JP3298967B2 - ポリオレフィン系樹脂組成物 - Google Patents
ポリオレフィン系樹脂組成物Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐候性の改良されたポ
リオレフィン系樹脂組成物に関し、詳しくは、各種成形
品、フィルム、繊維等として有用な耐候性の改良された
合成樹脂組成物に関するものである。
リオレフィン系樹脂組成物に関し、詳しくは、各種成形
品、フィルム、繊維等として有用な耐候性の改良された
合成樹脂組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及びその問題点】ポリオレフィン系樹脂
は、熱的性質、力学的性質、成形性等に優れ、軽量であ
り、比較的安価であることから各種成形品、フィルム、
繊維等として用いられているが、耐候性に劣る欠点を有
しており、例えば、農業用のハウス、トンネルなどの用
途、あるいは自動車用のバンパーなどの用途に使用した
場合においては、紫外線に曝されるため容易に劣化する
ことが知られている。
は、熱的性質、力学的性質、成形性等に優れ、軽量であ
り、比較的安価であることから各種成形品、フィルム、
繊維等として用いられているが、耐候性に劣る欠点を有
しており、例えば、農業用のハウス、トンネルなどの用
途、あるいは自動車用のバンパーなどの用途に使用した
場合においては、紫外線に曝されるため容易に劣化する
ことが知られている。
【０００３】ポリオレフィン系樹脂の耐候性を改良する
手段としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール
系などの紫外線吸収剤を添加する方法、あるいはヒンダ
ードアミン系の光安定剤を添加する方法などがあるが、
未だ不十分であり、例えば、農業用のフィルムに使用し
た場合において、前者はナス、イチゴなどの発色あるい
はミツバチの受粉活動のために紫外線が必要とされるこ
とからその使用が制限され、後者はその塩基性から農薬
等の酸性物質の影響を受けてその効果は著しく減退され
るなどの欠点も有している。
手段としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール
系などの紫外線吸収剤を添加する方法、あるいはヒンダ
ードアミン系の光安定剤を添加する方法などがあるが、
未だ不十分であり、例えば、農業用のフィルムに使用し
た場合において、前者はナス、イチゴなどの発色あるい
はミツバチの受粉活動のために紫外線が必要とされるこ
とからその使用が制限され、後者はその塩基性から農薬
等の酸性物質の影響を受けてその効果は著しく減退され
るなどの欠点も有している。
【０００４】また、”高分子の劣化と安定化−光安定化
技術の基礎と実際”（大澤善次郎著、シーエムシー発
行）の８０頁には、ステアリン酸銅がポリオレフィン系
樹脂の光劣化を抑制するが、同時に熱劣化を著しく促進
することが記載されている。
技術の基礎と実際”（大澤善次郎著、シーエムシー発
行）の８０頁には、ステアリン酸銅がポリオレフィン系
樹脂の光劣化を抑制するが、同時に熱劣化を著しく促進
することが記載されている。
【０００５】また、特開昭６０−１０４１４１号公報、
特開昭６１−２１８６４６号公報などに農業用ポリオレ
フィン系樹脂にハイドロタルサイト化合物を添加するこ
とが提案されており、特開昭６３−１７５０７２号公
報、特開昭６４−６０４１号公報にはハイドロタルサイ
ト化合物とヒンダードアミン化合物を併用添加すること
が提案されており、特開昭６４−９２５１号公報にはポ
リオレフィン系樹脂にハイドロタルサイト化合物と有機
金属ホスフェートを併用添加することが提案されている
が、これらはハイドロタルサイト化合物の有する赤外線
吸収能を利用した保温効果を期待したり、農薬等が他の
耐候剤に与える悪影響を抑制することを目的としたもの
であり、実際にこれら通常のハイドロタルサイト化合物
には耐候性を著しく改善する効果はほとんどないもので
ある。
特開昭６１−２１８６４６号公報などに農業用ポリオレ
フィン系樹脂にハイドロタルサイト化合物を添加するこ
とが提案されており、特開昭６３−１７５０７２号公
報、特開昭６４−６０４１号公報にはハイドロタルサイ
ト化合物とヒンダードアミン化合物を併用添加すること
が提案されており、特開昭６４−９２５１号公報にはポ
リオレフィン系樹脂にハイドロタルサイト化合物と有機
金属ホスフェートを併用添加することが提案されている
が、これらはハイドロタルサイト化合物の有する赤外線
吸収能を利用した保温効果を期待したり、農薬等が他の
耐候剤に与える悪影響を抑制することを目的としたもの
であり、実際にこれら通常のハイドロタルサイト化合物
には耐候性を著しく改善する効果はほとんどないもので
ある。
【０００６】また、特開平２−１８７４４２号公報には
塩素含有樹脂にグリシン銅または銅含有ハイドロタルサ
イト化合物を添加する方法が提案されており、特開平４
−１１１４４０号公報には硬質塩化ビニル樹脂にハイド
ロタルサイト化合物および無機銅化合物を併用添加する
ことが提案されており、特開平４−８８０４１号公報に
は硬質塩化ビニル樹脂に無機銅化合物で処理したハイド
ロタルサイト化合物を添加することが提案されている。
しかしながら、上述の技術は、いずれも塩素含有樹脂の
改善、特にチョーキング防止性の改善について提案して
いるのみであり、ポリオレフィン系樹脂の耐候性の改善
については、何ら言及しておらず、より耐侯性の改善さ
れた、ポリオレフィン系樹脂組成物が要望されているの
が現状である。従って、本発明の目的は、熱安定性を低
下させることなく、耐侯性が改良されたポリオレフィン
系樹脂組成物を提供することにある。
塩素含有樹脂にグリシン銅または銅含有ハイドロタルサ
イト化合物を添加する方法が提案されており、特開平４
−１１１４４０号公報には硬質塩化ビニル樹脂にハイド
ロタルサイト化合物および無機銅化合物を併用添加する
ことが提案されており、特開平４−８８０４１号公報に
は硬質塩化ビニル樹脂に無機銅化合物で処理したハイド
ロタルサイト化合物を添加することが提案されている。
しかしながら、上述の技術は、いずれも塩素含有樹脂の
改善、特にチョーキング防止性の改善について提案して
いるのみであり、ポリオレフィン系樹脂の耐候性の改善
については、何ら言及しておらず、より耐侯性の改善さ
れた、ポリオレフィン系樹脂組成物が要望されているの
が現状である。従って、本発明の目的は、熱安定性を低
下させることなく、耐侯性が改良されたポリオレフィン
系樹脂組成物を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者等はかかる現状
に鑑み鋭意検討を重ねた結果、ポリオレフィン系樹脂
に、無機銅化合物およびハイドロタルサイト化合物を添
加することによって熱安定性を低下させることなく、耐
候性を著しく改良しうることを見出し、本発明を完成し
た。
に鑑み鋭意検討を重ねた結果、ポリオレフィン系樹脂
に、無機銅化合物およびハイドロタルサイト化合物を添
加することによって熱安定性を低下させることなく、耐
候性を著しく改良しうることを見出し、本発明を完成し
た。
【０００８】即ち、本発明は、ポリオレフィン系樹脂１
００重量部に、無機銅化合物０．００１〜５重量部およ
びハイドロタルサイト化合物０．００１〜５重量部を添
加してなり、上記無機銅化合物が、酸化銅、水酸化銅、
塩化第一銅、塩化第二銅、塩化第二銅水和物、塩化銅ア
ンモニウム、塩化銅カリウム、臭化銅、臭化銅水和物、
硫酸銅、硫酸銅水和物又は炭酸銅である、耐候性の改良
されたポリオレフィン系樹脂組成物を提供するものであ
る。
００重量部に、無機銅化合物０．００１〜５重量部およ
びハイドロタルサイト化合物０．００１〜５重量部を添
加してなり、上記無機銅化合物が、酸化銅、水酸化銅、
塩化第一銅、塩化第二銅、塩化第二銅水和物、塩化銅ア
ンモニウム、塩化銅カリウム、臭化銅、臭化銅水和物、
硫酸銅、硫酸銅水和物又は炭酸銅である、耐候性の改良
されたポリオレフィン系樹脂組成物を提供するものであ
る。
