JP3279305B2 - 型締装置のクリーニング装置およびクリーニング方法 - Google Patents
型締装置のクリーニング装置およびクリーニング方法Info
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- JP3279305B2 JP3279305B2 JP2000107578A JP2000107578A JP3279305B2 JP 3279305 B2 JP3279305 B2 JP 3279305B2 JP 2000107578 A JP2000107578 A JP 2000107578A JP 2000107578 A JP2000107578 A JP 2000107578A JP 3279305 B2 JP3279305 B2 JP 3279305B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、型締装置のクリー
ニング装置およびクリーニング方法に関するものであ
る。
ニング装置およびクリーニング方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】電子部品を製造する分野において、対象
物を上型及び下型で型締めし、対象物の周囲に溶融した
モールド樹脂を注入し、このモールド樹脂を硬化させる
ことにより、対象物を樹脂封止する型締装置が用いられ
ている。
物を上型及び下型で型締めし、対象物の周囲に溶融した
モールド樹脂を注入し、このモールド樹脂を硬化させる
ことにより、対象物を樹脂封止する型締装置が用いられ
ている。
【０００３】しかしながら、型締装置による樹脂封止
は、何度も何度も繰り返し行われるものであって、この
間に固化したガス、モールド樹脂中の化合物などが、上
型の下面あるいは下型の上面に付着し、上型・下型が汚
れてしまう。上型・下型が汚れると、樹脂封止の品質低
下を生ずるので、時折、上型・下型から汚れを取除く作
業が必要になる。
は、何度も何度も繰り返し行われるものであって、この
間に固化したガス、モールド樹脂中の化合物などが、上
型の下面あるいは下型の上面に付着し、上型・下型が汚
れてしまう。上型・下型が汚れると、樹脂封止の品質低
下を生ずるので、時折、上型・下型から汚れを取除く作
業が必要になる。
【０００４】ここで、上型・下型の汚れを取除くため、
上型・下型の間にクリーナーを挿入する技術が提案され
ている（特開平６−２１６１７５号公報）。
上型・下型の間にクリーナーを挿入する技術が提案され
ている（特開平６−２１６１７５号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このものは、クリーナ
ーに、紫外線供給手段、オゾン供給手段を設けて、オゾ
ンに紫外線を吸収せしめて、酸素ラジカルを発生させ、
酸素ラジカルの酸化作用により汚れ（有機化合物など）
を取除くというものである。
ーに、紫外線供給手段、オゾン供給手段を設けて、オゾ
ンに紫外線を吸収せしめて、酸素ラジカルを発生させ、
酸素ラジカルの酸化作用により汚れ（有機化合物など）
を取除くというものである。
【０００６】しかしながら、このものでは、クリーナー
の上下に上型及び下型を接近させるようになってはいる
ものの、クリーナーと上型・下型間に隙間があいた状態
でオゾンをクリーナー中に供給するようになっている。
因みに、同公報図５に示されているように、クリーナー
の上下にブラシが植設され、このブラシを上型・下型に
接触させることになっているから、クリーナー中のオゾ
ンあるいは酸素ラジカル等は、容易にクリーナーの外部
へ放出されるものである。
の上下に上型及び下型を接近させるようになってはいる
ものの、クリーナーと上型・下型間に隙間があいた状態
でオゾンをクリーナー中に供給するようになっている。
因みに、同公報図５に示されているように、クリーナー
の上下にブラシが植設され、このブラシを上型・下型に
接触させることになっているから、クリーナー中のオゾ
ンあるいは酸素ラジカル等は、容易にクリーナーの外部
へ放出されるものである。
【０００７】ところがこのようにすると、型締装置が設
置される環境がオゾン等により汚染され、高い清浄性が
要求される電子部品製造ライン中には設置し難いという
問題点があった。
置される環境がオゾン等により汚染され、高い清浄性が
要求される電子部品製造ライン中には設置し難いという
問題点があった。
【０００８】そこで本発明は、外部環境を汚染せず上型
