JP3299917B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JP3299917B2
JP3299917B2 JP24060797A JP24060797A JP3299917B2 JP 3299917 B2 JP3299917 B2 JP 3299917B2 JP 24060797 A JP24060797 A JP 24060797A JP 24060797 A JP24060797 A JP 24060797A JP 3299917 B2 JP3299917 B2 JP 3299917B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、AV(オーディオ
ビジュアル)機器やOA(オフィスオートメーション)
機器に使用される液晶表示装置に関し、特に複数の液晶
パネルを隣接接合して大型の液晶表示装置を構成するも
のである。
【0002】
【従来の技術】近年、AV機器として用いられている家
庭用のテレビ、OA機器に用いられる表示装置は、軽量
化、薄型化、低消費電力化、高精細化及び画面の大型化
が要求されている。このため、CRT、液晶表示装置
(LCD)、プラズマ表示装置(PDP)、EL(El
ectroluminescent)表示装置、LED
(Light Emitting Display)表
示装置等の表示装置においても大画面化の開発・実用化
が進められている。
【0003】なかでも、液晶表示装置は、他の表示装置
に比べ、厚さ(奥行き)が格段に薄くできること、消費
電力が小さいこと、フルカラー化が容易なこと等の利点
を有するので、近年においては種々の分野で用いられつ
つあり、画面の大型化への期待も大きい。
【0004】ところが、その反面、液晶表示装置は画面
の大型化を図ると、製造工程において信号線の断線、画
素欠陥等による不良率が急激に高くなり、更には液晶表
示装置の価格上昇をもたらすといった問題点が生じる。
【0005】そこで、これらを解決するために複数の液
晶パネルをつなぎ合わせて全体で1台のマルチ表示方式
の液晶表示装置とし、画面の大型化を図ることが行われ
ている。しかしながら、上記マルチ表示方式の液晶表示
装置として、液晶パネルを単につなぎ合わせだけの表示
装置では、それぞれの液晶パネルの接合部に生じる隙間
からバックライトの光が漏れ、液晶パネルの継ぎ目が目
立ちやすい。
【0006】したがって、自然な大画面画像を得るため
に、表示画面間のつなぎ目を目立たなくする必要があ
る。具体的には、下記に示すようなマルチ表示方式が提
案されている。
【0007】(従来例A)特開平1−213621号公
報や特開平5−127605号公報等には、直視型の大
画面液晶表示装置が開示されている。図7に示すよう
に、上記特開平5−127605号公報に開示された液
晶表示装置101は、ソース電極107、ドレイン電極
108、ゲート電極109、ゲート絶縁膜112および
アモルファスシリコン110からなる薄膜トランジスタ
(以下、TFTという。)106と、画素電極111を
アクティブマトリクス側ガラス基板113に形成してな
る液晶基板114の4個を、ガラス補強板115上の同
一平面上に、配置、接合し、一方の基板を構成する。こ
こで、液晶基板114を隣接接合する間隔は、互いに隣
接するTFT106、画素電極111の間隔が、液晶基
板の他の部分のTFT、画素電極の間隔と、ほぼ同じに
なるように配置する必要がある。
【0008】他方、前記ガラス補強板115とおなじ大
きさのガラス基板105にカラーフィルター104、透
明電極103を設けて対向基板とする。そして、上記4
個の液晶基板114をガラス補強板115に貼り付けて
なる一方の基板と対向側基板間にポリマー分散型液晶1
02を注入する構造である。
【0009】(従来例B)図8に示すように、実公平6
−17178号公報に開示されている液晶表示装置12
0は、4個の液晶基板121を接合する際に、補強基板
124に液晶基板121と121との間に生じる隙間に
それぞれ目隠し層122を設け、かつ補強基板124と
液晶基板121を補強基板124の屈折率と略同一の接
着剤123で貼り付けることで、液晶基板121の継ぎ
目を隠蔽するようにし、画面の大型化を図るものであ
る。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例AおよびB
