装置ケーシング ２ リアクションルーム ３ リアクションルームヘッド ４ フィルタカートリッジ ５ フィルタシェル ６ シーリング部 ７ 排ガスルーム ８ 内壁 ９ ガスアウトレット 10 ノズル開口部 11 リングチャネル 12 供給配管 14 供給配管 15 リップシール 16 ハーフアーチ 17 昇降装置 18 フィルタカートリッジ底バルブ 19 ロッド 20 洗浄ノズル 21 ブッシュ 22 従動ヒール 23 ベアリング 24 フラットセクション噴射ノズル 25 圧搾ガスアウトレット 26 超音波発生器 27 遮断バルブ
フロントページの続き (72)発明者 ミカエル・ボンデ スイス、ツェーハー−4057バーゼル、ア ッカーシュトラーセ37番 (72)発明者 ウルス・フレイ スイス、ツェーハー−4132ムッテンツ、 ブルクガッセ21番 (72)発明者 フランソワ・ブーベンドルフ フランス、エフ−68730ランスパシュ− ル−バ、リュ・ベルヴ19番 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01D 41/00 - 41/04
Claims (15)
- 【請求項１】 下記(i)〜(iv)の工程を含むことを特徴
とし、プロセスユニット(例えば、流動床装置、噴霧乾
燥機および／または移動床装置)において、付着粒子
を、リングチャンネル(１１)と供給配管(１２)を経てフ
ィルタカートリッジ(４)の断面形状に適合したノズル開
口部(１０)のクラウンから供給される洗浄液を用いる処
理によって除去するフィルタカートリッジの湿式洗浄
法： (i)まず最初の洗浄工程において、フィルタカートリッ
ジ(４)に、洗浄ノズル(２０)および/またはノズル開口
部(１０)を介して洗浄液を注入し(この場合、洗浄液で
満たされたフィルタカートリッジ(４)は超音波および/
または圧力パルスによって追加処理することができ
る)、これによって流動床装置等およびフィルタシェル
(５)の一部をフィルタカートリッジ(４)の内部から洗浄
し、(ii)ノズル開口部(１０)が作動している続いての予
洗段階において、空のフィルタカートリッジ(４)を、ノ
ズルから接線方向に角度αでフィルタシェル(５)に対し
噴射された洗浄液によって回転させ、さらにフィルタカ
ートリッジ(４)をフィルタシェル(５)の全表面とととも
に、リアクションルーム(２)の外側にあってプロセスユ
ニットの排ガスルーム(７)内にあるノズル開口部(１０)
のクラウンを通って１回または複数回昇降移動させ(こ
の場合、フィルタカートリッジ(４)を圧力パルスによっ
て追加処理することができる)、(iii)続いての精洗段階
において、循環され繰返し使用される洗浄液を用いて洗
浄および予洗を繰返し行ない、(iv)続いて、特に高い浄
化度の要求を満たすためのミネラル除去水を用いた水洗
および洗浄、圧搾空気を用いたノズル開口部(１０)およ
び洗浄ノズル(２０)のブローアウト、ならびに流動床装
置等の全体の乾燥からなる後処理を行う。 - 【請求項２】 予洗段階で、フィルタカートリッジ(４)
の最初の上昇動作後に流動床装置の残りの内部ゾーンが
洗浄される請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 編目の小さいフィルタシェル(５)にフィ
ルタカートリッジ(４)の内側から外側へ洗浄液を通し、
加圧洗浄効果を高めるため、調節可能なガス圧を用いて
フィルタカートリッジ(４)へ圧力パルスが加えられる請
求項１または２記載の方法。 - 【請求項４】 洗浄プログラムを異なった洗浄液および
洗浄用添加剤を用いておこなう請求項１から３いずれか
に記載の方法。 - 【請求項５】 複数のフィルタカートリッジ(４)が備わ
っていて各々にプロセスユニット内での湿式洗浄を行う
