JP3300861B2 - 熱処理システム - Google Patents

熱処理システム

Info

Publication number
JP3300861B2
JP3300861B2 JP21097892A JP21097892A JP3300861B2 JP 3300861 B2 JP3300861 B2 JP 3300861B2 JP 21097892 A JP21097892 A JP 21097892A JP 21097892 A JP21097892 A JP 21097892A JP 3300861 B2 JP3300861 B2 JP 3300861B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carrier
storage chamber
storage
door
heat treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP21097892A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0637168A (ja
Inventor
裕司 小野
勝彦 三原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP21097892A priority Critical patent/JP3300861B2/ja
Priority to US08/089,827 priority patent/US5378145A/en
Priority to KR1019930013354A priority patent/KR100289135B1/ko
Publication of JPH0637168A publication Critical patent/JPH0637168A/ja
Priority to US08/316,333 priority patent/US5639234A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3300861B2 publication Critical patent/JP3300861B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板やLC
D基板等の板状被処理体に酸化、拡散、CVD等の熱処
理を施すための熱処理システムに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造工程やLCD製造工程では、
生産性を上げるために、複数枚の被処理体(半導体基
板、LCD基板)をキャリアまたはカセット等と称され
る容器に収容した状態で搬送するようにしている。
【0003】たとえば、半導体製造工場において、リソ
グラフィ工程の処理を受けた半導体ウエハは、複数枚た
とえば25枚ずつキャリアに収容された状態で搬送ロボ
ットにより熱処理装置まで搬送される。一般の熱処理装
置では、半導体ウエハをキャリアからウエハボートに移
し替え、ウエハボートに多数枚たとえば100枚ずつ載
せて炉に入れ、酸化、拡散またはCVD等の熱処理を施
す。そして、熱処理の済んだウエハをウエハボートから
キャリアに移し替えて搬送ロボットへ渡すようにしてい
る。
【0004】このように、熱処理装置では、一度にキャ
リア4個分(100枚)のウエハを一括処理する。搬送
ロボットは、キャリアを一度に1個または2個までしか
搬送しないので、熱処理装置内部にキャリアを保管して
おくための棚が設けられ、熱処理を受ける前のウエハを
収容したキャリアはその棚で待機するようになってい
る。また、複数の熱処理装置を併設した熱処理システム
では、各熱処理装置とは別にキャリアストッカまたは単
にストッカ等と称されるキャリア保管庫が設けられ、こ
のキャリア保管庫に数十個のキャリアを保管するように
している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来は、上記のような
キャリア保管棚またはキャリア保管庫に保管されたキャ
リアに清浄な空気流を当て、ウエハへのパーティクルの
付着を防止していた。しかしながら、キャリア保管棚付
近やキャリア保管庫の室内にはO2 、H2 O等の大気中
分子が存在し、それらのO2 、H2 O分子によりウエハ
表面が酸化して不所望な自然酸化膜が形成されるおそれ
があった。たとえば、金属層を蒸着するためのCVDプ
ロセスにおいては、ウエハ下地表面に自然酸化膜が形成
されていると、その上に蒸着される金属層の成膜特性に
バラツキが生じるので、キャリアないしウエハが待機中
に酸化されることは望ましくない。キャリア保管庫は、
キャリアを比較的長時間保管するために、そのような不
所望な自然酸化膜が形成される危険が大きかった。
【0006】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
もので、キャリアの保管中に被処理体の不所望な酸化そ
の他の変質を省スペースで効率よく防止するようにした
処理システムを提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の熱処理システムは、所定の熱処理を行う
ための加熱炉を含む1つまたは複数の熱処理部を有し、
前記熱処理部で前記熱処理を受ける板状の被処理体をキ
ャリアに収容した状態で保管ないし搬送するようにした
処理システムであって、前記キャリアを収納するため
の前面が開口した収納室本体とこの収納室本体を密閉状
態で閉じるための開閉可能な扉とを有するキャリア収納
室を複数個多段に配置し、各々の前記キャリア収納室毎
に、前記収納室本体内に不活性ガスを供給するための不
活性ガス供給手段と、前記収納室本体内を排気するため
の排気手段とを設け、前記多段に配置された複数個のキ
ャリア収納室の中で前記キャリアの出し入れが行われる