に示したような従来のマルチ表示方式による大画面液晶
表示装置は、それぞれ以下のような問題点を有してい
る。
【0011】従来例Aの方式は、アクティブマトリクス
基板の画素電極とこの基板の表面と垂直な方向に対向す
る基板の透明電極との間に交流電圧を印加して、基板の
表面に垂直な方向の電界(縦方向電界)で液晶層を制御
するものであるため、継ぎ合わせの部分では液晶層が制
御されないことから、継ぎ合わせの部分を隠す必要があ
り、そのために設けた遮光膜が目立つ。それを軽減する
ためには継ぎ合わせ部分と同様な幅の遮光膜を画素間に
設ける必要があり、そのため開口率が低くなり、又斜め
方向から見た場合継ぎ目が目立つため視野角も狭くな
る。
【0012】従来例Bの方式は、上記したように、液晶
基板121相互の隙間からの漏れ光を防ぐために、補強
板124上に目隠し層122を設けている。ところが、
液晶基板121を構成するガラス基板は通常1.1mm
や0.7mmの厚みを有するため、直視型の液晶表示装
置に斜め方向からこの液晶表示装置120を観察する
と、画像を表示する液晶層と目隠し層122とに、ガラ
ス厚みに応じた視差が生じる。大型液晶表示装置の場
合、観察者が斜め方向から観察する可能性が高くなる。
このため、大型液晶表示装置では、斜め方向から目隠し
層122が目立ち、液晶パネル121の継ぎ目が目立つ
という問題を有している。
【0013】本発明は、これら方式における問題点を解
決し、表示品位が優れ、継ぎ目が目立たない、消費電力
が小さくできる液晶表示装置を提供することを目的とし
ている。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、1対の基板の間に液晶層を配設し、この基板の一方
は複数の走査配線とそれと交差する複数の信号配線とそ
の交差部の近傍に位置するスイッチング素子とこのスイ
ッチング素子に接続される第1電極を有し、この基板の
一方又は他方はこの第1電極に対して基板の表面と平行
な方向に位置ずれする第2電極を有し、第1電極と第2
電極により基板の表面とほぼ平行な方向の電界が液晶層
に印加され、画素領域が形成されるようにしている液晶
表示装置であって、この基板の一方は複数の基板の接合
されてなるものであって、この接合の領域は画素領域に
配置されており、前記接合の領域に配置する前記画素領
域で前記液晶層が印加される電界に応じて制御される
とを特徴とする。
【0015】本発明の液晶表示装置は、好ましくは、基
板の一方は透光性接着剤で接合されていることを特徴と
するものである。
【0016】又、本発明の液晶表示装置は、好ましく
は、前記接合の領域に導電性接着剤を配置することを特
徴とするものである。
【0017】さらに、好ましくは、本発明の液晶表示装
置は、前記導電性接着剤を第2電極として用いることを
特徴とするものである。また、本発明の液晶表示装置
は、前記接合の領域に配置する前記画素領域は、青色を
表示する画素領域であることを特徴とするものである。
【0018】本発明の作用を次に説明する。
【0019】本件発明の構成により、第1電極と第2電
極により基板の表面とほぼ平行方向な電界で液晶層が駆
動され、画素領域が定まり、この画素領域に接合領域が
配置することから、行又は列方向に配列された画素領域
を通る線上で互いの基板を接合することにより、接合の
領域に配置する画素領域で液晶層が印加される電界に応
じて制御されるため、目隠し層を必要としないようにす
ることができ、液晶表示装置を斜め方向から観察した場
合も、基板の継ぎ目が目立たない。
【0020】第2電極を基板の他方に有する構成にする
場合、平行方向の電界で液晶層を制御するため、平行方
向の基板のずれはそれほど問題でなくなることから接合
マージンを大きくすることができ、ひいてはコストダウ
ンを図ることができ、また、第1電極、第2電極間リー
クが減少し、消費電力の低減を図ることができる。
【0021】透光性接着剤より、光がこの接着剤を透過
し液晶層により制御されるため継ぎ目がさらに目立たな
くなるようにすることができる。
【0022】導電性接着剤は、電界の形成に役立ち、基
板とほぼ平行方向の電界の形成に利用でき、ひいては基
板間の接合マージンを大きくすることができる。基板の
表面とほぼ平行方向に電界ができるので視野角を広げる
ことができる。