【０００９】また、本発明は、ポリオレフィン系樹脂１
００重量部に、無機銅化合物とハイドロタルサイト化合
物とを反応させて得られる反応生成物０．００２〜１０
重量部を添加してなり、上記無機銅化合物が、酸化銅、
水酸化銅、塩化第一銅、塩化第二銅、塩化第二銅水和
物、塩化銅アンモニウム、塩化銅カリウム、臭化銅、臭
化銅水和物、硫酸銅、硫酸銅水和物又は炭酸銅である、
耐候性の改良されたポリオレフィン系樹脂組成物を提供
するものである。
００重量部に、無機銅化合物とハイドロタルサイト化合
物とを反応させて得られる反応生成物０．００２〜１０
重量部を添加してなり、上記無機銅化合物が、酸化銅、
水酸化銅、塩化第一銅、塩化第二銅、塩化第二銅水和
物、塩化銅アンモニウム、塩化銅カリウム、臭化銅、臭
化銅水和物、硫酸銅、硫酸銅水和物又は炭酸銅である、
耐候性の改良されたポリオレフィン系樹脂組成物を提供
するものである。
【００１０】以下、本発明のポリオレフィン系樹脂組成
物について詳細に説明する。本発明で用いられるポリオ
レフィン系樹脂としては、例えば、高密度、低密度また
は直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン−１、ポリ−３−メチルペンテン、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のα−オレフィンの単重合体または共
重合体、これらのα−オレフィンと共役ジエンまたは非
共役ジエン等の多不飽和化合物、アクリル酸、メタクリ
ル酸、酢酸ビニル等との共重合体、エチレン−プロピレ
ン共重合体エラストマー、エチレン−プロピレン−ジシ
クロペンタジエン共重合体エラストマー、エチレン−プ
ロピレン−１，４−ヘキサジエン共重合体エラストマ
ー、エチレン−プロピレン−シクロオクタジエン共重合
体エラストマー、エチレン−プロピレン−メチレンノル
ボルネン共重合体エラストマー、エチレン−プロピレン
−エチリデンノルボルネン共重合体エラストマー、エチ
レン−ブタジエン共重合体エラストマーなどのポリオレ
フィンエラストマーあるいはこれらを有機過酸化物など
で架橋したものなどがあげられ、さらに、これらのブレ
ンド物であってもよい。
物について詳細に説明する。本発明で用いられるポリオ
レフィン系樹脂としては、例えば、高密度、低密度また
は直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン−１、ポリ−３−メチルペンテン、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のα−オレフィンの単重合体または共
重合体、これらのα−オレフィンと共役ジエンまたは非
共役ジエン等の多不飽和化合物、アクリル酸、メタクリ
ル酸、酢酸ビニル等との共重合体、エチレン−プロピレ
ン共重合体エラストマー、エチレン−プロピレン−ジシ
クロペンタジエン共重合体エラストマー、エチレン−プ
ロピレン−１，４−ヘキサジエン共重合体エラストマ
ー、エチレン−プロピレン−シクロオクタジエン共重合
体エラストマー、エチレン−プロピレン−メチレンノル
ボルネン共重合体エラストマー、エチレン−プロピレン
−エチリデンノルボルネン共重合体エラストマー、エチ
レン−ブタジエン共重合体エラストマーなどのポリオレ
フィンエラストマーあるいはこれらを有機過酸化物など
で架橋したものなどがあげられ、さらに、これらのブレ
ンド物であってもよい。
【００１１】本発明で使用される無機銅化合物として
は、酸化銅、水酸化銅、塩化第一銅、塩化第二銅、塩化
第二銅水和物、塩化銅アンモニウム、塩化銅カリウム、
臭化銅、臭化銅水和物、硫酸銅、硫酸銅水和物、炭酸銅
があげられ、これらは正塩であっても塩基性塩であって
もよい。これらの無機銅化合物のうち、水溶性無機銅化
合物としては、塩化第一銅、塩化第二銅、塩化第二銅水
和物、臭化銅、臭化銅水和物、硫酸銅、硫酸銅水和物が
あげられる。
は、酸化銅、水酸化銅、塩化第一銅、塩化第二銅、塩化
第二銅水和物、塩化銅アンモニウム、塩化銅カリウム、
臭化銅、臭化銅水和物、硫酸銅、硫酸銅水和物、炭酸銅
があげられ、これらは正塩であっても塩基性塩であって
もよい。これらの無機銅化合物のうち、水溶性無機銅化
合物としては、塩化第一銅、塩化第二銅、塩化第二銅水
和物、臭化銅、臭化銅水和物、硫酸銅、硫酸銅水和物が
あげられる。
【００１２】これらの無機化合物の使用量はポリオレフ
ィン系樹脂１００重量部に対して、０．００１〜５重量
部、特に０．０１〜３重量部とするのが好ましい。
ィン系樹脂１００重量部に対して、０．００１〜５重量
部、特に０．０１〜３重量部とするのが好ましい。
【００１３】本発明で使用されるハイドロタルサイト化
合物は、下記〔化１〕の一般式（Ｉ）で示されるマグネ
シウムとアルミニウムから成る含水複塩化合物等、例え
ば、Mg4Al2(OH)12CO3・3H2O 、Mg3Al2(OH)10CO3・3H2O 、
Mg3ZnAl2(OH)12CO3 ・3H2O 等が挙げられる。
合物は、下記〔化１〕の一般式（Ｉ）で示されるマグネ
シウムとアルミニウムから成る含水複塩化合物等、例え
ば、Mg4Al2(OH)12CO3・3H2O 、Mg3Al2(OH)10CO3・3H2O 、
Mg3ZnAl2(OH)12CO3 ・3H2O 等が挙げられる。
【００１４】
【化１】
【００１５】上記ハイドロタルサイト化合物は天然物で
あってもよく、また合成品であってもよい。合成方法と
しては、特公昭４６−２２８０号公報、特公昭５０−３
００３９号公報、特公昭５１−２９１２９号公報、特公
平４−７３４５７号公報などに記載の公知の方法を例示
することができる。また、本発明においては、その結晶
構造、結晶粒子径などに制限されることなく使用するこ
とが可能である。
あってもよく、また合成品であってもよい。合成方法と
しては、特公昭４６−２２８０号公報、特公昭５０−３
００３９号公報、特公昭５１−２９１２９号公報、特公
平４−７３４５７号公報などに記載の公知の方法を例示
することができる。また、本発明においては、その結晶
構造、結晶粒子径などに制限されることなく使用するこ
とが可能である。
【００１６】またハイドロタルサイト化合物の表面をス
テアリン酸の如き高級脂肪酸、オレイン酸アルカリ金属
塩の如き高級脂肪酸金属塩、ドデシルベンゼンスルホン
酸ルカリ金属の如き有機スルホン酸金属塩、高級脂肪酸
アミド、高級脂肪酸エステルまたはワックス等で被覆し
たものも使用できる。
テアリン酸の如き高級脂肪酸、オレイン酸アルカリ金属
塩の如き高級脂肪酸金属塩、ドデシルベンゼンスルホン
酸ルカリ金属の如き有機スルホン酸金属塩、高級脂肪酸
アミド、高級脂肪酸エステルまたはワックス等で被覆し
たものも使用できる。
【００１７】これらのハイドロタルサイト化合物の使用
量はポリオレフィン系樹脂１００重量部に対して、０．
００１〜５重量部、特に０．０１〜３重量部とするのが
好ましい。
量はポリオレフィン系樹脂１００重量部に対して、０．
００１〜５重量部、特に０．０１〜３重量部とするのが
好ましい。
【００１８】また、上記無機銅化合物とハイドロタルサ
イト化合物とはそれぞれ別個に添加してもよいが、ハイ
ドロタルサイト化合物を塩化第一銅、塩化第二銅、臭化
銅、硫酸銅等の水溶性無機銅化合物の水溶液に加えて、
無機銅化合物をハイドロタルサイト化合物に吸着させた
ものを添加することもできる。上記吸着を行うには、例
えば、ハイドロタルサイト化合物を無機銅化合物の水溶
液に加え、０℃〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の
範囲で攪拌する方法により行うことができ、この際比較
的低温下で攪拌するのが好ましい。
イト化合物とはそれぞれ別個に添加してもよいが、ハイ
ドロタルサイト化合物を塩化第一銅、塩化第二銅、臭化
銅、硫酸銅等の水溶性無機銅化合物の水溶液に加えて、
無機銅化合物をハイドロタルサイト化合物に吸着させた
ものを添加することもできる。上記吸着を行うには、例
えば、ハイドロタルサイト化合物を無機銅化合物の水溶