・下型の汚れを取除くことができる型締装置のクリーニ
ング装置およびクリーニング方法を提供することを目的
とする。
・下型の汚れを取除くことができる型締装置のクリーニ
ング装置およびクリーニング方法を提供することを目的
とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の型締装置のクリ
ーニング装置は、型締装置の上型と下型の間に挿入され
て上型と下型に挟まれることにより上型の下面と下型の
上面の間に密閉空間を形成する筒体と、この筒体の内部
にあって高周波電源に接続される電極と、前記密閉空間
内を減圧する真空ポンプと、前記密閉空間内に動作ガス
を供給するガス供給部とを備えている。また本発明の型
締装置のクリーニング方法は、筒体を上型と下型の間に
挿入し、上型と下型と筒体で包囲される密閉空間を形成
する工程と、真空ポンプにより前記密閉空間を減圧し、
またガス供給部から密閉空間内に動作ガスを供給する工
程と、電極に高周波電流を印加することにより、上型と
電極の間および下型と電極の間にプラズマを発生させて
上型と下型をクリーニングする工程と、クリーニングが
終了したならば密閉空間の減圧を中止して密閉空間を大
気圧に戻すとともに、筒体を上型と下型の間から取り除
く工程とを含む。
ーニング装置は、型締装置の上型と下型の間に挿入され
て上型と下型に挟まれることにより上型の下面と下型の
上面の間に密閉空間を形成する筒体と、この筒体の内部
にあって高周波電源に接続される電極と、前記密閉空間
内を減圧する真空ポンプと、前記密閉空間内に動作ガス
を供給するガス供給部とを備えている。また本発明の型
締装置のクリーニング方法は、筒体を上型と下型の間に
挿入し、上型と下型と筒体で包囲される密閉空間を形成
する工程と、真空ポンプにより前記密閉空間を減圧し、
またガス供給部から密閉空間内に動作ガスを供給する工
程と、電極に高周波電流を印加することにより、上型と
電極の間および下型と電極の間にプラズマを発生させて
上型と下型をクリーニングする工程と、クリーニングが
終了したならば密閉空間の減圧を中止して密閉空間を大
気圧に戻すとともに、筒体を上型と下型の間から取り除
く工程とを含む。
【００１０】上記構成により、上型、筒体及び下型によ
り密閉空間が形成される。そして真空ポンプにより密閉
空間を減圧し、また密閉空間に動作ガスを供給し、電極
に高周波電流を印加する。すると密閉空間にプラズマが
発生し、上型の下面と下型の上面はクリーニングされ
る。ここで密閉空間は上型・筒体・下型で密閉されてい
るので、筒体内の物質が外部へ漏洩することはなく、外
部環境を清浄に保つことができる。
り密閉空間が形成される。そして真空ポンプにより密閉
空間を減圧し、また密閉空間に動作ガスを供給し、電極
に高周波電流を印加する。すると密閉空間にプラズマが
発生し、上型の下面と下型の上面はクリーニングされ
る。ここで密閉空間は上型・筒体・下型で密閉されてい
るので、筒体内の物質が外部へ漏洩することはなく、外
部環境を清浄に保つことができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】次に、図面を参照しながら、本発
明の実施の形態を説明する。図１は本発明の一実施の形
態における型締装置の斜視図である。図１において、１
は固定プラテン、２は固定プラテン１の四隅に垂直に立
設されるタイバー、３はタイバー２に上下方向スライド
自在に挿通され、型締機構のロッド４が連結されること
により、固定プラテン１に対して相対的に昇降する可動
プラテンである。型締機構としては、特開平２−１５５
２４６号公報に代表されるように送りねじを用いたもの
等が用いられる。
明の実施の形態を説明する。図１は本発明の一実施の形
態における型締装置の斜視図である。図１において、１
は固定プラテン、２は固定プラテン１の四隅に垂直に立
設されるタイバー、３はタイバー２に上下方向スライド
自在に挿通され、型締機構のロッド４が連結されること
により、固定プラテン１に対して相対的に昇降する可動
プラテンである。型締機構としては、特開平２−１５５
２４６号公報に代表されるように送りねじを用いたもの
等が用いられる。
【００１２】また、固定プラテン１の上部には、下型５
が固定され、下型５の上面５ａには、モールド樹脂を収
納するためのポット５ｂと、リードフレームなどの対象
物の周囲に溶融したモールド樹脂を注入するために凹設
されるキャビティ５ｃと、溶融したモールド樹脂をポッ