【0023】この導電性接着剤を電極として兼用できる
ので電極構造を簡単にすることができる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
【0025】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1の液晶表示装置の接合領域近傍の平面図である。この
図において、破線は基板の接合領域に対応している。
【0026】図1において、2は走査配線としてのゲー
ト配線、3は信号配線としてのソース配線、1はゲート
配線2とソース配線3の交差部の近傍に形成されている
制御素子の代表的なものであるスイッチング素子として
の薄膜トランジスタ(以下TFTという)であり、これ
らは多数設けられている。3a,3bは、ソース配線3
のうち接合領域に隣接しているものを指している。5は
並列する第2電極、15は一列の第2電極5を共通に接
続する共通配線である。4は第1電極であり、共通配線
15との重畳部で付加容量を形成する。4a,4bは、
第1電極4のうち接合領域に隣接しているものを指して
いる。
【0027】ここで、第2電極5は図1の紙面に沿って
その上下方向に長く伸びる形状をなしており、第1電極
4は第2電極と平行に長く伸びる部分を2本有するコ字
状に形成され、そして、第1電極4a,4bは、ソース
配線3a,3bの間に位置し第2電極5と平行に長く伸
びる部分とその先端部よりソース配線3a,3b方向に
伸びる部分を有するL字状に形成されており、第1電極
4,4a,4bの第2電極5に対し平行な部分と第2電
極5とはお互いに等間隔になるよう図1の紙面の左右方
向に位置ずれして配置している。この第1電極4は2本
の長く伸びる部分をつなぐ部分において共通配線15と
重畳し、第1電極4a,4bはL字状の先端部分におい
て共通配線15と重畳し、それぞれ付加容量を形成す
る。
【0028】図2は、図1のA−A’線間断面図を示す
ものである。図2において、10a,10bはそれぞれ
ガラス等の透光性の絶縁性基板に次のように第1電極
4,4a,4b、第2電極5、TFT1、配向膜が形成
されたアクティブマトリクス基板(単に基板という。)
である。
【0029】この基板の上に第2電極5と、図示しない
共通配線15及びTFT1のゲート電極、さらにそれら
をも覆うようにゲート絶縁膜6が形成されている。この
ゲート絶縁膜6の上にソース配線3a,3b,図示しな
いソース配線3、第1電極4,4a,4bが形成されて
いる。このゲート絶縁膜6の上には、後述するように図
示しないTFT1の半導体領域、オーミックコンタク
ト、ソース電極及びドレイン電極が形成されており、こ
のソース電極がそれぞれソース配線3,3a,3bに、
さらに、このドレイン電極がそれぞれ第1電極4a,4
b,4に接続されている。なお、これら図1,2におい
ては、ソース配線3、第1電極4については、接合領域
近傍で基板10a,10bに配置されるもの対し、
3,4に添字a,bを付して表記している。
【0030】このソース配線3,3a,3b、第1電極
4,4a,4b、さらにはTFT1のソース電極、ドレ
イン電極等を覆うよう、ゲート絶縁膜6の上には、図示
しない透光性の配向膜が形成されている。
【0031】12は透明な保護板で、その上にはスペー
サ8、この例では透光性好ましくは透明のスペーサー8
を介し所定の間隔で接着剤7、この例では透光性好まし
くは透明の接着剤7により接合された基板10a及び1
0bが貼り合わせられている。こうして、基板10a,
10bが接合されてなる大きな基板(大基板)が形成さ
れている。
【0032】9B,9G,9Rは、この大基板とほぼ同
じ大きさの対向基板11に形成されたそれぞれ青色、緑
色、赤色のカラーフィルターである。この大基板と対向
基板11は図示しないスペーサー、シール材により貼り
合わされており、その間に液晶層13が封入されてい
る。14a,14bは偏光板である。
【0033】次に、図2を用いて液晶表示装置の製造方
法を説明する。ガラスなどの透明絶縁性基板上に、図1
のゲート配線2とTFT1のゲート電極がタンタル、ア
ルミなどで350nmの膜厚で形成される。また、ゲー
ト配線2と同時に第2電極5と共通配線15が形成され
る。このとき、ゲート配線2などに陽極酸化法により陽
極酸化膜を形成しても良い。その上を覆ってゲート絶縁
