JPH0637166A - 処理システムのキャリア搬送装置 - Google Patents

処理システムのキャリア搬送装置

Info

Publication number
JPH0637166A
JPH0637166A JP4210977A JP21097792A JPH0637166A JP H0637166 A JPH0637166 A JP H0637166A JP 4210977 A JP4210977 A JP 4210977A JP 21097792 A JP21097792 A JP 21097792A JP H0637166 A JPH0637166 A JP H0637166A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carrier
arm
transfer
wafer
heat treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4210977A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Ono
裕司 小野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Tohoku Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Tohoku Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd, Tokyo Electron Tohoku Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP4210977A priority Critical patent/JPH0637166A/ja
Priority to KR1019930013354A priority patent/KR100289135B1/ko
Publication of JPH0637166A publication Critical patent/JPH0637166A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 [目的]処理システムにおいて、外部のキャリア搬送手
段の負担を軽減し、処理システム内のキャリア搬送効率
および被処理体製品の歩留まりを向上させる。 [構成]垂直方向に配設されたシリンダ72のピストン
ロッド74の先端に基板76が水平に取付され、この基
板76上に立設された垂直支持板78に回転軸80を介
してアーム支持部82が回転可能に取付され、このアー
ム支持部82の上面に第1アーム84がアーム長手方向
に摺動可能に取付され、この第1アーム84の上面に第
2アーム88がアーム長手方向に摺動可能に取付されて
いる。基板76の基端部上に配設されたエアシリンダ1
10のピストンロッド112が前進または後退すると、
回転軸80を中心としてアーム支持部82および第1お
よび第2アーム84,88が回動する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板やLCD基
板等の板状被処理体を処理する処理システムにおけるキ
ャリア搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造工場やLCD製造工場では、
生産性を上げるために、複数枚の被処理体(半導体基
板、LCD基板)をキャリアまたはカセット等と称され
る容器に収容した状態で一括搬送するようにしている。
【0003】たとえば、半導体製造工場において、リソ
グラフィ工程の処理を受けた半導体ウエハは、複数枚た
とえば25枚ずつキャリアに収容された状態で搬送ロボ
ットにより熱処理装置まで搬送される。熱処理装置で
は、半導体ウエハをキャリアからウエハボートに移し替
え、ウエハボートに多数枚たとえば100枚ずつ載せて
炉に入れ、酸化、拡散またはCVD等の熱処理を施す。
そして、熱処理の済んだウエハをウエハボートからキャ
リアに移し替えて搬送ロボットへ渡すようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の熱処理システム
では、搬送ロボットが熱処理装置のキャリア受け渡し位
置まで接近して来てキャリアの受け渡しを直接行ってい
た。このため、複数の熱処理装置を併設するシステムに
あっては、リソグラフィ工程部と各熱処理装置との間で
搬送ロボットをジャスト・イン・タイムで選択的に行き
来させるための制御が非常に難しく、ソフトウェアの負
担、生産能率の面で問題があった。さらに搬送ロボット
は、キャリア内でウエハが垂直になっている状態(姿
勢)でキャリアを搬送するため、搬送中にキャリア内で
ウエハが動いてウエハ保持溝から塵芥が発生し、それが
ウエハに付着して、最終製品である半導体デバイスの歩
留まりを下げる原因となっていた。また、搬送ロボット
の自走によって床から舞い上がる塵芥が熱処理装置に入
り込むことも、歩留まり低下の一因となっていた。
【0005】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
もので、外部のキャリア搬送手段の負担を軽減するとと
もに、処理システム内のキャリア搬送効率および被処理