ト５ｂからキャビティ５ｃへ導くためのランナー５ｄが
形成されている。また、可動プラテン３の下部に固定さ
れる上型６の下面６ａには、図２に示すように、下型５
ｃのキャビティ５ｃと符合する位置に、キャビティ６ｂ
が形成されている。
が固定され、下型５の上面５ａには、モールド樹脂を収
納するためのポット５ｂと、リードフレームなどの対象
物の周囲に溶融したモールド樹脂を注入するために凹設
されるキャビティ５ｃと、溶融したモールド樹脂をポッ
ト５ｂからキャビティ５ｃへ導くためのランナー５ｄが
形成されている。また、可動プラテン３の下部に固定さ
れる上型６の下面６ａには、図２に示すように、下型５
ｃのキャビティ５ｃと符合する位置に、キャビティ６ｂ
が形成されている。
【００１３】次に図２を参照しながら、上型と下型のク
リーニングを行うクリーニング装置について説明する。
７は上型６と下型５との間に挿入される中間ユニットで
あり、上型６、下型５と同様の外形を有する角筒状の筒
体８を有している。筒体８の上部及び下部には、Ｏリン
グが装着された封止部８ａ，８ｂが設けられている。
リーニングを行うクリーニング装置について説明する。
７は上型６と下型５との間に挿入される中間ユニットで
あり、上型６、下型５と同様の外形を有する角筒状の筒
体８を有している。筒体８の上部及び下部には、Ｏリン
グが装着された封止部８ａ，８ｂが設けられている。
【００１４】したがって、図２に示すように中間ユニッ
ト７を上型６と下型５との間に挿入し、ロッド４によっ
て型締めすると、上型６と下型５との間に、上型６の下
面６ａと下型５の上面５ａで挟まれ、筒体８で包囲され
る密閉空間Ｓを形成することができる。そして、密閉空
間Ｓは、外部と隔絶されているから、密閉空間Ｓ内で後
述するプラズマクリーニング等を行っても、外部環境を
汚染するようなことはない。
ト７を上型６と下型５との間に挿入し、ロッド４によっ
て型締めすると、上型６と下型５との間に、上型６の下
面６ａと下型５の上面５ａで挟まれ、筒体８で包囲され
る密閉空間Ｓを形成することができる。そして、密閉空
間Ｓは、外部と隔絶されているから、密閉空間Ｓ内で後
述するプラズマクリーニング等を行っても、外部環境を
汚染するようなことはない。
【００１５】９は、筒体８の内部の上下方向中央に水平
に設けられる電極であり、電極９は高周波電源１０に接
続されている。また、上型６及び下型５は、共に電気的
に接地されている。さらに、筒体８の側部には、第１管
路１１と第２管路１３とが装着され、第１管路１１は真
空ポンプ１２に、第２管路１３は、動作ガスとしてのア
ルゴンガスや酸素ガス等を供給するガス供給部１４に、
それぞれ接続されている。したがって、真空ポンプ１２
を作動させると、密閉空間Ｓ内を減圧することができ、
ガス供給部１４を作動させると、密閉空間Ｓ内にアルゴ
ンガスや酸素ガス等を供給することができる。
に設けられる電極であり、電極９は高周波電源１０に接
続されている。また、上型６及び下型５は、共に電気的
に接地されている。さらに、筒体８の側部には、第１管
路１１と第２管路１３とが装着され、第１管路１１は真
空ポンプ１２に、第２管路１３は、動作ガスとしてのア
ルゴンガスや酸素ガス等を供給するガス供給部１４に、
それぞれ接続されている。したがって、真空ポンプ１２
を作動させると、密閉空間Ｓ内を減圧することができ、
ガス供給部１４を作動させると、密閉空間Ｓ内にアルゴ
ンガスや酸素ガス等を供給することができる。
【００１６】本実施の形態の型締装置は以上のような構
成よりなり、次にこの型締装置を用いた電子部品製造方
法の各過程を説明する。まず型締を行う前に、上型６、
下型５を加熱する。次に、リードフレームなどの対象物
を下型５上に載置する。そして、ロッド４を下降させて
対象物の型締を行う。
成よりなり、次にこの型締装置を用いた電子部品製造方
法の各過程を説明する。まず型締を行う前に、上型６、
下型５を加熱する。次に、リードフレームなどの対象物
を下型５上に載置する。そして、ロッド４を下降させて
対象物の型締を行う。
【００１７】そして、ポット５ｂのモールド樹脂が溶融
して、ランナー５ｄを介してキャビティ５ｃ，６ｂに至
り、対象物の周囲に溶融したモールド樹脂が充填され、
その後この樹脂が硬化し、対象物が樹脂封止される。次
に上型６を上昇させ、樹脂封止された対象物を下型５か
ら取出す。この後、次の樹脂封止の品質を向上させるた
め、次の樹脂封止に先立ってプラズマクリーニングを行
う。