キャリア収納室においてのみ前記扉を開けて前記収納室
本体を開状態とし、他の全てのキャリア収納室について
前記収納室本体を前記扉により密閉状態に保持して室
内の前記被処理体を不活性ガスの雰囲気中に保つ構成と
した。本発明の処理システムにおいて、好ましくは、
各々の前記キャリア収納室毎に、前記扉を前記収納室本
体の前面を気密に閉じるための第1の位置と前記収納室
本体の前面を開けるための前記収納室本体よりも低い第
2の位置との間で移動させるための扉開閉機構を設けて
よい。この扉開閉機構の好ましい一態様は、前記扉の左
右両側端部をそれぞれ垂直方向に可動に保持するための
ガイド部材と、前記ガイド部材を前記扉を介して前記収
納室本体の前面を気密に閉じるための第3の位置と前記
収納室本体の前面よりも前方に設定された第4の位置と
の間で移動させるためのアクチエータと、前記扉を巻き
戻しおよび巻き上げ可能なケーブルで吊って上下移動可
能に支持するリール機構とを有する構成である。かかる
構成において、好ましくは、前記アクチエータまたは前
記リール機構が前記収納室本体の側面に設けられる構成
としてよい。また、前記不活性ガス供給手段の好ましい
一態様は、各対応する前記キャリア収納室の室内の酸素
濃度を検出するための酸素濃度検出手段と、この酸素濃
度検出手段によって検出された酸素濃度に応じて前記不
活性ガス供給のオン・オフを制御するための不活性ガス
供給制御手段とを有する構成である。
【0008】
【作用】本発明の処理システムでは、多段に配置され
た複数個のキャリア収納室に対して一方向(前面側)か
らキャリアの出し入れを行う。各キャリア収納室は収納
室本体の開口した前面を専用の扉によって独立的に開閉
できるようになっている。いずれかのキャリア収納室で
キャリアの出し入れが行われるとき、他の全てのキャリ
ア収納室では扉が閉まっているので、そのキャリア収納
室の扉が開いて下隣のキャリア収納室の前(第2の位
置)に降りても何の支障もないうえ、キャリアの出し入
れに関係しない他の全てのキャリア収納室は密閉状態に
維持されるため室内の不活性ガス雰囲気が影響を受ける
こともない。
【0009】
【実施例】以下、添付図を参照して本発明の実施例を説
明する。図1は、本発明の一実施例による熱処理システ
ムの全体構成を概略的に示す。図示のように、この熱処
理システムは、複数台たとえば4台の縦型熱処理装置1
0,12,14,16を一列に配設し、さらにその配列
方向にストッカ18およびI/O(搬入出)ステーショ
ン20を併設し、それら各部10〜20の正面部に沿っ
て一直線にキャリアライナ22の搬送路24を設けてい
る。
【0010】この熱処理システムにおいて、被処理体で
ある半導体ウエハWは、複数枚たとえば25枚ずつキャ
リアCRに収容された状態で搬送される。システム内で
は、キャリアライナ22が熱処理装置10〜16、スト
ッカ18およびI/Oステーション20の間でキャリア
CRを一度に2個ずつ搬送するようになっている。シス
テム外部に対しては、I/Oステーション20がシステ
ム全体のキャリア搬入/搬出口として機能する。
【0011】I/Oステーション20には、システム外
部の搬送ロボット(図示せず)とキャリアライナ22と
の間でキャリアCRを搬送するキャリア搬送装置26が
設けられている。外部の搬送ロボットは、I/Oステー
ション20の側端部に設けられた第1のキャリア受け渡
し位置20aの近くまで自走して来て、ここでキャリア
搬送装置26とキャリアCRを一度に1個または2個受
け渡しするようになっている。この際、キャリアCR
は、矢印Pの向きで、つまりその上端フランジ部FLが
搬送ロボットのアームに平行となるような向きで受け渡
しされる。第1のキャリア受け渡し位置20aの下方に
は、搬送ロボットと光通信で信号または合図のやりとり
を行うための光通信部21が設けられている。
【0012】キャリアライナ22は、I/Oステーショ
ン20の正面部に設定された第2のキャリア受け渡し位
置20bの近くまで移動して来て、ここでキャリア搬送
装置26とキャリアCRを一度に1個または2個受け渡
しするようになっている。この際、キャリアCRは、矢
印Qの向きで、つまりその上端フランジ部FLがキャリ
アライナ22のアームに対して平行となる向きで受け渡
しされる。
【0013】I/Oステーション20内では、キャリア
搬送装置26が、キャリアCRを上記第1および第2の
キャリア受け渡し位置20a,20bの間で点線J1,J
2 で示す行路上を搬送し、かつキャリアCRをほぼ90
度の角度だけ旋回させてその向きを矢印P方向から矢印
Q方向へ、もしくは矢印Q方向から矢印P方向へ変え
る。これにより、第1のキャリア受け渡し位置20aで
搬送ロボットより矢印Pの向きでキャリア搬送装置26
に渡されたキャリアCRは、第2のキャリア受け渡し位
置20bでは矢印Qの向きでキャリア搬送装置26から
キャリアライナ22へ渡されるようになっている。ま
た、第2のキャリア受け渡し位置20bでキャリアライ
ナ22より矢印Qの向きでキャリア搬送装置26に渡さ
れたキャリアCRは、第1のキャリア受け渡し位置20
aでは矢印Pの向きでキャリア搬送装置26から搬送ロ
ボットへ渡されるようになっている。
【0014】このように、本熱処理システムでは、各熱
処理装置10〜16から離れた位置にI/Oステーショ
ン20を設け、外部の搬送ロボットとはステーション2
0の側端部に設定された第1のキャリア受け渡し位置2
0aでキャリアCRの受け渡しを行うようにし、システ
ム内部のキャリアライナ22とはステーション20の正
面部に設定された第2のキャリア受け渡し位置20bで
キャリアCRの受け渡しを行うようにし、両キャリア受
渡し位置20a,20b間でキャリアCRをほぼ90度
だけ旋回させて向きを変えるようにした。したがって、
外部の搬送ロボットは、システム側端部付近まで接近す