膜6がチッ化シリコンなどで400nmの膜厚で形成さ
れている。
【0034】さらにその上にはTFT1のゲート電極と
重畳するように図示しないa−Siなどで半導体層が1
00nmの膜厚で形成されている。この半導体層の一部
を覆い、分断された状態で、オーミックコンタクト層と
してμc−n+Siなどで図示しないn+Si層が80n
mの膜厚で形成されている。一方のn+Si層上には、
ソース配線3と接続されたソース電極がタンタル、アル
ミなどで300nm形成され、他方のn+Si層上には
第1電極4と接続されるドレイン電極が形成されてい
る。その後、図示しない配向膜を配置しラビング処理を
行いアクティブマトリクス基板(上記のように単に基板
という。)10a、10bとして完成する。
【0035】そして、保護板12上に基板10a、10
bを配置し、両基板をスペーサ8を用いて位置合わせし
て接着剤7で貼り合わせる。このとき、保護板12に接
着剤7を用いて基板10a,10bを接着して1枚の大
きい基板とする。なお、スペーサ8は必要に応じて使用
すればよい。ディスペンサー法などの方法を用いて、接
着剤7の線幅が1〜10μm程度にすることが可能にな
る。
【0036】そして、保護板12と一体化された基板1
0a,10bとカラーフィルタ9、図示しない配向膜を
備えた対向基板11とを図示しないスペーサ、シール剤
を用いて貼り合わせ、両基板間に液晶を封入し、液晶層
13を設ける。その後、偏光板14a,14bを貼り、
液晶パネルを構成し、その周辺に駆動回路を接続して液
晶表示装置は完成する。
【0037】この液晶表示装置において、ゲート配線2
に走査信号が、又ソース配線3,3a,3bに表示デー
タを表す信号が供給され、それに応じてTFT1が動作
し、第1電極4,4a,4bにソース配線3,3a,3
bに供給された信号に応じた出力が得られる。更に、基
板10a,10bに配置されている第2電極5には、こ
の信号とで液晶を駆動するための信号が与えられるもの
とし、例えば接地されることができる。
【0038】従って、第1電極4,4a,4bとそれら
にそれぞれ隣接する第2電極5との間に基板10a,1
0bの表面とほぼ平行な方向の電界が得られ、それによ
り液晶層13が制御され、第1電極4,4a,4bと第
2電極5により画素領域が形成される。この画素領域は
第1電極4と第2電極5により囲まれる領域、第1電極
4a,4bと第2電極5により囲まれる領域にそれぞれ
相応するものとして定まる。
【0039】この際、ゲート電極2は基板10a,10
bにおいて接合領域を挟んで対応するもの同士は同時に
走査信号が供給されよう接続される。そして、第1電
極4a、4bにそれぞれTFT1を介して接続されたソ
ース配線3a,3bはデータを表す同一の信号を入力さ
れるよう相互に接続される。
【0040】従って、第1電極4とそれに隣接する第2
電極5により発生する電界により画素領域が形成され
る。そして、第1電極4a及び4bとそれらに隣接する
第2電極5により発生する電界により、次のように、同
一の画素領域が形成される。
【0041】第1電極4aは基板10aに、第1電極4
bは基板10bにそれぞれ配置されているが、それらに
はデータを表す同一の信号がソース配線3a,3bを介
して供給される。このため、第1電極4aとそれに隣接
する第2電極5との間及び第1電極4bとそれに隣接す
る第2電極5との間(基板10bに配置する第1電極4
bとそれと接合領域を挟んで対向する基板10aの第2
電極5との間を含む)において発生する基板10a,1
0bの表面とほぼ平行な方向の電界に応じて液晶層13
が駆動され、従って、第1電極4a,4bとそれらに隣
接する第2電極5で囲まれる領域に相応して液晶層13
が駆動されて同一の画素領域を形成することになる。こ
うして、この同一の画素領域が接合領域に配置される構
成となっている。
【0042】こうして、画素領域は、接合領域に沿って
図1の紙面に沿い上下方向に一列に多数配列し、その両
側にも多数配列され、マトリクス状に配列する。
【0043】一般的なスクライブによる基板の分断方法
では、数百μmの分断面の歪みを避けることができな
い。高度な分断位置精度及び分断面仕上げ精度を得るた
めには、ダイシング装置を用いた分断方法が適当であ
る。そこで、本実施例では、ダイシング方法を用いた分
断方法により、分断精度を50μm以下、分断仕上げ精