体の歩留まりの向上をはかるキャリア搬送装置を提供す
ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明による処理システムのキャリア搬送装置
は、1つまたは複数の処理装置を有し、前記処理装置で
所定の処理を受ける板状の被処理体をキャリアに収容し
た状態で搬送するようにした処理システムにおいて、各
々の前記処理装置へ前記キャリアを搬入または搬出する
ために所定の搬送路を移動するように構成されたキャリ
ア移送手段と、前記キャリア移送手段に取付され、前記
キャリアを脱着可能に支持する搬送アームを二段伸縮さ
せるアーム伸縮手段と、前記キャリア移送手段に取付さ
れ、前記キャリアに収容された被処理体が傾くように前
記搬送アームに支持された前記キャリアを任意の角度で
傾けるキャリア傾げ手段とを具備する構成とした。
【0007】
【作用】ある処理装置へキャリアを搬入する場合、キャ
リア移送手段が各処理装置から離れた所定のステーショ
ンまで移動し、そこでアーム伸縮手段により搬送アーム
を伸ばしてキャリアを掴む。ステーションから該処理装
置へは、アーム伸縮手段により搬送アームを縮め、かつ
キャリア傾げ手段によりキャリア内の被処理体が傾くよ
うにキャリアを傾けた状態で、キャリア移送手段が搬送
路を移動する。このように、搬送アームを縮めた状態で
移動することができるため、搬送路を狭くすることがで
きる。また、キャリアの搬送中にキャリア内の被処理体
が傾けられることにより、被処理体がガタガタ動くこと
がない。したがって、キャリア内での塵芥の発生を防止
することができる。
【0008】キャリア移送手段が該処理装置に到達する
と、アーム伸縮手段により搬送アームを伸ばし、キャリ
ア傾げ手段によりキャリア内の被処理体が垂直状態にな
るようにキャリアの傾きを戻して、キャリアを該処理装
置のキャリア受け渡し位置に載置する。このキャリア受
け渡し位置が奥まっていても、アーム伸縮手段により搬
送アームを二段伸縮できるため、容易にキャリアの搬入
・搬出を行うことができる。
【0009】一方、外部のキャリア搬送手段は、ステー
ションまで接近すればよく、各処理装置へ直接アクセス
する必要がない。したがって、外部のキャリア搬送手段
がキャリア搬送中に発塵しても、各処理装置へ影響を及
ぼすおそれはない。
【0010】
【実施例】以下、添付図を参照して本発明の実施例を説
明する。図1は、本発明の一実施例による熱処理システ
ムの全体構成を概略的に示す。図示のように、この熱処
理システムは、複数台たとえば4台の縦型熱処理装置1
0,12,14,16を一列に配設し、さらにその配列
方向にストッカ18およびI/O(搬入出)ステーショ
ン20を併設し、それら各部10〜20の正面部に沿っ
て一直線にキャリアライナ22の搬送路24を設けてい
る。
【0011】この熱処理システムにおいて、被処理体で
ある半導体ウエハWは、複数枚たとえば25枚ずつキャ
リアCRに収容された状態で搬送される。システム内で
は、キャリアライナ22が熱処理装置10〜16、スト
ッカ18およびI/Oステーション20の間でキャリア
CRを一度に2個ずつ搬送するようになっている。シス
テム外部に対しては、I/Oステーション20がシステ
ム全体のキャリア搬入/搬出口として機能する。
【0012】I/Oステーション20には、システム外
部の搬送ロボット(図示せず)とキャリアライナ22と
の間でキャリアCRを搬送するキャリア搬送装置26が
設けられている。外部の搬送ロボットは、I/Oステー
ション20の側端部に設けられた第1のキャリア受け渡
し位置20aの近くまで自走して来て、ここでキャリア
搬送装置26とキャリアCRを一度に1個または2個受
け渡しするようになっている。この際、キャリアCR
は、矢印Pの向きで、つまりその上端フランジ部FLが
搬送ロボットのアームに平行となるような向きで受け渡
しされる。第1のキャリア受け渡し位置20aの下方に
は、搬送ロボットと光通信で信号または合図のやりとり
を行うための光通信部21が設けられている。
【0013】キャリアライナ22は、I/Oステーショ
ン20の正面部に設定された第2のキャリア受け渡し位
置20bの近くまで移動して来て、ここでキャリア搬送
装置26とキャリアCRを一度に1個または2個受け渡
しするようになっている。この際、キャリアCRは、矢
印Qの向きで、つまりその上端フランジ部FLがキャリ
アライナ22のアームに対して平行となる向きで受け渡
しされる。
【0014】I/Oステーション20内では、キャリア
搬送装置26が、キャリアCRを上記第1および第2の
キャリア受け渡し位置20a,20bの間で点線J1,J
2 で示す行路上を搬送し、かつキャリアCRをほぼ90
度の角度だけ旋回させてその向きを矢印P方向から矢印
Q方向へ、もしくは矢印Q方向から矢印P方向へ変え
る。これにより、第1のキャリア受け渡し位置20aで
搬送ロボットより矢印Pの向きでキャリア搬送装置26
に渡されたキャリアCRは、第2のキャリア受け渡し位
置20bでは矢印Qの向きでキャリア搬送装置26から
キャリアライナ22へ渡されるようになっている。ま
た、第2のキャリア受け渡し位置20bでキャリアライ
ナ22より矢印Qの向きでキャリア搬送装置26に渡さ
れたキャリアCRは、第1のキャリア受け渡し位置20