ればよく、各熱処理装置10〜16へ直接アクセスする
必要はない。このため、搬送ロボットの搬送制御が簡単
に済み、システム内でのキャリアCRの搬送能率が向上
している。また、搬送ロボットからの発塵が各熱処理装
置10〜16へ及ぶおそれもない。
【0015】図2に、キャリア搬送装置26の具体的構
成例を示す。図2に示すように、このキャリア搬送装置
26は、各々がキャリアCRを1個だけ搬送する一対の
キャリア搬送部30,46からなり、これらのキャリア
搬送部30,46によって2個のキャリアCRを同時に
搬送できるようになっている。
【0016】第1のキャリア搬送部30は、キャリアC
Rを載置するための載置台32、キャリアCRを旋回す
るためのターンテーブル34、キャリアCRをX方向に
移送するためのキャリッジ36とを有している。キャリ
ッジ36は、基板38上にX方向に設けられたボールネ
ジ40を介してパルスモータ42によりガイド棒44に
沿ってX方向に第1および第2のキャリア受け渡し位置
20a,20bの間を移動するように構成されている。
なお、基板38は、図示しない支持部材によって固定支
持されている。
【0017】第2のキャリア搬送部46は、キャリアC
Rを載置するための載置台48、キャリアCRを旋回す
るためのターンテーブル50、キャリアCRをX方向に
移送するためのXキャリッジ52およびキャリアCRを
Y方向に移送するためのYキャリッジ54とを有してい
る。Xキャリッジ52は、基板56上にX方向に延設さ
れたボールネジ58を介してパルスモータ60によりX
ガイド棒62に沿ってX方向に第1および第2のキャリ
ア受け渡し位置20a,20bの間を移動するように構
成されている。Yキャリッジ54は、Xキャリッジ52
上にY方向に設けられたボールネジ64を介してパルス
モータ66によりYガイド棒68に沿ってY方向に移動
するように構成されている。ただし、Yキャリッジ54
がY方向に移動するのは、第1のキャリア受け渡し位置
20a付近においてのみであり、第1のキャリア搬送部
30とは衝突しないようになっている。
【0018】このように、このキャリア搬送装置26で
は、第1のキャリア搬送部30により1個のキャリアC
RをX方向の直線行路上で移送する一方、第2のキャリ
ア搬送部46により1個のキャリアCRをX方向および
Y方向のL字状行路上で移送するので、2個のキャリア
CRを互いに干渉し合うことなく第1および第2のキャ
リア受け渡し位置20a,20bの間で同時移送できる
ようになっている。
【0019】図3および図4に、第1のキャリア搬送部
30の載置台32およびターンテーブル34の構成を詳
細に示す。図3に示すように、載置台32は、その上面
にキャリアCRの底部を両側から保持するための一対の
突部32aを設けており、下面が複数本の支持棒33に
よってターンテーブル34に連結されている。ターンテ
ーブル34は、リング状のベアリング34aを介して有
底筒状のテーブル筐体34bに回転可能に支持され、そ
の下面中央部が回転軸34cおよびジョイント34dを
介してピストンロッド34fの先端部に連結されてい
る。シリンダ34eは、水平支持棒34gを介して回転
軸34hを中心として回動可能に取付されている。図4
に示すように、シリンダ34eが作動して、ピストンロ
ッド34fが前進すると、ジョイント34dを介して回
転軸34cおよびターンテーブル34bが反時計回りに
回転し、反対にピストンロッド34fが後退すると、ジ
ョイント34dを介して回転軸34cおよびターンテー
ブル34bが時計回りに回転するようになっている。第
2のキャリア搬送部46の載置台48およびターンテー
ブル50も上記と同じ構成になっている。
【0020】次に、本実施例におけるキャリアライナ2
2の構成および動作を説明する。図1に示すように、キ
ャリアライナ22は、各熱処理装置10〜16、ストッ
カ18およびI/Oステーション20の正面部に沿って
システムの端から端まで一直線に延設された搬送路24
上を水平移動できるようになっている。I/Oステーシ
ョン20でキャリアCRを受け取ると、キャリアライナ
22は、後述するようにホストコンピュータからの指示
にしたがって、そのキャリアCRをストッカ18または
熱処理装置10〜16のいずれかに搬送する。本実施例
の熱処理システムでは、各々が1個のキャリアCRを搬
送できる一対のキャリアライナ22,22を一体に並設
した双頭型のキャリアライナとし、一度に2個のキャリ
アCRを並べて搬送できるようにしている。
【0021】図5〜図7に、キャリアライナ22の要部
の具体的構成例を示す。図5および図6において、垂直
方向に配設されたシリンダ72から突出したピストンロ
ッド74の先端に基板76が水平に取付され、この基板
76上に立設された垂直支持板78に回転軸80を介し
てアーム支持部82が回転可能に取付されている。
【0022】アーム支持部82の上面には第1アーム8
4がスライド部86を介してアーム長手方向に摺動可能
に取付され、第1アーム84の上面に第2アーム88が
スライド部90を介してアーム長手方向に摺動可能に取
付されている。アーム支持部82の上面の両端には第1
アーム84に対するストッパ部材82aが固着され、第
1アーム84の上面の両端には第2アーム88に対する
ストッパ部材84aが固着されている。第2アーム88
は、スライド部90に固着されたアーム基板88aと、
キャリアCRを把持する一対のキャリア把持部88b
と、キャリア把持部88bを開閉するアーム開閉部88
cとからなる。
【0023】アーム支持部82の一側面には3つの固定
プーリ92,94,96が取り付けられ、これらのプー
リのうち最も基端側の固定プーリ92は回転駆動軸10
2に結合されている。第1アーム84の一側面には4つ
の固定プーリ104,98,100,106が取付され
ている。これら7つのプーリ92→94→96→98→
106→104→100→92の間で1本の無端状駆動