ための操作システムが付属している場合において、すべ
てのフィルタカートリッジ(４)の洗浄プログラムを互い
に協調作動させる請求項１から４いずれかに記載の方
法。 - 【請求項６】 プロセスユニット内のノズル開口部(１
０)のクラウンおよび物質流を制御するための調整手段
が備わった、請求項１から５いずれかに記載の方法を実
施するための装置であって、クラウン状に配置されたノ
ズル開口部(１０)が、角度αでフィルタシェル(５)に対
し接線方向の向きを与えられているとともにリアクショ
ンルーム(３)のヘッドからシーリング部(６)で完全に隔
離された排ガスルーム(７)内に配置されており、かつフ
ィルタカートリッジ(４)の昇降動作およびこれとリンク
されたフィルタカートリッジ底バルブ(１８)の動作(開
閉動作)のための昇降装置(１７)を具備し、そして、内
部または附近に超音波発生器(２６)が配置されたフィル
タカートリッジ(４)が、昇降装置(１４)のロッド(１９)
に回転可能に懸架されたことを特徴とする、フィルタカ
ートリッジの湿式洗浄用装置。 - 【請求項７】 排ガスルーム(７)のヘッド内に、洗浄液
で排ガスルーム(７)を洗浄または洗浄液をフィルタカー
トリッジ(４)へ高速充填するための洗浄ノズル(２０)が
配置された請求項６記載の装置。 - 【請求項８】 ノズル開口部(１０)のクラウンが放射状
に配置された多数のフラットセクション噴射ノズル(２
４)から構成された請求項６または７記載の装置。 - 【請求項９】 リアクションルームヘッド(３)と排ガス
ルーム(７)との境界部に、その上端にフィルタカートリ
ッジ(４)を掛けてリップシール(１５)をはさむことによ
って、シーリング部(６)が設けられた請求項６から８い
ずれかに記載の装置。 - 【請求項１０】 フィルタカートリッジ(４)上に置かれ
たブッシュ(２１)を貫通するロッド(１９)に、ロッド
(１９)を太くする従動ヒール(２２)が備わっており、こ
れによって、ロッド(１９)上昇時にまずフィルタカート
リッジ底バルブ(１８)が開かれ、従動ヒール(２２)がブ
ッシュ(２１)に当たったときからフィルタカートリッジ
(４)が持ち上げられる請求項６から９いずれかに記載の
装置。 - 【請求項１１】 フィルタカートリッジ(４)が、従動ヒ
ール(２２)の部分でベアリング(２３)を用いて回転可能
なようにロッド(１９)に懸架された請求項６から１０い
ずれかに記載の装置。 - 【請求項１２】 排ガスルーム(７)の内部に、超音波処
理に伴った圧力ガス付与時に閉じるようになっている遮
断バルブ(２７)が備わった請求項６から１１いずれかに
記載の装置。 - 【請求項１３】 フィルタカートリッジ(４)を回転させ
るほどの、フィルタカートリッジ(４)に対する接線方向
の洗浄液噴射が不要である場合、ノズル開口部(１０)
が、そこからの噴射が回転パルスをもたらさない放射状
のスリットまたはフィルタカートリッジ(４)の中心を向
いたノズル穴として構成された請求項６から１２いずれ
かに記載の装置。 - 【請求項１４】 フィルタカートリッジ(４)のシートお
よびシーリング部(６)でのハーフアーチ(１６)上のリッ
プシール(１５)でフィルタカートリッジ底バルブ(１８)
を押し付けて確実に密閉するため、ロッド(１９)を介し
て昇降装置(１７)により、フィルタカートリッジ底バル
ブ(１８)に対する下向きの圧力が加えられる請求項６か
ら１３いずれかに記載の装置。 - 【請求項１５】 複数のフィルタカートリッジ(４)を備
えたプロセスユニットに、物質流のための付属供給配管
および排出配管を含む湿式洗浄装置操作システムがフィ
ルタカートリッジの数に応じて複数配設された請求項６
から１４いずれかに記載の装置。
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