aでは矢印Pの向きでキャリア搬送装置26から搬送ロ
ボットへ渡されるようになっている。
【0015】このように、本熱処理システムでは、各熱
処理装置10〜16から離れた位置にI/Oステーショ
ン20を設け、外部の搬送ロボットとはステーション2
0の側端部に設定された第1のキャリア受け渡し位置2
0aでキャリアCRの受け渡しを行うようにし、システ
ム内部のキャリアライナ22とはステーション20の正
面部に設定された第2のキャリア受け渡し位置20bで
キャリアCRの受け渡しを行うようにし、両キャリア受
渡し位置20a,20b間でキャリアCRをほぼ90度
だけ旋回させて向きを変えるようにした。したがって、
外部の搬送ロボットは、システム側端部付近まで接近す
ればよく、各熱処理装置10〜16へ直接アクセスする
必要はない。このため、搬送ロボットの搬送制御が簡単
に済み、システム内でのキャリアCRの搬送能率が向上
している。また、搬送ロボットからの発塵が各熱処理装
置10〜16へ及ぶおそれもない。
【0016】図2に、キャリア搬送装置26の具体的構
成例を示す。図2に示すように、このキャリア搬送装置
26は、各々がキャリアCRを1個だけ搬送する一対の
キャリア搬送部30,46からなり、これらのキャリア
搬送部30,46によって2個のキャリアCRを同時に
搬送できるようになっている。
【0017】第1のキャリア搬送部30は、キャリアC
Rを載置するための載置台32、キャリアCRを旋回す
るためのターンテーブル34、キャリアCRをX方向に
移送するためのキャリッジ36とを有している。キャリ
ッジ36は、基板38上にX方向に設けられたボールネ
ジ40を介してパルスモータ42によりガイド棒44に
沿ってX方向に第1および第2のキャリア受け渡し位置
20a,20bの間を移動するように構成されている。
なお、基板38は、図示しない支持部材によって固定支
持されている。
【0018】第2のキャリア搬送部46は、キャリアC
Rを載置するための載置台48、キャリアCRを旋回す
るためのターンテーブル50、キャリアCRをX方向に
移送するためのXキャリッジ52およびキャリアCRを
Y方向に移送するためのYキャリッジ54とを有してい
る。Xキャリッジ52は、基板56上にX方向に延設さ
れたボールネジ58を介してパルスモータ60によりX
ガイド棒62に沿ってX方向に第1および第2のキャリ
ア受け渡し位置20a,20bの間を移動するように構
成されている。Yキャリッジ54は、Xキャリッジ52
上にY方向に設けられたボールネジ64を介してパルス
モータ66によりYガイド棒68に沿ってY方向に移動
するように構成されている。ただし、Yキャリッジ54
がY方向に移動するのは、第1のキャリア受け渡し位置
20a付近においてのみであり、第1のキャリア搬送部
30とは衝突しないようになっている。
【0019】このように、このキャリア搬送装置26で
は、第1のキャリア搬送部30により1個のキャリアC
RをX方向の直線行路上で移送する一方、第2のキャリ
ア搬送部46により1個のキャリアCRをX方向および
Y方向のL字状行路上で移送するので、2個のキャリア
CRを互いに干渉し合うことなく第1および第2のキャ
リア受け渡し位置20a,20bの間で同時移送できる
ようになっている。
【0020】図3および図4に、第1のキャリア搬送部
30の載置台32およびターンテーブル34の構成を詳
細に示す。図3に示すように、載置台32は、その上面
にキャリアCRの底部を両側から保持するための一対の
突部32aを設けてなり、下面が複数本の支持棒33に
よってターンテーブル34に連結されている。ターンテ
ーブル34は、リング状のベアリング34aを介して有
底筒状のテーブル筐体34bに回転可能に支持され、そ
の下面中央部が回転軸34cおよびジョイント34dを
介してピストンロッド34fの先端部に連結されてい
る。シリンダ34eは、水平支持棒34gを介して回転
軸34hを中心として回動可能に取付されている。図4
に示すように、シリンダ34eが作動して、ピストンロ
ッド34fが前進すると、ジョイント34dを介して回
転軸34cおよびターンテーブル34bが反時計回りに
回転し、反対にピストンロッド34fが後退すると、ジ
ョイント34dを介して回転軸34cおよびターンテー
ブル34bが時計回りに回転するようになっている。第
2のキャリア搬送部46の載置台48およびターンテー
ブル50も上記と同じ構成になっている。
【0021】次に、本実施例におけるキャリアライナ2
2の構成および動作を説明する。図1に示すように、キ
ャリアライナ22は、各熱処理装置10〜16、ストッ
カ18およびI/Oステーション20の正面部に沿って
システムの端から端まで一直線に延設された搬送路24
上を水平移動できるようになっている。I/Oステーシ
ョン20でキャリアCRを受け取ると、キャリアライナ
22は、後述するようにホストコンピュータからの指示
にしたがって、そのキャリアCRをストッカ18または
熱処理装置10〜16のいずれかに搬送する。本実施例
の熱処理システムでは、各々が1個のキャリアCRを搬
送できる一対のキャリアライナ22,22を一体に並設
した双頭型のキャリアライナとし、一度に2個のキャリ
アCRを並べて搬送できるようにしている。
【0022】図5〜図7に、キャリアライナ22の要部