ベルトBLが掛け渡され、この駆動ベルトBLはクラン
プ部材108を介して第2アーム88のアーム基板88
aに固着されている。
【0024】図5の状態において、駆動モータ(図示せ
ず)が回転駆動軸102を介して駆動プーリ92を時計
方向に回転させると、駆動ベルトBLが矢印C0 方向に
走行することにより、クランプ部材108を介して第2
アーム88が矢印B0 方向に移動(後退)する。そし
て、第2アーム88のアーム基板88aの基端が第1ア
ーム84の基端側ストッパ84aに当接したところで、
第2アーム88の移動(後退)が止まり、図6に示すよ
うな状態となる。図6の状態からさらに駆動プーリ92
を時計方向に回転させると、第2アーム88と第1アー
ム84とが一体になって矢印B0 方向に移動(後退)す
る。この両アーム88,84の後退移動は第1アーム8
4の基端がアーム支持部82の後端側ストッパ82aに
当接するまで可能である。両アーム84,88が後退し
た状態から駆動プーリ92を反時計方向に回転駆動する
と、上記と反対の動作が行われ、最初に第1および第2
アーム84,88が矢印B1 方向に一体に移動(前進)
し、次に第2アーム88だけが同方向に移動(前進)す
ることになる。
【0025】このように、本実施例のキャリアライナ2
2は、第1および第2アーム84,88を2段伸縮でき
るように構成されている。これにより、搬送路24が狭
くても、アーム84,88を縮めることで、向きを変え
ずに迅速にキャリアCRの搬送を行うことができる。ま
た、各部10〜20のキャリア受け渡し位置が奥まって
いても、アーム84,88を伸ばすことで、容易にキャ
リアCRの搬入・搬出を行うことができる。
【0026】さらに、本実施例のキャリアライナ22に
おいては、次のようなキャリア傾げ機構により、キャリ
アCR内のウエハWが傾く方向にキャリアCRを傾ける
ことができるようになっている。基板76の基端部上に
エアシリンダ110が垂直方向に配設され、そのピスト
ンロッド112はジョイント114を介してアーム支持
部82の基端部下面に接続している。
【0027】キャリアCRのフランジ部FLが水平にな
っている状態つまりキャリアCR内のウエハWが垂直状
態になっている状態からピストンロッド112を前進さ
せると、回転軸80を中心としてアーム支持部82およ
び第1,第2アーム84,88が反時計方向に回動する
ことにより、第2アーム88のキャリア把持部88bの
先端側が下がり、キャリアCRが下向きに傾く。このと
き、キャリアCR内のウエハWはたとえば被処理面が上
向きになるように傾く。ピストンロッド112を戻すこ
とで、上記と逆の動作が行われ、キャリアCRのフラン
ジ部FLが水平状態になり、内部のウエハWが垂直状態
に戻る。ピストンロッド112をさらに後退させると、
回転軸80を中心としてアーム支持部82および第1お
よび第2アーム84,88が時計方向に回動し、第2ア
ーム88のキャリア把持部88bの先端側が上がり、キ
ャリアCRが上向きに傾く。このとき、キャリアCR内
のウエハWは被処理面が下向きになるように傾く。一般
的には、ウエハWが少し下向きになるような方向に傾け
る方がパーティクルの付着を少なくする意味で好まし
い。垂直支持板78には、アーム支持部82の底部を所
定の回動角度で受け止めるように、時計回りに対するス
トッパ116および反時計回りに対するストッパ118
が取付されている。
【0028】なお、図7に示すように、キャリアCRの
フランジ部FLの両端部付近には段部CRa が形成さ
れ、この段部CRa に対応して第2アーム88のキャリ
ア把持部88bには凹凸部88eが形成されている。キ
ャリアライナ22がキャリアCRを把持するときは、キ
ャリア把持部88bの凹凸部88eがキャリアCRの段
部CRa に係合し、これにより、キャリアCRを下向き
に傾けてもアームから脱落しないようになっている。
【0029】このように、本実施例のキャリアライナ2
2は、ウエハWが傾く方向にキャリアCRを一定範囲内
で任意の角度に傾けることができる。したがって、次の
ようなキャリア搬送動作を行うことができる。
【0030】先ず、I/Oステーション20で、第1お
よび第2アーム84,88を延ばしてキャリアCRを受
け取り、エアシリンダ72の駆動でキャリアCRを所定
の高さまで持ち上げ、エアシリンダ110の駆動でたと
えば下向きに約5度傾け、アーム84,88を縮める。
次いで、その状態つまりアーム84,88を縮めかつ下
向きに約5度傾けた状態で搬送路24上を水平移動して
該キャリアCRを各熱処理装置10〜16もしくはスト
ッカ18まで搬送し、そこでアーム84,88を延ばし
て該キャリアCRを各部のキャリア受け渡し部GWの上
方へ搬入し、エアシリンダ110を作動させてアーム8
4,88およびキャリアCRを水平に戻し、次にエアシ
リンダ72を作動させてキャリアCRをキャリア受渡し
部GWに降ろす。このように、キャリアライナ22がウ
エハWを適当な角度で傾けながらキャリアCRを搬送す
ることで、キャリアCR内でウエハWがガタガタ動くこ
とがなく、キャリアCR内での塵芥の発生を防止するこ
とができる。
【0031】なお、搬送路24においてキャリアライナ
22を水平移動させるための駆動機構には、ボールネジ
式やベルト式等の慣用の駆動機構が用いられてよい。
【0032】図8は、キャリアライナ22の搬送路24
回りのクリーンルーム機構を示す。天井120に取付さ
れた垂れ壁式の仕切り壁122によってクリーンルーム
内がメンテナンスルーム124と作業室126とに分割
されている。
【0033】作業室126において、天井120にはH
EPAフィルタ128が離散的に配設され、床130に
は多数の通気孔を有したグレイチング132が敷設され
ている。空調器(図示せず)からサプライチャンバ13
4を通って送られて来た空気は、天井120のHEPA
