JP3272772B2 - 液晶装置 - Google Patents

液晶装置

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JP3272772B2
JP3272772B2 JP18000492A JP18000492A JP3272772B2 JP 3272772 B2 JP3272772 B2 JP 3272772B2 JP 18000492 A JP18000492 A JP 18000492A JP 18000492 A JP18000492 A JP 18000492A JP 3272772 B2 JP3272772 B2 JP 3272772B2
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甲午 遠藤
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Seiko Epson Corp
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポケットテレビ、壁掛
けテレビ、プロジェクションテレビ、ラップトップパソ
コン、ゲーム機、等に用いられる液晶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より液晶パネルへの半導体あるいは
半導体部品の接続あるいは光センサーへの集積回路類の
接続、さらには各種回路基板への表面実装部品の接続な
どのように接続端子が相対峙して細かいピッチでならん
でいる場合の接続方法として、液晶パネルを駆動するI
Cの電極パッドと相対峙して形成された液晶パネル上の
電極パターンに上記ICの電極パッドをフェイスダウン
にて接続接合する方法が昨今とられるようになってき
た。かたや、液晶パネルは大きく分けてアクティブパネ
ルとパッシブパネルに分類することができる。アクティ
ブパネルにおいて金属製の薄膜パターンとITOによる
薄膜パターンなど多層の薄膜構造になっていることが多
々ある。アクティブパネルとしてはTFTパネルとMI
Mパネルとがある。
【0003】図6は従来の液晶パネルの電極構造の一例
の要部平面図である。図6において、1はパネルガラ
ス、2はICチップ、3は電極パッド、4はTa、5は
ITO、9は異方導電性接着剤を示す。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】まず、図6より分かる
ように従来の液晶パネルの電極構造においてはパネルガ
ラス上のICの電極パッドをフェイスダウンにて接続接
合する部位の接続用回路の第1層はTaにより構成さ
れ、第2層はITOが形成されている。そして第2層の
接続用回路の大きさは上記ICと液晶パネルの接続部の
部位においては第1層の接続用回路の大きさよりも小さ
い。
【0005】ところが、ICチップ上に形成された接続
電極と、上下2枚のガラスあるいは樹脂等よりなる基板
の間に液晶層を挟持してなる液晶パネルの基板上に形成
された上記ICチップの接続電極と相対峙して形成され
た接続用回路が、絶縁性接着剤あるいは異方導電性接着
剤あるいは導電ペースト等により接合されるばあい、上
記絶縁性接着剤あるいは導電性接着剤あるいは導電ペー
スト等の接着剤にて上記ICチップと液晶パネルの接続
用回路を接合する場合、上記接着剤と液晶パネル上の各
種電極パターンとの接続密着性が極めて重要となる。す
なわち、上記接着剤と液晶パネルの基材であるガラスと
の密着性のみが良いということはなく、上記接着剤と液
晶パネル上の電極パターンの構成材料との密着性も良く
なければならない。そうでないと、上記電極パターンの
形成部から信頼性が破壊される可能性が大きくなってし
まう。
【0006】従来の液晶パネルの電極構造においては、
ICチップ上の接続電極と、液晶パネル上の接続用回路
の絶縁性接着剤あるいは異方導電性接着剤あるいは導電
ペースト等による接合はその接合信頼性が極めて低くな
ってしまうものであった。
【0007】そこで、本発明は従来のこのような欠点を
解決しICチップ上の接続電極と、液晶パネル上の接続
用回路の絶縁性接着剤あるいは異方導電性接着剤あるい
は導電ペースト等による接合において上記接着剤と液晶
パネルのガラスそのもの、および液晶パネルガラス上に
形成された接続用回路との接続信頼性を向上させること
を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、2枚の基板間
に液晶が挟持されてなり、前記基板上に形成された複数
の電極パターンとICチップとを絶縁性接着剤あるいは
異方導電性接着剤あるいは導電ペーストを介して接合さ
れる液晶装置において、前記複数の電極パターンは金属
の薄膜からなり、該金属の薄膜の前記ICチップと接合
される部位には、該金属の薄膜の個々に島状に前記金属
の薄膜より平面的に広く、且つ覆うようにITOまたは
ITOを含む複合材料でパターン形成され、前記島状に
形成されたITOまたはITOを含む複合材料のパター
ンは、前記絶縁性接着剤あるいは異方導電性接着剤ある
いは導電ペーストで覆われていることを特徴とする。
【0009】
【実施例】図1、は本発明における液晶パネルの電極構
造の平面図の一例を要部についてしめしたものであり、
図2は本発明による液晶パネルの電極構造を用いたIC
チップと液晶パネルの接合構造の一例の断面図を示すも
のである。図1および図2において1は液晶パネルのガ
ラス基材、2はICチップ、3はICチップの接続電極
なる金バンプ、4は液晶パネル上の第1層の接続用回路
たるTa、5は同じく第2層の接続用回路たるITOを
示す。また図3、図4は本発明における他の接続用回路
の薄膜構成における液晶パネルの電極構造を用いたIC
チップと液晶パネルの接合構造の一例の断面図を示すも
のである。図3および図4において4は液晶パネル上の
第1層の接続用回路たるTaによる薄膜層、6はCrに
よる接続用回路、7はCrとITOの複合材料による薄
膜層を示す。
【0010】また、図5は各薄膜材料に対するエポキシ
系の接着剤の接合強度を示すグラフである。図5におい
て縦軸はエポキシ系の接着剤にて横軸に示す薄膜材料を
形成したガラス同士の加熱硬化後の接合強度をkg/c
2 にて示すものである。
【0011】アクティブマトリクスパネルにおいては、
パネルガラス表面に形成される薄膜は複数である。それ
らは、例えば、画素の電極に使用されたり、アクティブ
素子そのものに使用されたり、またあるいは信号供給ラ
インに使われたりしている。
【0012】これらの薄膜はTaやCr、ITO、ある
いはTaの酸化膜、さらにはCrとITOの複合材料、
その他の材料等からなっている。図5はこれらの内、I
TO、Ta、CrおよびITOとCrの複合材料のエポ
キシ系接着剤の接着強度を示す。これらの内、ITOと
Crの複合材料は一般には透明材料の代替として用いら
れることが多くCrの方がITOよりかなり多い。図5
より明らかなように、これら各種薄膜材料が施されたガ
ラスのエポキシ接着剤による接着強度において、ITO
およびITOとCrの複合材料の場合がTaのみ、ある
いはCrのみに比較して大きな値となっている。しか
も、接着強度試験に於ける破壊モードを比較すると下記
のようになる。すなわち、ITOおよびITOとCrの
複合材料の場合は接着剤の中間層の破壊である材破かも
しくは接着剤と薄膜層の間の界面剥離モードと材破の複
合モードのどちらかである。これに対し、TaとCrの
単独の場合はそれぞれ薄膜層とガラス基材との間の剥離
モード、あるいは接着剤と薄膜層の間の界面剥離モード
のどちらかとなる。すなわち、TaとCrの単独の場合
の方がITOおよびITOとCrの複合材料の場合に比
べ信頼性という観点からみると安全ではない。図5に示
したような結果は、ICチップ上に形成された接続電極
と、上下2枚のガラスあるいは樹脂等よりなる基板の間
に液晶層を挟持してなる液晶パネルの基板上に形成され
た上記ICチップの接続電極と相対峙して形成された接
続用回路が、絶縁性接着剤あるいは異方導電性接着剤あ
るいは導電ペースト等により接合するいわゆるパネル実
R>装の信頼性を確保するためには、エポキシ接着剤とガ
ラスとの接着は素ガラス面かあるいは上述するようにI
TOおよびITOとCrの複合材料にしなければならな
い。
【0013】本発明による液晶パネルの電極構造は、図
1から図4に示すようにエポキシ系接着剤の接合信頼性
の高い薄膜であるところのITOあるいはITOとCr
の複合材料を接合回路の最表面にかならず出るようにし
てある。すなわち、ITOあるいはITOとCrの複合
材料による薄膜層をTaあるいはCr等の他の薄膜層よ
りも上にし、ITOあるいはITOとCrの複合材料に
よる薄膜層が最も上層になるようにし、さらにはITO
あるいはITOとCrの複合材料による薄膜層による接
続用回路の大きさをTaあるいはCr等の他の薄膜層に
よる接続用回路の大きさよりも大きくし、ITOあるい
はITOとCrの複合材料による接続用回路の形成とT
aとCrの接続用回路の形成が位置的に若干ずれても、
かならずITOあるいはITOとCrの複合材料による
薄膜層による接続用回路がTaあるいはCr等の他の薄
膜層による接続用回路を覆うようにしてあるため、最表
面層にエポキシとの接合強度の弱いTaやCrの薄膜層
がすこし顔を覗かせるということもない。したがって、
安定して液晶パネルの接続用回路とICチップ上の接続
電極との接合の信頼性を極めて向上させることができ
る。
【0014】
【発明の効果】本発明は上記の構成要件を具備すること
により、以下に述べる如き顕著な効果を奏することがで
きる。 (a)電極パターンの最上層の薄膜がITOまたはIT
Oを含む複合材料からなるため、絶縁性接着剤あるいは
異方性導電性接着剤あるいは導電ペーストを介して密着
性よく電極パターンとICチップとを接合することがで
きる。 (b)ITOまたはITOを含む複合材料からなる薄膜
と下層の金属の薄膜とがたとえずれても下層の金属の薄
膜を上層のITOまたはITOを含む複合材料からなる
薄膜がICチップと接合される部位を島状に覆うように
パターン形成されているため、液晶装置の接続用回路と
ICチップの接続電極との接合強度を向上させることが
できる。 (c)電極パターンの下層の金属の薄膜は、液晶装置の
配線を延在させることにより構成されてなり、この下層
の金属の薄膜は電極パターンでは配線よりも幅広に形成
されてなるとともに、ITOあるいはITOを含む複合
材料からなる最上層の薄膜により覆われているため、電
極パターンとICチップとを密着性よく接合させること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例における要部平面図。
【図2】 本発明の実施例における要部断面図。
【図3】 本発明の他の実施例における要部断面図。
【図4】 本発明の他の実施例における要部断面図。
【図5】 ガラス面上に形成された各種薄膜材料の接着
強度比較グラフ。
【図6】 従来の実施例における要部断面図。
【符号の説明】
1、23 液晶パネルのガラス基材 2、24 ICチップ 3 金バンプ 4、21 Ta 5、22 ITO薄膜層 6 Cr薄膜層 7 CrとITOの複合材料による薄膜層 8 液晶パネルガラス内への導出用電極パター
ン 9、25 導電性接着剤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−160417(JP,A) 特開 昭54−159197(JP,A) 特開 昭57−135976(JP,A) 特開 昭61−254931(JP,A) 特開 平2−35419(JP,A)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2枚の基板間に液晶が挟持されてなり、
    前記基板上に形成された複数の電極パターンとICチッ
    プとを絶縁性接着剤あるいは異方導電性接着剤あるいは
    導電ペーストを介して接合される液晶装置において、 前記複数の電極パターンは金属の薄膜からなり、該金属
    の薄膜の前記ICチップと接合される部位には、該金属
    の薄膜の個々に島状に前記金属の薄膜より平面的に広
    く、且つ覆うようにITOまたはITOを含む複合材料
    でパターン形成され、前記島状に形成されたITOまた
    はITOを含む複合材料のパターンは、前記絶縁性接着
    剤あるいは異方導電性接着剤あるいは導電ペーストで覆
    われていることを特徴とする液晶装置。
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