JP3276509B2 - セラミックスと金属との接合方法 - Google Patents

セラミックスと金属との接合方法

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JP3276509B2 JP09043194A JP9043194A JP3276509B2 JP 3276509 B2 JP3276509 B2 JP 3276509B2 JP 09043194 A JP09043194 A JP 09043194A JP 9043194 A JP9043194 A JP 9043194A JP 3276509 B2 JP3276509 B2 JP 3276509B2
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路雄 松野
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミックスと金属と
の接合方法に関し、さらに詳しくはセラミックスと金属
とを中間材を介して接合する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】セラミックスは、耐熱性、耐摩耗性等に
優れ、近年、構造部材としての用途が拡大しつつあり、
これにともない、セラミックスと金属との接合の必要性
が高まっている。
【0003】セラミックスと金属との接合では、ろう材
を用いる方法が一般的であるが、この方法は、たとえ、
熱膨張係数の差の小さい組み合わせでも、大型形状のも
のの接合を行うと、加熱接合後の冷却過程で発生する残
留応力のために、被接合体であるセラミックスと金属と
が剥離したり、被接合体であるセラミックス中に亀裂が
発生したりする。また、そこまで至らない場合でも、接
合強度を低下させることになる。
【0004】そこで、このような残留応力を軽減させる
方法として、被接合体であるセラミックスと金属との間
に、中間材として銅やニッケル等の延性金属板を被接合
体間に介在させ、被接合体であるセラミックスと延性金
属板、延性金属板と被接合体である金属との間をろう材
により接合することが行われている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、延性金
属板を中間材として用いる方法は、延性金属部分の強度
が小さいという問題点を有する。また、延性金属板を接
合面に合わせて介在させ、ろう付けしても、熱膨張係数
の差の大きいセラミックスと金属の接合の場合や接合面
積が大きい場合などは、残留応力の緩和が十分行われ
ず、良好な接合体の作製ができない。
【0006】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたもので、熱処理を要するセラミックスと金
属の接合において、加熱接合後の冷却過程で発生する残
留応力を緩和させ、被接合体であるセラミックスと金属
とが剥離したり、被接合体であるセラミックス中に亀裂
が発生したりしないようなセラミックスと金属との接合
方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者が、延性金属板
に代わる中間材を見出すべく鋭意研究したところ、細溝
を設けたセラミックス薄板を中間材として使用すると、
良好なセラミックスと金属との接合体が得られることを
見出し本発明を完成した。すなわち、本発明は、セラミ
ックスと金属とを中間材を介して接合する方法におい
て、細溝を設けたセラミックス薄板を中間材として使用
することを特徴とするセラミックスと金属との接合方法
である。
【0008】本発明に用いる中間材としての、細溝を設
けたセラミックス薄板は、細溝の幅と深さ、細溝の本数
やセラミックス薄板の厚み等は、被接合体の大きさ、ろ
う材、加熱条件などにより適宜定めるが、細溝の幅と深
さは、それぞれ10μm〜1mm、セラミックス薄板の
厚みは100μm〜2mmとするのが好ましい。細溝
は、セラミックス薄板に、例えば接合面が正方形、長方
形の場合、縦横に細溝を井桁状に、また、接合面が円の
場合、接合面の中心からの同心円状などの均一なパター
ンになるように設けるのが好ましい。細溝は、レーザー
加工、超音波加工、ダイヤモンドブレードを用いた加工
等によりセラミックス薄板に導入するのが好ましいが、
レーザースクライブ装置を用いたレーザー加工を行え
ば、種々のパターンの細溝を比較的簡便に導入すること
ができるので、レーザー加工で導入するのが特に好まし
い。また、セラミックス薄板の形状は、接合部の欠陥を
なくす意味から、接合面と同形にすることが好ましい。
さらに、セラミックス薄板は、被接合材であるセラミッ
クスと同質のもの、あるいは被接合体であるセラミック
スと金属との中間の熱膨張係数をもつものが、残留応力
緩和の観点から有効である。
【0009】
【作用】細溝を設けたセラミックス薄板を中間材として
用いると、加熱接合後の冷却過程で発生する残留応力の
ために細溝に沿って、セラミックス薄板が破壊し、この
破壊により、被接合体にかかるべき残留応力が、このセ
ラミックス板の破壊に吸収され、被接合体の残留応力は
大幅に緩和される。また中間材が、それ自体の破壊で、
小ブロックに分割されることにより、中間材層の自由度
が増し、残留応力を緩和する効果を高める。これに反
し、細溝のないセラミックス板を用いると、熱膨張係数
の差の大きいセラミックスと金属の接合の場合や接合面