の具体的構成例を示す。図5および図6において、垂直
方向に配設されたシリンダ72より突出したピストンロ
ッド74の先端に基板76が水平に取付され、この基板
76上に立設された垂直支持板78に回転軸80を介し
てアーム支持部82が回転可能に取付されている。
【0023】アーム支持部82の上面には第1アーム8
4がスライド部86を介してアーム長手方向に摺動可能
に取付され、第1アーム84の上面に第2アーム88が
スライド部90を介してアーム長手方向に摺動可能に取
付されている。アーム支持部82の上面の両端には第1
アーム84に対するストッパ部材82aが固着され、第
1アーム84の上面の両端には第2アーム88に対する
ストッパ部材84aが固着されている。第2アーム88
は、スライド部90に固着されたアーム基板88aと、
キャリアCRを把持する一対のキャリア把持部88b
と、キャリア把持部88bを開閉するアーム開閉部88
cとからなる。
【0024】アーム支持部82の一側面には3つの固定
プーリ92,94,96が取り付けられ、これらのプー
リのうち最も基端側の固定プーリ92は回転駆動軸10
2に結合されている。第2アーム84の一側面には4つ
の固定プーリ104,98,100,106が取付され
ている。これら7つのプーリ92→94→96→98→
106→104→100→92の間で1本の無端状駆動
ベルトBLが掛け渡され、この駆動ベルトBLはクラン
プ部材108を介して第2アーム88のアーム基板88
aに固着されている。
【0025】図5の状態において、駆動モータ(図示せ
ず)が回転駆動軸102を介して駆動プーリ92を時計
方向に回転させると、駆動ベルトBLが矢印C0 方向に
走行することにより、クランプ部材108を介して第2
アーム88が矢印B0 方向に移動(後退)する。そし
て、第2アーム88のアーム基板88aの基端が第1ア
ーム84の基端側ストッパ84aに当接したところで、
第2アーム88の移動(後退)が止まり、図6に示すよ
うな状態となる。図6の状態からさらに駆動プーリ92
を時計方向に回転させると、第2アーム88と第1アー
ム84とが一体になって矢印B0 方向に移動(後退)す
る。両アーム88,84の移動(後退)は第1アーム8
4の基端がアーム支持部82の後端側ストッパ82aに
当接するまで可能である。両アーム84,88が後退し
た状態から駆動プーリ92を反時計方向に回転駆動する
と、上記と反対の動作が行われ、最初に第1および第2
アーム84,88が矢印B1 方向に一体に移動(前進)
し、次に第2アーム88だけが同方向に移動(前進)す
ることになる。
【0026】このように、本実施例のキャリアライナ2
2は、第1および第2アーム84,88を2段伸縮でき
るように構成されている。これにより、搬送路24が狭
くても、アーム84,88を縮めることで、向きを変え
ずに迅速にキャリアCRの搬送を行うことができる。ま
た、各部10〜20のキャリア受け渡し位置が奥まって
いても、アーム84,88を伸ばすことで、容易にキャ
リアCRの搬入・搬出を行うことができる。
【0027】さらに、本実施例のキャリアライナ22に
おいては、次のようなキャリア傾げ機構により、キャリ
アCR内のウエハWが傾く方向にキャリアCRを傾ける
ことができるようになっている。基板76の基端部上に
エアシリンダ110が垂直方向に配設され、そのピスト
ンロッド112はジョイント114を介してアーム支持
部82の基端部下面に接続している。
【0028】キャリアCRのフランジ部FLが水平にな
っている状態つまりキャリアCR内のウエハWが垂直状
態になっている状態からピストンロッド112を前進さ
せると、回転軸80を中心としてアーム支持部82およ
び第1,第2アーム84,88が反時計方向に回動する
ことにより、第2アーム88のキャリア把持部88bの
先端側が下がり、キャリアCRが下向きに傾く。このと
き、キャリアCR内のウエハWはたとえば被処理面が上
向きになるように傾く。ピストンロッド112を戻すこ
とで、上記と逆の動作が行われ、キャリアCRのフラン
ジ部FLが水平状態になり、内部のウエハWが垂直状態
に戻る。ピストンロッド112をさらに後退させると、
回転軸80を中心としてアーム支持部82および第1お
よび第2アーム84,88が時計方向に回動し、第2ア
ーム88のキャリア把持部88bの先端側が上がり、キ
ャリアCRが上向きに傾く。このとき、キャリアCR内
のウエハWは被処理面が下向きになるように傾く。一般
的には、ウエハWが少し下向きになるような方向に傾け
る方がパーティクルの付着を少なくする意味で好まし
い。垂直支持板78には、アーム支持部82の底部を所
定の回動角度で受け止めるように、時計回りに対するス
トッパ116および反時計回りに対するストッパ118
が取付されている。
【0029】なお、図7に示すように、キャリアCRの
フランジ部FLの両端部付近には段部CRa が形成さ
れ、この段部CRa に対応して第2アーム88のキャリ
ア把持部88bには凹凸部88eが形成されている。キ
ャリアライナ22がキャリアCRを把持するときは、キ
ャリア把持部88bの凹凸部88eがキャリアCRの段
部CRa に係合し、これにより、キャリアCRを下向き
に傾けてもアームから脱落しないようになっている。
【0030】このように、本実施例のキャリアライナ2