して、ランナー５ｄを介してキャビティ５ｃ，６ｂに至
り、対象物の周囲に溶融したモールド樹脂が充填され、
その後この樹脂が硬化し、対象物が樹脂封止される。次
に上型６を上昇させ、樹脂封止された対象物を下型５か
ら取出す。この後、次の樹脂封止の品質を向上させるた
め、次の樹脂封止に先立ってプラズマクリーニングを行
う。
【００１８】即ち、図２に示すように、中間ユニット７
を上型６、下型５の間に挿入し、上述した密閉空間Ｓを
形成する。そして、真空ポンプ１２を作動して密閉空間
Ｓ内を減圧し、ガス供給部１４から密閉空間Ｓ内にアル
ゴンガスと酸素を供給する。そして高周波電源１０を作
動させ、電極９に高周波電流を印加する。ここで、上型
６及び下型５は接地されており、電極９は上型６の下面
６ａと下型５の上面５ａの中間の高さにあるから、上型
６と電極９、下型５と電極９の間に、それぞれ同様にプ
ラズマが発生し、このプラズマ中の荷電粒子が上型６及
び下型５に衝突した時のボンバードメント効果と酸素ラ
ジカルによる化学反応によって上型６及び下型５に付着
した化合物等が取除かれ、上型６及び下型５がクリーニ
ングされる。なおこのクリーニングは、密閉空間Ｓ内で
行われるので、アルゴンガスや取除かれた物質等により
外部環境が汚染されることはない。
を上型６、下型５の間に挿入し、上述した密閉空間Ｓを
形成する。そして、真空ポンプ１２を作動して密閉空間
Ｓ内を減圧し、ガス供給部１４から密閉空間Ｓ内にアル
ゴンガスと酸素を供給する。そして高周波電源１０を作
動させ、電極９に高周波電流を印加する。ここで、上型
６及び下型５は接地されており、電極９は上型６の下面
６ａと下型５の上面５ａの中間の高さにあるから、上型
６と電極９、下型５と電極９の間に、それぞれ同様にプ
ラズマが発生し、このプラズマ中の荷電粒子が上型６及
び下型５に衝突した時のボンバードメント効果と酸素ラ
ジカルによる化学反応によって上型６及び下型５に付着
した化合物等が取除かれ、上型６及び下型５がクリーニ
ングされる。なおこのクリーニングは、密閉空間Ｓ内で
行われるので、アルゴンガスや取除かれた物質等により
外部環境が汚染されることはない。
【００１９】クリーニングが完了すると真空ポンプ１２
による減圧を停止させて密閉空間Ｓを大気圧に戻し、上
型６を上昇させた後中間ユニット７をこの上型６と下型
５の間から取り除く。そして、クリーニングされた上型
６と下型５により、次の樹脂封止が行われるものであ
る。尚本実施の形態では、アルゴンガスと酸素の混合気
体を動作ガスとして使用したが、動作ガスとしては、ア
ルゴンガスもしくは酸素のいずれか一方でもよく、クリ
ーニング作用があるガスであればこれに限定されるもの
ではない。
による減圧を停止させて密閉空間Ｓを大気圧に戻し、上
型６を上昇させた後中間ユニット７をこの上型６と下型
５の間から取り除く。そして、クリーニングされた上型
６と下型５により、次の樹脂封止が行われるものであ
る。尚本実施の形態では、アルゴンガスと酸素の混合気
体を動作ガスとして使用したが、動作ガスとしては、ア
ルゴンガスもしくは酸素のいずれか一方でもよく、クリ
ーニング作用があるガスであればこれに限定されるもの
ではない。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、型
締装置の上型と下型の間に密閉空間を形成し、この密閉
空間にプラズマを発生させて上型と下型のクリーニング
を行うことができる。しかも密閉空間内の物質は外部へ
漏洩しないので、外部環境を汚染することなく、上型と
下型の汚れを取り除くことができる。
締装置の上型と下型の間に密閉空間を形成し、この密閉
空間にプラズマを発生させて上型と下型のクリーニング
を行うことができる。しかも密閉空間内の物質は外部へ
漏洩しないので、外部環境を汚染することなく、上型と
下型の汚れを取り除くことができる。
【図１】本発明の一実施の形態における型締装置の斜視
図
図
【図２】本発明の一実施の形態における型締装置の断面
図
図
５ 下型 ６ 上型 ７ 中間ユニット ８ 筒体 ８ａ 封止部 ８ｂ 封止部 ９ 電極 １０ 高周波電源 １２ 真空ポンプ １４ ガス供給部 Ｓ 密閉空間
Claims (2)
- 【請求項１】型締装置の上型と下型の間に挿入されて上
型と下型に挟まれることにより上型の下面と下型の上面
の間に密閉空間を形成する筒体と、この筒体の内部にあ
って高周波電源に接続される電極と、前記密閉空間内を
減圧する真空ポンプと、前記密閉空間内に動作ガスを供