積が大きい場合などは、残留応力の緩和が十分行われ
ず、良好な接合体を作製することができない。
【0010】
【実施例】以下に、本発明を実施例、比較例により、さ
らに詳細に説明する。 実施例1 本実施例は、縦40mm、横40mm、高さ20mmの
アルミナ製直方体と、縦40mm、横40mm、高さ2
0mmのSUS304製直方体との接合の例である。こ
こで、接合面は40×40mmである。中間材としての
セラミックス薄板は、縦40mm、横40mm、高さ5
00μmのアルミナ薄板をレーザースクライブ装置を用
いレーザー加工により、縦横に2.5mm間隔で、深さ
200μm、幅100μmの細溝を設けた。すなわち、
40×40mmの面を2.5×2.5mmの256個の
面になるような井桁状パターンにしているわけである。
【0011】接合は、被接合体であるアルミナ製直方体
とSUS304製直方体との間に細溝を設けたアルミナ
薄板を介在させ、アルミナ製直方体接合面、細溝を設け
たアルミナ薄板面、SUS304製直方体接合面のそれ
ぞれの面間に、縦40mm、横40mm、厚さ50μm
の箔状の活性金属ろう(銀70.5重量%−銅26.5
重量%−チタン3重量%)を用い、真空中、950℃、
5分の条件で行い、接合体を得た。
【0012】実施例2 本実施例は、直径40mm、高さ20mmのアルミナ製
円柱体と、直径40mm、高さ20mmのSUS304
製円柱体との接合の例である。ここで、接合面は直径4
0mmの面である。中間材としてのセラミックス薄板
は、直径40mm、厚さ500μmのアルミナ製のもの
を使用した。このアルミナ薄板をレーザースクライブ装
置を用いレーザー加工により、同心円状で2mm間隔の
深さ200μm、幅100μmの細溝を設けた。
【0013】接合は、被接合体であるアルミナ製円柱体
とSUS304製円柱体との間に細溝を設けたアルミナ
薄板を介在させ、アルミナ製円柱体接合面、細溝を設け
たアルミナ薄板、SUS304製円柱体接合面のそれぞ
れの接合面間に、直径40mm、厚さ50μmの箔状の
活性金属ろう(銀70.5重量%−銅26.5重量%−
チタン3重量%)を用い、真空中、950℃、5分の条
件で行い、接合体を得た。
【0014】比較例1 中間材として、縦40mm、横40mm、厚さ500μ
mの銅板を使用した以外は、実施例1と同様にして接合
体を得た。
【0015】比較例2 中間材として、直径40mm、厚さ500μmの銅板を
使用した以外は、実施例2と同様にして接合体を得た。
【0016】比較例3 中間材として、縦40mm、横40mm、厚さ500μ
mの細溝を設けないアルミナ板を使用した以外は、実施
例1と同様にして接合体を得た。
【0017】比較例4 中間材として、直径40mm、厚さ500μmの細溝を
設けないアルミナ板を使用した以外は、実施例2と同様
にして接合体を得た。
【0018】各実施例、各比較例についてそれぞれ5回
の接合を行った。実施例1及び2で作製した接合体を、
接合面に垂直な面で5ケ所切断して観察したところ、被
接合体であるアルミナ中に亀裂がなく、また接合部に剥
離が見られず、いずれも良好な接合体であった。また、
細溝を設けたアルミナ薄板は、接合周辺部で細溝に沿っ
て破壊していることが確認された。一方、比較例1及び
2で作製した接合体は、接合面に垂直な面で5ケ所切断
して観察したところ、いずれも被接合体であるアルミナ
中に亀裂が発生していた。また、比較例3及び4で作製
した接合体は、接合面に垂直な面で5ケ所切断したとこ
ろ、いずれも接合部が剥離した。
【0019】
【発明の効果】中間材として、細溝を設けたセラミック
ス薄板を用いることにより、接合時にこれが破壊される
ことにより、被接合材であるセラミックスと金属とにか
かる接合時の残留応力が大幅に緩和され、良好なセラミ
ックスと金属との接合体を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C04B 37/02

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セラミックスと金属とを中間材を介して
    接合する方法において、細溝を設けたセラミックス薄板
    を中間材として使用することを特徴とするセラミックス
    と金属との接合方法。
  2. 【請求項2】 セラミックスと細溝を設けたセラミック
    ス薄板との間、細溝を設けたセラミックス薄板と金属と
    の間にろう材を用いる請求項1記載のセラミックスと金
    属との接合方法。
  3. 【請求項3】 細溝を井桁状、同心円状に設けたセラミ
    ックス薄板を用いる請求項1または請求項2記載のセラ
    ミックスと金属との接合方法。
  4. 【請求項4】 細溝の幅、深さが、それぞれ10μm〜
    1mmである請求項1ないし請求項3のいずれか一項記
    載のセラミックスと金属との接合方法。
  5. 【請求項5】 セラミックス薄板の厚さが、100μm
    〜2mmである請求項1ないし請求項3のいずれか一項
    記載のセラミックスと金属との接合方法。
  6. 【請求項6】 細溝をレーザー、超音波、ダイヤモンド
    ブレードによりセラミックス薄板に導入した請求項1な
    いし請求項3記載のセラミックスと金属との接合方法。
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