2は、ウエハWが傾く方向にキャリアCRを一定範囲内
で任意の角度に傾けることができる。したがって、次の
ようなキャリア搬送動作を行うことができる。
【0031】先ず、I/Oステーション20で、第1お
よび第2アーム84,88を延ばしてキャリアCRを受
け取り、エアシリンダ72の駆動でキャリアCRを所定
の高さまで持ち上げ、エアシリンダ110の駆動でたと
えば下向きに約5度傾け、アーム84,88を縮める。
次いで、その状態つまりアーム84,88を縮めかつ下
向きに約5度傾けた状態で搬送路24上を水平移動して
該キャリアCRを各熱処理装置10〜16もしくはスト
ッカ18まで搬送し、そこでアーム84,88を延ばし
て該キャリアCRを各部のキャリア受け渡し部GWの上
方へ搬入し、エアシリンダ110を作動させてアーム8
4,88およびキャリアCRを水平に戻し、次にエアシ
リンダ72を作動させてキャリアCRをキャリア受渡し
部GWに降ろす。このように、キャリアライナ22がウ
エハWを適当な角度で傾けながらキャリアCRを搬送す
ることで、キャリアCR内でウエハWがガタガタ動くこ
とがなく、キャリアCR内での塵芥の発生を防止するこ
とができる。
【0032】なお、搬送路24においてキャリアライナ
22を水平移動させるための駆動機構には、ボールネジ
式やベルト式等の慣用の駆動機構が用いられてよい。
【0033】図8は、キャリアライナ22の搬送路24
回りのクリーンルーム機構を示す。天井120に取付さ
れた垂れ壁式の仕切り壁122によってクリーンルーム
内がメンテナンスローム124と作業室126とに分割
されている。
【0034】作業室126において、天井120にはH
EPAフィルタ128が離散的に配設され、床130に
は多数の通気孔を有したグレイチング132が敷設され
ている。空調器(図示せず)からサプライチャンバ13
4を通って送られて来た空気は、天井120のHEPA
フィルタ128より清浄な空気として作業室126内に
供給される。作業室126内に供給された清浄空気は、
ダウンフローとして室内を垂直方向に流れ、グレイチン
グ132の通気孔からクレイチング132と床130と
の間に設けられたリターンチャンバ136内に回収され
るようになっている。この作業室126は、たとえばク
ラス100 程度の清浄度に維持され、ここで作業員135
は制御装置(図示せず)等を操作することができる。
【0035】メンテナンスルーム124には、本熱処理
システムを構成する各熱処理装置10〜16、ストッカ
18およびI/Oステーション20が床130から適当
な間隔を空けて設置される。メンテナンスルーム124
の天井120にもHEPAフィルタ128が離散的に配
設されている。各熱処理装置10〜16およびストッカ
18の正面側上部には、送風用のファン138およびH
EPAフィルタ140が設けられている。搬送路24と
作業室126との間はガラス142で仕切られている。
搬送路24とメンテナンスルーム124との間も図示し
ないガラスで仕切られている。搬送路24の底面24a
には複数の通気孔が設けられ、それらの通気孔を介して
搬送路24がシステム底部のダクト144と連通してい
る。ダクト144と作業室126とは壁板146によっ
て仕切られている。ダクト144の後端部には吸引用の
ファン148が設けられている。
【0036】HEPAフィルタ128よりメンテナンス
ルーム124に供給された清浄空気の一部は、各熱処理
装置10〜16およびスタッカ18の正面側上面に設け
られた吸込み口149を通って送風用ファン138に引
き込まれ、このファン138からHEPAフィルタ14
0を通って一層清浄な空気として搬送路24内に供給さ
れる。搬送路24内にダウンフローで供給された清浄空
気は、搬送路底面24aの通気孔からダスト144に入
り、ダスト後端部の吸引用ファン148から処理室12
4内へ抜け、処理室130の床130に設けられたリタ
ーンチャンバ(図示せず)に回収されるようになってい
る。なお、メンテナンスルーム124はたとえばクラス
10000 程度の清浄度に維持される。I/Oステーション
20でキャリアCRの受け渡しを行う外部のキャリア搬
送ロボットは、このメンテナンスルーム124内で搬送
作業を行う。
【0037】このように、本実施例の熱処理システムで
は、キャリアライナ22の搬送路24を作業室126お
よびメンテナンスルーム124から仕切って、そこに清
浄な空気をタウンフローで供給するようにしたので、キ
ャリアライナ22の機械的機構部から発生する塵埃を床
側のダクト144に流して除去することができる。した
がって、作業室126側からのパーティクルを遮断でき
ることはもちろんのこと、キャリアライナ22ないし搬
送路24内でのパーティクルの発生を効果的に防止する
ことができる。
【0038】次に、本実施例におけるストッカ18の機
能を説明する。図1に示すように、ストッカ18におい
ては、正面部にキャリア受け渡し部GWが設けられ、内
奥に複数たとえば5つののキャリア収納室18Aが多段
に設置され、キャリア受け渡し部GWとキャリア収納室
18Aとの間にキャリア昇降機18Bが設置されてい
る。ストッカ18の裏側の室19には後述するパージ機
構等が収納されている。
【0039】ストッカ18内で、キャリアCRは2つの
姿勢をとる。つまり、キャリアライナ22との間で受け