フィルタ128より清浄な空気として作業室126内に
供給される。作業室126内に供給された清浄空気は、
ダウンフローとして室内を垂直方向に流れ、グレイチン
グ132の通気孔からクレイチング132と床130と
の間に設けられたリターンチャンバ136内に回収され
るようになっている。この作業室126は、たとえばク
ラス100 程度の清浄度に維持され、ここで作業員135
は制御装置(図示せず)等を操作することができる。
【0034】メンテナンスルーム124には、本熱処理
システムを構成する各熱処理装置10〜16、ストッカ
18およびI/Oステーション20が床130から適当
な間隔を空けて設置される。メンテナンスルーム124
の天井120にもHEPAフィルタ128が離散的に配
設されている。各熱処理装置10〜16およびストッカ
18の正面側上部には、送風用のファン138およびH
EPAフィルタ140が設けられている。搬送路24と
作業室126との間はガラス142で仕切られている。
また、搬送路24とメンテナンスルーム124との間も
図示しないガラスで仕切られている。搬送路24の底面
24aには複数の通気孔が設けられ、それらの通気孔を
介して搬送路24がシステム底部のダスト144と連通
している。ダクト144と作業室126とは壁板146
によって仕切られている。ダクト144の後端部には吸
引用のファン148が設けられている。
【0035】HEPAフィルタ128よりメンテナンス
ルーム124に供給された清浄空気の一部は、各熱処理
装置10〜16およびストッカ18の正面側上面に設け
られた吸込み口149を通って送風用ファン138に引
き込まれ、このファン138からHEPAフィルタ14
0を通って一層清浄な空気として搬送路24内に供給さ
れる。搬送路24内にダウンフローで供給された清浄空
気は、搬送路底面24aの通気孔からダクト144に入
り、ダクト後端部の吸引用ファン148から処理室12
4内へ抜け、処理室130の床130に設けられたリタ
ーンチャンバ(図示せず)に回収されるようになってい
る。なお、メンテナンスルーム124はたとえばクラス
10000 程度の清浄度に維持される。I/Oステーション
20でキャリアCRの受け渡しを行う外部のキャリア搬
送ロボットは、このメンテナンスルーム124内で搬送
作業を行う。
【0036】このように、本実施例の熱処理システムで
は、キャリアライナ22の搬送路24を作業室126お
よびメンテナンスルーム124から仕切って、そこに清
浄な空気をウンフローで供給するようにしたので、キ
ャリアライナ22の機械的機構部から発生する塵埃を床
側のダクト144に流して除去することができる。した
がって、作業室126側からのパーティクルを遮断でき
ることはもちろんのこと、キャリアライナ22ないし搬
送路24内でのパーティクルの発生を効果的に防止する
ことができる。
【0037】次に、本実施例におけるストッカ18の機
能を説明する。図1に示すように、ストッカ18におい
ては、正面部にキャリア受け渡し部GWが設けられ、内
奥に複数たとえば5つのキャリア収納室18Aが多段に
設置され、キャリア受け渡し部GWとキャリア収納室1
8Aとの間にキャリア昇降機18Bが設置されている。
ストッカ18の裏側の室19には後述するパージ機構等
が収納されている。
【0038】ストッカ18内で、キャリアCRは2つの
姿勢をとる。つまり、キャリアライナ22との間で受け
渡されるときは、フランジ部FLが上になりウエハWが
垂直状態で収容されるような姿勢をとる。しかし、キャ
リア収納室18A内に保管されるときは、フランジ部F
Lが側面になりウエハWがほぼ水平状態で収容されるよ
うな姿勢をとる。キャリア受け渡し部GWには、キャリ
アCRの姿勢を変換する機構が設けられている。また、
キャリア昇降機18Bには、各キャリア収納室18Aか
らキャリアCRを出し入れするための搬送アーム(図示
せず)が設けられている。
【0039】図9および図10に、ストッカ18におけ
る各キャリア収納室18Aの構造を示す。図示のよう
に、キャリア収納室18Aは、上面、下面、両側面およ
び裏面が板で閉塞され、前面が開口した箱状の収納室本
体150と、この収納室本体150の前面を必要に応じ
て開閉するための板状の扉152とからなる。この扉1
52の両側端部は、断面コ字状のガイド154によって
垂直方向に可動に保持されている。ガイド154の内側
には扉152の垂直移動を滑らかにするためのコロ15
6が設けられている。扉152の上面両端部には、扉1
52の重力を支えるためのケーブル158の一端が固着
されている。このケーブル158は、収納室本体150
の後部に取付されたリール160に巻かれており、収納
室本体150の両側面に取付されたガイドローラ162
を介して扉152の上端まで延びている。収納室本体1
50の両側面には、扉152を開閉操作するためのエア
シリンダ164および筒状のリニアガイド166も取付
されている。エアシリンダ162のピストンロッド16
8およびリニアガイド166に遊貫されたガイド棒16
9は扉ガイド154の裏面に固着されている。
【0040】かかる機構において、図9の状態から、エ
アシリンダ162のピストンロッド168が前進する
と、扉ガイド154および扉152がピストンロッド1
68およびガイド棒169によって収納室本体150よ
り前方に押し出され、次にリール160が所定方向に回
転してケーブル158を送り出すと、扉152だけが重
力で落下し、図10に示すように、収納室本体150の
前面が開けられ、キャリアCRの出し入れが可能とな
る。扉152を閉めるときは、上記と逆の動作が行われ
る。なお扉152で収納室本体150を密閉状態に閉じ
るために、本体150の前面部に適当なシール材を設け
るのが好ましい。
【0041】図11に概略的に示すように、あるキャリ
ア収納室18Aで開いた扉152はその下隣のキャリア
収納室18Aの扉152の前へ移動する。キャリア昇降