度を5μm以下に抑えることができることから、この分
断方法により精度良く分断された基板を用いるものとし
ている。
【0044】例えば、1枚の基板にゲート配線、ソース
配線、第1電極、第2電極,TFT1を形成した画素領
域をマトリクス状に有する独立する領域をそれぞれ4個
形成し、それをこの独立する領域の境界に沿ってダイシ
ング方法で分断し(いわゆる4枚取り方式)、それから
必要なものを取り出し、上記の接合と保護板への貼り合
わせをを行ない大きい基板とすることができる。この大
きい基板に配向膜を形成する事ができる。この例では、
大きい基板を形成した後、配向膜を形成する順序で説明
したが、上記実施例の通り、基板に配向膜を形成したの
ちダイシング方法で切断し、それを接合と保護板への貼
り合わせを行うこともできる。
【0045】また、本実施形態では、基板10a,10
bとして屈折率が1.53のガラス基板(コーニング7
059)を用いているので、接着剤7としては、屈折率
が1.53の材料を使用することが好ましい。例えば、
アクリル系、エン/チオール等の二重結合し部位を持
ち、紫外線を照射することにより二重結合が開裂して重
合が進行する紫外線硬化樹脂で、硬化後の屈折率が1.
53である樹脂を使用するとよい。また、屈折率が1.
53のシリコンオイル等の屈折率が調整液を使用するこ
ともできる。
【0046】上記配向膜は、例えば液晶層13を基板1
0aの表面とほぼ平行な方向であって第2電極の長い方
向に対しほぼ45゜の向きに配向するようにラビング処
理することができ、液晶層13は電界が印加されていな
い状態ではこの方向に配向し、電界が強くなるに従って
第2電極の長い方向と垂直に近付くよう回転し配向する
ようにすることができ、図示しないバックライト等から
の光の透過量を偏光板14a,14bの組み合わせに応
じて制御することができる。
【0047】本実施形態では、上記のように、接合領域
においても基板の表面とほぼ平行な方向の電界が液晶層
に印加される、いわゆる水平電界方式で液晶層を制御す
ることができる。このため、従来の対向する基板間に、
画素電極とITOなどの透明電極により、縦電界方式で
液晶を駆動する方式では、基板同士の接合領域は液晶が
駆動されないためその部分を隠す必要があるが、本実施
形態の水平電界方式では各基板端部の電極間に電界を作
り液晶を駆動できるので基板間の接合領域を隠す必要が
ない。
【0048】従来では基板間の接合領域を隠すために数
十μm〜数百μmの遮光部が必要で、その部分だけ大き
く遮光すると継ぎ目が目立つため液晶表示装置全体に画
素間に同じ幅の遮光膜が必要だったので、開口率が低
く、視野角も遮光膜によって遮られる部分が大きいため
狭かったとい欠点が生じていたが、本実施形態はこれ
らを解消できる。
【0049】また、本実施形態では基板間の電極間距離
を大体他の電極間と同一にすればよいので、基板端部を
研磨して正確に基板同士を貼り合わせるのではなく、基
板間に若干隙間を持たせて接着剤の幅で電極間を制御す
ることができるので基板間の貼り合わせが容易になる。
【0050】また、本実施形態で青色部分に基板間の接
合領域を配置したのは、赤、青、緑色の三色の中で青色
がそれに対する人間の視感度が最も低いため接続部が目
立ち難いからである。
【0051】(実施形態2)図3は、本発明の実施形態
2の液晶表示装置の接合領域近傍の部分平面図で、図4
は、図3のB−B’線間断面図である。なお、実施形態
1と同じ部分の説明は省略する。
【0052】本実施形態では、第2電極5を対向基板1
1側に配置した。これにより、基板の第1電極4と第2
電極5間リークが減少したり、第2電極5とソース配線
3を重ね合わせて高開口率化が図れる。また、第2電極
5を対向基板側11に配置することにより、基板の端部
に設ける第1電極4と対向基板11側にある第2電極5
で電界を形成するので、基板10a、10bの接合マー
ジンを持たせることができる。なお、本実施形態では共
通配線15を基板10a,10bに配置して、画素電極
4,4a,4bとの重畳部で付加容量を形成している。
【0053】(実施形態3)図5は、本発明の実施形態
3の液晶表示装置の接合領域近傍の部分平面図で、図6
は、図5のC−C’線間断面図である。なお、実施形態
1と同じ部分の説明は省略する。
【0054】本実施形態では、接合領域を導電性接着剤
25を用いて形成し、それを第2電極5として兼用して