渡されるときは、フランジ部FLが上になりウエハWが
垂直状態で収容されるような姿勢をとる。しかし、キャ
リア収納室18A内に保管されるときは、フランジ部F
Lが側面になりウエハWがほぼ水平状態で収容されるよ
うな姿勢をとる。キャリア受け渡し部GWには、キャリ
アCRの姿勢を変換する機構が設けられている。また、
キャリア昇降機18Bには、各キャリア収納室18Aか
らキャリアCRを出し入れするための搬送アーム(図示
せず)が設けられている。
【0040】図9および図10に、ストッカ18におけ
る各キャリア収納室18Aの構造を示す。図示のよう
に、キャリア収納室18Aは、上面、下面、両側面およ
び裏面が板で閉塞され、前面が開口した箱状の収納室本
体150と、この収納室本体150の前面を必要に応じ
て開閉するための板状の扉152とからなる。この扉1
52の両側端部は、断面コ字状のガイド154によって
垂直方向に可動に保持されている。ガイド154の内側
には扉152の垂直移動を滑らかにするためのコロ15
6が設けられている。扉152の上面両端部には、扉1
52の重力を支えるためのケーブル158の一端が固着
されている。このケーブル158は、収納室本体150
の後部に取付されたリール160に巻かれており、収納
室本体150の両側面に取付されたガイドローラ162
を介して扉152の上端まで延びている。収納室本体1
50の両側面には、扉152を開閉操作するためのエア
シリンダ164および筒状のリニアガイド166も取付
されている。エアシリンダ162のピストンロッド16
8およびリニアガイド166に遊貫されたガイド棒16
9は扉ガイド154の裏面に固着されている。
【0041】かかる機構において、図9の状態から、エ
アシリンダ162のピストンロッド168が前進する
と、扉ガイド154および扉152がピストンロッド1
68およびガイド棒169によって収納室本体150よ
り前方に押し出され、次にリール160が所定方向に回
転してケーブル158を送り出すと、扉152だけが重
力で落下し、図10に示すように、収納室本体150の
前面が開けられ、キャリアCRの出し入れが可能とな
る。扉152を閉めるときは、上記と逆の動作が行われ
る。なお扉152で収納室本体150を密閉状態に閉じ
るために、本体150の前面部に適当なシール材を設け
るのが好ましい。
【0042】図11に概略的に示すように、あるキャリ
ア収納室18Aで開いた扉152はその下隣のキャリア
収納室18Aの扉152の前へ移動する。キャリア昇降
機18Bのキャリア搬送アームは一時に1つのキャリア
収納室18Aにアクセスするので、この時の下隣のキャ
リア収納室18Aの扉152は閉じており、上隣の扉1
52が前に降りて来ても何ら支障はない。したがって、
複数のキャリア収納室18Aを多段に配設しても、上記
のような扉開閉機構により使用スペースが少なくて済む
ので、ストッカ18を小型化することができる。
【0043】ところで、このストッカ18には、各キャ
リア収納室18Aの室内を不活性ガスでパージして、キ
ャリアCR内に収容されているウエハWの不所望な酸化
を防止するためのパージ機構が設けられている。図9に
示すように、各キャリア収納室18Aには不活性ガス供
給管170および排気管172が接続され、それらの配
管170,172にそれぞれ開閉バルブ174,176
が設けられている。これらの開閉バルブ174,176
は電磁弁からなり、ストッカ制御部178によってオン
・オフ制御されるようになっている。また、各キャリア
収納室18Aの室内にはO2 濃度を検出するためのO2
センサが設けられ、室外にはそのO2 センサの出力信号
に基づいてO2 濃度値を求めるO2 濃度検出器180が
設けられている。O2 濃度検出器180で求められた各
キャリア収納室18AのO2 濃度値はストッカ制御部1
78に与えられる。
【0044】キャリアCRの出し入れのために各キャリ
ア収納室18A内のO2 濃度が所定値を越えると、スト
ッカ制御部178は両開閉バルブ174,176をオン
させる。これにより、不活性ガス供給源(図示せず)か
らの不活性ガスたとえばN2ガスが適当な圧力・流量で
ガス供給管170を通ってキャリア収納室18A内に供
給される。そうすると、供給されたN2 ガスに巻き込ま
れるようにして室内のO2 ガス、H2 Oガス等が排気管
172へ排出される。こうして、室内のO2 濃度が所定
値より下がると、ストッカ制御部178は両開閉バルブ
174,176をオフさせてパージングを止める。
【0045】このように、本実施例のストッカ18にお
いては、各キャリア収納室18Aの室内を不活性ガスで
パージして、O2 ガスやH2 Oガス等の不所望なガスを
排気するようにしたので、キャリアCRに収納されてい
るウエハWの酸化その他の変質を防止することができ
る。上記した構成例では、O2 濃度検出器180や開閉
弁170,172等を用いて各キャリア収納室18Aの
室内の雰囲気に応じた効率的な不活性ガスの供給を行う
ようにしたが、不活性ガスを適当な圧力・流量で周期的
または連続的に流し続けるような制御でも可能である。
【0046】図12に、熱処理装置10〜16の構成例
を示す。装置正面部のウエハ受渡し部GWにはキャリア
姿勢変換部190が設けられている。この姿勢変換部1