機18Bのキャリア搬送アームは一時に1つのキャリア
収納室18Aにアクセスするので、この時の下隣のキャ
リア収納室18Aの扉152は閉じており、上隣の扉1
52が前に降りて来ても何ら支障はない。したがって、
複数のキャリア収納室18Aを多段に配設しても、上記
のような扉開閉機構により使用スペースが少なくて済む
ので、ストッカ18を小型化することができる。
【0042】ところで、このストッカ18には、各キャ
リア収納室18Aの室内を不活性ガスでパージして、キ
ャリアCR内に収容されているウエハWの不所望な酸化
を防止するためのパージ機構が設けられている。図9に
示すように、各キャリア収納室18Aには不活性ガス供
給管170および排気管172が接続され、それらの配
管170,172にそれぞれ開閉バルブ174,176
が設けられている。これらの開閉バルブ174,176
は電磁弁からなり、ストッカ制御部178によってオン
・オフ制御されるようになっている。また、各キャリア
収納室18Aの室内にはO2 濃度を検出するためのO2
センサが設けられ、室外にはそのO2 センサの出力信号
に基づいてO2 濃度値を求めるO2 濃度検出器180が
設けられている。O2 濃度検出器180で求められた各
キャリア収納室18AのO2 濃度値はストッカ制御部1
78に与えられる。
【0043】キャリアCRの出し入れのために各キャリ
ア収納室18A内のO2 濃度が所定値を越えると、スト
ッカ制御部178は両開閉バルブ174,176をオン
させる。これにより、不活性ガス供給源(図示せず)か
らの不活性ガスたとえばN2ガスが適当な圧力・流量で
ガス供給管170を通ってキャリア収納室18A内に供
給される。そうすると、供給されたN2 ガスに巻き込ま
れるようにして室内のO2 ガス、H2 Oガス等が排気管
172へ排出される。こうして、室内のO2 濃度が所定
値より下がると、ストッカ制御部178は両開閉バルブ
174,176をオフさせてパージングを止める。
【0044】このように、本実施例のストッカ18にお
いては、各キャリア収納室18Aの室内を不活性ガスで
パージして、O2 ガスやH2 Oガス等の不所望なガスを
室外へ排出するようにしたので、キャリアCRに収納さ
れているウエハWの酸化その他の変質を防止することが
できる。したがって、ウエハWは自然酸化膜のない状態
でスッカ18から各熱処理装置10〜16へ送られ、
所定の熱処理を施されることになる。
【0045】上記した構成例では、O2 濃度検出器18
0や開閉弁170,172等を用いて各キャリア収納室
18Aの室内の雰囲気に応じた効率的な不活性ガスの供
給を行うようにしたが、不活性ガスを適当な圧力・流量
で周期的または連続的に流し続けるような制御でも可能
である。
【0046】図12に、熱処理装置10〜16の構成例
を示す。装置正面部のウエハ受渡し部GWにはキャリア
姿勢変換部190が設けられている。この姿勢変換部1
90は、矢印Uで示すように、キャリアCRに対して、
フランジ部FLが上になりウエハWが垂直状態で収容さ
れるような第1の姿勢と、フランジ部FLが側面になり
ウエハWがほぼ水平状態で収容されるような第2の姿勢
との間でほぼ90度回転させるような姿勢変換を行う。
【0047】ウエハ受渡し部GWに近接して、キャリア
昇降機192が垂設されている。このキャリア昇降機1
92には、ウエハ受渡し部GWとトランスファ・ステー
ジ194およびキャリア保管棚196との間でキャリア
CRの搬送を行うキャリア・トランスファ198が取付
されている。トランスファ・ステージ194の奥にはキ
ャリアCRとウエハボート200との間でウエハWの移
載を行うウエハトランスファ202が設けられている。
ウエハボート200はボート昇降機204によって加熱
炉206に出し入れされるようになっている。
【0048】キャリア保管棚196は、未処理ウエハま
たは処理済ウエハをキャリアCRに収納した状態で当該
処理装置内に一時的に保管するためのものである。この
キャリア保管棚196に保管されているウエハWに対
し、慣用のエア供給機構により清浄な空気を層流で供給
するようにしてよい。しかし、各熱処理装置10〜16
においても、キャリア保管棚196に代えて、上述した
ストッカ18のキャリア収納室18Aのような密閉可能
な保管室を採用し、その保管室内に不活性ガスを供給し
て室内をパージするように構成してもよい。
【0049】図13は、本熱処理システムにおける制御
関係のシステム構成を示す。本熱処理システムでは、各
熱処理装置10〜16内の各部の動作を制御する処理装
置制御部210,…210とストッカ18、I/Oステ
ーション20およびキャリアライナ22の各部の動作を
制御するコントローラ212とがローカル制御装置とし
てホストコンピュータ214に並列接続される。
【0050】コントローラ212は、I/Oステーショ
ン20に対しては、上述したように第1および第2のキ
ャリア受け渡し位置20a,20bの間でキャリアCR
の移送および旋回を行うよう第1および第2キャリア搬
送部30,46を制御する。また、光通信部21を介し
て外部の搬送ロボットとの所要の信号等をやりとりす
る。また、ストッカ18に対しては、ストッカ制御部2
16(図9のストッカ制御部178に相当する制御部)
を介してストッカ内の各部、たとえばキャリア搬送機構
218,キャリア姿勢変換機構220,扉開閉機構22
2,N2 供給機構224および排気機構226等を制御
する。
【0051】さらに、コントローラ212は、キャリア
ライナ22に対しては、キャリアライナ制御部228を
介してキャリアライナ22内の各部、たとえば水平移動
機構230、キャリア昇降機構234,アーム伸縮機構
234、キャリア傾斜機構236およびアーム開閉機構
238等を制御する。
【0052】上述した実施例は縦型熱処理装置を有する
熱処理システムに係るものであったが、本発明はそのよ