いる。この方法でも、基板10a、10bの接合マージ
ンを持たせることができる。また、更に基板の表面と平
行方向に電界を形成することが可能になるため、視野角
をより拡げることができる。さらに、実施形態2に比べ
て基板10aに形成する電極5をすくなくできる。
【0055】
【発明の効果】本発明の液晶表示装置は、第1電極と第
2電極を用いて液晶を基板の表面とほぼ平行な方向の電
界で駆動し、スイッチング素子が配置された基板同士の
接合領域が画素領域に配置されることにより、行又は列
方向に配列された画素領域を通る線上で互いの基板を隣
接接合することにより、接合領域に対する目隠し層を必
要としない。このため液晶表示装置を斜め方向から観察
した場合も目隠し層が目立つことがなく、液晶パネルの
継ぎ目が目立たない。
【0056】また、前記第2電極が対向基板側に配置さ
れることにより、基板間の接合マージンを大きくするこ
とができ、また、電極間リークが減少し、コストダウン
を図ることもできる。
【0057】また、前記接合領域に導電性接着剤を配置
して、該導電性接着剤を電極として用いることにより、
基板間の接合マージンを大きくすることができ、また、
水平方向に電界ができるので視野角を広げることができ
る。
【0058】さらにまた、前記導電性接着剤を第2電極
として用いることにより、電極構造を簡単にすることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1の液晶表示装置の接合領域
近傍の平面図である。
【図2】図1の、A−A’線間断面図である。
【図3】本発明の実施形態2の液晶表示装置の接合領域
近傍の平面図である。
【図4】図3の、B−B’線間断面図である。
【図5】本発明の実施形態3の液晶表示装置の接合領域
近傍の平面図である。
【図6】図5の、C−C’線間断面図である。
【図7】従来例Aの液晶表示装置の構成を示す図であ
る。
【図8】従来例Bの液晶表示装置の構成を示す図であ
る。
【符号の説明】
1 TFT 2 ゲート配線 3,3a,3b ソース配線 4,4a,4b 第1電極 5 第2電極 6 ゲート絶縁膜 7 接着剤 10a,10b アクティブマトリクス基板 11 対向基板 12 保護板 13 液晶層 14a,14b 偏光板 15 共通配線 25 導電性接着剤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1347 G02F 1/1333 G02F 1/1343 G02F 1/1362

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 1対の基板の間に液晶層を配設し、 この基板の一方は複数の走査配線とそれと交差する複数
    の信号配線とその交差部の近傍に位置するスイッチング
    素子とこのスイッチング素子に接続される第1電極を有
    し、 この基板の一方又は他方はこの第1電極に対して基板の
    表面と平行な方向に位置ずれする第2電極を有し、 第1電極と第2電極により基板の表面とほぼ平行な方向
    の電界が液晶層に印加され、画素領域が形成されるよう
    にしている液晶表示装置であって、 この基板の一方は複数の基板の接合されてなるものであ
    って、この接合の領域は画素領域に配置されており、前
    記接合の領域に配置する前記画素領域で前記液晶層が印
    加される電界に応じて制御されることを特徴とする液晶
    表示装置。
  2. 【請求項2】 前記基板の一方は透光性接着剤により接
    合されていることを特徴とする請求項1記載の液晶表示
    装置。
  3. 【請求項3】 前記接合の領域に導電性接着剤を配置し
    ていることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 前記導電性接着剤を第2電極として用い
    ることを特徴とする請求項3記載の液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 前記接合の領域に配置する前記画素領域
    は、青色を表示する画素領域であることを特徴とする請
    求項1記載の液晶表示装置。
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