90は、矢印Uで示すように、キャリアCRに対して、
フランジ部FLが上になりウエハWが垂直状態で収容さ
れるような第1の姿勢と、フランジ部FLが側面になり
ウエハWがほぼ水平状態で収容されるような第2の姿勢
との間でほぼ90度回転させるような姿勢変換を行う。
【0047】ウエハ受渡し部GWに近接して、キャリア
昇降機192が垂設されている。このキャリア昇降機1
92には、ウエハ受渡し部GWとトランスファ・ステー
ジ194およびキャリア保管棚196との間でキャリア
CRの搬送を行うキャリア・トランスファ198が取付
されている。トランスファ・ステージ194の奥にはキ
ャリアCRとウエハボート200との間でウエハWの移
載を行うウエハトランスファ202が設けられている。
ウエハボート200はボート昇降機204によって加熱
炉206に出し入れされるようになっている。
【0048】キャリア保管棚196は、未処理ウエハま
たは処理済ウエハをキャリアCRに収納した状態で当該
処理装置内に一時的に保管するためのものである。この
キャリア保管棚196に保管されているウエハWに対
し、慣用のエア供給機構により清浄な空気を層流で供給
するようにしてよい。あるいは、各熱処理装置10〜1
6においても、キャリア保管棚196に代えて、上述し
たストッカ18のキャリア収納室18Aのような密閉可
能な保管室を採用し、その保管室内に不活性ガスを供給
して室内をパージするように構成してもよい。
【0049】図13は、本熱処理システムにおける制御
関係のシステム構成を示す。本熱処理システムでは、各
熱処理装置10〜16内の各部の動作を制御する処理装
置制御部210,…210とストッカ18、I/Oステ
ーション20およびキャリアライナ22の各部の動作を
制御するコントローラ212とがローカル制御装置とし
てホストコンピュータ214に並列接続される。
【0050】コントローラ212は、I/Oステーショ
ン20に対しては、上述したように第1および第2のキ
ャリア受け渡し位置20a,20bの間でキャリアCR
の移送および旋回を行うよう第1および第2キャリア搬
送部30,46を制御する。また、光通信部21を介し
て外部の搬送ロボットとの所要の信号等をやりとりす
る。また、ストッカ18に対しては、ストッカ制御部2
16を介してストッカ内の各部、たとえばキャリア搬送
機構218,キャリア姿勢変換機構220,扉開閉機構
222,N2 供給機構224および排気機構226等を
制御する。
【0051】さらに、コントローラ212は、キャリア
ライナ22に対しては、キャリアライナ制御部228を
介してキャリアライナ22内の各部、たとえば水平移動
機構230、キャリア昇降機構234,アーム伸縮機構
234、キャリア傾斜機構236およびアーム開閉機構
238等を制御する。
【0052】上述した実施例は縦型熱処理装置を有する
熱処理システムに係るものであったが、本発明はそのよ
うなシステムに限定されず、他の型式の熱処理システム
にも当然に適用可能であり、一般的にはウエハまたはL
CD基板等の板状の被処理体をキャリアに収容した状態
で搬送する任意の処理システムに適用可能である。
【0053】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の処理シス
テムによれば、システム内のキャリア移送手段が所定の
搬送路を移動して各処理装置に対するキャリアの搬入・
搬出を行うとともに、アーム伸縮手段が搬送アームを二
段伸縮させて、たとえばキャリアの受け渡しをするとき
は搬送アームを伸ばし、キャリアを移送するときは搬送
アームを縮めるようにし、さらにはキャリア傾げ手段が
搬送中にキャリア内の被処理体を傾けるようにしたの
で、外部のキャリア搬送手段の負担の軽減、システム内
のキャリア搬送効率の向上、外部のキャリア搬送手段か
らの塵芥の影響の防止およびキャリア内の発塵の防止等
をはかることができる。したがって、生産性および信頼
性の高い処理システムが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による熱処理システムの全体
構成を示す略斜視図である。
【図2】実施例におけるI/Oステーションの具体的構
成例を示す斜視図である。
【図3】実施例のI/Oステーションにおけるキャリア
旋回機構の構成を示す断面図である。
【図4】図3のキャリア旋回機構における回転駆動部の
構成を示す平面図である。
【図5】実施例におけるキャリアライナの構成を示す側
面図である。
【図6】実施例のキャリアライナにおいてアームが幾ら
か縮まっている状態を示す側面図である。
【図7】実施例におけるキャリアの被把持部およびキャ
リアライナの把持部の構成を示す平面図である。
【図8】実施例における搬送路回りのクリーンルーム機
構を示す略側面図である。
【図9】実施例におけるストッカ内のキャリア収納部の
構成例を示す斜視図である。
【図10】実施例のキャリア収納部において扉が開いた
状態を示す斜視図である。
【図11】実施例のストッカにおいて1つのキャリア収
納部の扉が開いたときの他の収納部との関係を示す略側
面図である。
【図12】実施例における熱処理装置内の構成例を示す
略側面図である。
【図13】実施例における制御関係のシステム構成を示