うなシステムに限定されず、他の型式の熱処理システム
にも当然に適用可能であり、一般的にはウエハまたはL
CD基板等の板状の被処理体をキャリアに収容した状態
で搬送する任意の処理システムに適用可能である。
【0053】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の処理シ
ステムによれば、複数個の密閉可能なキャリア収納室を
多段に配置して、各キャリア収納室の前面開口を各専用
の扉によって独立的に開閉できるようにするとともに各
室内の不活性ガス雰囲気を個別的に制御するようにし、
いずれかのキャリア収納室で開けてキャリアの出し入れ
を行うときは、他の全てのキャリア収納室では密閉状態
を維持して不活性ガスの雰囲気中に被処理体を保管する
ようにしたので、保管中の被処理体に対して不所望な酸
化その他の変質を省スペースで効率よく防止することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による熱処理システムの全体
構成を示す略斜視図である。
【図2】実施例におけるI/Oステーションの具体的構
成例を示す斜視図である。
【図3】実施例のI/Oステーションにおけるキャリア
旋回機構の構成を示す断面図である。
【図4】図3のキャリア旋回機構における回転駆動部の
構成を示す平面図である。
【図5】実施例におけるキャリアライナの構成を示す側
面図である。
【図6】実施例のキャリアライナにおいてアームが幾ら
か縮まっている状態を示す側面図である。
【図7】実施例におけるキャリアの被把持部およびキャ
リアライナの把持部の構成を示す平面図である。
【図8】実施例における搬送路回りのクリーンルーム機
構を示す略側面図である。
【図9】実施例におけるストッカ内のキャリア収納部の
構成例を示す斜視図である。
【図10】実施例のキャリア収納部において扉が開いた
状態を示す斜視図である。
【図11】実施例のストッカにおいて1つのキャリア収
納部の扉が開いたときの他の収納部との関係を示す略側
面図である。
【図12】実施例における熱処理装置内の構成例を示す
略側面図である。
【図13】実施例における制御関係のシステム構成を示
すブロック図である。 10〜16 熱処理装置 18 ストッカ 18A キャリア収納室 20 I/Oステーション 20a 第1のキャリア受渡し位置 20B 第2のキャリア受渡し位置 22 キャリアライナ 24 搬送路 30 第1キャリア搬送部 46 第2キャリア搬送部 150 収納室本体 152 扉 170 不活性ガス供給管 172 排気管 174 開閉バルブ 176 開閉バルブ 178 ストッカ制御部 180 O2 濃度検出器 CR キャリア GW キャリア受渡し部 W 半導体ウエハ
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/68 B65D 81/20 H01L 21/22 511

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の熱処理を行うための加熱炉を含む
    1つまたは複数の熱処理部を有し、前記熱処理部で前記
    熱処理を受ける板状の被処理体をキャリアに収容した状
    態で保管ないし搬送するようにした処理システムであ
    って、 前記キャリアを収納するための前面が開口した収納室本
    体とこの収納室本体を密閉状態で閉じるための開閉可能
    扉とを有するキャリア収納室を複数個多段に配置し、 各々の前記キャリア収納室毎に、前記収納室本体内に不
    活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段と、前記
    収納室本体内を排気するための排気手段とを設け、 前記多段に配置された複数個のキャリア収納室の中で前
    記キャリアの出し入れが行われるキャリア収納室におい
    てのみ前記扉を開けて前記収納室本体を開状態とし、他
    の全てのキャリア収納室については前記収納室本体を前
    記扉により密閉状態に保持して室内の前記被処理体を不
    活性ガスの雰囲気中に保つことを特徴とする処理シス
    テム。
  2. 【請求項2】 各々の前記キャリア収納室毎に、前記扉
    を前記収納室本体の前面を気密に閉じるための第1の位
    置と前記収納室本体の前面を開けるための前記収納室本
    体よりも低い第2の位置との間で移動させる扉開閉機構
    を有する請求項1に記載の熱処理システム。
  3. 【請求項3】 前記扉開閉機構が、前記扉の左右両側端
    部をそれぞれ垂直方向に可動に保持するためのガイド部
    材と、前記ガイド部材を前記扉を介して前記収納室本体
    の前面を気密に閉じるための第3の位置と前記収納室本
    体の前面よりも前方に設定された第4の位置との間で移
    動させるためのアクチエータと、前記扉を巻き戻しおよ
    び巻き上げ可能なケーブルで吊って上下移動可能に支持
    するリール機構とを有することを特徴とする請求項2に
    記載の処理システム。
  4. 【請求項4】 前記アクチエータが前記収納室本体の側
    面に設けられることを特徴とする請求項3に記載の
    理システム。
  5. 【請求項5】 前記リール機構が前記収納室本体の側面
    に設けられることを特徴とする請求項3または4に記載
    処理システム。
  6. 【請求項6】 前記不活性ガス供給手段が、各対応する
    前記キャリア収納室の室内の酸素濃度を検出するための
    酸素濃度検出手段と、この酸素濃度検出手段によって検
    出された酸素濃度に応じて前記不活性ガス供給のオン・
    オフを制御するための不活性ガス供給制御手段とを有す
    ることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の熱