給するガス供給部とを備えたことを特徴とする型締装置
のクリーニング装置。 - 【請求項２】請求項１記載のクリーニング装置を用いる
型締装置のクリーニング方法であって、筒体を上型と下
型の間に挿入し、上型と下型と筒体で包囲される密閉空
間を形成する工程と、真空ポンプにより前記密閉空間を
減圧し、またガス供給部から密閉空間内に動作ガスを供
給する工程と、電極に高周波電流を印加することによ
り、上型と電極の間および下型と電極の間にプラズマを
発生させて上型と下型をクリーニングする工程と、クリ
ーニングが終了したならば密閉空間の減圧を中止して密
閉空間を大気圧に戻すとともに、筒体を上型と下型の間
から取り除く工程とを含むことを特徴とする型締装置の
クリーニング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000107578A JP3279305B2 (ja) | 1995-11-02 | 2000-04-10 | 型締装置のクリーニング装置およびクリーニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000107578A JP3279305B2 (ja) | 1995-11-02 | 2000-04-10 | 型締装置のクリーニング装置およびクリーニング方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28556495A Division JP3079974B2 (ja) | 1995-11-02 | 1995-11-02 | 型締装置、型締方法及び電子部品製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000301547A JP2000301547A (ja) | 2000-10-31 |
| JP3279305B2 true JP3279305B2 (ja) | 2002-04-30 |
Family
ID=18620558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000107578A Expired - Fee Related JP3279305B2 (ja) | 1995-11-02 | 2000-04-10 | 型締装置のクリーニング装置およびクリーニング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3279305B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109644757B (zh) * | 2018-11-30 | 2021-04-02 | 北京市园林科学研究院 | 一种抑制银杏雌株花芽分化的方法 |
| CN109661961B (zh) * | 2018-11-30 | 2021-05-07 | 北京市园林科学研究院 | 一种抑制树种产生飞絮或飞毛的方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4585361B2 (ja) * | 2005-04-08 | 2010-11-24 | 横浜ゴム株式会社 | タイヤ加硫成形用金型の洗浄装置 |
| KR100729464B1 (ko) * | 2005-09-06 | 2007-06-15 | 주식회사 피에스엠 | 이동식 금형 세정장치 및 금형 세정방법 |
-
2000
- 2000-04-10 JP JP2000107578A patent/JP3279305B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109644757B (zh) * | 2018-11-30 | 2021-04-02 | 北京市园林科学研究院 | 一种抑制银杏雌株花芽分化的方法 |
| CN109661961B (zh) * | 2018-11-30 | 2021-05-07 | 北京市园林科学研究院 | 一种抑制树种产生飞絮或飞毛的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000301547A (ja) | 2000-10-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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