液に加え、０℃〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の
範囲で攪拌する方法により行うことができ、この際比較
的低温下で攪拌するのが好ましい。
【００１９】また、本発明のポリオレフィン系樹脂組成
物は、ポリオレフィン系樹脂１００重量部に、上記無機
銅化合物と上記ハイドロタルサイト化合物とを反応させ
て得られる反応生成物を０．００２〜１０重量部添加し
てなる。上記反応生成物は、例えば、上記一般式（Ｉ）
におけるＡが炭酸イオンであるハイドロタルサイト化合
物を上記水溶性無機銅化合物の水溶液と混合して反応さ
せ、ハイドロタルサイト化合物の炭酸根と水溶性無機銅
化合物の酸根とを交換させたものである。
物は、ポリオレフィン系樹脂１００重量部に、上記無機
銅化合物と上記ハイドロタルサイト化合物とを反応させ
て得られる反応生成物を０．００２〜１０重量部添加し
てなる。上記反応生成物は、例えば、上記一般式（Ｉ）
におけるＡが炭酸イオンであるハイドロタルサイト化合
物を上記水溶性無機銅化合物の水溶液と混合して反応さ
せ、ハイドロタルサイト化合物の炭酸根と水溶性無機銅
化合物の酸根とを交換させたものである。
【００２０】さらに、本発明においては、上記反応生成
物が、上記反応を行った後、炭酸アルカリ金属塩で処理
して反応生成物中の酸根を炭酸イオンと交換させたもの
でもよく、この場合には、得られる処理物は水酸化銅、
炭酸銅あるいは塩基性炭酸銅の吸着されたハイドロタル
サイト化合物と同一物となる。
物が、上記反応を行った後、炭酸アルカリ金属塩で処理
して反応生成物中の酸根を炭酸イオンと交換させたもの
でもよく、この場合には、得られる処理物は水酸化銅、
炭酸銅あるいは塩基性炭酸銅の吸着されたハイドロタル
サイト化合物と同一物となる。
【００２１】上記反応に際してのハイドロタルサイト化
合物と無機銅化合物との量比は特に制限を受けないが、
反応し得る無機銅化合物の最大量は、ハイドロタルサイ
ト化合物中の炭酸根と無機銅化合物中の酸根とが当量と
なる量であり、無機銅化合物の使用量がこれ以下の場合
には反応生成物中に未反応のハイドロタルサイト化合物
が残存することとなり、無機銅化合物の使用量がこれ以
上の場合には反応生成物中に未反応の無機銅化合物が残
存することになるが、これらの未反応のハイドロタルサ
イト化合物または無機銅化合物を含む反応生成物も本発
明において好適に用いることができる。
合物と無機銅化合物との量比は特に制限を受けないが、
反応し得る無機銅化合物の最大量は、ハイドロタルサイ
ト化合物中の炭酸根と無機銅化合物中の酸根とが当量と
なる量であり、無機銅化合物の使用量がこれ以下の場合
には反応生成物中に未反応のハイドロタルサイト化合物
が残存することとなり、無機銅化合物の使用量がこれ以
上の場合には反応生成物中に未反応の無機銅化合物が残
存することになるが、これらの未反応のハイドロタルサ
イト化合物または無機銅化合物を含む反応生成物も本発
明において好適に用いることができる。
【００２２】無機銅水溶液に続いてハイドロタルサイト
を処理する炭酸アルカリ金属塩としては、リチウム、ナ
トリウムおよびカリウムの炭酸塩等が挙げられ、また重
炭酸塩でもよい。
を処理する炭酸アルカリ金属塩としては、リチウム、ナ
トリウムおよびカリウムの炭酸塩等が挙げられ、また重
炭酸塩でもよい。
【００２３】これらの炭酸アルカリ水溶液の使用量は任
意であるが、好ましくは、はじめにハイドロタルサイト
を処理した無機銅水溶液の無機酸イオンを交換するため
に必要な量以下が用いられる。
意であるが、好ましくは、はじめにハイドロタルサイト
を処理した無機銅水溶液の無機酸イオンを交換するため
に必要な量以下が用いられる。
【００２４】ハイドロタルサイト化合物に無機銅化合物
を反応させる方法としては、例えば、ハイドロタルサイ
ト化合物を無機銅化合物の水溶液に加え、０℃〜１００
℃、好ましくは２０〜８０℃の範囲で攪拌する方法があ
げられ、この場合、加熱下に攪拌するのが、反応を良好
に進行させる上で好ましい。
を反応させる方法としては、例えば、ハイドロタルサイ
ト化合物を無機銅化合物の水溶液に加え、０℃〜１００
℃、好ましくは２０〜８０℃の範囲で攪拌する方法があ
げられ、この場合、加熱下に攪拌するのが、反応を良好
に進行させる上で好ましい。
【００２５】本発明のポリオレフィン系樹脂において
は、更に、フェノール系抗酸化剤を併用添加することに
よって、特に熱安定性を向上させることができる。
は、更に、フェノール系抗酸化剤を併用添加することに
よって、特に熱安定性を向上させることができる。
【００２６】上記フェノール系抗酸化剤としては、例え
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオジ
エチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘ
キサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメ
チレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビス
（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール) 、２，２’−メチ
レンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチル
フェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−
３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコ
ールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブ
チル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチ
リデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノー
ル) 、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキ
シ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−第三
ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三
ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレー
ト、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒド
ロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テ
トラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキ
シ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル) フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等があげられ、その
なかでもステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート、チオジエチレングリ
コールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメチレン
ビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕、テトラキス〔メチレン−３−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネート〕メタン、トリエチレングリコールビス
〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）プロピオネート〕、３，９−ビス〔１，１−ジメ
チル−２−｛（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，
４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５. ５〕ウンデカ
ン、トリエチレングリコールビス〔（３−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネー
ト〕などの分子内にエステル結合を有するフェノール系
抗酸化剤および１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキ
シ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，
３，５−トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌ
レートなどの分子内にイソシアヌル環を有するフェノー
ル系抗酸化剤が好ましい。
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオジ
エチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘ
キサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメ
チレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビス
（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール) 、２，２’−メチ
レンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチル
フェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−
３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコ
ールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブ
チル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチ
リデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノー
ル) 、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキ
シ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−第三
ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三
ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレー
ト、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒド
ロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テ
トラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキ
シ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル) フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等があげられ、その
なかでもステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート、チオジエチレングリ
コールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメチレン
ビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕、テトラキス〔メチレン−３−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネート〕メタン、トリエチレングリコールビス
〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）プロピオネート〕、３，９−ビス〔１，１−ジメ
チル−２−｛（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，
４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５. ５〕ウンデカ
ン、トリエチレングリコールビス〔（３−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネー
ト〕などの分子内にエステル結合を有するフェノール系
抗酸化剤および１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキ
シ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，
３，５−トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌ
レートなどの分子内にイソシアヌル環を有するフェノー
ル系抗酸化剤が好ましい。
【００２７】また、本発明のポリオレフィン樹脂には、
その他に、硫黄系、リン系などの抗酸化剤、紫外線吸収
剤、ヒンダードアミン系などの光安定剤などを添加する
ことができる。
その他に、硫黄系、リン系などの抗酸化剤、紫外線吸収
剤、ヒンダードアミン系などの光安定剤などを添加する
ことができる。
【００２８】上記硫黄系抗酸化剤としては例えば、チオ
ジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジステアリ
ル等のジアルキルチオジプロピオネート類及びペンタエ
リスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプトプロピオ
ネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロ
ピオン酸エステル類等があげられる。
ジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジステアリ
ル等のジアルキルチオジプロピオネート類及びペンタエ
リスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプトプロピオ
ネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロ
ピオン酸エステル類等があげられる。
【００２９】上記リン系抗酸化剤としては、例えば、ト
リスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ
第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリス〔２−第三
ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニル〕ホスファ
イト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニルホ
スファイト、ジ（デシル）モノフェニルホスファイト、
モノデシルジフェニルホスファイト、モノ（ジノニルフ
ェニル）ビス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジ（ト
リデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジス
テアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ (ノ
ニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリ
トールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェノ
ールジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピ
リデンジフェノールジホスファイト、テトラ（Ｃ12-15
混合アルキル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−
第三ブチル−５−メチルフェノール) ジホスファイト、
ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン
トリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチル
フェニル）ビフェニレンジホスホナイト、２，２’−メ
チレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）( オクチ
ル) ホスファイト等があげられる。
リスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ
第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリス〔２−第三
ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニル〕ホスファ
イト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニルホ
スファイト、ジ（デシル）モノフェニルホスファイト、
モノデシルジフェニルホスファイト、モノ（ジノニルフ
ェニル）ビス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジ（ト
リデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジス
テアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ (ノ
ニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリ
トールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェノ
ールジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピ
リデンジフェノールジホスファイト、テトラ（Ｃ12-15
混合アルキル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−
第三ブチル−５−メチルフェノール) ジホスファイト、
ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン
トリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチル
フェニル）ビフェニレンジホスホナイト、２，２’−メ
チレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）( オクチ
ル) ホスファイト等があげられる。
【００３０】上記紫外線吸収剤としては例えば、２，４
−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクト
キシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビス（２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の２−ヒド
ロキシベンゾフェノン類；２−（２’−ヒドロキシ−
５’−メチルフェニル) ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ第三ブチルフェニ
ル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベン
ゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−第三
ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−第三オク
チルフェニル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−３’．５’−ジクミルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、２，２’−メチレンビス（４−第三オクチル−
６−ベンゾトリアゾリル）フェノール等の２−（２’−
ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；フェニル
サリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，
４−ジ第三ブチルフェニル−３’，５’−ジ第三ブチル
−４’−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベ
ンゾエート類；２−エチル−２’−エトキシオキザニリ
ド、２−エトキシ−４’−ドデシルオキザニリド等の置
換オキザニリド類；エチル−α−シアノ−β，β−ジフ
ェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル
−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシア
ノアクリレート類等があげられる。
−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクト
キシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビス（２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の２−ヒド
ロキシベンゾフェノン類；２−（２’−ヒドロキシ−
５’−メチルフェニル) ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ第三ブチルフェニ
ル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベン
ゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−第三
ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−第三オク
チルフェニル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒド
ロキシ−３’．５’−ジクミルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、２，２’−メチレンビス（４−第三オクチル−
６−ベンゾトリアゾリル）フェノール等の２−（２’−
ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；フェニル
サリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，
４−ジ第三ブチルフェニル−３’，５’−ジ第三ブチル
−４’−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベ
ンゾエート類；２−エチル−２’−エトキシオキザニリ
ド、２−エトキシ−４’−ドデシルオキザニリド等の置
換オキザニリド類；エチル−α−シアノ−β，β−ジフ
ェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル
−３−（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシア
ノアクリレート類等があげられる。
【００３１】上記ヒンダードアミン系光安定剤として
は、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ドデシル
コハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕−
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン、テトラ（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレ
ート、テトラ（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・
ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレー
ト、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキ
シカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチ
ル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．
５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２
−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニル
オキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサス
ピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラ
キス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−
トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラア
ザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸
ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミノ−４，６−ジ
クロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ン／ジブロモエタン縮合物等があげられる。
は、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ドデシル
コハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕−
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン、テトラ（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレ
ート、テトラ（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・
ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレー
ト、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキ
シカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチ
ル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．
５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２
−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニル
オキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサス
ピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラ
キス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−
トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラア
ザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸
ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミノ−４，６−ジ
クロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ン／ジブロモエタン縮合物等があげられる。
【００３２】また、本発明ポリオレフィン系樹脂組成物
においては、上記無機銅化合物がポリオレフィン系樹脂
に悪影響を与えることがあるので、これを抑制するため
に、メラミン、イソフタル酸ビス（２−フェノキシプロ
ピオニルヒドラジド）、３−サリシロイルアミノ−１，
２，４−トリアゾール、Ｎ，Ｎ’−ビス〔３−（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ル〕ヒドラジン、シュウ酸ビス（ベンジリデンヒドラジ
ド）、Ｎ，Ｎ’−ジサリシロイルヒドラジン、Ｎ−サリ
シリデン−Ｎ’−サリシロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−
ジサリシリデン−１，２−プロピレンジアミン、エチレ
ンジアミン四酢酸およびそのアルカリ金属塩、Ｎ，Ｎ’
−ビス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオニルオキシエチル〕シュウ酸アミ
ド、ドデカン二酸ビス（Ｎ’−サリシロイルヒドラジ
ン）、３，９−ビス〔２−（２，４−ジアミノトリアジ
ン−６−イル）エチル〕−２，４，８，１０−テトラオ
キサスピロ〔５．５〕ウンデカンなどの重金属不活性化
剤を併用することができる。
においては、上記無機銅化合物がポリオレフィン系樹脂
に悪影響を与えることがあるので、これを抑制するため
に、メラミン、イソフタル酸ビス（２−フェノキシプロ
ピオニルヒドラジド）、３−サリシロイルアミノ−１，
２，４−トリアゾール、Ｎ，Ｎ’−ビス〔３−（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ル〕ヒドラジン、シュウ酸ビス（ベンジリデンヒドラジ
ド）、Ｎ，Ｎ’−ジサリシロイルヒドラジン、Ｎ−サリ
シリデン−Ｎ’−サリシロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−
ジサリシリデン−１，２−プロピレンジアミン、エチレ
ンジアミン四酢酸およびそのアルカリ金属塩、Ｎ，Ｎ’
−ビス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオニルオキシエチル〕シュウ酸アミ
ド、ドデカン二酸ビス（Ｎ’−サリシロイルヒドラジ
ン）、３，９−ビス〔２−（２，４−ジアミノトリアジ
ン−６−イル）エチル〕−２，４，８，１０−テトラオ
キサスピロ〔５．５〕ウンデカンなどの重金属不活性化
剤を併用することができる。
【００３３】さらに、本発明のポリオレフィン系樹脂組
成物には、必要に応じて、耐衝撃性改善剤、架橋剤、充
填剤、発泡剤、帯電防止剤、防曇剤、プレートアウト防
止剤、表面処理剤、難燃剤、螢光剤、防黴剤、殺菌剤、
離型剤、顔料、加工助剤などを配合することができる。
成物には、必要に応じて、耐衝撃性改善剤、架橋剤、充
填剤、発泡剤、帯電防止剤、防曇剤、プレートアウト防
止剤、表面処理剤、難燃剤、螢光剤、防黴剤、殺菌剤、
離型剤、顔料、加工助剤などを配合することができる。
【００３４】
【実施例】次に本発明を実施例によって具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によって制
限を受けるものではない。
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によって制