    処理システム。
  7. 【請求項7】 前記被処理体を多数枚保持した状態で前
    記加熱炉に出し入れ可能に構成されたボートと、 前記ボートと所定のステージに配置された前記キャリア
    との間で前記被処理体の移載を行う被処理体移載手段
    と、 前記ステージと前記キャリア収納室との間で前記キャリ
    アを搬送するためのキャリア搬送手段とを有する請求項
    1〜6のいずれかに記載の熱処理システム。
JP21097892A 1992-07-15 1992-07-15 熱処理システム Expired - Fee Related JP3300861B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21097892A JP3300861B2 (ja) 1992-07-15 1992-07-15 熱処理システム
US08/089,827 US5378145A (en) 1992-07-15 1993-07-12 Treatment system and treatment apparatus
KR1019930013354A KR100289135B1 (ko) 1992-07-15 1993-07-15 처리시스템및처리장치
US08/316,333 US5639234A (en) 1992-07-15 1994-09-30 Treatment system and treatment apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21097892A JP3300861B2 (ja) 1992-07-15 1992-07-15 熱処理システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0637168A JPH0637168A (ja) 1994-02-10
JP3300861B2 true JP3300861B2 (ja) 2002-07-08

Family

ID=16598284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21097892A Expired - Fee Related JP3300861B2 (ja) 1992-07-15 1992-07-15 熱処理システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3300861B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0809284B8 (en) * 1995-12-28 2007-06-13 Taiyo Nippon Sanso Corporation Method and system for transporting substrate wafers
JP5193220B2 (ja) * 2006-11-15 2013-05-08 ダイナミック マイクロシステムズ セミコンダクター イクイップメント ゲーエムベーハー ワークピースストッカ用の取外し可能なコンパートメント

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0637168A (ja) 1994-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5562383A (en) Treatment apparatus
US5639234A (en) Treatment system and treatment apparatus
US5527390A (en) Treatment system including a plurality of treatment apparatus
JP3275390B2 (ja) 可搬式密閉コンテナ流通式の自動搬送システム
TWI417978B (zh) A substrate processing device, a loading lock chamber unit, and a transporting device
JPH08213446A (ja) 処理装置
JP2020524900A (ja) インデックス可能な側方収容ポッド装置、加熱側方収容ポッド装置、システム、及び方法
JP3543996B2 (ja) 処理装置
JPH10256346A (ja) カセット搬出入機構及び半導体製造装置
KR102626528B1 (ko) 국소 퍼지 기능을 갖는 반송 장치
JP2002217264A (ja) 基板処理装置及びその方法
JP2006216982A (ja) 半導体処理装置
JP3300861B2 (ja) 熱処理システム
JP3380570B2 (ja) 搬送装置
JPH0637165A (ja) 処理システム
KR100289135B1 (ko) 처리시스템및처리장치
JP6704423B2 (ja) 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム
JP2009302351A (ja) 被処理体の移載機構及び被処理体の処理システム
JPH0637166A (ja) 処理システムのキャリア搬送装置
JP2012169534A (ja) 基板処理装置及び半導体装置の製造方法
JP3816929B2 (ja) 半導体処理装置
GB2284706A (en) Semiconductor wafer processing apparatus
JP2002016055A (ja) 半導体製造装置
JP3240698B2 (ja) 可搬式密閉コンテナのパージステーション
JP3176153B2 (ja) 半導体製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees