JP3274218B2 - 塗布方法及び装置 - Google Patents

塗布方法及び装置

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JP3274218B2
JP3274218B2 JP08120293A JP8120293A JP3274218B2 JP 3274218 B2 JP3274218 B2 JP 3274218B2 JP 08120293 A JP08120293 A JP 08120293A JP 8120293 A JP8120293 A JP 8120293A JP 3274218 B2 JP3274218 B2 JP 3274218B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は連続走行している帯状支
持体(以下「ウエブ」という)に液状組成物(以下「塗
布液」という)を塗布する方法及び装置に関する。更に
詳細には、塗布幅方向の両端部における塗布厚み分布の
不均一さ(以下「耳ムラ」という)を解消する塗布方法
及び装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】小径ワイヤーを円周方向に巻いたバー
(以下「ワイヤーバー」という)或いは平滑なロッドを
受皿に浸漬して、その掻き上げ液をウエブに連続塗布す
る方法にワイヤーバー塗布或いはロッド塗布がある(本
発明においてはワイヤーバー及びロッドを含めてバーと
称する)。その塗布方法としては、図4,図5に示すよ
うにバー支持台3に支持されかつウエブ2に接触して回
転するバー1の前記ウエブとの接触部に液だまり9が形
成されるように塗布液を塗布液供給口より供給し、バー
1により過剰の塗布液を掻き落とし所望の塗布量とする
塗布方法である(特開昭53−22543,特開昭59
−123518等各号参照)。通常、バー1をウエブ2
の幅より狭い塗布幅にして塗布をすると、塗布幅方向の
両端部における塗布厚みが大になり、塗布厚み分布の不
均一さが端部の品質上大きな問題となって製品として使
用出来ない。この対策として、得率を上げるために該塗
布装置における塗布を、通常ウエブ幅よりワイヤーバー
の幅或いはロッドの幅を広くして行っている。しかし、
塗布液がウエブの裏側に転写したり、飛散してウエブ及
び塗布乾燥装置に汚れを生じやすくなり、かつ乾燥設備
の能力も従来より余剰に必要とする欠点があった。更に
ウエブの両端の部分に耳ムラが生じてしまうという欠点
もあった。この対策としては例えば特開昭60−225
669,特開昭62−152565各号公報に記載があ
るが、それはバーの表面の一部に接触するブレードを設
けたり、多数枚の回転するドクターブレードで塗布後に
過剰な塗布液を掻き落とす方法であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらブレード
を使用する方法は、それだけ余分な設備を使用する上
に、異物付着などを起こしやすく好ましくなかった。本
発明の目的は上記問題点を解消し、余分の設備を設ける
必要がなく、ウエブ幅に対してそれより狭い幅で塗布し
ても耳ムラを解消する塗布方法及び装置を提供すること
を目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明の上記目
的は バ−支持台に支持されかつウエブに接触して回
転するバ−の前記ウエブとの接触部に液だまりが形成さ
れるように塗布液を供給し、バ−により過剰の塗布液を
掻き落とし、所望の塗布量とする塗布方法において、
記ウエブへの塗布量より過剰に塗布装置に供給された
布液全量のオ−バ−フロ−或いは排出を堰端部のみから
行ない、前記バ−の塗布幅端部付近のバーとウエブとが
形成する前記塗布液の液だまりの厚みがバ−の中央部と
同一になるように塗布することを特徴とする塗布方法。
又は バ−支持台、ウエブに接触して回転するバ−、
所望の塗布量より過剰の塗布液を供給する塗布液供給口
及びウエブ出口側オーバーフロー用堰或いは排出口を有
する塗布装置において、前記オーバーフロー用堰の塗布
幅の両端部の高さを、バ−中央部に対向する堰の高さよ
り低くすること、或いは前記排出口を塗布幅の両端部液
中にのみ有することを特徴とする塗布装置。 前記オ
ーバーフロー用堰或いは排出口を有する堰を、ウエブ入
口側又はウエブ出口側のいずれかに設けることを特徴と
する前記記載の塗布装置。によって達成される。
【0005】本発明において前記バーの塗布幅両端部近
辺のバーとウエブとが形成する前記塗布液の液だまりの
厚みを、バーの中央部と同一にして塗布するということ
は、ウエブに塗布される塗布厚みはバーとウエブとが形
成する塗布液の液だまりの大きさによって大きく影響さ
れるので、液だまりのバーの塗布液両端部の大きさと同
一にすることによりバーの塗布幅両端部の塗布厚みも均
一になるということである。液だまりの大きさを均一に
する具体的手段として堰の塗布幅の両端部の高さを中央
より低くすることにより、過剰な塗布液のオーバーフロ
ーが両端部のみから行なわれ、液だまりの大きさが前記
バーの塗布全幅にわたって均一になるのである。本発明
においてオーバフロー用堰の塗布幅の両端部の高さを、
バー中央部に対向する堰の高さよりも低くする方法とし
ては、図3に示すように一度に下げても、傾斜的に高さ
を低くしても効果が出るが、図2,図3(a)に示すよ
うに一度に下げる方が好ましい。更に、オーバーフロー
用堰の幅をバーの幅より広くすることを併用すると、液
だまりの大きさを塗布液幅にわたって均一にすることを
容易に達成出来る。尚、図に示す高さの差aと幅方向の
変化する長さbは傾斜にするか又は円弧にするかは実験
によって適当に選ぶことが出来る。又、オーバーフロー
用堰の代りに、塗布幅の両端部の液中に排出口を有する
堰を用いて、過剰な塗布液の全量を排出して、液だまり
の大きさを塗布全幅にわたって均一にすることもでき
る。そして、本発明はオバーフロー又は排出口をウエブ
入口側或いはウエブ出口側、又はウエブ又は出口側に所
有しても同様の効果がある。特に、ウエブ自体が吸液性
を有する場合、或いは吸液性物質を下塗りしたウエブに
塗布する場合には、オバーフロー又は排出口をウエブ出
口側に使用する方が好ましい。
【0006】ウエブ幅に対してそれより狭い幅で塗布
し、かつウエブ出口側の堰に本発明を用いる場合を例に
して、図を用いて更に詳しく説明すると、図1(A)は
本発明の塗布装置の側面断面図、(B)は拡大部分詳細
図、図2は図1の正面図である。 バー支持台3に支持
されウエブ2に接触して回転するバー1の前記ウエブと
の接触部に、液だまり9が形成されるように所望の塗布
量より過剰の塗布液を供給し、バー1により過剰の塗布
液を掻き落とし、ウエブ出口側オーバフロー用堰5より
オーバーフローさせる塗布装置である。4は入口側堰で
ある。ここにおいて、前記バー1の幅よりも前記ウエブ
出口側オーバフロー用堰5の幅を長く設け、前記ウエブ
出口側オーバフロー用堰の高さを、バー中央部に対向す
る堰の高さよりも堰の両端部の高さを切欠き部7によっ
て低くしたものである。堰の低くする仕方としては、図
3に示すように、両端部を中央部より下げるのに一度に
下げたもの(a)、ウエブの幅の外側を傾斜的に下げた
もの(b)、バーの端部より傾斜的に下げたもの
(c)、バーの中央部に対向する位置より傾斜的に下げ
たもの(d)、バーの中央部より曲線をもって下げたも
の(e)等があるが、いずれも本発明の効果がある。
【0007】
【実施例】ゼラチン層を20μm下塗りした幅340m
m・厚さ175μmのポリエチレンテレフタレートウエ
ブに、ワイヤーを巻いた幅300mmのワイヤーバー塗
布装置を使用して、青色染料を0.075重量%含む水
を塗布量30cc/m2 で塗布した。 該塗布装置のウ
エブ出口側オーバーフロー用堰の形状を従来のように水
平で変化のないもの(比較例−1)、堰の両端部を中央
部より一度に下げたもの(実施例−1)、堰の両端部を
中央部よりウエブの外側から端部まで傾斜させたもの
(実施例−2)と変更して、塗布後の幅方向分布を測定
し、端部の濃度を中央部濃度で除した耳ムラ率(百分
率)で評価した結果を表1に示す。(100%に近いほ
ど幅方向分布が均一であることを示す)。但し、循環液
量比とは送液流量を塗布流量で除した百分率である。
【0008】
【表1】
【0009】表1に示すように、従来法に比較して、本
発明は耳ムラの解消に非常に効果のあることが分る。
【0010】
【発明の効果】本発明によれば、上述の如くワイヤーバ
ー塗布或いはロッド塗布において、ウエブ幅より狭く塗
布しても塗布幅方向端部の塗布厚みの不均一さを解消で
きるので、ウエブ全幅塗布におけるウエブ端からの塗布
液のウエブ裏側への転写や塗布液の飛散による塗布乾燥
工程の汚染の防止或いは幅得率の損失を大きく減少でき
て、原材料の歩どまり、得率を大幅に上昇させ更に品質
の向上を図ることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の塗布方法及び装置の一実施例の側面断
面図(A)、拡大部分詳細図(B)
【図2】図1の正面図
【図3】本発明のオーバフロー用堰の色々な形態を示
す。階段式(a),ウエブ端迄の傾斜式(b),バー端部を含
む傾斜式(c),バー中心部よりの傾斜式(d),バーの中心
より堰端迄の曲線式(c)
【図4】従来の塗布方法及び装置の一例の側面断面図
【図5】図4の正面図
【符号の説明】
1 バー 2 ウエブ 3 バー支持台 4 ウエブ入口側堰 5 ウエブ出口側堰 6 側板 7 切欠き部 8 塗布液 9 液だまり
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B05C 1/08 - 1/12 B05C 11/00 - 11/10 B05D 1/26,1/28 B05D 3/00

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 バ−支持台に支持されかつウエブに接触
    して回転するバ−の前記ウエブとの接触部に液だまりが
    形成されるように塗布液を供給し、バ−により過剰の塗
    布液を掻き落とし、所望の塗布量とする塗布方法におい
    て、前記ウエブへの塗布量より過剰に塗布装置に供給さ
    れた塗布液全量のオ−バ−フロ−或いは排出を堰端部
    みから行ない、前記バ−の塗布幅端部付近のバーとウエ
    ブとが形成する前記塗布液の液だまりの厚みがバ−の中
    央部と同一になるように塗布することを特徴とする塗布
    方法。
  2. 【請求項2】 バー支持台・ウエブに接触して回転する
    バー、所望の塗布量より過剰の塗布液を供給する塗布液
    給液口及びオーバーフロー用堰或いは排出口を有する堰
    を有する塗布装置において、前記オーバーフロー用堰の
    塗布幅の両端部の高さをバーの中央部に対向する堰の高
    さよりも低くすること、或いは前記排出口を塗布幅の両
    端部液中にのみ有することを特徴とする塗布装置。
  3. 【請求項3】 前記オーバーフロー用堰或いは排出口を
    有する堰を、ウエブ入口側又はウエブ出口側のいずれか
    に設けることを特徴とする請求項2記載の塗布装置。
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