限を受けるものではない。
【００３５】〔合成例１〕ハイドロタルサイト（組成
式：Mg4Al2(OH)12CO3・3H2O)１０ｇ、水３５０ｇおよび
エチルアルコール５０ｇを攪拌、均一に分散させ、ここ
に硫酸銅・五水塩４．９７ｇを加えて６０℃まで加温
し、１時間攪拌する。次いで炭酸ナトリウム２．０９ｇ
を加え、室温で２時間攪拌する。ろ過、水洗、乾燥して
安定化剤Ｉを合成した。
式：Mg4Al2(OH)12CO3・3H2O)１０ｇ、水３５０ｇおよび
エチルアルコール５０ｇを攪拌、均一に分散させ、ここ
に硫酸銅・五水塩４．９７ｇを加えて６０℃まで加温
し、１時間攪拌する。次いで炭酸ナトリウム２．０９ｇ
を加え、室温で２時間攪拌する。ろ過、水洗、乾燥して
安定化剤Ｉを合成した。
【００３６】〔合成例２〕ハイドロタルサイト（組成
式：Mg3Al2(OH)10CO3 ・3H2O)１０ｇ、水４００ｇおよび
エチルアルコール１０ｇをビーカーに入れ、攪拌しなが
ら均一に分散させる。ここに塩化第二銅３．６７ｇを加
え、５０℃で２時間保持する。室温まで冷却後、さらに
炭酸カリウム２．７１ｇを加え、５０℃で２時間保持す
る。ろ過、水洗後乾燥して安定剤IIを合成した。
式：Mg3Al2(OH)10CO3 ・3H2O)１０ｇ、水４００ｇおよび
エチルアルコール１０ｇをビーカーに入れ、攪拌しなが
ら均一に分散させる。ここに塩化第二銅３．６７ｇを加
え、５０℃で２時間保持する。室温まで冷却後、さらに
炭酸カリウム２．７１ｇを加え、５０℃で２時間保持す
る。ろ過、水洗後乾燥して安定剤IIを合成した。
【００３７】〔合成例３〕ハイドロタルサイト（組成
式：Mg4Al2(OH)12CO3 ・3H2O)１０ｇを水３５０ｇおよび
エチルアルコール５０ｇの混合溶液中に加え、均一に分
散させ、ここに硫酸銅五水塩４．９７ｇを加えて６０℃
まで加温し、１時間攪拌した。これをろ過、水洗、乾燥
して安定剤III を合成した。
式：Mg4Al2(OH)12CO3 ・3H2O)１０ｇを水３５０ｇおよび
エチルアルコール５０ｇの混合溶液中に加え、均一に分
散させ、ここに硫酸銅五水塩４．９７ｇを加えて６０℃
まで加温し、１時間攪拌した。これをろ過、水洗、乾燥
して安定剤III を合成した。
【００３８】〔実施例１〕直鎖低密度ポリエチレン樹脂
１００重量部、ステアリン酸モノグリセライド１重量
部、ステアリル〔３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第
三ブチル）プロピオネート０．１重量部、塩化第二銅
０．１重量部および〔表１〕に示す試験化合物０．２重
量部をヘンシェルミキサーにて混練し、２００℃、２５
ｒｐｍで押出し加工し、２２０℃でＴ−ダイ押出し加工
し、０．１ｍｍ厚の試験片を作成した。これを６３℃ウ
エザ−メーター（キセノン）経時のカルボニルインデッ
クスの変化を測定した。また、１５０℃のギヤーオーブ
ンに入れ、劣化するまでの時間を測定した。その結果を
〔表１〕に示す。
１００重量部、ステアリン酸モノグリセライド１重量
部、ステアリル〔３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ第
三ブチル）プロピオネート０．１重量部、塩化第二銅
０．１重量部および〔表１〕に示す試験化合物０．２重
量部をヘンシェルミキサーにて混練し、２００℃、２５
ｒｐｍで押出し加工し、２２０℃でＴ−ダイ押出し加工
し、０．１ｍｍ厚の試験片を作成した。これを６３℃ウ
エザ−メーター（キセノン）経時のカルボニルインデッ
クスの変化を測定した。また、１５０℃のギヤーオーブ
ンに入れ、劣化するまでの時間を測定した。その結果を
〔表１〕に示す。
【００３９】
【表１】
【００４０】〔実施例２〕エチレン−酢酸ビニル共重合
体（重量比８５／１５）１００重量部、エチレンビスス
テアリルアミド０．１重量部、ソルビタンモノステアレ
ート１．０重量部、テトラキス〔メチレン−３−（３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート〕メタン０．１重量部、ビス（２，２，６，６−
テトラメチルピペリジル）セバケート０．０５重量部、
塩化第二銅０．１重量部および〔表２〕に示す試験化合
物０．１重量部をヘンシェルミキサーにて混練し、１３
０〜１５０℃で５分間混練後押出し加工し、さらにＴ−
ダイ押出しして厚さ０．１ｍｍのフィルムを作成した。
このフィルムを用いて屋外暴露試験（埼玉県浦和市）を
行なった。この時の評価基準は、その劣化の度合いを１
０段階で表し、１が全く劣化のない状態を示し、数値の
増大に伴い劣化が大きくなることを示している。また、
１５０℃のギヤーオーブンに入れ、劣化するまでの時間
を測定した。その結果を〔表２〕に示す。
体（重量比８５／１５）１００重量部、エチレンビスス
テアリルアミド０．１重量部、ソルビタンモノステアレ
ート１．０重量部、テトラキス〔メチレン−３−（３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート〕メタン０．１重量部、ビス（２，２，６，６−
テトラメチルピペリジル）セバケート０．０５重量部、
塩化第二銅０．１重量部および〔表２〕に示す試験化合
物０．１重量部をヘンシェルミキサーにて混練し、１３
０〜１５０℃で５分間混練後押出し加工し、さらにＴ−
ダイ押出しして厚さ０．１ｍｍのフィルムを作成した。
このフィルムを用いて屋外暴露試験（埼玉県浦和市）を
行なった。この時の評価基準は、その劣化の度合いを１
０段階で表し、１が全く劣化のない状態を示し、数値の
増大に伴い劣化が大きくなることを示している。また、
１５０℃のギヤーオーブンに入れ、劣化するまでの時間
を測定した。その結果を〔表２〕に示す。
【００４１】
【表２】
【００４２】〔実施例３〕エチレン−プロピレンランダ
ム共重合体（エチレン含量２重量％、ＭＩ＝１５．０）
７０重量部、ＥＰＤＭ（エチレン含量５０重量％、ムー
ニー粘度１０５）３０重量部、ステアリン酸カルシウム
０．１重量部、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−
｛（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１
０−テトラオキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン０．０５
重量部、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホス
ファイト０．０５重量部、ビス（２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジル）セバケート０．３重量部および
〔表３〕に示す試験化合物０．３重量部を一軸押出加工
して、ペレットを作成し、このペレットを用い、射出成
形によって厚さ２ｍｍの試験片を作成した。その試験片
を用いて、８３℃サンシャインウエザオメーター（雨あ
り）中に入れクラックが発生するまでの時間を測定し、
さらに４８０時間照射後の試験片の黄色度を測定した。
また、この試験片を１６０℃のオーブンに入れ、劣化時
間を測定した。その結果を〔表３〕に示す。
ム共重合体（エチレン含量２重量％、ＭＩ＝１５．０）
７０重量部、ＥＰＤＭ（エチレン含量５０重量％、ムー
ニー粘度１０５）３０重量部、ステアリン酸カルシウム
０．１重量部、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−
｛（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１
０−テトラオキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン０．０５
重量部、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホス
ファイト０．０５重量部、ビス（２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジル）セバケート０．３重量部および