すブロック図である。 10〜16 熱処理装置 20 I/Oステーション 20a 第1のキャリア受渡し位置 20B 第2のキャリア受渡し位置 22 キャリアライナ 24 搬送路 30 第1キャリア搬送部 46 第2キャリア搬送部 CR キャリア GW キャリア受渡し部 W 半導体ウエハ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 1つまたは複数の処理装置を有し、いず
    れかの前記処理装置で所定の処理を受ける板状の被処理
    体をキャリアに収容した状態で搬送するようにした処理
    システムにおいて、 各々の前記処理装置へ前記キャリアを搬入または搬出す
    るために所定の搬送路を移動するように構成されたキャ
    リア移送手段と、 前記キャリア移送手段に取付され、前記キャリアを脱着
    可能に支持する搬送アームを二段伸縮させるアーム伸縮
    手段と、 前記キャリア移送手段に取付され、前記キャリア内の被
    処理体が傾くように前記搬送アームに支持された前記キ
    ャリアを任意の角度で傾けるキャリア傾げ手段と、 を具備したことを特徴とするキャリア搬送装置。
JP4210977A 1992-07-15 1992-07-15 処理システムのキャリア搬送装置 Pending JPH0637166A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4210977A JPH0637166A (ja) 1992-07-15 1992-07-15 処理システムのキャリア搬送装置
KR1019930013354A KR100289135B1 (ko) 1992-07-15 1993-07-15 처리시스템및처리장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4210977A JPH0637166A (ja) 1992-07-15 1992-07-15 処理システムのキャリア搬送装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0637166A true JPH0637166A (ja) 1994-02-10

Family

ID=16598267

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4210977A Pending JPH0637166A (ja) 1992-07-15 1992-07-15 処理システムのキャリア搬送装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0637166A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10167462A (ja) * 1996-12-03 1998-06-23 Toppan Printing Co Ltd 物品の移送装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10167462A (ja) * 1996-12-03 1998-06-23 Toppan Printing Co Ltd 物品の移送装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5639234A (en) Treatment system and treatment apparatus
US5853486A (en) Treatment system and treatment apparatus with multi-stage carrier storage chambers
US5562383A (en) Treatment apparatus
TWI676089B (zh) 側儲存倉、電子裝置處理系統、和處理基板的方法
US6235634B1 (en) Modular substrate processing system
JP6006643B2 (ja) 真空処理装置
JP4756372B2 (ja) 基板処理方法
JP4807579B2 (ja) 基板収納設備及び基板処理設備
JPH08213446A (ja) 処理装置
JPH10256346A (ja) カセット搬出入機構及び半導体製造装置
KR102626528B1 (ko) 국소 퍼지 기능을 갖는 반송 장치
JP3300861B2 (ja) 熱処理システム
JPH0637166A (ja) 処理システムのキャリア搬送装置
JPH0637165A (ja) 処理システム
JP3380570B2 (ja) 搬送装置
KR100289135B1 (ko) 처리시스템및처리장치
JP2014060338A (ja) 基板処理装置
JPH04233747A (ja) キャリアストッカ
GB2284706A (en) Semiconductor wafer processing apparatus
TWI790731B (zh) 基板搬送裝置
JP2645357B2 (ja) 処理装置
US11460766B2 (en) Article storage facility
JP2006108348A (ja) 基板処理装置
JPH0513549A (ja) 真空搬送処理装置
JP3332982B2 (ja) 基板処理システムおよびキャリア搬送装置