〔表３〕に示す試験化合物０．３重量部を一軸押出加工
して、ペレットを作成し、このペレットを用い、射出成
形によって厚さ２ｍｍの試験片を作成した。その試験片
を用いて、８３℃サンシャインウエザオメーター（雨あ
り）中に入れクラックが発生するまでの時間を測定し、
さらに４８０時間照射後の試験片の黄色度を測定した。
また、この試験片を１６０℃のオーブンに入れ、劣化時
間を測定した。その結果を〔表３〕に示す。
【００４３】
【表３】
【００４４】〔実施例４〕ポリプロピレンホモポリマー
１００重量部、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート０．
２重量部、ジラウリルチオジプロピオネート０．３重量
部、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト０．２重量
部、３−（サリシロイルアミノ）トリアゾール０．１重
量部および〔表４〕に示す試験化合物を２５０℃、２０
ｒｐｍで押出加工し、ペレットを作成した。このペレッ
トを１８０℃、２５０気圧で５分間プレスし、厚さ０．
３ｍｍのシートを作成した。このシートを１６０℃のオ
ーブンに入れ、劣化するまでの時間を測定した。また、
このシートについて高圧水銀ランプを用いて耐光性試験
を行なった。その結果を〔表４〕に示す。
１００重量部、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート０．
２重量部、ジラウリルチオジプロピオネート０．３重量
部、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト０．２重量
部、３−（サリシロイルアミノ）トリアゾール０．１重
量部および〔表４〕に示す試験化合物を２５０℃、２０
ｒｐｍで押出加工し、ペレットを作成した。このペレッ
トを１８０℃、２５０気圧で５分間プレスし、厚さ０．
３ｍｍのシートを作成した。このシートを１６０℃のオ
ーブンに入れ、劣化するまでの時間を測定した。また、
このシートについて高圧水銀ランプを用いて耐光性試験
を行なった。その結果を〔表４〕に示す。
【００４５】
【表４】
【００４６】実施例から明らかなように、無機銅化合物
を添加することによりポリオレフィン系樹脂の耐候性の
向上にある程度の効果を示すが、その熱安定性に与える
悪影響が大く、また、ハイドロタルサイト化合物を添加
することにより熱安定性は向上される傾向があるものの
耐候性は殆ど改善されなかった。さらに、分子中に銅を
組み込んだハイドロタルサイト化合物は、その耐候性の
改良効果も小さく、熱安定性にも悪影響を与えるもので
あった。
を添加することによりポリオレフィン系樹脂の耐候性の
向上にある程度の効果を示すが、その熱安定性に与える
悪影響が大く、また、ハイドロタルサイト化合物を添加
することにより熱安定性は向上される傾向があるものの
耐候性は殆ど改善されなかった。さらに、分子中に銅を
組み込んだハイドロタルサイト化合物は、その耐候性の
改良効果も小さく、熱安定性にも悪影響を与えるもので
あった。
【００４７】これに対して、ハイドロタルサイト化合物
と無機銅化合物とを併用した場合、あるいは予め無機銅
化合物で処理したハイドロタルサイト化合物を使用した
場合には、熱安定性に悪影響を与えることもなく、耐候
性を著しく向上させるものでった。
と無機銅化合物とを併用した場合、あるいは予め無機銅
化合物で処理したハイドロタルサイト化合物を使用した
場合には、熱安定性に悪影響を与えることもなく、耐候
性を著しく向上させるものでった。
【００４８】
【発明の効果】ポリオレフィン系樹脂に無機銅化合物お
よびハイドロタルサイト化合物を添加することにより、
熱安定性を低下させることなく、耐候性を著しく向上さ
せることができる。
よびハイドロタルサイト化合物を添加することにより、
熱安定性を低下させることなく、耐候性を著しく向上さ
せることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−117440（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08L 23/00 - 23/36 C08K 3/00 - 13/08
Claims (5)
- 【請求項１】 ポリオレフィン系樹脂１００重量部に、
無機銅化合物０．００１〜５重量部およびハイドロタル
サイト化合物０．００１〜５重量部を添加してなり、上
記無機銅化合物が、酸化銅、水酸化銅、塩化第一銅、塩
化第二銅、塩化第二銅水和物、塩化銅アンモニウム、塩
化銅カリウム、臭化銅、臭化銅水和物、硫酸銅、硫酸銅
水和物又は炭酸銅である、耐候性の改良されたポリオレ
フィン系樹脂組成物。 - 【請求項２】 上記無機銅化合物が上記ハイドロタルサ
イト化合物に吸着されている請求項１記載のポリオレフ
ィン系樹脂組成物。 - 【請求項３】 ポリオレフィン系樹脂１００重量部に、
無機銅化合物とハイドロタルサイト化合物とを反応させ
て得られる反応生成物０．００２〜１０重量部を添加し
てなり、上記無機銅化合物が、酸化銅、水酸化銅、塩化
第一銅、塩化第二銅、塩化第二銅水和物、塩化銅アンモ
ニウム、塩化銅カリウム、臭化銅、臭化銅水和物、硫酸
銅、硫酸銅水和物又は炭酸銅である、耐候性の改良され
たポリオレフィン系樹脂組成物。 - 【請求項４】 上記無機銅化合物が水溶性無機銅化合物
であり、該水溶性無機銅化合物が、塩化第一銅、塩化第
二銅、塩化第二銅水和物、臭化銅、臭化銅水和物、硫酸
銅又は硫酸銅水和物である、請求項３記載のポリオレフ
ィン系樹脂組成物。 - 【請求項５】 上記反応生成物が、炭酸アルカリ金属塩
で処理されている請求項３記載のポリオレフィン系樹脂
組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04413893A JP3298967B2 (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | ポリオレフィン系樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04413893A JP3298967B2 (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | ポリオレフィン系樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06256588A JPH06256588A (ja) | 1994-09-13 |
| JP3298967B2 true JP3298967B2 (ja) | 2002-07-08 |
Family
ID=12683278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04413893A Expired - Fee Related JP3298967B2 (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | ポリオレフィン系樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3298967B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2146717T3 (es) | 1994-10-27 | 2000-08-16 | Kyowa Chem Ind Co Ltd | Composicion de resina y articulo moldeado. |
-
1993
- 1993-03-04 JP JP04413893A patent/JP3298967B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06256588A (ja) | 1994-09-13 |
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